KR960004541B1 - 수용성 포르마잔 착색제 및 그를 사용한 염색방법 - Google Patents

수용성 포르마잔 착색제 및 그를 사용한 염색방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
수용성 포르마잔 착색제 및 그를 사용한 염색방법
[발명의 상세한 설명]
[기술분야]
본 발명은 신규의 화학 구조를 갖는 청색계 수용성 포르마잔 착색제 및 그러한 착색제를 사용한 염색방업에 관한 것이다.
보다 상세하게는, 화학 구조중에 하나의 비닐 술폰 반응기를 가지며 특히 셀룰로우즈 및 질소함유 섬유에 대한 반응 고착성이 우수한 포르마잔 착색제와 그러한 착색제 물질을 사용한 섬유의 염색 방법에 관한 것이다.
[배경기술]
셀룰로우즈 또는 질소함유 섬유와 같은 섬유류를 염색하는 경우에 수용성의 반응성 염료가 통상적으로 사용된다. 그러한 반응성 염료로는 염색할 섬유 물질을 고밀도로 염색할 수 있는 우수한 균염성을 가지며, 여러가지 조건에 대한 염색 제품의 바람직한 착색 견뢰도를 갖는 염료들이 요구된다. 그러한 반응성 염료의 특성은 기본 골격구조, 치환기, 반응기 및 그들의 조합에 따라 미세하게 상이하며, 종래에 각종 구조의 염료가 제안되었다. 그 결과, 현재에는 상당히 만족할만한 염료가 실용화 되었다.
그러나 반응성 염료들중 청색계의 색조를 갖는 염료에서는 통상적으로 우수한 특성을 가진 것들이 아직 발견되지 않았다.
예를 들어 하기에 나타낸 구조식을 갖는 포르마잔계 화합물로 구성된 반응성 염료가 공지되었다(참조 : 일본국 특허 공개 제4783/1981호 및 일본국 특허 공개 제15451/1984호).
이들 염료는 통상적인 조건하에서 셀룰로우즈 및 질소함유 섬유의 염색 용도로 사용하기에는 적합하지만, 세척에 대한 착색 견뢰도, 발한 및 일광에 대한 착새 견뢰도 및 산 안정성에 대한 착색 견뢰도의 면에서는 불충분하다.
Figure kpo00001
(일본국 특허 공개 제4783/1981호)
Figure kpo00002
(일본국 특허 공개 제15451/1984호)
한편, 섬유 물질의 다양화와 함께 예를 들어 셀룰로우즈 섬유 및 폴리에스테르 섬유의 혼합 섬유가 사용되었다. 그러한 혼합 섬유의 염색 방법으로는 통상적으로 소위 ;이단계 방법(double-step method)＂이 채용되는데, 이 방법에서 폴리에스테르 섬유는 120℃ 내지 140℃정도의 고온에서 분산염료를 사용하여 미리 염색되고, 이어서 셀룰로우즈 섬유는 60℃ 내지 70℃정도의 저온에서 반응성 염료를 사용하여 염색된다. 한편, 최근에 120℃ 내지 140℃의 보다 높은 온도에서 단일욕 단일단계의 염색 방법에 의하여 염료욕중에서 셀룰로우즈 섬유 및 폴리에스테르 섬유를 동시에 염색하는 방법이 제안되었는데, 이 방법에서 반응성 염료 및 분산 염료는 함께 사용된다. 그러나 공지된 반응성 염료가 이 염색 방법에 사용될 경우, 셀룰로우즈 섬유에 대한 염료의 반응 고착율이 낮고 그의 강화 특성이 불량하여 결과적으로 바람직한 염색제품을 수득할 수 없다. 단일욕 단일단계의 염색 방법에 적합한 반응성 염료로는 하기 구조식의 포르마잔 화합물로 구성된 반응성 염료가 공지되었다(참조 : 일본국 특허 공개 제90264/1985호). 그러나 이 반응성 염료가 사용될 경우에도 염색 제품은 흡착율 및 강하 특성이 불충분하다.
