KR950034076A - 자기헤드유니트를 제조하는 방법과 자기헤드를 제조하는 방법 및 자기헤드유니트와 그러한 자기헤드유니트에 이용되는 자기헤드 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 자기헤드(1)와 지지부 (3)로부터 자기 헤드유니트를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 그러한 자기 헤드는 접지도체를 갖는 박막형 자기헤드구조체를 도전성 기층(5)상에 제공함으로써 제조되며, 자기헤드가 지지부에 대해 고정되기전에 기층의 외측에 있는 전기적 절연층이 제거 되며, 그후에 도전성 접촉층(39)이 그렇게 얻어진 표면상에 형성되고, 그러한 자기헤드를 지지부에 대해 고정시킴으로써 접촉층이 지지부에 있어서의 그러한 지지부를 접지시키기 위한 부분(43a,43b)들과 접촉하게 될 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 자기헤드유니트의 한 실시예의 사시도, 제2도는 본 발명에 따른 자기헤드의 한 실시예이 사시도, 제3도는 접촉층이 제공되기전의 제2도에 도시된 자기헤드의 단면도.
Claims (15)
- 자기헤드(a magnetic head)와 지지부(a support)로부터 자기헤드유니트(a magnetic head unit)를 제조 하기 위한 것으로서, 그러한 자기헤드가 도전성 기층(an electrically conducting substrate)및 그러한 도전성 기층에 대해 배치되고 변환소자(a transducing element)를 갖는 다층구조체(a multilayer structure)를 포함하며, 또한, 그러한 지지부와 결합되게 구성하는, 자기헤드유니트제조방법(a mithod of manufacturing a magnetic head unit)에 있어서, 기층의 외향측 (a substrate side facing the exterior)에 있는 전기적 절연층(an electrically insulating layer)이 제거된 표면(a surface)을 형성하는 제1단계와, 그렇게 형성된 표면상에 도전성 접촉층(an electrically conducting contact layer)을 형성하기 위한 도전성 물질(an electrically conducting material)이 부착 (depositing)되는 제2단계 및 자기 헤드가 지지부에 대해 고정(securing)되고 도전성 접촉층이 지지부와 접촉되는 제3단계가 차례대로 진행되는 것을 특징으로 하는 자기 헤드유니트제조방법.
- 제1항에 있어서,기층으로서는 도전성을 갖는 알루미늄옥사이드-타타늄 카바이드(Al2O3-TiC)로 된 기층이 이용되고, 전기적 절연층은 산화(oxidation)에 의해 형성된 티타늄 옥사이드를 포함하며, 그러한 절연층은 도전성 접촉층이 형성되기전에 저게되는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니트제조방법.
- 제1항에 있어서, 기층으로서는 실리콘기층(a silicon substrate)이 이용되고, 전기적 절연층은 산화(oxidation)에 의해 형성된 실리콘 옥사이드를 포함하며, 그러한 절연층은 도전성 접촉층이 형성되기전에 제거되는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니제조방법.
- 제1항에 있어서, 기층으로서는 도전성 페라이트(electrically conducting ferrite)가 이용되고, 전기적 절연층은 물리적 처리(mechanical treatment)에 의해 형성된 표면층이며, 그러한 절연층은 도전성 접촉층이 형성되기전에 제거되는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니제조방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 전기적 절연층이 저압공간(a low-pressure space)속에서의 스푸터에칭에 의해 제거되고나서, 도전성 층이 저압 공간속에서의 스푸터링에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니트 제조방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 기층상이 도전성 접촉층과 그러한 기층간에 도전성 접착제(an electrically conducting adhesive)가 제공되는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니트제조방법.
- 변환소자(a transducing element)를 갖는 다충구조체(a multilayer structure)가 형성된 도전성 기층(an electrically conducting substrate)으로부터 출발해서 ,제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에서 청구된 자기헤드유니트제조방법에서 이용하는 자기헤드(a magnetic head)를 제조하는, 자기헤드제조방법(a method of manufacturing a magnetic head)에 있어서, 접지도체(a ground conductor)를 형성하는 도전성 물질(electrically conducting materrial)이 상기 다충구조체의 형성중에 부착되고, 상기 접지도체는 상기 기층에 대해 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 자기헤드제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 접지도체를 형성하기 위한 도전성 물질을 부착하기전에 기존에 상기 기층상에 있는 절연층(an insulation layer)에는 상기 기층까지 연장된 리드선관통공(a lead-thuough aperture)이 제공되고, 상기 기층에는 상기 리드선관통공의 영역에서 도전성 표면 (an electrically conducting surface)이 제공되며, 그 후에 상기 접지도체 및 그러한 접지도체와 상기 기층간의 연결부 (a connection)를 형성하는 도전성 물질이 상기 절연층상에 부착되고 또한 상기 리드선관통공을 통해서 상기 기층의 도전성 표면상에도 부착되는 것을 특징으로 하는 자기헤드제조방법.
- 도전성 기층(an electrically conducting substrate)과 그러한 기층에 결합된 다층구조체(a multilayer structure)를 갖추고 적어도 하나 이상의 변환소자 (at least a transducing element)를 포함하는 자기헤드(a magnetic head)와 그러한 자기헤드를 지지하는 지지부(a support)를 포함하고, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에서 청구된 자기헤드유니트제조방법에 의해 제조될 수 있는 자기헤드우니트(a magnetic head unit)에 있어서, 상기 기층이 상기 자기헤드의 접지도체(a ground conductor)에 대해 전기적으로 연결되어 있고, 상기 기층의 지지부재향면(a substrate surface facing the support)에는 도전성 물질(an electrically conducting material)로 되고 상기 지지부와 결합된 접촉층 (a contact layer)이 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니트.
- 제9항에 있어서, 상기 지지부가 도전성을 가지며 상기 자기헤드유니트에 속한 전기적 절연기부(an electrically insulating base)상에 고정(securing)되어 있는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니트.
- 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 접촉층과 상기 지지부의 사이에는 도전성 접착제(an electrically conducting adhesive)가 적어도 국소적으로 존재하는 것을 특징으로 하는 자기헤드유니트.
- 헤드면(a head face)을 가지며, 도전성 기층(an electrically conducting substrate)과 그러한 헤드면에서 종지(terminating)되는 변환간극(a transducing gap)과 변환소자(a transducing element)가 제공되고 그러한 도전성 기층상에 있는 다층구조체(a multilayer structure)를 포함하며, 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에서 청구된 자기헤드유니트에 이용되기 위한 것이고, 제7항 또는 제8항에서 청구된 자기헤드제조방법에 의해 제조될 수 있는 자기헤드(a magnetic head)에 있어서, 상기 다층구조체속에서의 접지도체(a ground conductor)가 리드선관통공(a lead-through aperture)을 경유하여 상기 기층과 직접적으로 접촉해 있고 접경면(an abutting face)이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 자기헤드.
- 제12항에 있어서, 기층(a substrate)으로서는 도전성 세라믹기층(an electrically conducting ceramic substrate)이 이용된 것을 특징으로 하는 자기헤드.
- 제12항에 있어서, 기층(a substrate) 으로서는 반도체기층(a semiconductor substrate)이 이용된 것을 특징으로 하는 자기헤드.
- 제12항에 있어서, 기층(a substrate)으로서는 도전성 페라이트기층(an electrically conducting ferrite substrate)이 이용된 것을 특징으로 하는 자기헤드.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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