JP2702083B2 - 基板処理装置間のインターフェイス装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハや液晶表
示器用のガラス基板等の各種の基板に、フォトレジスト
塗布、露光、現像、エッチング等の各種の処理を順次施
してゆく基板処理装置間に用いるインターフェイス装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、基板にフォトレジストを塗布し
て乾燥させる塗布プロセス装置、フォトレジストが塗布
された基板を露光する露光装置、露光された基板を現像
処理する現像プロセス装置等のプロセス装置は、それら
幾種類かのプロセス装置を連設させて所要の処理ライン
を構成するように設置される。

【０００３】なお、個々のプロセス装置は、単数または
複数のプロセスユニットから構成される。例えば、塗布
プロセス装置は、基板表面にレジスト密着強化剤の蒸気
を接触させる密着強化処理ユニット、回転塗布処理ユニ
ット、加熱ユニット、基板の温度を室温へ戻す冷却ユニ
ット等から構成される。また、各プロセス装置は、基板
を載置するアームを移動させることによって基板を搬送
する基板搬送手段を備え、その周囲に各種プロセスユニ
ットを配置して構成される。

【０００４】このような基板処理装置では、基板を二つ
のプロセス装置にわたって搬送するのであるが、プロセ
ス装置間の基板の搬送は、両プロセス装置間にインター
フェイス装置を設け、一方のプロセス装置の基板搬送手
段からインターフェイス装置に一旦、基板を受渡し、そ
の後、他方のプロセス装置の基板搬送手段が前記インタ
ーフェイス装置に載置された基板を受け取るようにして
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題点
がある。上述したインターフェイス装置は、基板を受け
取る側（以下、下手側と称する）のプロセス装置がトラ
ブル発生により停止した場合、基板の受渡しが不能にな
るので、基板を渡す側（以下、上手側と称する）プロセ
ス装置も停止せざるを得ず、トラブルが解消されるまで
全ての処理を停止しなければならず、プロセス装置の稼
動効率が低いものとなっていた。

【０００６】また、上手側のプロセス装置で基板を搬送
処理している間に基板の位置ズレが発生することがあ
る。このような位置ズレの発生した基板がインターフェ
イス装置を介して、そのままの状態で下手側のプロセス
装置に受渡されると、下手側のプロセス装置自身で生じ
る基板の位置ズレが上手側のプロセス装置での位置ズレ
に累積されることになる。そのため、下手側のプロセス
装置で処理される基板の位置ズレが相当大きくなり、基
板の搬送不良が発生して基板が脱落したり破損したりす
るおそれがある。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、両プロセス装置間に介在させるインタ
ーフェイス装置において、一方のプロセス装置にトラブ
ルが発生しても、他方のプロセス装置を停止させる必要
がないインターフェイス装置を提供することを主目的と
している。

【０００８】また、本発明の別の目的は、上記主目的に
加えて、さらに一方のプロセス装置で基板の位置ズレが
生じても、基板が受渡される他方のプロセス装置に、前
記基板の位置ズレの影響がでない（すなわち、位置ズレ
が累積しない）ようにすることができるインターフェイ
ス装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成を採る。すなわ
ち、請求項１に記載の発明に係る基板処理装置間のイン
ターフェイス装置は、基板を処理する第１のプロセス装
置と第２のプロセス装置との間に介在設置されるインタ
ーフェイス装置において、前記両プロセス装置の基板搬
送手段との間で基板を受渡しする基板受渡し機構と、複
数枚の基板が収納可能な基板保管部と、基板保管部と基
板受渡し機構との間で基板の出し入れを行う基板収納搬
出機構とを備え、前記基板収納搬出機構は、基板保管部
から基板を取り出す際、前記基板保管部に収納した順に
基板を取り出すように構成したことを特徴とするもので
ある。

【００１０】請求項２に記載の発明に係る基板処理装置
間のインターフェイス装置は、上記請求項１に記載の基
板処理装置間のインターフェイス装置において、前記基
板収 納搬出機構は、前記基板受渡し機構との間で基板の
受渡しが可能で、前記基板保管部の任意の保管場所の前
面に移動可能な基板保持アームを有し、前記基板保持ア
ームを前記基板保管部に対して前後動させて、前記基板
保管部の任意の保管場所に対する基板の出し入れを行う
ように構成したものである。