Figure kpo00003
[발명의 개요]
본 발명은 상기 언급된 실제 조건의 관점에서 이루어졌고, 본 발명의 한가지 목적은 셀룰로우즈 섬유에 대한 보다 우수한 반응 고착율 및 여러가지 작용에 대한 우수한 착색 견뢰도를 나타내는 수용성 착색제를 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 수용성 착색제를 사용하여 섬유 물질을 염색하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 요지는 유리산 형태인 하기 일반식(I)의 수용성 포르마잔 착색제 및 이 착색제를 사용한 섬유의 염색 방법에 있다.
Figure kpo00004
(상기 식중, R은 수소원자, 또는 히드록시 또는 C1~C2의 저급 알콕시기로 치환될 수 있는 C1~C4의 저급 알킬기이고 ; X는 C1~C4의 저급 알킬기, C1~C4의 저급 알콕시기, 할로겐원자 및 술폰산기로 구성된 군에서 선택된 하나 이상으로 치환될 수 있는 페닐렌기 또는 나프틸렌기이며 ; Y는 -SO2CH=CH2기 또는 -SO2C2H4W(여기에서, W는 알칼리의 작용에 의한 제거될 기이다)이고 ; Z는 1개 술폰산기를 갖는 C1~C6의 저급 알킬아미노기 또는 페닐아미노기이다.)
하기에서, 본 발명을 보다 상세하게 설명할 것이다.
본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는 상기 일반식(I)로 나타낸 화합물이며, 이 화합물의 구조적 특성은 치환기 Z를 갖는 구조에 있다. 즉 본 발명에서, Z는 저급 알킬아미노기나 또는 수용성 치환기를 갖는 페닐아미노기여야 한다. 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는 특정의 치환기 Z를 가지기 때문에, 수용성기는 포르마잔 화합물 전체에 적량으로 이입되어 그 결과 여러가지 조건에 대한 착색 견뢰도의 개선 등과 같은 여러가지 목적하는 효과가 나타날 수 있다.
상기 일반식(I)의 수용성 포르마잔 착색제에서, 치환될 수 있는 R로 표시된 저급 알킬기의 예로는 C1내지 C4를 갖는 직쇄 또는 측쇄인 비치환 알킬기 ; 및 히드록실기, 시아노기, 할로겐원자(염소, 브롬 또는 불소)나 또는 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 2-시아노에틸, 시아노메틸, 2-클로로에틸 또는 2-메톡시에틸과 같은 C1내지 C2를 갖는 저급 알콕시기로 치환된 C1내지 C4를 갖는 저급 알킬기이다. 바람직하게는, R은 수소원자 또는 C1내지 C4를 갖는 비치환 저급 알킬기를 나타낸다.
치환될 수 있는 X로 나타낸 페닐렌기 또는 나프틸렌기의 예로는 비치환 페닐렌 또는 나프틸렌기외에도 메틸기, 에틸기 등과 같은 C1내지 C4를 갖는 저급 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등과 같은 C1내지 C4를 갖는 저급 알콕시기 ; 염소, 브롬 등과 같은 할로겐원자 ; 및 술폰산기로 구성된 그룹으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환기로 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌기가 있다. 바람직하게는, X는 C1내지 C4를 갖는 저급 알킬기, C1내지 C4를 갖는 저급 알콕시기 및 할로겐원자를 구성된 그룹으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환기로 치환될 수 있는 페닐렌기를 나타낸다. 일반식
Figure kpo00005
(식중, R 및 X는 상기 언급된 것들로 구성된다)으로 나타낸 기의 구체적인 예로는 하기의 것들이 있다.
Figure kpo00006
이들 기중에서,
Figure kpo00007
가 특히 바람직하다.
또한, 알칼리의 작용에 의해 제거되는 W로 나타낸 기로는 -OSO3H, -SSO3H, -OPO3H2, -OCOCH3또는 염소, 브롬 등과 같은 할로겐원자를 예로들 수 있다. 이들 기중 특히 바람직한 것은 -OSO3H이다.
