KR950009976A - 폴리실리콘 박막트랜지스터 제조방법 - Google Patents

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KR950009976A
KR950009976A KR1019930020277A KR930020277A KR950009976A KR 950009976 A KR950009976 A KR 950009976A KR 1019930020277 A KR1019930020277 A KR 1019930020277A KR 930020277 A KR930020277 A KR 930020277A KR 950009976 A KR950009976 A KR 950009976A
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KR
South Korea
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thin film
polysilicon
manufacturing
film transistor
amorphous silicon
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KR1019930020277A
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English (en)
Inventor
박병우
Original Assignee
이헌조
주식회사 금성사
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  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

본 발명은 폴리실리콘 박막트랜지스터 제조방법에 관한것으로, 종래에는 박막트랜지스터 제조시 활성층을 비정질 실리콘이나 폴리실리콘으로 제조하였는데, 이때 비정질실리콘으로 할 경우 전계효과 이동도(Field Effect Mobility)가 작아서 동작특성이 저하되고, 폴리실리콘으로 할 경우에는 제조경비가 많이드는 문제점과 비정질 실리콘이나 폴리실리콘의 경우 공히 소오스/드레인전극 크기에 의한 디스플레이에서 개구율이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 엑시머레이저(excimer laser)를 이용해 비정질실리콘을 폴리화하여 접촉층(contact layer)(n+-a-Si:H)을 형성함으로써 제조공정을 단순화 시킬수 있고, 박막트랜지스터를 스위칭소자로 사용하는 판넬제작시 생산성 및 수율을 향상시킬수 있으며, 박막트랜지스터용 엘시디(LCD) 판넬에 응용할 경우 소오스/드레인전극을 폴리화함으로서 개구율을 향상시킬수 있도록 한 폴리실리콘 박막트랜지스터를 창안한 것이다.

Description

폴리실리콘 박막트랜지스터 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명 폴리실리콘 박막트랜지스터 구성도,
제4도의 (a) 내지 (d)는 제3도에 대한 제조공정도.

Claims (1)

  1. 기판위에 게이트전극과 게이트절연막을 차례로 형성하는 단계와, 비정질실리콘을 증착한후 활성층을 형성하는 단계와, 고농도비정질실리콘을 증착한후 엑시머레이저를 조사하여 고농도비정질실리콘과 활성층의 일부를 폴리화하는 단계와, 폴리화되지 않은 고농도비정질실리콘을 식각하여 소오스/드레인전극을 형성하는 단계와, 보호막과 홀을 형성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 박막 트랜지스터 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930020277A 1993-09-28 1993-09-28 폴리실리콘 박막트랜지스터 제조방법 KR950009976A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100679917B1 (ko) * 2000-09-09 2007-02-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100679917B1 (ko) * 2000-09-09 2007-02-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조방법

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