KR950001754B1 - 기판처리장치간의 기판수도용 인터페이스 장치 - Google Patents

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마사미 오오타니
요시지 오카
다께오 오카모토
요시테루 후쿠토미
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다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
이시다 아키라
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Abstract

내용 없음.

Description

기판처리장치간의 기판수도용 인터페이스 장치
제1도는 본 발명에 관한 일실시예에서 인터페이스장치의 주요부의 평면도.
제2도는 인터페이스장치의 측면도.
제3도는 기판수도기구의 평면도.
제4도는 기판수도기구의 측면도.
제5도는 기판수도기구의 정면도.
제6도는 기판보관부의 기판수납기구의 사시도.
제7도 및 제8도는 기판위치결정기구의 동작설명도.
[벌명의 분야]
본 발명은 반도체 웨이퍼와 액정 표시기용의 유리기판 등의 각종의 기판에 포토레지스트도포, 노광, 현상, 에칭 등의 각종의 처리를 순차로 실시해가는 기판처리장치간에 이용되는 기판반송용 인터페이스에 관한 것이다.
[종래기술의 설명]
요구되는 프로세스라인을 형성하기 위해 여러종류의 처리장치가 일렬로 배치된다. 이 장치는 포토레지스트를 도포하여 건조시키는 도포 프로세스장치, 포토레지스트가 도포된 기판을 노광하는 노광장치, 노장된 기판을 현상처리하는 현상 프로세스장치 등을 포함한다.
이들 처리장치의 각각은 단수 혹은 복수의 프로세스유니트로 구성되어 있다. 예를들면, 도포 프로세스장치는 기판표면에 레지스트 밀착강화제의 증기를 접촉시키는 밀착강화 처리유니트, 회전도포 처리유니트, 가열유니트, 기판의 온도를 실온으로 되돌기 위한 냉각유니트 등으로 구성된다.
또한, 각 프로세스장치는 기판을 탑재하는 암을 이동시키는 것에 의해 기판을 반송하는 기판반송기구를 비치하고, 그 주위에 각종 프로세스유니트를 배치하여 구성된다.
상기 반송은, 기판이 한 번에 하나의 프로세스장치의 기판 반송기구로부터 인터페이스장치로 전달된다.
이어서, 다음 처리장치의 기판반송기구는 인터페이스장치로부터 기판을 넘겨받는다. 상기와 같은 구성의 공지된 시스템은 다음과 같은 문제점을 갖는다. 상술된 인터페이스장치는, 기판을 넘겨받는 측(이하 하류장치로 칭한다)의 프로세스장치가 트러블이 발생에 의해 정지된 경우, 기판의 넘겨주기가 불가능하다.
기판을 넘겨주는 측(이하 상류장치로 칭한다) 프로세스장치로 정지된다. 트러블이 해소될 때까지 전 처리를 정지해야 하므로, 프로세스장치의 가동효율이 낮아지게 된다.
본 발명은, 상기와 같은 사정을 감안하여서 양 프로세스 사이에 개재시킨 인터페이스장치에 있어서, 한쪽의 프로세스장치에 트러블이 발생하여도 다른측 프로세스장치를 정지시킬 필요없는 인터페이스장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 다른 목적은 양 프로세스 사이에 개재시킨 인터페이스장치의 대기시간을 최소화할 수 있는 인터페이스장치를 제공하는 것이다.
본 발명은, 이와같은 목적을 달성하기 위해서, 제1의 기판반송수단에 의해 기판을 순차로 복수의 프로세스유니트에 대해서 반입, 반출하는 구조의 제1프로세스장치와 제2의 기판반송수단에 의해 기판을 단수 혹은 복수의 프로세스유니트에 대해서 반입, 반출하는 구조의 제2의 프로세스장치와의 사이에 개재 설치하는 기판수도용 인터페이스장치에서, 상기 장치는, (a) 제1기판반송장치 및 제2기판반송장치 사이에서 기판을 수도하기 위한 수도장치; (b) 복수의 기판을 수납하기 위한 보관장치; (c) 반송장치 및 보관장치 사이에서 기판을 수도하기 위한 수납반출장치; 등을 포함한다.