본 발명에 따른 수용성 포르마잔 착색제의 구조적 특성은 상기 서술한 바와 같이 특정의 치환기 Z를 갖는 구조에 바람직하게 존재한다.
하기는 수용성기로서 하나의 술폰산기를 갖는, Z로 표시된 저급 알킬아미노기의 구체적 예라 할 수 있다.
Figure kpo00008
하나의 술폰산기를 갖는 저급 알킬아미노기에서 탄소원자의 총수는 1 내지 6이며, 바람직하게는 1~4이다.
한편, 수용성기로서 하나의 술폰산기를 갖는, Z로 표시된 페닐아미노기의 구체적 예를 하기에 열거한다.
Figure kpo00009
Z가 상기 언급된 치환기를 갖는 저급 알킬아미노기인 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는, 40℃ 내지 100℃ 범위의 온도에서 셀룰로우즈 섬유 또는 질소함유 섬유를 단독으로 염색하는 방법에 사용할 경우 특히 적합하다. 또한. Z가 상기 언급된 치환기를 갖는 페닐 아미노기인 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는, 폴리에스테르 섬유를 염색하는 온도인 100℃ 내지 150℃의 온도 범위에서 셀룰로우즈 섬유 및 폴리에스테르 섬유의 혼합 섬유를 염색하는 방법에 사용할 경우 특히 적합하다.
본 발명에 따른 수용성 포르마잔 착색제는 유리산 또는 그의 염 형태로 존재한다. 염으로는 그의 알칼리 금속염 및 알칼리 토금속염이 바람직하다. 보다 구체적으로, 그의 리튬, 나트륨 또는 칼륨염이 바람직하다.
특히, 40℃ 내지 100℃ 범위의 온도에서 셀룰로우즈 섬유 또는 질소함유 섬유를 단독으로 염색하는 방법에 사용하기에 적합한 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는 유리산 형태인 하기 일반식(I-2)로 나타낸다.
Figure kpo00010
(상기 식중, R'는 수소원자, 메틸기, 또는 에틸기이고 ; W는 -CH=CH2기 또는-C2H4OSO3H기이며 ; n은 1 내지 3의 정수이다).
상기 일반식(I-2)에서, n이 2인 착색제가 가장 바람직하다.
한편, 100℃ 내지 150℃ 범위의 온도에서 셀룰로우즈 및 폴리에스테르 섬유의 혼합 섬유를 염색하는 방법에 사용하기에 적합한 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는 유리산 형태인 하기 일반식(I-3)으로 나타낸다.
Figure kpo00011
(상기 식중, R' 및 W'는 상기 일반식(I-2)에서와 동일하다).
상기 일반식(I-3)의 착색제 중에서, 유리산 형태인 하기 일반식(I-5)의 착색제가 가장 바람직하다.
Figure kpo00012
(상기 식중, W'는 상기 일반식(I-2)에서와 동일하다).
상기 일반식(I)의 수용성 포르마잔 착색제는 하기의 방법에 따라 제조할 수 있다.
예를 들어, 상기 일반식(I)의 수용성 포르마잔 착색제의 1몰 비율의 하기 일반식(II)의 화합물 및 1몰 비율의 하기 일반식(III)의 화합물을 축합시켜 제조한다.
Figure kpo00013
(상기 식중, Z. R, X 및 Y는 상기 서술한 바와 동일하다).
본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는 섬유와 직물의 염색용 염료, 종이와 합성 수지의 착색용 착색제 및 더 나아가 잉크 제트 프린터용 착색제 등으로 널리 사용될 수 있다. 특히 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는 염료로서 우수한 적합성을 갖는다.
하기는 염색 방법에 대해 설명할 것이다.
