JPS5911527A - 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPS5911527A JPS5911527A JP57118611A JP11861182A JPS5911527A JP S5911527 A JPS5911527 A JP S5911527A JP 57118611 A JP57118611 A JP 57118611A JP 11861182 A JP11861182 A JP 11861182A JP S5911527 A JPS5911527 A JP S5911527A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- slider
- film magnetic
- floating
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の対象
本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、特に磁気ディスク表面
と接触起動・停止（以後Ｃ″ＳＳと称す）する浮上形薄
膜磁気ヘッドにおいて、Ｃ″ＳＳ耐久回数の優れた浮上
スライダーに関する。
と接触起動・停止（以後Ｃ″ＳＳと称す）する浮上形薄
膜磁気ヘッドにおいて、Ｃ″ＳＳ耐久回数の優れた浮上
スライダーに関する。
従来技術
従来薄膜磁気・＼ノドの浮上スライダーは特開昭５５−
１６３６６５号に述べられている如（、ＡＩＵｓとＴＬ
Ｃの混合物から成るセラミック材料（以後Ａ１２Ｕ５−
ＴｉＣ材と称す）が用いられていた。この材料は浮上
スライダーの形状を機械加工で高精度形成する上では非
常に優れた材料であるが。
１６３６６５号に述べられている如（、ＡＩＵｓとＴＬ
Ｃの混合物から成るセラミック材料（以後Ａ１２Ｕ５−
ＴｉＣ材と称す）が用いられていた。この材料は浮上
スライダーの形状を機械加工で高精度形成する上では非
常に優れた材料であるが。
上述のｃ’ ｓ ｓ耐久回数が十分でないという欠点を
有していた。
有していた。
発明の目的
本発明の目的はかかる欠点を改良し、ＣＳＳ耐久回数の
優れた浮上スライダーを有する薄膜磁気ヘッドおよびそ
の製造方法を提供することである。
優れた浮上スライダーを有する薄膜磁気ヘッドおよびそ
の製造方法を提供することである。
薄膜磁気ヘッドはＥ Ｌ Ｅ Ｃ’ Ｔ ＲＯＮ Ｉ
Ｃ’ 、ＤＥＳＩＧＮ誌１９８０年５月１日号６１頁に
記載されているように多数の薄膜素子を基板上に一括形
成し、その後基板に切断、研削、研摩等の機械加工を行
い、端部に薄膜素子を搭載した浮上スライダーを得る。
Ｃ’ 、ＤＥＳＩＧＮ誌１９８０年５月１日号６１頁に
記載されているように多数の薄膜素子を基板上に一括形
成し、その後基板に切断、研削、研摩等の機械加工を行
い、端部に薄膜素子を搭載した浮上スライダーを得る。
この浮上スライダーは高記録密度を実現するために狭浮
上スペースでも安定に浮上できるものでなければならず
、従って浮上面の平面度０面粗さ、浮上面綾部の欠け。
上スペースでも安定に浮上できるものでなければならず
、従って浮上面の平面度０面粗さ、浮上面綾部の欠け。
浮上面幅精度等非常に厳しい仕様を満足させる必要があ
る。上述から明らかなように薄膜磁気・＼ノドの浮上ス
ライダー材料としては、薄膜菓子を形成する上で、製造
プロセスに耐えるものでなければならず、かつ、浮上ス
ライダーとして優れた機械精度を実現し易いものでなけ
ればならず、このような諸要求を満たてものとして焼結
＠度を冒めたＡｌ２Ｏ５−ｆｉ（、’材が前記特開昭５
５−１６５６６５号で提案され、実際に用いられ始めて
いる。本発明者らは該材料について評価した結果、確か
に薄膜菓子を形成１−る上でも、ｆＩ上スライダを加ニ
ー「る上でも満足すべきものであることがわかった。し
かし、この材料はＣ゛ＳＳ耐久回数が十分でないという
欠点も明らかになった。Ｃ’ Ｓ Ｓは磁気ディスク記
憶装置の使われ方によって必要な耐久回数が異るが１例
えば４回／日とすると１０年間で１５．０００回程度で
あり諸条件のばらつきを考えると５０，０００回以上必
要と考えられる。これに対して、 Ａ１２０５− Ｔｉ
Ｃ材は現在標準的に使われている磁気ディスクとのＣ゛
ＳＳＳＳ試験、０００回〜１５．０００回程度と必要耐
久回数の′／６〜１２の値しか得られておらず、改良の
必要があることがわかった。尚このＣ’ Ｓ Ｓ耐久回
数は磁気ディスク表面に塗布する潤滑剤の量を増大させ
れば大幅に延びることもわかったが、その場合、起動開
始時に浮上スライダーと磁気ディスク表面が粘着を起し
易くなり、磁気ヘッド破壊を頻繁にひき起すので、適用
が難かしいことがわかった。−万Ａ１２０Ａ −Ｔｔ（