본 발명에 따르면, 하류부의 프로세스장치에 트러블이 발생해서 처리불능으로 된 경우, 상류부의 프로세스장치에서 배출되어온 기판은 일단 인터에이스장치의 기판수도장치로 보낸다.
그후, 수납, 반출장치는 보관장치에 기판을 수납하고 수도장치로부터 기판을 집어낸다.
또한, 상류 프로세스장치로부터 나온 다음 기판은 보관장치에 수납된다.
트러블이 하류 프로세스장치로부터 제거될 때, 수납, 반출 장치는 보관장치에 저장된 기판을 집어낸다. 반송장치는 기판을 하류 프로세스장치로 보낸후에, 상류 프로세스장치로부터 하류 프로세스장치로 반송되는 기판에서 정상동작으로 돌아간다.
따라서 수납기판으로부터 하류 프로세스장치를 트러블이 방해할 때까지도, 상류 프로세스장치는 인터페이스장치의 보관장치에 보관된 상류 프로세스장치로부터 기판과 함께 그 동작을 계속하도록 한다.
결국, 상기 기판을 프로세스장치의 효율을 낮추지 않고서 연속적으로 취급하게 된다.
본 발명에 따르면, 하류 프로세스장치에서 트러블이 일어났을 때, 기판은 인터페이스장치의 수도장치가 보관장치에 수납되어야 하고 그래서 인터페이스장치는 상류 프로세스장치로부터 기판을 수납할 준비가 되는 것에 의해 지지된다. 주로, 보관장치내의 기판을 수납하기 위한 동작은 시간이 많이 걸린다. 기판이 상류 프로세스장치에서 하류 프로세스장치로 수도의 경로에서 인터페이스장치의 수도장치에 조작될 때 만약 하류 처리장치에 트러블이 일어나면, 인터페이스장치는 보관장치에 수납된 수도장치에 의해 기판이 조작되기 전에 상류 프로세스장치로부터 다음 기판을 수납할 수 있다.
이것은 장시간의 대기하는 상류 프로세스장치에 힘을 가하는 불편함의 원인이 될 수 있다. 트러블이 하류프로세스장치에서 일어날 때 상류 프로세스장치의 대기시간을 최소화하기 위해서 수도장치로부터 기판을 수납하기 위한 수직으로 이동가능한 임시지지암 및 반송장치의 상부측외 위치로 기판을 수납하는 것을 비치하는 것이 바람직하다.
상기 임시지지암을 비치한 인터페이스장치에 따르면, 수납기판으로부터 하류 프로세스를 트러블이 정지시킬 때, 임시지지암이 상류 프로세스장치로부터 인터페이스장치로 수도(受渡)된 제1기판을 집어서, 이 기판을 수도장치 상부로 보낸다. 하류 프레스장치에서 트러블이 제거될 때, 기판은 먼저 하류 프로세스장치로 보내지는 임시지지암에 의해 지지된다. 그후, 수납, 반출장치는 보관장치에 수납되어 있는 기판을 집어서, 수도장치로 보낸다. 수도장치는 이 기판들을 하류 프레스장치로 보낸 후, 상류 프로세스장치로부터 하류 프로세스장치로 새로운 기판이 반송되게 정상동작으로 복귀한다.
따라서, 임시지지암을 포함하는 인터페이스장치에 따르면, 임시지지암은 수도장치상에서 지지되는 기판을 집도록 동작가능하고 하류 프로세스장치와 함께 트러블의 출연에 상부의 대기위치로 움직인다.
다음 기판은 기판을 처리하는 상류 프로세스장치내의 단지 한 주기에 인터페이스장치로 수도된다. 인터페이스장치는 보관장치내에서 기판을 수납하기 위한 충분한 시간간격을 가지고 기판을 수납한다.
따라서, 하류 프로세스기구에서 일어나는 트러블은 과도한 시간동안 동작이 정지되게 상류 프로세스장치를 놓아두지 않는다.
발명을 설명하기 위해서 현재의 적합하다고 생각되는 몇갠가의 형태가 도시되어 있으나, 발명이 도시된 그대로의 구성 및 방침에 한정되는 것이 아닌 것을 이해시키고 싶다.