본 발명의 수용성 포르마잔 착색제를 염료로 사용하여 염색할 대상물인 섬유는, 면, 비스코스 레이욘, 쿠프라-암모늄 레이욘, 헴프와 기타 셀룰로우즈 섬유 및 더 나아가 폴리아미드, 울과 견 같은 질소함유 섬유일 수 있다. 이들 섬유중에서 셀룰로우즈 섬유가 특히 바람직하다. 이들 섬유 물질은 예를 들어 폴리에스테르, 트리아세테이트, 폴리아크릴로니트릴 및 기타 섬유와 혼합하여 혼합 섬유를 형성할 수 있다.
상기 일반식(I)로 나타낸 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제를 사용하여 셀룰로우즈 또는 질소함유 섬유를 염색하기 위하여, 중탄산나트륨 또는 탄산나트륨과 같은 무기 알칼리나 또는 트리에틸아민 등과 같은 유기 염기로 구성된 산 결합제 및 필요할 경우 전해질(예를 들어 염화나트륨 또는 황산나트륨 등을 통상적인 경우에 염료욕에 대하여 1 내지 150g/리터 정도, 보다 바람직하게는 40 내지 80g/리터의 비율로 사용)을 착색제에 가하여 염료욕을 통상적으로 제조한 다음, 8 내지 12범위의 pH값인 욕을 40℃ 내지 130℃, 보다 바람직하게는 50℃ 내지 100℃의 온도에서 30 내지 60분 동안 가열하면서 셀룰로우즈 섬유를 염료욕에 침지시켜 바람직한 염색을 행할 수 있다.
또한, 셀룰로우즈 섬유를 기타 섬유, 예를 들어 폴리에스테르 섬유와 혼합하여 제조한 혼합 방적 직물, 혼합 섬유 편물 제품 등을 염색하는 경우에, 상기 일반식(I)로 나타낸 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제 및 예를 들어 문헌[Color Index(Third Edition)]에 기재된 분산 염료를 상기 언급한 염료욕에 가함으로써 셀룰로우즈 섬유와 폴리에스테르 섬유 모두를 단일욕 단일단계의 염색 방법에 의해 동시에 염색할 수 있다. 이 경우에, 염료욕의 pH값을 7 내지 9의 범위로, 보다 바람직하게는 8 내지 9의 범위로 유지시키는 것이 바람직하다. 염색 온도는 100℃ 내지 150℃, 보다 바람직하게는 120℃ 내지 140℃일 겻이다.
더구나, 상기 언급한 혼합 방적 직물, 혼합 섬유 편물 제품 등을 염색할 경우, 종래 사용되어온 단일욕 단일단계의 염색 방법에 적용하는 것이 적당한데, 여기서 두 섬유중 하나가 먼저 염색되고 이어서 다른 섬유가 동일한 염료욕에서 염색된다. 이중 염욕(double bath) 염색 방법도 사용할 수 있는데, 이 방법에서 셀룰로우즈 섬유와 기타 섬유는 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제를 사용한 염색 방법 및 셀룰로우즈 섬유 이외의 섬유를 염색하는 방법을 조합함으로써 분리된 염료욕에서 염색된다.
본 발명의 착색제를 사용한 섬유의 염색 방법으로는 침염법이 바람직하게 적합하다. 또한, 본 발명의 착색제는 냉각 패드 배치 방법, 패드 스팀 방법, 인쇄 방법과 같이 비닐 술폰계 반응성 염료를 사용할 수 있는 기타의 방법에도 적용할 수도 있다.
또한, 염색시에, 예를 들어 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제의 구조에서 비닐 술폰계 반응기(-SO2C2H4OSO3H)는 -SO2CH=CH2로 가수분해되어 섬유와 반응한다.
[발명의 실용에서의 최상의 형태]
하기에서, 실시예를 들어 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제 및 이 착색제를 사용한 염색 방법을 구체적으로 설명한 것이나 본 발명이 이들 실시예만으로 제한되지는 않는다.