【００１１】請求項３に記載の発明に係る基板処理装置
間のインターフェイス装置は、上記請求項１に記載の基
板処理装置間のインターフェイス装置において、前記基
板受渡し機構により受渡しする基板の位置合わせを行う
基板整合手段をさらに備えたことを特徴とするものであ
る。

【００１２】

【作用】請求項１に記載の発明の構成によると、両プロ
セス装置にトラブルが発生していない場合は、上手側の
プロセス装置から、本発明のインターフェース装置の基
板受渡し機構に基板が受渡され、その基板受渡し機構を
介して下手側のプロセス装置にその基板が受渡される。

【００１３】一方、下手側プロセス装置にトラブルが発
生して処理不能となった場合、上手側プロセス装置から
搬出されてきた基板は一旦インターフェース装置の基板
受渡し機構に送りこまれ、基板収納搬出機構によって基
板保管部に収納保管される。上手側プロセス装置から搬
出されてくる後続の基板も順次基板保管部に収納保管さ
れる。

【００１４】下手側プロセス装置のトラブルが解消する
と、基板収納搬出機構により基板保管部に収納保管され
ていた基板が、基板保管部に収納された順に取り出され
て基板受渡し機構へ搬出され、基板受渡し機構から下手
側プロセス装置へ順次渡した後、上手側プロセス装置か
らの基板を受け取り、下手側プロセス装置へ基板を受渡
すという通常運転状態に復帰する。

【００１５】請求項２に記載の発明の構成によると、下
手側プロセス装置にトラブルが発生 して処理不能となっ
た場合、上手側プロセス装置から搬出されてきた基板は
一旦インターフェース装置の基板受渡し機構に送りこま
れる。基板収納搬出機構の基板保持アームは基板受渡し
機構からその基板を受け取り、基板保管部の任意の保管
場所の前面に移動し、基板保管部に対して前後動してそ
の基板を基板保管部の所定の保管場所に保管する。上手
側プロセス装置から搬出されてくる後続の基板も順次基
板保管部に別々の保管場所に収納保管される。

【００１６】下手側プロセス装置のトラブルが解消する
と、基板保持アームにより基板保管部に収納されていた
基板が、基板保管部に収納された順に取り出されて基板
受渡し機構へ搬出され、基板受渡し機構から下手側プロ
セス装置へ順次渡した後、上手側プロセス装置からの基
板を受け取り、下手側プロセス装置へ基板を受渡すとい
う通常運転状態に復帰する。

【００１７】請求項３に記載の発明によれば、両プロセ
ス装置にトラブルが発生していない場合は、上手側プロ
セス装置から、本発明のインターフェース装置の基板受
渡し機構に基板が受渡されると、基板受渡し機構に付設
された基板整合手段により基板の位置合わせが行われ、
その後、下手側プロセス装置にその基板が受渡される。

【００１８】一方、下手側プロセス装置にトラブルが発
生して処理不能となった場合、上手側プロセス装置から
搬出されてきた基板は一旦インターフェース装置の基板
受渡し機構に送りこまれ、基板整合手段で位置合わせさ
れた後、あるいは位置合わせを行うことなく、基板収納
搬出機構によって基板保管部に収納保管される。上手側
プロセス装置から搬出されてくる後続の基板も順次基板
保管部に収納保管される。

【００１９】下手側プロセス装置のトラブルが解消する
と、基板保持アームにより基板保管部に収納されていた
基板が、基板保管部に収納された順に取り出されて基板
受渡し機構へ搬出され、基板整合手段で位置合わせを行
ってから（あるいは、位置合 わせを行うことなく）、基
板受渡し機構から下手側プロセス装置へ順次渡した後、
上手側プロセス装置からの基板を受け取り、基板を位置
合わせし、下手側プロセス装置へ基板を受渡すという通
常運転状態に復帰する。