본 발명의 실시에는 도면에 대한 언급과 함께 이 이후에 자세하게 설명된다.
제1도는 인터페이스장치의 주요부의 평면을 나타낸다. 도면중의 참조부호(1)를 상류의 프로세스장치, 참조부호(2)는 하류 프로세스장치, 참조부호(3)는 양 프로세스장치(1,2)사이에 개재된 기판수도용 혹은 웨어퍼(W)의 인터페이스장치이다. 상류의 프로세스장치(1)는 웨이퍼 반송기구(101)에 의해 복수개의 프로세스 유니트(4)에 대해 기판(W)을 순차적으로 반입, 반출해서 복수의 처리를 기판(W)에 실시하겠금 구성되어 있는 것이다. 또 하류의 프로세스장치(2)도 같은 모양으로 기판(W)반입, 반출하는 기판반송기구(102)와 복수개의 프로세스유니트(5)들을 비치하고 있다.
양 인터페이스장치(1,2)의 기판반송기구(101,102)에서 기판을 합재하는 부분은, 각 프로세스장치내에서 기판(W)을 빈번하게 반송하는 것이기 때문에, 기판표면을 가능한한 오염하지 않도록 할 필요가 있고, 그때문에, 기판(W)의 외주의 반분 이상을 에워싼 원호부에서, 기판중심으로 향해서 연장한 지지편이 기판이면을 점접촉에 가까운 상태에서 지지하는 구조로 되어 있다.
인터페이스장치(3)에는, 제1 및 제2도에 나타난 바와 같이 상류 프로세스장치(1)의 기판반출부, 및 하류 프로세스장치(2)의 기판반입부로 대향하도록 웨이퍼 수도기구(6)이 비치된다.
또한, 인터페이스장치(3)는 다단으로 웨이터(W)를 저장하기 위한 웨이퍼 보관부(8)로서 이용되는 수도기구(6)의 측면으로 배열된 카세트(7)와 웨이퍼를 수납, 반출하는 암(9)로 구성된다.
제3도 내지 제6도는 웨이퍼 수도구조(6)를 자세하게 나타낸다.
웨이퍼 수도구조는 웨이퍼(W)의 후면의 중앙에 부착된 흡입관과 웨이퍼(W)를 지지하기 위한 수직으로 이동가능한 3개의 지지핀(10)과, 위치조정후에 웨이퍼(W)를 지지하는 동안에 임시지지암이 수직으로 이동할 수 있는 지지핀(10)상에서 지지되는 웨이퍼(W)의 위치를 조정하기 위한 웨이퍼 조정기구(11)와 웨이퍼 조정기구(11) 및 임시지지암(12)을 구동하기 위한 구동기구에 의해 웨이퍼(W)를 파지하기 위해서 종횡으로 이동가능한 암(9)으로 구성된다.
각 구성의 동작과 구조는 이 이후 더 자세히 기술된다.
제4도에 나타난대로, 속이 빈 고정프레임(14)은 베이스프레임(13)위에 적립해 있다. 고정프레임(14)은 수직으로 연장된 한쌍 가이드샤프트(15) 및 슬라이더베어링을 통해서 미끄러지게 지지한 리프프블럭으로 구성된다. 리프트블럭(16)은 가이드샤프트(15)에 평행으로 연장된 스크류샤프트(18)와 함께 닛트(19)를 통해서 맞물려져 있다.
제6도에서 본대로 반대방향으로 후자를 회전하는 스크류샤프트(18)에 벨트구동을 전하도록 고정프레임(14)의 상부에 모터(20)가 고정된다. 그래서 리프트블럭(16)은 수직으로 구동된다.
리프트블럭(16)은 리프트프레임(22)을 지탱용으로 한쌍의 브래키트(21)를 구성한다. 리프트프레임(22)은 인터페이스장치의 좌우방향으로 연장된 가이드레일(23)로 구성된다. 암베이스(24)는 이 가이드레일(23)에 미끄러지게 부착된다. 암베이스(24)는 직립된 지지봉(25)의 상부에, 상기 아암(9)이 수평상태로 베이스암상단의 한쪽으로 치우쳐서 수평으로 연장된 암(9)의 선단부 상면에는, 기판(W)을 진공흡착하기 위한 흡착구멍(9a)이 설치되어 있다.