[실시예 1]
[제조예]
유리산 형태인 1몰 비율의 구조식(1)의 포르마잔 화합물 및 1몰비율의 하기 구조식(2)의 화합물을 80℃ 내지 90℃ 범위의 온도에서 4 내지 6의 pH값을 갖는 수용매중에서 축합을 수행한 후, 축합 생성물을 염화나트륨으로 염색하여 하기 구조식(3)(유리산 형태임)과 가시광선 흡수에 의해 수득된 분석치를 갖는 수용성 포르마잔 착색제를 수득한다.
Figure kpo00014
[염색예]
상기 언급된 방법으로 수득된 수용성 포르마잔 착색제 0.2g을 물 200ml에 용해시키고, 여기에 글라우버염(Glauber's salt) 10g을 용해시켜 염료욕을 제조한다. 이 염료욕의 온도를 30분 동안 60℃로 올리면서, 이 염료욕에 비광택의 면 편직물을 10g을 침지시킨다. 이어서 탄산나트륨 3.0g을 가하고, 60℃에서 1시간동안 염색을 행한 다음, 염색 제품의 수세, 소우핑, 수세 및 건조시켜 청색인 염색제품을 수득한다.
이러한 염료를 사용하여 수득한 염색 제품은 균일하고 밀도있게 염색된다. 광에 대한 착색 견뢰도는 우수하여 ＂6급＂(JIS L-0842에 의거)으로 높고, 세척에 대한 착색 견뢰도(JIS L-0844 A-4방법에 의거)도 매우 우수하여 ＂5급＂(면 오염)으로 높으며, 발한 및 일광에 대한 착색 견뢰도(JIS L-0888, 알칼리)도 ＂5급＂으로 높다.
[실시예 2 및 비교예 1]
하기 서술한 포르마잔 착색제를 각각 0.2g 및 0.1g을 사용하는 것을 제외하고 실시예 1에서와 같은 방법을 수행하여 청색인 염색제품을 수득한다.
[실시예 2]
사용된 착색제는 상기 실시예 1에서 사용된 하기 구조식(3)의 착색제에 해당된다.
Figure kpo00015
[비교예 1]
사용된 착색제는 일본국 특허 공개 제4783/1981호에 기재된 실시예 1의 하기 구조식(4)인 화합물에 상응한다.
Figure kpo00016
이들 염색 직물상에서, 착차계에 의하여 표면 반사율을 측정하여 표면밀도를 구한 다음, 이들 염색 직물상에서의 염료의 강화특성을 하기 식을 기준으로 산출한다. 또한 세척 견뢰도(JIS L-0844, A-4 방법), 발한 및 일광에 대한 착색 견뢰도(JIS L-0888,알칼리) 및 산 안정성에 대한 착색 견뢰도를 시험한다.
세척에 대한 착색 견뢰도를 측정하기 위하여 각각의 포르마잔 착색제 1.0g을 사용하여 염색 직물을 사용한다. 발한 및 일광에 대한 착색 견뢰도와 산 안정성에 대한 착색 견뢰도를 측정하기 위하여 각각의 포르마잔 착색제 0.2g을 사용하여 염색한 염색직물을 사용한다.
산 안정성에 대한 착색 견뢰도를 시험하는 방법은 하기와 같다 :
염색 직물을 10g/리터의 유산 수용액에 침지시킨 다음, 용액에서 꺼내어 80%의 압착 탈수율로 압착 탈수한 후 120℃에서 3분간 건조시킨다. 이러한 처리후, JIS L-0846에 따라 백색 면직물의 오염도로써 물에 대한 착색 견뢰도를 측정한다. 시험 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
Figure kpo00017
상기 표 1의 결과로 알 수 있듯이, 본 발명의 착색제는 단 1개의 비닐 술폰계 반응기를 가짐에도 불구하고 2개의 비닐 술폰계 반응기 및 활성 할로겐원자를 함유하는 비교예 1의 염료의 강화 특성과 동일한 강화 특성을 나타내며, 여러가지 조건에 대한 착색 견뢰도 또한 우수하다.
