JPS60171616A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS60171616A JPS60171616A JP2744884A JP2744884A JPS60171616A JP S60171616 A JPS60171616 A JP S60171616A JP 2744884 A JP2744884 A JP 2744884A JP 2744884 A JP2744884 A JP 2744884A JP S60171616 A JPS60171616 A JP S60171616A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yoke
- rear end
- thickness
- section
- insulating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は、下部ヨークの、上部ヨークに密着する後端部
を他の部位よりも厚くした薄膜磁気ヘッドに関する。
を他の部位よりも厚くした薄膜磁気ヘッドに関する。
[発明の技術的背景]
第1図ないし第3図はI膜磁気ヘッドの一般的な構成を
示すもので、第1図は一部を断面によって示す平面図、
第2図、第3図はそれぞれ第1図のm−n、m−m断面
図である。
示すもので、第1図は一部を断面によって示す平面図、
第2図、第3図はそれぞれ第1図のm−n、m−m断面
図である。
これらの図において図中1はスライドガラス。
アルミナ等よりなる基板であり、この基板1の上面には
磁性体により所定のパターンで下部ヨーク2が形成され
ている。また基板の上面には、下部ヨークを覆うように
酸化珪素等よりなる下部絶縁層3が形成されている。そ
してこの下部絶縁層3の上面には銅、アルミニウム、金
等よりなるスパイラル状の導電性パターン4が、前記下
部ヨーク2と上部ヨーク6との間を一順毎に通過するよ
うな形で形成されている。そしてこのスパイラル状の導
電性パターン4の内側端部を除く全域を覆うように、前
記下部絶縁層3の上面には上部絶縁層5が形成され、さ
らにその上面には、後端部を下部ヨーク2の後端部に密
着させて、磁性体よりなる上部ヨーク6が所定のパター
ンで形成されている。また前記下部ヨーク2の前端と上
部ヨーク6の前端との間には前記下部絶縁層3による磁
気ギャップ7が形成されている。図中8.9は一対のリ
ード線接続端子で、この一方の端子8は前記導電性パタ
ーン4の内側端部に接続され、パターン4上を越えて外
方へ導出されている。また他方の端子9は導電性パター
ンの外側端部に接続されている。
磁性体により所定のパターンで下部ヨーク2が形成され
ている。また基板の上面には、下部ヨークを覆うように
酸化珪素等よりなる下部絶縁層3が形成されている。そ
してこの下部絶縁層3の上面には銅、アルミニウム、金
等よりなるスパイラル状の導電性パターン4が、前記下
部ヨーク2と上部ヨーク6との間を一順毎に通過するよ
うな形で形成されている。そしてこのスパイラル状の導
電性パターン4の内側端部を除く全域を覆うように、前
記下部絶縁層3の上面には上部絶縁層5が形成され、さ
らにその上面には、後端部を下部ヨーク2の後端部に密
着させて、磁性体よりなる上部ヨーク6が所定のパター
ンで形成されている。また前記下部ヨーク2の前端と上
部ヨーク6の前端との間には前記下部絶縁層3による磁
気ギャップ7が形成されている。図中8.9は一対のリ
ード線接続端子で、この一方の端子8は前記導電性パタ
ーン4の内側端部に接続され、パターン4上を越えて外
方へ導出されている。また他方の端子9は導電性パター
ンの外側端部に接続されている。
そしてこのような構成の薄i1i気ヘッドは次のように
製作される。
製作される。
(a)まず基板1上にパーマロイ等の磁性体を蒸着また
はスパッタリングにより堆積し、フォトレジストにより
所定のパターンを形成してエツチングを行ない、エツチ
ング終了後、フォトレジストを剥離して下部ヨーク2を
形成する。
はスパッタリングにより堆積し、フォトレジストにより
所定のパターンを形成してエツチングを行ない、エツチ
ング終了後、フォトレジストを剥離して下部ヨーク2を
形成する。
(b)次にこの下部ヨーク2上に、同様の方法で下部絶
縁層3を形成し、 (C)さらにその上に、スパイラル状導電性パターン4
を同様にして形成する。
縁層3を形成し、 (C)さらにその上に、スパイラル状導電性パターン4
を同様にして形成する。
(d)その後、ポリイミド等を10μm程度の厚さに塗
布し、熱硬化させた後、エツチングを行ない、上部絶n
層5を形成する。
布し、熱硬化させた後、エツチングを行ない、上部絶n
層5を形成する。
(e)次に、パーマロイ等を蒸着またはスパッタリング
により堆積し、エツチングにより上部ヨーク6を形成す
る。
により堆積し、エツチングにより上部ヨーク6を形成す
る。
なお、図中10はヨーク2,6の前端に接触して使用さ
れる磁気テープ等のメディアである。
れる磁気テープ等のメディアである。
[従来技術の問題点]
以上の如く構成された薄膜磁気ヘッドにおいて、導電性
パターン4はほぼ全域が上部絶縁層5によって覆われて
いるため、放熱効果が悪く、導電性パターン4が過熱状
態となる問題があった。そこで抵抗値を小さくして過熟
を防止するためにパターン4の厚さを増加すると、第2