리프트프레임(22)은 한쌍의 풀리(23)사이에서 확장된 엔드레스벨트(26)를 운반하고 가이드레일과 평행이다.
암베이스(24)는 벨트에 연결된다. 다른 엔드레스벨트는 풀리한쪽 주위 미 구동풀리(29)를 주위에 감겨진다.
구동풀리(29)는 인터페이스장치의 좌우로 가이드레일(23)을 따라서 암베이스(24)에 왕복운동을 하는 스템모터(31)에 의해 구동된다.
제3도 내지 제5도에 나타난대로, 웨이퍼 조정기구(11)는 지지핀(10)을 가로질러 서로 반대인 미끄럼가능 조정플레이트(32a,32b)로 구성된다.
각 조정플레이트(32a,32b) 그로부터 상부로 향한 복수의 접촉부품(이 실시예에서는 4개)으로 구성되고, 웨이퍼(W)와 거의 같은 만곡을 가지는 원호로 배열된다. 조정플레이트(32a,32b) 지지판(10)에 밀접한 웨이퍼(W)의 외주연과 함께 안팎으로 접촉되는 접촉부품(33)을 움직이게 왕복운동을 한다.`
고정프레임(14)은 조정플레이트(32a,32b)를 미끄럽게 지탱하기 위해 상면으로 한쪽으로 치우쳐서된 베이스플레이트(34)를 운반한다.
베이스플레이트(34)는 웨이퍼를 수납, 반출할 때 인터페이스장치의 좌우로 움직이는 지지포스트(25)를 허용하고 암(9)의 지지포스트(25)를 받기 위한 중심부에서 슬롯(35)을 규정한다.
한쌍의 좌우 가이드레일(36a)은 슬롯(35)과 수직으로 연장되고, 슬라이드플레이트(37a)는 가이드레일(36a)상에 미끄러지기 쉽게 실장된다. 슬라이드플레이트(37a)는 지지플레이트(39a)를 통하여 조정플레이트(32a)중의 하나와 상부단에서 지지되는 수직벽(38a)로 운반된다.
비슷한 한쌍의 가이드레일(36b)은 슬롯(35)을 가로질러 가이드레일(36a)과 반대로 배열되고, 슬라이드플레이트(37b)는 가이드레일(36b)은 슬롯(35)을 가로질러 가이드레일(36a)과 반대로 배열되고, 슬라이드플레이트(37b)는 가이드레일(36b)상에 미끄러지게 실장된다. 슬라이드플레이트(37b)는 지지플레이트(39b)를 통해서 다른 조정플레이트(32b)를 지지하는 수직벽(38b)으로 운송된다.
제4도 및 제7도에 나타난대로, 링크(41) 및 주축(40)을 통해 베이스플레이트(34)에 주축으로 연결되고 각 슬라이드플레이트(37a,37b)밑에 배열된다.
링크(41)연관 슬라이드플레이트(37a) 또 (37b)에서 규정된 슬롯에 접속된 (42)를 통하여 연결된다. 또한, U-형태 푸숴플레이트(44)는 링크(41) 밑에 배열되고 베이스플레이트(34)상에 형성된 가이드레일(43)상에 활강가능하여 고정된다. 푸숴플레이트(44)는 링크(41)내에 규정된 슬롯으로 결합된(45)를 통해서 각각 연결된다.
제7도에 나타난대로, 푸숴플레이트(44)가 후에 기술되는 캠구조에 의해 화살의 방향으로 구동될 때, 그 누룸힘은 연결핀(45)을 통해 링크(41)에 전달된다. 이것은 화살표가 나타내는 방향으로 주축주위를 회전하는 링크(41)에 가각 기인한다.