、’と類似の材料として従来から磁気テープ用ヘッドの
耐摩耗保積層などに用いられているＡｌ ２Ｕｓ −Ｔ
ｉＵ３材をと９あげ、浮上スライダーを形成してＣ′Ｓ
Ｓ試験を行ったところ１００．０００回以上、と極めて
ｃ、’ ｓ ｓ耐久回数が大であることを発明者らは見
出した。しかしこの材料は薄膜素子形成中および浮上ス
ライダー加工時の変形量が大きく。
る。上述から明らかなように薄膜磁気・＼ノドの浮上ス
ライダー材料としては、薄膜菓子を形成する上で、製造
プロセスに耐えるものでなければならず、かつ、浮上ス
ライダーとして優れた機械精度を実現し易いものでなけ
ればならず、このような諸要求を満たてものとして焼結
＠度を冒めたＡｌ２Ｏ５−ｆｉ（、’材が前記特開昭５
５−１６５６６５号で提案され、実際に用いられ始めて
いる。本発明者らは該材料について評価した結果、確か
に薄膜菓子を形成１−る上でも、ｆＩ上スライダを加ニ
ー「る上でも満足すべきものであることがわかった。し
かし、この材料はＣ゛ＳＳ耐久回数が十分でないという
欠点も明らかになった。Ｃ’ Ｓ Ｓは磁気ディスク記
憶装置の使われ方によって必要な耐久回数が異るが１例
えば４回／日とすると１０年間で１５．０００回程度で
あり諸条件のばらつきを考えると５０，０００回以上必
要と考えられる。これに対して、 Ａ１２０５− Ｔｉ
Ｃ材は現在標準的に使われている磁気ディスクとのＣ゛
ＳＳＳＳ試験、０００回〜１５．０００回程度と必要耐
久回数の′／６〜１２の値しか得られておらず、改良の
必要があることがわかった。尚このＣ’ Ｓ Ｓ耐久回
数は磁気ディスク表面に塗布する潤滑剤の量を増大させ
れば大幅に延びることもわかったが、その場合、起動開
始時に浮上スライダーと磁気ディスク表面が粘着を起し
易くなり、磁気ヘッド破壊を頻繁にひき起すので、適用
が難かしいことがわかった。−万Ａ１２０Ａ −Ｔｔ（
、’と類似の材料として従来から磁気テープ用ヘッドの
耐摩耗保積層などに用いられているＡｌ ２Ｕｓ −Ｔ
ｉＵ３材をと９あげ、浮上スライダーを形成してＣ′Ｓ
Ｓ試験を行ったところ１００．０００回以上、と極めて
ｃ、’ ｓ ｓ耐久回数が大であることを発明者らは見
出した。しかしこの材料は薄膜素子形成中および浮上ス
ライダー加工時の変形量が大きく。
浮上スライダーの平面度が悪く、高記録密度用浮上スラ
イダー材として適さないことがわかった。この理由を推
定すると、 Ａ１２０５− Ｔｔ、（・材はマイクロビ
ッカース硬度２０００以上と極めて大きく材料剛性も犬
なのに対してＡｌ ２Ｕ５− Ｔ ｉ０２ 材＆Ｘマイ
クロビッカース硬度１２００前後と小さく、材料剛性小
のためと思われる。以上の説明から。
イダー材として適さないことがわかった。この理由を推
定すると、 Ａ１２０５− Ｔｔ、（・材はマイクロビ
ッカース硬度２０００以上と極めて大きく材料剛性も犬
なのに対してＡｌ ２Ｕ５− Ｔ ｉ０２ 材＆Ｘマイ
クロビッカース硬度１２００前後と小さく、材料剛性小
のためと思われる。以上の説明から。
ｙｔ１２Ｕｓ −ＴｉＣ材、Ａ１２０ｓ−Ｔｉ０２材は
いずれも薄膜磁核・＼ノドの浮上スライダー材料として
は不十分であるため１発明者らは両者の利点を活かすこ
とにより好適な浮上スライダーを実現することを考えた
。本発明の特徴は、４１２０３− ＴｉＣ材から成る浮
上スライダーの表面層に少くとも局部的にＴｉＱ２成分
を存在せしめ、薄膜素子形成および浮上スライダー加工
におけるＡ１２Ｕ５− ＴｉＣ’材の特長を活かしなが
ら、この材料の欠点であるＣ’ Ｓ Ｓ耐久回数を向上
させることにある。以下実施例を説明する。
いずれも薄膜磁核・＼ノドの浮上スライダー材料として
は不十分であるため１発明者らは両者の利点を活かすこ
とにより好適な浮上スライダーを実現することを考えた
。本発明の特徴は、４１２０３− ＴｉＣ材から成る浮
上スライダーの表面層に少くとも局部的にＴｉＱ２成分
を存在せしめ、薄膜素子形成および浮上スライダー加工
におけるＡ１２Ｕ５− ＴｉＣ’材の特長を活かしなが
ら、この材料の欠点であるＣ’ Ｓ Ｓ耐久回数を向上
させることにある。以下実施例を説明する。
発明の実施例
実施例−１
Ａｔ２Ｑ５− ＴｉＣ’材を大気雰囲気中で熱処理する
と、ＴｃＣが７ ｉＵ２に置換し、この置換の程度が熱
処理温度に依存する事実を見出した。第１図に検討結果
の一例を示す。横軸の各熱処理温度で加熱炉中に１時間
保持した後のＣ５Ｓ耐久回数および、ＴｉＯ２変換量を
分析したデータを示す。
と、ＴｃＣが７ ｉＵ２に置換し、この置換の程度が熱
処理温度に依存する事実を見出した。第１図に検討結果
の一例を示す。横軸の各熱処理温度で加熱炉中に１時間
保持した後のＣ５Ｓ耐久回数および、ＴｉＯ２変換量を
分析したデータを示す。