[실시예 3]
하기에 나타낸 본 발명의 포르마잔 착색제(유리산 형태임)를 상기 실시예 1의 방법에 따라 합성하고, 이를 사용하여 상기 실시예 1의 언급된 바와 동일한 방법으로 면직물을 염색하여 균일하고 밀도있는 염색을 수득할 수 있다.
Figure kpo00018
면직물의 색조는 청색이며, 물속에서의 λmax는 605nm이다. 광에 대한 착색 견뢰도 및 세척에 대한 착색 견뢰도는 각각 ＂6급＂ 및 ＂5급＂으로 바람직하다.
[실시예 4]
[제조예]
1몰 비율의 하기의 구조식(5)(유리산 형태임)의 포르마산 화합물과 1몰 비율의 하기 구조식(6)의 화합물을 4 내지 6범위인 pH값 및 80℃ 내지 90℃의 온도를 갖는 수매질에서 축합시킨 후 축합 생성물을 염색하여 하기 구조식(7)(유리산 형태임) 및 가시광선 흡수에 의해 수득된 분석치를 갖는 수용성 포르마잔 착색제를 수득한다.
Figure kpo00019
[염색예]
상기 언급된 수용성 포르마잔 착색제를 염료로써 각각 0.2g, 0.4g 및 0.6g의 양으로 사용한다. 상기 언급된 각각의 염료를 함유하는 염료욕에 완충제로써 글라우버염 16g 및 중탄산나트륨 0.4g과 물 200ml을 가하고, 온도를 30분 동안 120℃로 올리면서, 비광택의 면편직물 10g을 침지시킨 후, 동일 온도에서 60분간 염색을 행한다. 이어서, 염색 제품을 수세, 소우핑, 수세 및 건조시켜 청색의 염색 제품을 수득한다.
염색 시험에서 섬유에 대한 이 색소의 반응 고착율은 81%로 양호하며, 염색 제품에서의 착색제의 강화특성도 바람직하다. 또한 광에 대한 착색 견뢰도, 세척에 대한 착색 견뢰도 및 산 안정성에 대한 착색 견뢰도도 우수하여 각각 ＂6급＂, ＂5급＂(면 오염에 의한 것임) 및 5급(면 오염에 의한 것임)을 수득한다.
[실시예 5]
상기 실시예 4에서 제조된 수용성 포르마잔 착색제 0.5g 및 폴리에스테르 섬유 염색용인 하기 구조식의 공지된 안트라퀴논 염료 0.2g으로 구성된 혼합 염료, 완충제로써 글라우버 염 12g·Na2HPO4·12H2O 0.4g 및 KH2PO40.1g을 물 200ml에 가하여 염료욕을 제조한다.
Figure kpo00020
온도를 30분 동안 130℃로 올리면서, 폴리에스테르 및 면이 50 : 50의 혼합 비율로 구성된 혼방 방적 직물 10g을 염료욕에 침지시키고, 동일한 온도에서 60분간 염색을 행한다. 이어서, 염색 제품을 수세, 소우핑, 수세 및 건조시켜 동색성이 양호한 청색의 염색 제품을 수득한다. 그런데, 이 염료욕의 pH값은 염색전후에 8로 일정하다.
이 염색 시험에서 각 염료의 염색성은 매우 우수하며 생성된 염색 제품은 매우 높은 착색 밀도를 나타낸다.
[실시예 6 및 비교예 2]
하기 언급된 포르마잔 착색제를 각각 0.2g 및 1.2g의 양만큼 사용하여 실시예 4에서와 같은 과정을 반복한다.
[실시예 6]
사용된 착색제는 하기 구조식(7)로 나타낸 상기 실시예 4에서의 착색제로 해당된다.
Figure kpo00021
[비교예 2]
사용된 착색제는 일본국 특허 공개 제90264/1985호에 기재된 실시예 1의 하기 구조식인 화합물에 상응한다.
Figure kpo00022
이들 염색 직물상에서, 색차계에 의하여 표면 반사율을 측정하여 표면 밀도를 구한 다음 이들 염색 직물상에서의 염료의 강화 특성을 하기 식을 기준으로 산출한다. 결과를 하기 표 2에 나타낸다.