그 결과, 링크(41)의 연결핀(42)에 연결된 조정플레이트(32a,32b)는 서로 앞으로 움직여서, 접촉부품(33)은 조정플레이트(32a,32b)사이에는 3개의 지지핀(10)이 U-형태 지지플레이트(46)에 의해 지지된다. 지지플레이트(46)를 고정프레임(14)에 부착된 수직가이드레일(48)상에 미끄러지게 설치된 리프터(47)로의 기부단에서 연결된다.
제5도에 나타난대로, 리프터(47)는 코일스프링(49)에 의해 아래쪽으로 압력이 가해지고 암이 낮게 위치 할 때 최하위 위치에 놓인다. 접촉부품(33)의 상부단은 조정플레이트(32a,32b)상에 형성되고, 가장 최하위에서 지지핀(10)의 상단은 제2도에 나타난대로 카세트(7)에 수납된 웨이퍼중 한 장은 가장 최하위 아래로 설정된다.
결과적으로, 접촉부품(33)과 지지핀(10)은 카세트(7)의 웨이퍼(W)의 반입, 반출로 암을 방해하지 않는다.
접촉부품(33) 및 지지핀(10)을 구동하는 구조는 다음에 기술된다.
제4도에 나타난대로, 가이드레일(50)을 고정프레임(14)의 하나의 측면벽상에 수직으로 형성되고, 이동부재(51)는 가이드레일(50)상에 맞추어진다. 플레이트(52)는 이동가능부재(51)에 연결되고, 캠(53)은 플레이트(52)에 연결된다. 캠(53)에 측면벽의 내부 및 인접해서 고정프레임(14)에 고정되는 에어실린더(54)가 부착되어 있다.
에어실린더(54)는 플레이트(52)의 상단 및 연결부(55)를 통한 캠(53)에 연결된 로드(54a)를 가지고 있다.
캠(53)은 L-형태 구동부재(57)의 인접 전단에 부착된 캠플러워(58)에 맞물려져 있다. 구동부재(57)의 타단은 푸숴플레이트(44)에 연결된다.
제4도에 나타난대로 캠(63)에 연결된 플레이트(52)는 리프터(47)의 스텝부(47a)에 아랫방향으로 직면하게 공간이 있고 저부에 부착된다. 푸쉬업부품(59)은 캠(53)상방으로 구동될 때 스텝부(47a)와 접촉하여 이동한다.
또한 캠(53)의 상방이동과 더불어, 푸쉬엎부품(59)은 코일스프링(49)의 힘에 대항해서 리프터(47)를 들어올려서 지지판(10)이 올라간다.
제3도 및 제4도에 나타난대로, 상,하 브래키트(60)는 고정프레임(14)의 타측면벽상에 고정되고, 한쌍의 가이드샤프트(61) 및 로드레스실린더(62)는 브래키트(60)사이에서 수직으로 연장된다.
이동가능부재(63)는 로드리스실린더(62)에 의해 수직으로 이동가능하게 가이드샤프트상에 설치된다. 임시지지암(12)을 이동가능부재(63)으로부터 상방으로 확장된 지지단(64)으로 연결(65)를 통해서 한쪽으로 치우쳐서 있다. 임시지지암(12)은 노출된다 해도 웨이퍼(W)가 떨어뜨림으로부터 보호되는 것을 웨이퍼가 보증되도록 웨이퍼를 상면상에 형성되는 보스(66)로 구성된다.
상기와 같이 동작으로 구성된 인터페이스장치 방법은 다음과 같이 기술될 수 있다.
(1) 처리장치(1)로부터 처리장치(2)까지 웨이퍼(W)의 정상수도에 있어서, 처리장치(1)의 웨이퍼 수도기구(10)는 지지핀(10)상에 웨이퍼(W)를 수납시킨다.
(2)다음에 에어실린더(54)는 캠부재(53)를 상위방향으로 움직이도록 확장된다. 상위 이동의 최초단계는 캠플러외(58)의 푸숴플레이트(44)를 움직이는 캠홈(56)의 만곡부(56a) 위에서 수평으로 활동한다.
그 결과, 웨이퍼 조정기구(11)의 조정플레이트(32a,32b)는 웨이퍼(W)의 위치로 설정하기 위해 서로 앞으로 움직인다.