コノ図から、試験サンプルにおいては熱処理温度２５０
を以上になるとＴｉＣが急激に大気中の酸素と反応し
てＴＬＯ２に変換していることがわかる。
を以上になるとＴｉＣが急激に大気中の酸素と反応し
てＴＬＯ２に変換していることがわかる。
これに伴ってＣ’ＳＳ耐久回数も急激に改善され２５０
を以上で目標とする３ ０．０００回以上を満足した
。尚このｃ’ ｓ ｓ改良可能な熱処理温度（７’０）
は初期材料であるＡ１２（Ｐｒ −ＴｉＣの組成比や添
加元素の景によって、若干ばらつくが１通常２００〜４
００ ′ｃの間に改良温度（ＴＯ＞が存在することが認
められた。尚この熱処理は薄膜素子を搭載した浮上スラ
イダー完成状態で行うため、４００℃以上の温度では薄
膜素子θ］性能劣化や浮上面の変形が始まるので、改良
温度（ＴＯ）が４００υ以下となるＡ１２Ｕ５− Ｔｉ
Ｃ’材を選ぶことが望ましい。父１分析データからこの
熱処理後のｉ’ｉ０２層は浮上スライダーの表面近傍に
分布し、従って浮上スライダー全体としての内部状態は
殆んどΔｔ２ｏｓ −ｒｉｃ材のまま保持され、剛性も
低下せず、浮上スライダーとしての形状安定性が７ｆｉ
ｂれない。
を以上で目標とする３ ０．０００回以上を満足した
。尚このｃ’ ｓ ｓ改良可能な熱処理温度（７’０）
は初期材料であるＡ１２（Ｐｒ −ＴｉＣの組成比や添
加元素の景によって、若干ばらつくが１通常２００〜４
００ ′ｃの間に改良温度（ＴＯ＞が存在することが認
められた。尚この熱処理は薄膜素子を搭載した浮上スラ
イダー完成状態で行うため、４００℃以上の温度では薄
膜素子θ］性能劣化や浮上面の変形が始まるので、改良
温度（ＴＯ）が４００υ以下となるＡ１２Ｕ５− Ｔｉ
Ｃ’材を選ぶことが望ましい。父１分析データからこの
熱処理後のｉ’ｉ０２層は浮上スライダーの表面近傍に
分布し、従って浮上スライダー全体としての内部状態は
殆んどΔｔ２ｏｓ −ｒｉｃ材のまま保持され、剛性も
低下せず、浮上スライダーとしての形状安定性が７ｆｉ
ｂれない。
実施例−２
実施？！ｌ−１において加熱炉中で熱処理すると浮上ス
ライダーのみならず薄膜素子も熱せられるので、熱処理
温度（ＴＯ）が高いときは薄膜素子の性能劣化が問題だ
なる。これを改良する方法として酸素プラズマアノシャ
ー装置を用い。
ライダーのみならず薄膜素子も熱せられるので、熱処理
温度（ＴＯ）が高いときは薄膜素子の性能劣化が問題だ
なる。これを改良する方法として酸素プラズマアノシャ
ー装置を用い。
浮上スライダーを、基板加熱温度１００ ｔで２００Ｗ
、３０分灰化処理することにより、実施例−１と同様な
効果を得ることができた。このとき。
、３０分灰化処理することにより、実施例−１と同様な
効果を得ることができた。このとき。
浮上スライダー全体の温度を高めることなく局部的冗効
率よ＜ＴＬ０２変換が行われ、薄膜素子の性能劣化に対
する温度マージンを広げることができたつ 実施例−６ 上記実施例−２において酸素プラズマでなく大気中アノ
シャーにしても同様の効果を得ることができた。
率よ＜ＴＬ０２変換が行われ、薄膜素子の性能劣化に対
する温度マージンを広げることができたつ 実施例−６ 上記実施例−２において酸素プラズマでなく大気中アノ
シャーにしても同様の効果を得ることができた。
実施例−４
上記実施例−２において酸素プラズマアッシャ−装置で
なく、レーザー加熱装置を用いて浮」ニスライダーの浮
上面を大気中で加熱した場合にも同様の効果を得ること
ができた。
なく、レーザー加熱装置を用いて浮」ニスライダーの浮
上面を大気中で加熱した場合にも同様の効果を得ること
ができた。
実施例−５
上記実施例−４においてレーザー加熱装置でなく電子ビ
ーム加熱装置を用いた場合にも同様の効果を得ることか
でさた。
ーム加熱装置を用いた場合にも同様の効果を得ることか
でさた。
実施例−６
上記実施例−４においてレーザー加熱装置の代りに高周
波銹尋加熱装置を用いた場合にも同様の効果を得ること
ができた。
波銹尋加熱装置を用いた場合にも同様の効果を得ること
ができた。
以上の各実施例のようにＡ１２０５−７’ＬＣ材から成
る浮上スライダー表面を表面加熱状態で酸素を含む気体
との気相反応を行わせしめることにより所期の効果が得
られることがわかった。
る浮上スライダー表面を表面加熱状態で酸素を含む気体
との気相反応を行わせしめることにより所期の効果が得
られることがわかった。
実施例
この実施例の浮上スライダーを第２図にろく丁。
（α）は全体図、（ｂ）は部分拡大図である。（ｂ）図
に示すようにＡ１２０５−ｉＬＣ拐から成る浮上スライ
ダー１を機械加工後、浮上面２のうち薄膜素子形放向４
に隣接する部分を例えば１０〜１００μｍ除いた領域を
、破線３で示す如く機械加工又はスパッタエツチング、