【００２０】なお、基板整合手段による基板の位置合わ
せは、基板保管部への収納保管動作の前後の少なくとも
一方で行えばよい。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１は基板処理装置の要部の平面を示して
おり、図中の符号１は上手側のプロセス装置、２は下手
側のプロセス装置、３は両プロセス装置１，２の間に介
在された基板受渡し用のインターフェイス装置である。

【００２２】上手側のプロセス装置１は、基板搬送手段
101 によって複数個のプロセスユニット４に対して基板
Ｗを順次的に搬入・搬出して複数の処理を基板Ｗに施す
よう構成されたものである。また、下手側のプロセス装
置２も同様に基板Ｗを搬入・搬出する基板搬送手段102
と、複数個のプロセスユニット５とを備えている。

【００２３】なお、両プロセス装置１，２の基板搬送手
段101,102 における基板を載置する部分は、各プロセス
装置内で基板Ｗを頻繁に搬送するものであるため、基板
裏面を可能な限り汚染しないようにする必要があり、そ
のため、基板Ｗの外周の半分以上を囲む円弧部から、基
板中心へ向けて延設した支持片が基板裏面を点接触に近
い状態で支持する構造となっている。

【００２４】インターフェイス装置３には、図１および
図２に示すように、上手側プロセス装置１の基板搬出
部、および下手側プロセス装置２の基板搬入部に臨むよ
うに基板受渡し機構６が備えられるとともに、その側脇
に基板Ｗを多段に収納可能なカセット７を設置してなる
基板保管部８と、本発明の構成における基板収納搬出機
構に対応するアーム９が設けられている。

【００２５】図３ないし図６に基板受渡し機構６の詳細
を示す。基板受渡し機構６には、載置した基板Ｗの中心
部下面を吸着して保持するように構成された昇降および
水平左右動自在なアーム９、昇降自在な基板載置用の３
本の支持ピン10、支持ピン10上に載置された基板Ｗの位
置合わせを行う基板整合手段11、位置決めされた基板Ｗ
を載置して昇降する基板仮受けアーム12、および基板整
合手段11や基板仮受けアーム12の駆動手段が備えられて
おり、以下各部の詳細な構造と作動を説明する。

【００２６】ベースフレーム13には中抜き状の固定フレ
ーム14が立設されており、この固定フレーム14に上下方
向にわたって架設された一対のガイド軸15に、昇降ブロ
ック16がスライド軸受17を介して摺動自在に支持されて
いる。昇降ブロック16は、ガイド軸15に並設された螺軸
18にナット部材19を介して螺合されており、この螺軸18
を固定フレーム14の上部に取り付けられたモータ20（図
６参照）で正逆方向にベルト駆動することにより、昇降
するようになっている。昇降ブロック16には、一対のブ
ラケット21が設けられており、このブラケット21の上に
昇降フレーム22が取付けられている。

【００２７】昇降フレーム22には、左右方向にガイドレ
ール23が設けられており、このガイドレール23にアーム
基台24が摺動自在に嵌め付けられている。このアーム基
台24に立設された支持棒25の上部に、前記アーム９が水
平状態に片持ち支持されている。このアーム９の先端部
上面には、基板Ｗを真空吸着するための吸着孔９ａが設
けられている。

【００２８】また、昇降フレーム22には、ガイドレール
23に平行して、無端状のベルト26が一対のプーリ27，28
間に張設されており、このベルト26の一部がアーム基台
24と連結されている。また、一方のプーリ27と主動プー
リ29との間に無端状のベルト30が張設され、前記主動プ
ーリ29をステッピングモータ31で正逆方向に駆動するこ
とにより、アーム基台24がガイドレール23に沿って左右
に往復動するようになっている。

【００２９】基板整合手段11は、支持ピン10の両側にそ
れぞれ摺動自在に配設された整合板32ａ，32ｂに、凸上
の複数個（実施例では各４個）の当接片33を基板Ｗと略
同じ曲率になるように円弧上に配置して構成されたもの
であり、前記当接片33が支持ピン10上の基板Ｗの外縁に
当接離間するように整合板32ａ，32ｂを往復駆動するこ
とにより、支持ピン10に対して基板Ｗの位置合わせを行
うようになっている。