(3) 또한, 캠부재(53)의 상부 이동과 더불어, 조정플레이트(32a,32b)는 웨이퍼(W)로부터 격리된다.
(4) 플레이트부재(52)의 상위 운동과 더불어, 푸쉬엎부품(59)은 리프터(47)의 스텝부와 접촉되어 있다. 다음에 리프터(47)는 플레이트(52)와 함께 상방으로 이동한다. 그래서 웨이퍼(W)를 지지하는 지지핀(10)은 대기를 위한 높이까지 이동된 위치로 설정된다.
(5) 이 이후 처리장치(2)의 웨이퍼 반송기구(10)는 지지핀(10)으로부터 웨이퍼(W) 를 접는다.
상술된대로 웨이퍼 반송동작중에 프로세스(2)에서 트러블이 일어나서 그 후 웨이퍼를 반입을 불가하고, 특히 지지핀(10)이 프로세스장치(1)로부터 웨이퍼(W)를 받을때가 아니면 웨이퍼를 프로세스장치(2)에 반송할때라고 간주한다.
그 경우에 있어서, 로드레스실린더(62)는 웨이퍼(W)를 받기 위해 임시지지암(12)를 올린다.
임시지지암(12)은 제2도에 도시된대로 암(9)의 상부 제한위치보다 높은 대기위치로 유지된다.
그때 지지핀(10)은 프로세스장치(1)로부터 웨이퍼(W)를 반입할 준비가 되어 있다.
다음에, 웨이퍼(W)는 프로세스장치(1)로부터 지지핀(10)으로 수도된다.
웨이퍼(W)가 지지핀(10)상에서 위치조정된 후 이송가능 블록(16)은 지지핀(10)에서 암(9)으로 웨이퍼(W)를 반송하도록 일어난다.
그때, 예를들면 스테모터(31)는 웨이퍼 보관부(8)로 암(9)을 움직이도록 활성화되고 카셋트(7)내의 최상부 스테이지상에 웨이퍼(W)를 수납한다.
이같은 방법으로, 웨이퍼(W)는 처리장치(2)로부터 트리블이 제거될 때까지 웨이퍼 스테이지(8)에 연속적으로 저장된 처리장치(1)로부터 출력된다.
이 동작물에 임시지지암(12)은 트러블이 일어난 후 즉시 임시지지암(12)으로 지지핀(10)으로부터 수도된 웨이퍼(W)를 붙잡는다.
트러블이 프로세스장치(2)에서 일어날 때, 프로세스장치(1)에 이미 존재하는 프로세스장치(2)의 상기 웨이퍼로부터 트러블이 감소될 때까지 웨이퍼 보관기구(8)로 처리장치(1)로 부터 웨이퍼(W)가 수도된다.
그것은, 프로세스장치(2)에서 트러블의 출연으로, 프로세스장치(1)로 새로운 웨이퍼(W)의 공급이 정지된다.
그러나, 프로세스장치(1)에서 웨이퍼(W)의 처리는 이내 걔속되고, 이들 웨이퍼(W)는 웨이퍼 보관기구(8)에 수납된다.
하류 프로세스장치(2)로부터 트러블이 제거될 때, 임시지지암(12)은 웨이퍼(W) 를 수도하기 위해 낮추어져서 먼저 지지핀(10)을 붙잡는다.
웨이퍼(W)는 프로세스장치(2)로 전달되기 전에 임시지지암(12)상에 일어나게 되는 전치를 바로 잡기 위한 웨이퍼 조정기구(11)에 의해 위치가 조정된다.
다음에, 웨이퍼(W)는 웨이퍼 보관기구(8)로부터 반환하게 되고, 웨이퍼 반송기구(6)로 반송되는 순서로 프로세스장치(2)에 전달된다.
상기의 실시예는 다음의 이유에서 웨이퍼 반송기구 위에 단일 웨이퍼를 유지하는 임시지지암(12)과 또한 복수의 웨이퍼를 저장하는 웨이퍼 지지기구로 구성된다.