イオンミリングなどで深さ２μｍ〜ｉｏｏμ７１８度除
去する。次に公知のプラズマ溶射技術を用いて浮上スラ
イダー表面全面に。
に示すようにＡ１２０５−ｉＬＣ拐から成る浮上スライ
ダー１を機械加工後、浮上面２のうち薄膜素子形放向４
に隣接する部分を例えば１０〜１００μｍ除いた領域を
、破線３で示す如く機械加工又はスパッタエツチング、
イオンミリングなどで深さ２μｍ〜ｉｏｏμ７１８度除
去する。次に公知のプラズマ溶射技術を用いて浮上スラ
イダー表面全面に。
Ａｔ ２（Ｊ３− ＴｉＯ２層を形成し、破線３を加工
する前の初期表面とほぼ同一レベルまで表面研摩加工す
る。このような構造により、浮上スライダー表面のｔ’
ｓ ｓ動作を行う部分の殆どを実質的にΔｌ ２（Ｊ
３− Ｔｉ（Ａ２材にすることができ、ｃ’ ｓ ｓ耐
り回数を向上させることができた。
する前の初期表面とほぼ同一レベルまで表面研摩加工す
る。このような構造により、浮上スライダー表面のｔ’
ｓ ｓ動作を行う部分の殆どを実質的にΔｌ ２（Ｊ
３− Ｔｉ（Ａ２材にすることができ、ｃ’ ｓ ｓ耐
り回数を向上させることができた。
実施例−８
実施例−７においてプラズマ溶射技術の代りにＡ１２０
ｈ−Ｔｉ０２材のターゲットを用いてスパッタリングし
、同様に表面研摩加工することにより、ｃ、’ｓｓ耐久
回数を向上させることができた。
ｈ−Ｔｉ０２材のターゲットを用いてスパッタリングし
、同様に表面研摩加工することにより、ｃ、’ｓｓ耐久
回数を向上させることができた。
これら実施例−８，８のようにΔ１２０５− ＴｉＣ上
にＡ１２０５−ＴｉＯ２膜を形成する構造は画材質問の
熱膨張係数や熱伝導率などの物理定数の差が比較的小さ
く、経時安定性に優れている。
にＡ１２０５−ＴｉＯ２膜を形成する構造は画材質問の
熱膨張係数や熱伝導率などの物理定数の差が比較的小さ
く、経時安定性に優れている。
実施例−９
以上の実施例において、基板材料として材料作製時の焼
結性を高め、或いは機械加工時の切削性を高めるためな
どの目的でΔ１２’３− ＴｉＣに第６成分を添加した
場合も同様の効果が得られることが確認できた。
結性を高め、或いは機械加工時の切削性を高めるためな
どの目的でΔ１２’３− ＴｉＣに第６成分を添加した
場合も同様の効果が得られることが確認できた。
発明の効果
以上本発明の実施例のいくつかを説明してきたが、これ
らの例から本発明により、薄膜素子を形成する上からも
、浮上スライダーとして高精度加工する上からも、更に
はｃ’ ｓ ｓ耐久回数の上からも優れた薄膜磁気ヘッ
ド用基板兼浮上スライダーを実現できることがわかる。
らの例から本発明により、薄膜素子を形成する上からも
、浮上スライダーとして高精度加工する上からも、更に
はｃ’ ｓ ｓ耐久回数の上からも優れた薄膜磁気ヘッ
ド用基板兼浮上スライダーを実現できることがわかる。
尚これまでの例でとりあげてきた薄膜磁気・＼ノドには
誘導形薄膜磁気ヘッド、磁気抵抗効果形薄膜磁気ヘッド
、垂直記録形薄換磁気ヘッド等薄膜プロセスを経て高精
度加工され、浮上動作する磁気ヘッドを広く包括できる
ことは本発明の主旨から明らかである。
誘導形薄膜磁気ヘッド、磁気抵抗効果形薄膜磁気ヘッド
、垂直記録形薄換磁気ヘッド等薄膜プロセスを経て高精
度加工され、浮上動作する磁気ヘッドを広く包括できる
ことは本発明の主旨から明らかである。
第１図はＡ１２（Ｂ −ＴｉＣ材の大気中熱処理の効果
を表わｆ説明図、第２図ｔａ）は本発明の一実施態様と
なる浮上スライダーの斜視図、第２図（ｂ）は第２図（
ａ）の部分拡大図である。 １・・・浮上スライダー。 ２・・・浮上面。 ５・・・浮上面溝加工ライン。 ４・・・薄膜素子形成面。 オＩ口 せ丁゛ ？米すＷノし艷−，７ｉ
２ 口 （ｃＬ）
を表わｆ説明図、第２図ｔａ）は本発明の一実施態様と
なる浮上スライダーの斜視図、第２図（ｂ）は第２図（
ａ）の部分拡大図である。 １・・・浮上スライダー。 ２・・・浮上面。 ５・・・浮上面溝加工ライン。 ４・・・薄膜素子形成面。 オＩ口 せ丁゛ ？米すＷノし艷−，７ｉ
２ 口 （ｃＬ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 薄膜素子を形成した基板を機械加工することにより
浮上スライダーの少なくとも一部を構成せしめる薄膜磁
気ヘッドにおいて、該基板材料とは少なくとも局部的に
材料組成を異ならせた浮上面を有することを特徴とする
薄膜磁気へソ ド 。 ２、 基板としてＡｌ２Ｏ５−ＴｉＣを主成分とする材
料を用い、浮上スライダーの浮上面に少なくとも局部的
にＡ１２０ｓ−Ｔｉ０２を存在せしめたことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ヘッド。 ６、 薄膜素子を形成した基板を機械加工することによ