【００３０】そして、前記固定フレーム14の上面には、
整合板32ａ，32ｂを摺動可能に支持するためのベース板
34が、片持ち状に取り付けられている。このベース板34
の中央部には、前記アーム９の支持棒25を導出するとと
もに、基板出し入れ時の支持棒25の左右移動を許容する
長孔35が形成されている。この長孔35に直交する方向
に、左右一対のガイドレール36ａが設けられ、このガイ
ドレール36ａに摺動板37ａが摺動自在に架設されてい
る。この摺動板37ａに立設した縦壁板38ａの上端に一方
の整合板32ａが支持板39ａを介して支持されている。長
孔35を挟んでガイドレール36ａと対向する位置に同様の
一対のガイドレール36ｂがあり、このガイドレール36ｂ
に摺動自在に架設された摺動板37ｂに、他方の整合板32
ｂが縦壁板38ｂおよび支持板39ｂを介して支持されてい
る。

【００３１】図４および図７に示すように、各摺動板32
ａ，32ｂの下方には、支軸40を介してベース板34に揺動
自在に取り付けられたリンク部材41がそれぞれ設けられ
ている。各リンク部材41は、連結ピン42を介して摺動板
37ａ，37ｂにそれぞれ長孔ピン結合されている。また、
各リンク部材41の下方には、ベース板34上に設けられた
ガイドレール43に摺動自在に嵌め付けられたＵの字形状
のプッシャー板44があり、このプッシャー板44が連結ピ
ン45を介して、各リンク部材41に長孔ピン結合されてい
る。図７に示すように、前記プッシャー板44が、後述す
るカム構造によって同図の矢印方向に押し出されると、
その作用力が連結ピン45を介して各リンク部材41に伝え
られ、各リンク部材41は支軸40を中心にして矢印方向に
揺動する。その結果、各リンク部材41の連結ピン42に連
結された整合板32ａ，32ｂが互いに近づく方向に動き、
図８に示すように、整合板32ａ，32ｂに設けられた各当
接片33が基板Ｗの外縁に当接する。

【００３２】次に、支持ピン10を上下方向に移動可能に
支持するピン支持手段について説明する。図３および図
５に示すように、整合板32ａ，32ｂの間にある３本の支
持ピン10は、Ｕの字状の支持板46に支持されている。支
持板46の基部は昇降部材47に連結されており、この昇降
部材47が固定フレーム14に上下方向に取り付けられたガ
イドレール48に摺動自在に嵌め付けられている。図５に
示すように、昇降部材47はコイルバネ49によって下方向
に付勢されており、アーム９が下降している状態では、
同図に示したような下限位置にある。

【００３３】なお、整合板32ａ，32ｂに設けられた当接
片33の上端、および下限位置にある支持ピン10の上端
を、図２に示したように、カセット７の最下段にある基
板収納高さよりも低い位置になるように設定することに
より、アーム９がカセット７に対して基板Ｗを出し入れ
する際に、当接片33や支持ピン10が基板搬送の障害にな
らないようにしている。

【００３４】次に、上述した当接片33や支持ピン10を駆
動する手段について説明する。図４に示すように、固定
フレーム14の一方の側壁にガイドレール50が上下方向に
設けられており、このガイドレール50に、可動部材51が
摺動自在に嵌め付けられており、この可動部材51に連結
したプレート部材52にカム部材53が連結されている。カ
ム部材53が設けられた固定フレーム14の側壁の内側にエ
アーシリンダ54が取り付けられており、このエアーシリ
ンダ54のロッド54ａが前記カム部材53およびプレート部
材52の上端に、連結部材55を介して連結されている。カ
ム部材53に形成されたカム溝56の作動曲面は、その上方
がプッシャー板44のスライド方向に凸状態になるような
湾曲部分56ａをもち、湾曲部分56ａの下方は鉛直に延び
ている。このカム部材53に、Ｌの字状の従動部材57の下
方に取り付けられたカムアフォロア58が嵌入されてお
り、この従動部材57の他端がプッシャー板44に連結され
ている。

