KR960002628A - 마이크로파 플라즈마 처리장치 - Google Patents

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KR960002628A
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히로시 마부치
다케시 아키모토
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나카무라 다메아키
스미토모 긴조쿠 고교 가부시키가이샤
가네코 히사시
닛폰 덴키 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명에 관한 장치는, 반응실의 측벽을 가열하는 수단과, 반응실의 내벽에 접촉되어 배치되는 통, 및 배기공을 갖는 마이크로파 반사판이 일체로 형성된 방착부재를 갖춘 마이크로파 플라즈마 처리장치이다.
또한 반응실의 측벽을 가열하는 수단과, 반응실의 내벽에 붙여지고 배기공을 갖는 마이크로파 반사판를 갖는 마이크로파 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.

Description

마이크로파 플라즈마 처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 실시예 1의 마이크로파 플라즈마 처리장치를 나타내는 모식적인 단면도.
제3도는 비교예로서 사용한 마이크로파 플라즈마 처리장치를 나타내는 모식적인 단면도.
제4도는 본 발명의 장치 및 비교예의 장치에 있어서 오일 온도와 퇴적 속도(堆積 速度)의 관계를 나타내는 그래프.
제5도는 본 발명의 장치 및 비교예의 장치에 있어서 오일 온도와 에칭 선택비(選擇比)의 관계를 나타내는 그래프.
제6도(a)는 본 발명의 장치에 있어서 에칭 결과를 나타내는 설명도.
제6도(b)는 비교예의 장치에 있어서 에칭 결과를 나타내는 설명도.

Claims (6)

  1. 마이크로파 발진기와, 상기 마이크로 발진기로 발진된 마이크로파와 반응가스가 유입되는 반응기와, 마이크로파를 반응기에 도파하는 도파관과, 전기 반응기의 한 벽면에 형성되고 전기 도파관에 접속된 유전체선로와, 전기 반응기를 상기 유전체선로와 반응실로 칸막이하는 상태로 설치되는 마이크로파 유입창과, 전기 반응실 내에 설치된 시료수용부와, 상기 시료수용부에 전계를 가하는 수단과, 전기 반응실에 반응가스를 공급하는 수단과, 전기 반응실의 벽의 온도를 제어하는 온도제어수단과, 전기 반응실의 내벽에 접촉되어 배치되는 통, 및 전기 마이크로파 유입창과 마주 보도록 통의 내측면에서 전기 시료수용부의 주위를 향하여 수직으로 붙여지고 배기공을 갖는 마이크로파 반사체가 일체로 형성된 방착부재로 구성되는 마이크로파 플라즈마 처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 전기 마이크로파 유입창과 전기 시료수용부의 사이에 설치되고 마이크로파 투과공을 갖는 도전체를 더 갖는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치.
  3. 제1항에 있어서, 전기 방착부재는, 전기 마이크로 유입창에 붙여져 설치되고 마이크로파 투과공을 갖는 유전체를 일체로 갖춘 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 전기 방착부재는, 전기 마이크로 유입창과 시료수용부의 중간 위치에 설치되고 마이크로파 투과공을 갖는 유전체를 일체로 갖춘 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치.
  5. 마이크로파 발진기와, 전기 마이크로파 발진기에서 발진된 마이크로파를 반응기에 도파하는 도파관과, 전기 반응기의 한 벽면에 형성되고 전기 도파관에 접속된 유선체선로와, 전기 반응기를 상기 유전체선로와 반응실로 칸막이하는 마이크로파 유입창과, 전기 반응실 내에 설치된 시료수용부와, 상기 시료수용부에 전계를 가하는 수단과, 전기 반응실에 반응가스를 공급하는 수단과, 전기 반응실의 벽의 온도를 제어하는 온도제어수단과, 전기 마이크로파 유입창과 마주 보도록 전기 반응실의 내측면에서 전기 시료수용부의 주위를 향하여 수직으로 붙여지고 배기공을 갖는 마이크로파 반사판으로 구성되는 플라즈마 처리장치.
  6. 제5항에 있어서, 전기 마이크로파 유입창과 전기 시료수용부 사이에 설치되고 마이크로파 투과공을 갖는 유전체가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950015465A 1994-06-14 1995-06-13 마이크로파 플라즈마 처리장치 KR0153841B1 (ko)

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