り浮上スライダーの少なくとも一部を構成せしめる薄膜
磁気ヘッドにおいて、浮上スライダーの浮上面を局部的
に材料組成を異ならせることを特徴とする薄膜磁気・＼
ノドの製造方法。 ４ 基板としてＡｔ２０５− ＴｉＣ’を主成分とする
材料を用い、浮上スライダーを加熱状態で酸素を含む気
体との気相反応を行わせる゛ことにより。 浮上スライダーの浮上面を少なくとも局部的にＡｌ ２
０５− ＴｉＣ２に置換することを特徴とする特許請求
の範囲第６項記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 ５ 基板としてＡｌ２０３− ＴｉＣを主成分とする材
料を用い、浮上スライダーを大気雰囲気中で熱処理する
ことにより、浮上スライダーの浮上面を少なくとも局部
的にＡｌ ２（Ａ３− ＴｉＣ２に置換することを特徴
とする特許請求の範囲第５項記載の薄膜磁気へノドの製
造方法。 ６ 浮上スライダーを大気雰囲気中で熱処理する場合、
温度を２００ ｔから４００℃の間に設定することを特
徴とする特許請求の範囲第５項記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法。 ２ 基板としてＡ１２（Ａ５− ＴｉＣを主成分とする
材料を用い、浮上スライダーを灰化処理することにより
、浮上スライダーの浮上面を少なくとも局部的にＡｌ
２０５− ＴｉＣ２に置換することを特徴とする特許請
求の範囲第６項記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 ８ 基板としてＡ１２Ｕｓ −ＴｉＣを主成分とする材
料を用い、浮上スライダーの浮上面を機械加工により局
部的に削り、該部分に薄膜技術によりＡｌ ２０３−
ＴｉＯ２層を形成することを特徴とする特許請求の範囲
第３項記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57118611A JPS5911527A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| US06/904,818 US4796126A (en) | 1982-07-09 | 1986-09-08 | Magnetic head flying slider assembly |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57118611A JPS5911527A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5911527A true JPS5911527A (ja) | 1984-01-21 |
| JPH0349134B2 JPH0349134B2 (ja) | 1991-07-26 |
Family
ID=14740835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57118611A Granted JPS5911527A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4796126A (ja) |
| JP (1) | JPS5911527A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01213820A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-28 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドスライダの製造方法 |
| US6590745B1 (en) | 1999-01-26 | 2003-07-08 | Tdk Corporation | Magnetic head, method of manufacturing same, and magnetic disk apparatus |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5198934A (en) * | 1985-07-19 | 1993-03-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic disk device including a slider provided with a solid protecting layer which determines the distance between a magnetic gap and a magnetic disk recording device |
