KR950021332A - 패턴 측정방법 - Google Patents
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16N—LUBRICATING
- F16N31/00—Means for collecting, retaining, or draining-off lubricant in or on machines or apparatus
Abstract
반도체소자의 패턴공정에 의해 제조된 측정방법에 있어서, 마스크에 설계된 패턴을 디지탈 신호로 저장하는 입력데이타와 웨이퍼의 칩상에 형성되는 패턴을 광학 시스템으로 측정한 데이타를 비교하여 비교된 데이타의 공차가 공정마진 데이타에 포함되는지를 검사하여 패턴의 양품과 불량품을 판단하도록 하는 방법이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의해 모든 칩의 패턴을 측정하는 방법을 도시한 도면이다.
제3도는 칩 가장자리에 패턴 영역을 형성한 도면이다.
제4도는 패턴영역 내의 패턴을 도시한 도면이다.
제5도는 본 발명에 의해 패턴을 측정하는 방법을 도시한 블럭도이다.
Claims (3)
- 반도체소자의 패턴공정에 의해 제조된 측정방법에 있어서, 마스크에 설계된 패턴을 디지탈 신호로 저장하는 입력데이타와 웨이퍼의 칩상에 형성되는 패턴을 광학 시스템으로 측정한 데이타를 비교하여 비교된 데이타의 공차가 공정마진 데이타에 포함되는지를 검사하여 패턴의 양품과 불량품을 판단하는 방법을 특징으로 하는 패턴 측정방법.
- 제1항에 있어서, 상기 칩상에 형성되는 패턴은 복잡하기 때문에 칩 가장자리 스크라이브 라인에 별도의 패턴영역을 만들고, 이 패턴영역에 형성된 패턴을 광학시스템으로 측정하는 것을 특징으로 하는 패턴 측정방법.
- 제1항에 있어서, 공정마진 범위의 데이타 측정방법으로, 종래의 광학 시스템(데이타 베이스 비교방식의 결함검사장치)이 마스크 패턴 설계도면 1개를 공정 스펙범위를 측정할 수 있도록 가상적인 설계도면을 설치 이들 설계도면 데이타들과, 웨치퍼 상의 패턴 싸이즈 1개가 어느 하나 이상과 일치할 때, 공정 스펙 마진에 들어오는 것으로 간주하고, 전혀 일치하지 않을때는 스펙 아웃으로 판단하는 결함검사 장치에 의한 공정 스펙 검사방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930028872A KR100268779B1 (ko) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 반도체소자의 패턴 결함 검사방법 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019930028872A KR100268779B1 (ko) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 반도체소자의 패턴 결함 검사방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950021332A true KR950021332A (ko) | 1995-07-26 |
| KR100268779B1 KR100268779B1 (ko) | 2000-11-01 |
Family
ID=19371955
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019930028872A KR100268779B1 (ko) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 반도체소자의 패턴 결함 검사방법 |
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Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019940013531U KR970005776Y1 (ko) | 1993-12-21 | 1994-06-10 | 오일교환 및 수거장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (2) | KR100268779B1 (ko) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03159252A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 集積回路試験装置 |
-
1993
- 1993-12-21 KR KR1019930028872A patent/KR100268779B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-06-10 KR KR2019940013531U patent/KR970005776Y1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970005776Y1 (ko) | 1997-06-13 |
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