【００３５】図４に示すように、カム部材53を連結した
プレート部材52の下方には、押し上げ部材59が、昇降部
材47の下向き段部47ａと離間した状態で取り付けられて
おり、カム部材53が上昇駆動されている途中で、この押
し上げ部材59が昇降部材47の下向き段部47ａに当接する
ことにより、その後のカム部材53の上昇に伴って押し上
げ部材59がコイルバネ49の付勢力に抗して昇降部材47を
押し上げて支持ピン10が上昇するように構成されてい
る。

【００３６】また、図３および図４に示すように、固定
フレーム14の他方の側壁の上下に設けたブラケット60に
わたって一対のガイド軸61とロッドレスシリンダ62が鉛
直に架設されるとともに、ロッドレスシリンダ62によっ
て昇降される可動部材63がこれらに外嵌支持されてい
る。この可動部材63から立設した支持部材64の上端に連
結部材65を介して前記基板仮受けアーム12が片持ち状に
取付けられている。この基板仮受けアーム12の上面には
載置した基板Ｗが万一ズレた場合に落下するのを阻止す
るための小突起66が備えられている。

【００３７】なお、基板仮受けアーム12の昇降ストロー
クは、基板支持ピン10が下限位置にある状態で支持した
基板より下方の位置から、アーム９がカセット７内の最
上段の基板収納高さへ基板を出し入れする際にアーム９
に対して基板仮受けアーム12が支障とならない高さに達
する上下範囲である。

【００３８】本発明は、以上のように構成されたもので
あり、次にその作動について説明する。 (1) プロセス装置１からプロセス装置２への通常の受
渡しにおいては、プロセス装置１から搬出されてきた基
板Ｗは先ず支持ピン10上に載置される。

【００３９】(2) 次にエアーシリンダ54が伸長作動し
てカム部材53が上昇し、その上昇初期においてカムフォ
ロア58がカム溝56の湾曲部分56ａに作用してプッシャー
板44か図上左方へ移動され、基板整合手段11の整合板32
ａ−32ｂが互いに接近作動して基板Ｗの位置決めがなさ
れる。

【００４０】(3) 引き続くカム部材53の上昇に伴って
整合板32ａ，32ｂが基板Ｗから離反する。

【００４１】(4) プレート部材52の一層の上昇に伴っ
て押上げ部材59が昇降部材47の下向き段部47ａに当接し
て、以後はプレート部材52と一体に昇降部材47が上昇
し、位置決めされた基板Ｗを載置した支持ピン10が上昇
して所定高さで待機する。

【００４２】(5) その後、プロセス装置２のプロセス
搬送ユニットが支持ピン10上の基板Ｗを取り出してゆ
く。

【００４３】以上の基板受渡し作動において、例えばプ
ロセス装置２でトラブルが発生して基板受入れが不能と
なった場合で、とくに、支持ピン10がプロセス装置１か
ら基板Ｗを受け取ったものの、まだプロセス装置２へ渡
していない時にプロセス装置２のトラブルが発生した場
合、ロッドレスシリンダ62を上昇作動させて基板仮受ア
ーム12上に基板Ｗを受取り、図２に示したアーム９の上
限位置よりも、高い位置で基板仮受アーム12を上昇待機
させることによって、支持ピン10はプロセス装置１から
基板Ｗをすぐに受け取れる状態となる。その後プロセス
装置１から排出されてくる基板Ｗを前述のように支持ピ
ン10上に受取り、位置決めしたのち、可動ブロック16を
上昇させてアーム９上に支持ピン10上の基板Ｗを移載保
持し、ステッピングモータ31を作動させてアーム９を基
板保管部８へ移動させ、カセット７の例えば最上段に基
板Ｗを収納する。

【００４４】プロセス装置２のトラブルが解消されるま
での間、プロセス装置１からの基板Ｗを上記要領で基板
保管部８へ順次搬送して保管してゆく。この間、トラブ
ル発生直後に、支持ピン10から基板仮受けアーム12が保
持した基板Ｗは基板仮受けアーム12が保持したままであ
る。