| JP2595097B2 (ja) * | 1989-07-05 | 1997-03-26 | 株式会社日立製作所 | 回転磁気ヘッド装置 |
| DE69117323T2 (de) | 1990-04-16 | 1996-07-11 | Hitachi Ltd | Dünnfilm-Magnetkopf mit schmaler Spurbreite und dessen Herstellungsverfahren |
| US5156704A (en) * | 1990-06-01 | 1992-10-20 | Computer And Communications Technology Corp. | Method for fabricating magnetic head air bearing sliders |
| JPH0520723A (ja) * | 1991-07-09 | 1993-01-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 光磁気記録型記録装置の浮動ヘツド |
| BE1008051A3 (nl) * | 1994-01-27 | 1996-01-03 | Koninkl Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een magneetkopeenheid, werkwijze voor het vervaardigen van een magneetkop, magneetkopeenheid en magneetkop ten gebruike in de magneetkopeenheid. |
| US5831791A (en) * | 1996-03-27 | 1998-11-03 | Headway Technologies, Inc. | Negative Pressure air bearing slider having transition region between positive and negative pressure regions |
| US6059707A (en) | 1998-03-27 | 2000-05-09 | Tenneco Packaging Inc. | Easy to open handle bag and method of making the same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5683869A (en) * | 1979-12-10 | 1981-07-08 | Fujitsu Ltd | Structure of thin film magnetic head |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2075466A5 (ja) * | 1970-01-29 | 1971-10-08 | Ibm | |
| US4130847A (en) * | 1977-03-31 | 1978-12-19 | International Business Machines Corporation | Corrosion resistant thin film head assembly and method for making |
| US4251841A (en) * | 1979-06-01 | 1981-02-17 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider assembly |
| JPS57198578A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Material for magnetic head and slider |
-
1982
- 1982-07-09 JP JP57118611A patent/JPS5911527A/ja active Granted
-
1986
- 1986-09-08 US US06/904,818 patent/US4796126A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5683869A (en) * | 1979-12-10 | 1981-07-08 | Fujitsu Ltd | Structure of thin film magnetic head |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01213820A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-28 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドスライダの製造方法 |