Figure kpo00023
[실시예 7]
하기 표 3 및 4에서 나타낸 수용성 포로마잔 착색제(유리산 형태임)를 상기 실시예 3에 서술한 방법에 따라 합성한다. 상기 실시예 3 및 4에 서술된 방법에 따라 이들 착색제를 면직물 및 폴리에스테르와 면의 혼합 방적 직물의 염색용으로 사용한다. 이들 직물 물질이 밀도있게 염색되었고, 강화특성 또한 바람직함을 알 수 있다.
또한, 생성된 염색 직물의 색조 및 λmax를 하기 표 3 및 4에 나타낸다.
Figure kpo00024
Figure kpo00025
[실시예 8]
하기 조성물의 패드욕(pad-bath)을 제조한다.
패드욕의 조성
Figure kpo00026
이어서 면직의 브로드 클로드(#40, 광택 부여됨)를 패드욕에 침지시킨 후 패드욕으로부터 꺼내어 80%의 압착 탈수율로 압착 탈수하여 100℃에서 2분간 중간 건조시킨다. 이어서 직물을 150℃에서 3분간 고착처리한다.
계속하여 수세, 소우핑, 수세 및 건조시켜 청색인 염색 제품을 수득한다.
본 착색제 물질을 사용하여 수득한 염색 제품은 균일하게 밀도있게 염색된다. 광에 대한 착색 견뢰도(JIS L-0842)는 ＂6급＂으로 우수하고, 세척에 대한 착색 견뢰도(JIS L-0844, A-4방법)는 ＂5-급＂(면 오염)으로 높으며, 발한 및 일광에 대한 착색 견뢰도(JIS L-0888, 알칼리)는 ＂5-급＂을 나타낸다.
[산업상의 이용 가능성]
본 발명에 따른 수용성 포르마잔 착색제는 수용성기로 치환된 저급 알킬아미노기, 페닐아미노기, 또는 나프틸아미노기를 트리아진환에 이입한 신규의 화학 구조를 갖는다. 이 착색제는 셀룰로우즈 및 질소함유 섬유용 염료로써 특히 유용하다.
또한, 그러한 신규의 화학 구조를 갖는 본 발명의 수용성 포르마잔 착색제는 하기와 같은 공지의 착색제보다 우수한 특성을 갖는다.
(1) 포르마잔 골격의 구조 전체에 대해 적량의 수용성기를 함유하는 착색제는 염색후 소우핑에 의해 미고착 염료를 쉽게 제거할 수 있으므로 세척에 대한 염색 제품의 착색 견뢰도가 우수하다.
(2) 공지의 염료는 트리아진환에 결합된 활성 할로겐원자를 가지므로 염색 제품은 발한 및 일광에 대한 착색 견뢰도가 불량하다. 이와는 달리, 본 발명의 착색제는 트리아진환에 결합된 그러한 활성 할로겐원자를 갖지 않으므로 발한 및 일광에 대한 착색 견뢰도가 우수하다.
(3) 본 발명의 착색제는 공지의 포르마잔 착색제와 비교하여 매우 우수한 산 안정성을 갖는다.
(4) 본 발명의 착색제는 단 1개의 비닐 술폰계 반응기를 가지지만 두개의 비닐 술폰계 반응기 및 활성 할로겐 원자를 함유하는 공지된 염료와 비교하여 우수한 반응 고착율 및 강화 특성을 갖는다.
(5) 공지의 포르마잔 화합물은 큰 분자량 및 통상적으로 낮은 수용성을 가지며, 특히 연속 염색 방법에 고밀도 염색을 행할 수 없다. 그러나, 본 발명에 따른 착색제의 경우, 수용성이 우수하므로 고밀도 염색 또한 가능하다.

Claims (13)

  1. 유리산 형태인 하기 일반식(I)의 수용성 포르마잔 착색제.