【００４５】なお、プロセス装置２のトラブルが解消す
るまでの間にプロセス装置１から基板保管部８へ搬送さ
れて来る基板Ｗとは、プロセス装置２のトラブルが発生
した時に、プロセス装置１内にあった基板Ｗである。つ
まり、プロセス装置２でトラブルが発生した時点で、プ
ロセス装置１への新たな基板Ｗの供給は停止されるが、
すでにプロセス装置１内にある基板Ｗに対する処理は停
止することなく継続し、それら基板Ｗが、基板保管部８
に受け取られたのである。

【００４６】下手側プロセス装置２でのトラブルが解消
すると、基板仮受けアーム12を下降させて、これに搭載
保管していた基板Ｗを最初に支持ピン10上に移載し、基
板仮受けアーム12上で基板がズレているかも知れないこ
とを考慮して、基板整合手段11によって基板Ｗの位置決
めを行ってから、プロセス装置２へ送り出し、以後は基
板受渡し機構６に搬入してきた順序で基板保管部８に収
納した基板Ｗを取り出してプロセス装置２へ排出してゆ
く。

【００４７】以上のように、インターフェイス装置３
は、下手側のプロセス装置２でトラブルが発生すると、
ただちに、支持ピン10で支持されている基板Ｗを基板仮
受けアーム12が上方へ持ち上げることにより、インター
フェイス装置３は上手側プロセス装置１から基板Ｗを受
け取れる状態となり、上手側プロセス装置１を停止させ
ることなく、上手側のプロセス装置１からの基板Ｗをイ
ンターフェイス装置３が受け取る。なお、それ以後は、
上手側のプロセス装置１が基板Ｗを処理する周期でしか
インターフェイス装置３へ基板Ｗが渡されないので、イ
ンターフェイス装置３は、アーム９が基板保管部８へ基
板Ｗを収納するのに十分な時間間隔を持って、基板Ｗを
受け取る。このように、インターフェイス装置３の基板
受渡し機構６に基板がある時に、下手側プロセス装置２
にトラブルが発生しても、上手側プロセス装置１に影響
を及ぼすことなく、基板の保管を行うことができる。

【００４８】なお、インターフェイス装置３における基
板仮受けアーム12から基板受渡し機構６へ基板Ｗを移載
する際に、基板整合手段11で位置決めを行ったが、これ
は前述したように基板仮受けアーム12上で基板がズレた
かもしれないことを考慮したためであり、そのようなお
それのがない場合には、かかる位置決めをする必要はな
い。

【００４９】また、上述の実施例では、プロセス装置１
が上手側のプロセス装置で、プロセス装置２が下手側の
プロセス装置であるとして、基板Ｗの移動は、プロセス
装置１からプロセス装置２へ向かう一方通行としたが、
次のようにしてもよい。

【００５０】すなわち、未処理基板を供給したり処理済
み基板を回収する基板供給回収装置を、プロセス装置１
に隣接し、基板供給回収装置から供給された未処理基板
をプロセス装置１で第１の処理をし、インターフェイス
装置３を介してプロセス装置２へ搬送して、プロセス装
置２で第２の処理をし、しかる後に、処理済み基板をイ
ンターフェイス装置３を介してプロセス装置１を経て、
基板供給回収装置へ回収させるようにしてもよく、イン
ターフェイス装置３は、プロセス装置１からプロセス装
置２へ搬送される処理中の基板と、プロセス装置２から
プロセス装置１へ戻る処理済み基板の双方を受け渡すよ
うにしてもよい。

【００５１】なお、この場合、処理中の基板に関しては
プロセス装置１が上手側で、プロセス装置２が下手側で
あり、処理済み基板に関してはプロセス装置２が上手側
で、プロセス装置１が下手側である。

【００５２】また、上述の実施例で説明した基板受渡し
機構や、基板受渡し機構と基板保管部との間で基板を出
し入れする基板収納搬出機構、さらには基板仮受けアー
ムを駆動する機構などは、種々変更実施可能であり、実
施例で説明したものに限定されるものではない。