図に示す上部ヨーク6後端の段差Hがその分だけ増加す
る。しかも酸化珪素等よりなる絶縁層3はエツチングの
際、終端部にテーパをつけることが難しいため、上部ヨ
ーク6後部の段差部における厚さが薄くなってしまい、
断線のおそれが生じるとともに、メディア10を介して
両ヨーク2,6間に形成される磁気回路の磁気抵抗が増
大し、その結果、接続端子8.9を通して送出される電
気信号のレベルが低下するおそれがあった。
パターン4はほぼ全域が上部絶縁層5によって覆われて
いるため、放熱効果が悪く、導電性パターン4が過熱状
態となる問題があった。そこで抵抗値を小さくして過熟
を防止するためにパターン4の厚さを増加すると、第2
図に示す上部ヨーク6後端の段差Hがその分だけ増加す
る。しかも酸化珪素等よりなる絶縁層3はエツチングの
際、終端部にテーパをつけることが難しいため、上部ヨ
ーク6後部の段差部における厚さが薄くなってしまい、
断線のおそれが生じるとともに、メディア10を介して
両ヨーク2,6間に形成される磁気回路の磁気抵抗が増
大し、その結果、接続端子8.9を通して送出される電
気信号のレベルが低下するおそれがあった。
[発明の目的]
本発明はこのような事情に基づいてなされたもので、そ
の目的は、上部ヨーク後端部の段差を減少させ、これに
よって上部ヨーク後部の厚さを増加させて断線防止と磁
気抵抗の減少を図った薄膜磁気ヘッドを提供することに
ある。
の目的は、上部ヨーク後端部の段差を減少させ、これに
よって上部ヨーク後部の厚さを増加させて断線防止と磁
気抵抗の減少を図った薄膜磁気ヘッドを提供することに
ある。
[発明の概要]
以上の目的達成のため、本発明は、基板上に磁性体より
なる下部ヨーク、下部絶縁層、導電性パターン、上部絶
縁層および磁性体よりなる上部ヨークを順次積層し、前
記下部ヨーク前端と上部ヨーク前端との間に前記下部絶
縁層による磁気ギャップを形成してなる薄膜磁気ヘッド
において、前記下部ヨーク後端部を他の部位よりも厚く
して、その膜厚部に上部ヨークの後端部を密着させてな
ることを特徴とするものである。
なる下部ヨーク、下部絶縁層、導電性パターン、上部絶
縁層および磁性体よりなる上部ヨークを順次積層し、前
記下部ヨーク前端と上部ヨーク前端との間に前記下部絶
縁層による磁気ギャップを形成してなる薄膜磁気ヘッド
において、前記下部ヨーク後端部を他の部位よりも厚く
して、その膜厚部に上部ヨークの後端部を密着させてな
ることを特徴とするものである。
[発明の実施例]
第4図は本発明の一実施例を示すもので、Nlll1磁
気ヘツドの第2図相当部分の断面図である。
気ヘツドの第2図相当部分の断面図である。
図に示すように、基板1上に磁性体よりなる下部ヨーク
2、下部絶縁層3、導電性パターン4、下部絶縁層5お
よび磁性体よりなる上部ヨーク6が順次積層され、下部
ヨーク2前端と上部ヨーク6前端との間には前記下部絶
縁層による磁気ギャップ7が形成されている。また下部
ヨーク2の後端部は他の部位よりも厚く形成されており
、その膜厚部11に上部ヨーク6の後端部を密着させて
いる。さらに導電性パターン4の内側および外側端部に
はそれぞれリード線接続端子8,9が接続されている(
第4図では省略する)。なお第4図において、第1図な
いし第3図と同一の部分は同一の符号で示しである。
2、下部絶縁層3、導電性パターン4、下部絶縁層5お
よび磁性体よりなる上部ヨーク6が順次積層され、下部
ヨーク2前端と上部ヨーク6前端との間には前記下部絶
縁層による磁気ギャップ7が形成されている。また下部
ヨーク2の後端部は他の部位よりも厚く形成されており
、その膜厚部11に上部ヨーク6の後端部を密着させて
いる。さらに導電性パターン4の内側および外側端部に
はそれぞれリード線接続端子8,9が接続されている(
第4図では省略する)。なお第4図において、第1図な
いし第3図と同一の部分は同一の符号で示しである。
そこで、このWJM磁気ヘッドは次のようにして製造す
ることができる。
ることができる。
(a)まずスライドガラス、アルミナ等よりなる基板1
上に、パーマロイ等の磁性体を蒸着またはスパッタリン
グにより堆積し、フォトレジストにより所定のパターン
を形成してエツチングを行ない、エツチング終了後、フ
ォトレジストを剥離して下部ヨーク2を形成する。
上に、パーマロイ等の磁性体を蒸着またはスパッタリン
グにより堆積し、フォトレジストにより所定のパターン
を形成してエツチングを行ない、エツチング終了後、フ
ォトレジストを剥離して下部ヨーク2を形成する。
(b)次に、この下部ヨーク2の後端部に再度、下部絶
縁層3と同程度の厚さく1層数μm)の膜厚部11を、
パーマロイ等の磁性体の蒸着またはスパッタリングおよ
びエツチングにより形城する。
縁層3と同程度の厚さく1層数μm)の膜厚部11を、
パーマロイ等の磁性体の蒸着またはスパッタリングおよ
びエツチングにより形城する。
(C)次に、下部ヨーク2上に酸化珪素等よりなる下部
絶縁層3を同様の方法で形成し、(d)さらにその上に
、1層または多層からなるスパイラル状の導電性パター
ン4を同様にして形成する。
絶縁層3を同様の方法で形成し、(d)さらにその上に
、1層または多層からなるスパイラル状の導電性パター
ン4を同様にして形成する。
(e)その後、ポリイミド等の絶縁材を10μm程度の
厚さにスピナーにより塗布し、熱硬化させた後、エツチ
ングを行ない、フォトレジストを剥離して上部絶縁層5