| US6590745B1 (en) | 1999-01-26 | 2003-07-08 | Tdk Corporation | Magnetic head, method of manufacturing same, and magnetic disk apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4796126A (en) | 1989-01-03 |
| JPH0349134B2 (ja) | 1991-07-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960001288B1 (ko) | 보호 코팅을 갖는 박막 자기 헤드 슬라이더와 그 제조 방법 | |
| US6958885B1 (en) | Insulation layer structure for inductive write heads and method of fabrication | |
| US6252741B1 (en) | Thin film magnetic recording head with treated ceramic substrate | |
| US5864452A (en) | Thin-film magnetic head and method of forming carbon film | |
| US6842308B1 (en) | Thermal compensation for head protrusion in a magnetic drive | |
| JPS5911527A (ja) | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| KR20080086403A (ko) | 금속 산질화물 접착/부식 배리어 층 및 및 다이아몬드-형탄소 오버코트 | |
| CN105474314A (zh) | 蚀刻停止配置 | |
| US6591478B2 (en) | Method of producing magnetic head | |
| JP2004118995A (ja) | 熱ｐｔｒを減少させるスライダー・ベースコート | |
| US6132813A (en) | High density plasma surface modification for improving antiwetting properties | |
| US5322595A (en) | Manufacture of carbon substrate for magnetic disk | |
| JP2613876B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0845045A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH09293221A (ja) | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 | |
| JPH1166518A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH076359A (ja) | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 | |
| JPS59178625A (ja) | デイスク基板 | |
| JP2004303320A (ja) | 磁気ディスク装置及び磁気ヘッドスライダ | |
| JPH10334412A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置 | |
| JPS6295716A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| US20050264933A1 (en) | Magnetic recording head with reduced thermally induced protrusion | |
| JPS60258715A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2625526B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド用基板及びその製造方法 | |
| JPH0417116A (ja) | 磁気記憶体 |