상류 프로세스장치(1)로부터 웨이퍼를 접수하는 인터페이스장치(3)에 대한 순서에 있어서, 인터페이스장치(3)의 웨이퍼 반송기구(6)에 의해 지지되는 웨이퍼는 웨이퍼 보관기구(8)내에 수납되어야 한다.
주로, 웨이퍼 보관기구(8)니에 웨이퍼를 보관하는 동작은 시간이 많이 소모된다. 상류 프로세스장치(1)로부터 하류 프로세스장치(2)로 반송의 경로에서 인터페이스장치(3)의 웨이퍼 반송기구(6)에 의해 웨이퍼가 조작될 때 트러블이 하류 프로세스장치(2)에서 일어나면, 상술한대로 임시지지기구 없이 인터페이스장치(3)는 웨이퍼 보관기구(8)내에 수납되는 웨이퍼 반송기구(6)에 의해 웨이퍼가 조작되기 전에 상류 프로세스장치(1)로부터 다음의 웨이퍼를 수납할 수 없다.
그러나, 상술의 실시예에 있어서, 임시지지암(12)은 웨이퍼 반송기구(6)상에 지탱되는 웨이퍼를 집어내도록 동작가능하고, 트러블의 발생으로 저상방의 대기위치로 이동한다.
이것은 상류 프로세스장치(1)로부터 웨이퍼를 수납하는 조건으로 인터페이스장치(3)에 위치한다.
따라서, 상류 프로세스장치(1)는 계속 동작이 가능하고 인터페이스장치(3)로 새로운 웨이퍼를 반송한다.
다음의 웨이퍼는 웨이퍼를 처리하는 상류 프로세스장치(1)에서 단 하나의 사이클로 인터페이스장치(3)로 수도된다.
결과적으로, 웨이퍼가 인터페이스장치(3)의 웨이퍼 반송기구에 의해 조작될 때 트러블이 하류 프로세스장치(12)에 일어나면, 이것과 다음 웨이퍼는 상류 프로세스장치(1)에 영향없이 보관되게 된다.
상술의 실시예에 있어서, 전송되는 웨이퍼(W)는 웨이퍼 조정기구(11)에 의해 위치로 조정된다. 그러나, 충분한 위치정도와 함께 인터페이스장치(6)의 웨이퍼 반송기구(6)로 상류 프로세스장치(1)가 웨이퍼 수도의 능력을 가지면 인터페이스장치(3)에서 위치조정이 요구되지 않는다.
또한, 후자가 인터페이스장치(3)내에 웨이퍼 반송기구(6)로 임시지지암(12)으로부터 전송될 때, 웨이퍼 조정기구(11)는 웨이퍼(W)의 위치조정하게 동작된다.
이 동작을 웨이퍼가 임시지지암(12)상에 전치되는 것을 고려한 확률로 이루어졌다. 이러한 확률없이는 상기 위치조정은 제거되게 된다.
따라서, 상술의 실시예에서 웨이퍼 조정기구(11)는 본 발명의 목적을 수행하기 위해서는 꼭 필요하지는 않다. 상기의 실시예에서는, 프로세스장치(1)는 상류 프로세스장치로 불리우고, 장치(1)에서 장치(2)로 편도교통으로 수도되는 웨이퍼(W)와 함께 하류처리장치로서 프로세스장치(2)가 명명된다.
이 배열은 다음과 같이 변형가능하다.
웨이퍼 공급 및 수거장치는 수집처리된 웨이퍼 및 공급 미처리 웨이퍼를 위해 프로세스장치(1)에 인접해서 배열된다.
프로세스장치(1)에서 제1처리로 되는 웨이퍼 공급 및 수집장치로부터 공급된 미처리 웨이퍼는 인터페이스장치(3)를 통해서 프로세스장치(2)로 수도되고, 프로세스장치(2)에서 제2처리로 된다.
이 이후, 처리된 웨이퍼는 인터페이스장치(3) 및 프로세스장치(1)를 통하여 웨이퍼 공급 수거장치로 복원한다.
그러므로, 인터페이스장치(3)는 반처리된 웨이퍼를 프로세스장치(1)로부터 프로세스장치(2)로 수도하고, 완전히 처리된 웨이퍼를 프로세스장치(2)에서 프로세스장치(1)로 수도한다.