を形成する。
厚さにスピナーにより塗布し、熱硬化させた後、エツチ
ングを行ない、フォトレジストを剥離して上部絶縁層5
を形成する。
(f)次に、パーマロイ等を蒸着またはスパッタリング
により堆積し、エツチングにより上部ヨーク6を形成す
る。
により堆積し、エツチングにより上部ヨーク6を形成す
る。
以上のように下部ヨーク2の後端部に膜厚部11を形成
することにより、上部ヨーク6後端の段差H′が膜厚部
11の厚さ分だけ減少する。磁気抵抗を減少させること
ができる。そして段差H−の減少により上部ヨーク6後
部の段差部における厚さを増加させることができ、これ
によって磁気抵抗が減少するとともに、その部分の断線
を防止することができ、したがって製造が容易になる。
することにより、上部ヨーク6後端の段差H′が膜厚部
11の厚さ分だけ減少する。磁気抵抗を減少させること
ができる。そして段差H−の減少により上部ヨーク6後
部の段差部における厚さを増加させることができ、これ
によって磁気抵抗が減少するとともに、その部分の断線
を防止することができ、したがって製造が容易になる。
さらに、導電性パターン4の過熱防止のため、必要に応
じてパターン4の厚さを若干増加することも可能になる
。
じてパターン4の厚さを若干増加することも可能になる
。
[発明の効果]
以上゛詳述したように、本発明によれば、上部ヨーク後
部の段差部の厚さを増加させて断線防止と磁気抵抗の減
少を図ることができ、製造の容易化を図り得る薄膜磁気
ヘッドを提供することができる。
部の段差部の厚さを増加させて断線防止と磁気抵抗の減
少を図ることができ、製造の容易化を図り得る薄膜磁気
ヘッドを提供することができる。
第1図ないし第3図は薄膜磁気ヘッドの一般的な構成を
示すもので、第1図は一部を断面によって示す平面図、
第2図、第3図はそれぞれ第1図のm−m、m−m断面
図、第4図は本発明の一実施例を示す第2図相当部分の
断面図である。 1・・・基板、2・・・下部ヨーク、3・・・下部絶縁
層、4・・・導電性パターン、5・・・上部絶縁層、6
・・・上部ヨーク、11・・・膜厚部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 fliIt!のl、・(訳内容に変更なし)第1図 第4図 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 特願昭59−2”/448号 2、発明の名称 薄膜磁気ヘラr 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (356)東京電気株式会社 4、代理人 住所 東京都港区虎ノ門1丁目26番5リ 第17森ビ
ル6、i1山正の対象 図面 7、補正の内容 図面の浄書(内容に変更なし)
示すもので、第1図は一部を断面によって示す平面図、
第2図、第3図はそれぞれ第1図のm−m、m−m断面
図、第4図は本発明の一実施例を示す第2図相当部分の
断面図である。 1・・・基板、2・・・下部ヨーク、3・・・下部絶縁
層、4・・・導電性パターン、5・・・上部絶縁層、6
・・・上部ヨーク、11・・・膜厚部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 fliIt!のl、・(訳内容に変更なし)第1図 第4図 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 特願昭59−2”/448号 2、発明の名称 薄膜磁気ヘラr 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (356)東京電気株式会社 4、代理人 住所 東京都港区虎ノ門1丁目26番5リ 第17森ビ
ル6、i1山正の対象 図面 7、補正の内容 図面の浄書(内容に変更なし)
Claims (1)
- 基板上に磁性体よりなる下部ヨーク、下部絶縁層、導電
性パターン、上部絶縁層および磁性体よりなる上部ヨー
クを順次積層し、前記下部ヨーク前端と上部ヨーク前端
との間に前記下口fつ縁石による磁気ギャップを形成す
るとともに、前記下部ヨーク後端部を他の部位よりも厚
くして、その膜厚部に上部ヨークの後端部を密着させて
なることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2744884A JPS60171616A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2744884A JPS60171616A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60171616A true JPS60171616A (ja) | 1985-09-05 |
Family
ID=12221397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2744884A Pending JPS60171616A (ja) | 1984-02-16 | 1984-02-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60171616A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5793578A (en) * | 1996-11-15 | 1998-08-11 | International Business Machines Corporation | Thin film induction recording head having an inset first insulation layer that defines zero throat height and pole tip apex angle |