    Figure kpo00027
    (상기 식중, R은 수소원자, 또는 히드록시 또는 C1~C2의 저급 알콕시기로 치환될 수 있는 C1~C4의 저급 알킬기이고; X는 C1~C4의 저급 알킬기, C1~C4의 저급 알콕시기, 할로겐원자 및 술폰산기로 구성된 군에서 선택된 하나 이상으로 치환될 수 있는 페닐렌기 또는 나프틸렌기이며; Y는 -SO2CH=CH2기 또는 -SO2C2H4W기(여기에서, W는 알칼리의 작용에 의해 제거되는 기이다)이고; Z는 하나의 술폰산기를 갖는 C1~C6의 저급 알킬아미노기 또는 페닐아미노기다.)
  2. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)중의 Z가 1개의 술폰산기를 갖는 C1내지 C4의 저급 알킬아미노기임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
  3. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)중의 Z가 1개의 술폰산기를 갖는 페닐아미노기임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
  4. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)중의 R이 수소원자 또는 C1내지 C4의 비치환 저급 알킬기이고, Z가 1개의 술폰산기를 갖는 C1~ C4의 저급 알킬아미노기 또는 페닐아미노기임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
  5. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)중의 X가 C1내지 C4의의 저급 알킬기, C1내지 C4의 저급 알콕시기 및 할로겐원자로 구성된 군으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환기로 치환될 수 있는 페닐렌기임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
  6. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)의 화합물이 유리산 형태인 하기 일반식(I-2)로 나타낸 화합물임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
    Figure kpo00028
    (상기 식중, R은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이고; W'는 -CH=CH2기 또는 -C2H4OSO3H기이며; n은 1 내지 3의 정수이다).
  7. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)의 화합물이 유리산 형태인 하기 일반식(I-3)으로 나타낸 화합물임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
    Figure kpo00029
    (상기 식중, R'는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이고; W'는 -CH=CH2기 또는 -C2H4OSO3H기이다).
  8. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)의 화합물이 유리산 형태인 하기 일반식(I-4)로 나타낸 화합물임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
    Figure kpo00030
    (상기 식중, W'는 -CH=CH2기 또는 -C2H4OSO3H기이다).
  9. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)의 화합물이 유리산 형태인 하기 일반식(I-5)로 나타낸 화합물임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
    Figure kpo00031
    (상기 식중, W'는 -CH=CH2기 또는 -C2H4OSO3H기이다).
  10. 제1항에 있어서, 상기 착색제가 셀룰로우즈 섬유 또는 질소함유 섬유 염색용 반응성 염료임을 특징으로 하는 수용성 포르마잔 착색제.
  11. 유리산 형태인 하기 일반식(I)의 수용성 포르마잔 착색제를 사용함을 특징으로 하는 섬유의 염색방법.
    Figure kpo00032
    (상기 식중, R은 수소원자, 또는 히드록시 또는 C1~C2의 저급 알콕시기로 치환될 수 있는 C1~C4의 저급 알킬기이고 ; X는 C1~C4의 저급 알킬기, C1~C4의 저급 알콕시기, 할로겐 원자 및 술폰산기로 구성된 군에서 선택된 하나 이상으로 치환될 수 있는 페닐렌기 또는 나프틸렌기이며 ; Y는 -SO2CH=CH2기 또는 -SO2C2H4W기(여기에서, W는 알칼리의 작용에 의해 제거되는 기이다)이고 ; Z는 하나의 술폰산기를 갖는 C1~C6의 저급 알킬아미노기 또는 페놀아미노기다).
  12. 제11항에 있어서, 상기 일반식(I)중의 Z가 1개의 술폰산기를 갖는 C1내지 C6의 저급 알킬아미노기인 수용성 포르마잔 착색제를 사용함을 특징으로 하는 섬유의 염색방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 일반식(I)중의 Z가 1개의 술폰산기를 갖는 페닐아미노기인 수용성 포르마잔 착색제를 사용함을 특징으로 하는 섬유의 염색방법.
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