KR950012638A - 반도체장치의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 포토레지스트를 이용한 사진식각공정에 의해 패턴을 형성하는 반도체장차의 제조방법에 있어서 사진식각공정후의 잔여불순물을 제거하는 방밥에 관한 것으로, 포토레지스트를 이용한 사진식각공정에 의해 패턴을 찬성하는 반도체장치의 제조방법에 있어서, 패터닝하고자 하는 층상에 포토레지스트를 도포하는 공정, 상기 포토레지스트를 원하는 패턴으로 패터닝하는 공정, 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 패터닝하고자 하는 층을 식각하는 공정, 상기 포토레지스트를 제거하는 공정, 상기 포토레지스트가 제거된 결과를 전면을 플러드노광시키는 공정. NH40H계 식각응액에 상기 결과물을 담가 그 로면상의 잔여불순물을 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법을 제공한다
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래의 레이저다이오드 제조방법을 도시한 공정순서도,
제2도는 본 발명의 포토레지스트를 이용한 사진식각공정에 의한 패턴형성방법.
Claims (1)
- 포토레지스트를 이용한 사진식각공정에 의해 패턴을 형성하는 반도체장치의 제조방법에 있어서, 패터닝하고자 하는 층상에 포토레지스트를 도포하는 공정, 상기 포토레지스트를 원하는 패턴으로 패터닝하는 공정, 상기 포토레지스트패턴을 마스크로 하여 패터닝하고자 하는 층을 식각하는 공정, 상기 포토레지스트를 제거하는 공정, 상기 포토레지스트가 제거된 결과물 전면을 플러드노광시키는 공정, NH4OH계 식각용액에 상기 결과물을 담가 그 표면상의 잔여불순물을 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930022340A KR950012638A (ko) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 반도체장치의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930022340A KR950012638A (ko) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 반도체장치의 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950012638A true KR950012638A (ko) | 1995-05-16 |
Family
ID=66824757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019930022340A KR950012638A (ko) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 반도체장치의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950012638A (ko) |
-
1993
- 1993-10-26 KR KR1019930022340A patent/KR950012638A/ko not_active Application Discontinuation
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