JP2007167873A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Showa Denko Kk | 金属管の製造装置 |
-
1984
- 1984-02-16 JP JP2744884A patent/JPS60171616A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5793578A (en) * | 1996-11-15 | 1998-08-11 | International Business Machines Corporation | Thin film induction recording head having an inset first insulation layer that defines zero throat height and pole tip apex angle |
US5935644A (en) * | 1996-11-15 | 1999-08-10 | International Business Machines Corporation | Method of making thin film induction recording head having an inset first insulation layer that defines zero throat height and pole tip apex angle |
JP2007167873A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Showa Denko Kk | 金属管の製造装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5197804A (en) | Resistance temperature sensor | |
JP2622156B2 (ja) | 集積回路パッド用の接触方法とその構造 | |
US4613404A (en) | Materials which exhibit a surface active effect with vacuum baked photoresists and method of using the same | |
JPS60171616A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JPS60171615A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JP2002231502A (ja) | フィレットレス形チップ抵抗器及びその製造方法 | |
US4539434A (en) | Film-type electrical substrate circuit device and method of forming the device | |
JPS60171614A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JP3519256B2 (ja) | デバイスホール内ダミーパターンの改善 | |
JPS6230114B2 (ja) | ||
JPH11195666A (ja) | 半導体装置 | |
KR950034076A (ko) | 자기헤드유니트를 제조하는 방법과 자기헤드를 제조하는 방법 및 자기헤드유니트와 그러한 자기헤드유니트에 이용되는 자기헤드 | |
JP2739842B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2932824B2 (ja) | 磁気抵抗センサ | |
JP2959186B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3146884B2 (ja) | 回路部品 | |
US5159514A (en) | Film magnetic head having a corrosion prevention layer provided over an electrode pad | |
JPS60186030A (ja) | ボンデイング方法 | |
JPH0410755B2 (ja) | ||
JP2809466B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JPH0546708B2 (ja) | ||
JP2742298B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JPS6230115B2 (ja) | ||
JP2750737B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH0489609A (ja) | 薄膜磁気ヘッド |