【００５３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１ないし３に記載の発明によれば、下手側プロセス装置
にトラブルがあって基板受入れが不能となっても、上手
側プロセス装置からの基板をインターフェイス装置の基
板保管部に収納保管しながら上手側プロセス装置の運転
を続行することができ、基板処理装置の稼動効率を低下
させることなく連続処理を行うことができる。しかも、
基板保管部から基板を取り出す際は、基板保管部に収納
した順に基板を取り出すように構成しているので、上手
側プロセス装置から搬出された順に下手側プロセス装置
に基板を引き渡していくことができ、基板の順番が途中
で入れ替わるようなこともなく、連続して行われる複数
枚の基板への処理を正確にかつスムーズに行うことがで
きる。

【００５４】特に、請求項２に記載の発明によれば、基
板受渡し機構との間で基板の受渡しが可能で、基板保管
部の任意の保管場所の前面に移動可能な基板保持アーム
を基板保管部に対して前後動させて、基板保管部の任意
の保管場所に対する基板の出し入れを行うように基板収
納搬出機構を構成しているので、基板収納搬出機構を簡
単な構成で、かつ、コンパクトに実現することができ
る。

【００５５】また、請求項３に記載の発明によれば、基
板整合手段を備えることから、プロセス装置にトラブル
が発生していない通常運転状態の場合は、上手側のプロ
セス装置から受け取った基板を下手側のプロセス装置に
渡す前に基板の位置合わせが行われ、また、下手側のプ
ロセス装置にトラブルが発生した場合には、基板保管部
へ基板を保管収納する前に、あるいは基板保管部から基
板を取り出した後に、基板整合手段によって基板の位置
合わせが行われるので、いずれにしても上手側のプロセ
ス装置で発生した基板の位置ズレが下手側のプロセス装
置に影響を及ぼすことがなく、下手側のプロセス装置に
おける基板搬送を円滑に行わせることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置間のインターフェイ
ス装置の要部平面図である。

【図２】インターフェイス装置の側面図である。

【図３】基板受渡し機構の平面図である。

【図４】基板受渡し機構の側面図である。

【図５】基板受渡し機構の正面図である。

【図６】基板収納機構を抜き出して示した斜視図であ
る。

【図７】基板位置決め機構の動作説明図である。

【図８】基板位置決め機構の動作説明図である。

【符号の説明】

１…上手側プロセス装置 ２…下手側プロセス装置 ３…インターフェイス装置 ６…基板受渡し機構 ８…基板保管部 ９…アーム（基板収納搬出機構） 11…基板整合手段

フロントページの続き (72)発明者 岡本 健男 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番 地 大日本スクリーン製造株式会社 洛 西工場内 (72)発明者 福▲富▼ 義光 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番 地 大日本スクリーン製造株式会社 洛 西工場内

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を処理する第１のプロセス装置と第
   ２のプロセス装置との間に介在設置されるインターフェ
   イス装置において、前記両プロセス装置の基板搬送手段
   との間で基板を受渡しする基板受渡し機構と、複数枚の
   基板が収納可能な基板保管部と、基板保管部と基板受渡
   し機構との間で基板の出し入れを行う基板収納搬出機構
   とを備え、 前記基板収納搬出機構は、基板保管部から基板を取り出
   す際、前記基板保管部に収納した順に基板を取り出すよ
   うに構成したことを 特徴とする基板処理装置間のインタ
   ーフェイス装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置間のイン
   ターフェイス装置において、 前記基板収納搬出機構は、前記基板受渡し機構との間で
   基板の受渡しが可能で、前記基板保管部の任意の保管場
   所の前面に移動可能な基板保持アームを有し、前記基板
   保持アームを前記基板保管部に対して前後動させて、前
   記基板保管部の任意の保管場所に対する基板の出し入れ
   を行うように構成したことを特徴とする基板処理装置間
   のインターフェイス装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板処理装置間のイン
   ターフェイス装置において、 前記基板受渡し機構により受渡しする基板の位置合わせ
   を行う基板整合手段をさらに備えたことを特徴とする基
   板処理装置間のインターフェイス装置。