이 경우에 있어서, 프로세스장치(1)는 상류 장치이고, 프로세스장치(2)는 하류장치이다.
상기 관계는 완전처리 웨이퍼에서는 반대이다.
다양한 변형은 웨이퍼 수도기구와 웨이퍼 수납, 수거기구 및 임시지탱암을 구동하기 위한 기구와 같은 상술의 실시예의 구성으로 이루어져 있다. 상기 구성은 기술된 실시예를 제한하지 않는다.
본 발명은 발명사상 또는 필수적인 속성으로부터 떨어지지 않고 다른 형태로 형성될 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위를 나타난대로 상술의 명세보다는 오히려 첨부된 청구범위에 의해 언급되어야 한다.

Claims (7)

  1. 복수의 처리유니트의 반입, 반출하는 기판을 계속적으로 수도하기 위한 제1기판수도수단을 비치한 제1프로세스장치와 복수의 처리유니트 또는 하나의 처리유니트에 기판을 반입, 반출하기 위한 제2기판수단을 비치한 제2프로세스장치 사이에서 기판수도하기 위한 인터페이스장치에 있어서, 상기 제1기판수단 수관 및 상기 제2기판수단 상이에서 기판을 수도하기 위한 수도수단과; 복수의 기판을 저장하기 위한 보관수단과; 상기 수도수단과 상기 보관수단 사이에서 기판의 출입을 행하는 기판수납반출수단으로 이루어진 장치.
  2. 청구범위 제1항에 있어서, 상기 수도수단은 수평위치에서 기판을 지지하기 위한 적어도 3개의 지지핀과 상기 지지핀을 수직으로 움직이게 지지하기 위한 핀지지기구로 이루어지고, 또한 상기 인터페이스장치는 상기 지지핀을 지지하는 기판을 가로질러 서로 반대로 한쌍의 조정부재를 포함하는 기판조정기구와, 상기기판의 위치조정을 하는 기판의 외주연에 접촉해서 서로 가까이 멀리 수평으로 움직일 수 있는 상기 조정부재로 이루어진 기판을 수도용 인터페이스장치.
  3. 청구범위 제2항에 있어서, 상기 핀지지기구 및 상기 기판조정기구는 단일 구동기구에 의해 구동되는 기판수도용 인터페이스장치.
  4. 청구범위 제3항에 있어서, 상기 단일 구동기구는 : 수직으로 연장가능한 로드를 가진 단일 에어실린더와; 하부 직선부와 상부 만곡부를 가지는 캠홈을 규정하고 수직으로 이동가능하게 된 상기 로드에 접속된 캠부재와; 상기 캠홈과 맞물린 캠플러워의 이동에 연동해서 수평 왕복으로 움직이는 푸숴플레이트와; 상기 푸숴플레이트와 상기 한쌍의 조정부재를 내부 결속된 한쌍의 링크와; 상기 캠부재의 상부로 이동중에 상기 캠부재에 맞물리고, 캠부재와 함께 상부로 이동해서 상기 핀지지기구를 상승하는 리프트부재로 이루어진 기판수도용 인터페이스장치.
  5. 청구범위 제1항에 있어서, 상기 보관수단은 다단계로 기판을 저장하기 위한 카세트를 포함하는 기판수도용 인터페이스장치.
  6. 청구범위 제1항에 있어서, 상기 기판수납반출수단은; 수직이동을 지탱하는 리프트프레임과; 상기리프트프레임을 구동하는 제1모터와; 상기 리프트프레임상에 수평 미끄럼이동으로 실장된 암베이스와; 상기 암베이스를 구동하기 위한 제2모터와; 상기 암베이스에 직립된 지지포스트의 상부에 한편으로 치우친 기판흡임용 암을 포함하는 기판수도용 인터페이스장치.
  7. 청구범위 제1항에 있어서, 상기 기판수도기구로부터 기판을 수납하고 및 상기 반송기구를 상부의 위치에서 기판을 유지하는 수직이동 임시지지암으로 더 이루어진 기판수도용 인터페이스장치.
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