JPH1095529A - 基板搬送方法および基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送方法および基板搬送装置

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JPH1095529A
JPH1095529A JP27189696A JP27189696A JPH1095529A JP H1095529 A JPH1095529 A JP H1095529A JP 27189696 A JP27189696 A JP 27189696A JP 27189696 A JP27189696 A JP 27189696A JP H1095529 A JPH1095529 A JP H1095529A
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JP
Japan
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substrate
cassette
support
support member
opening
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Application number
JP27189696A
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English (en)
Inventor
Yasuhiko Ohashi
泰彦 大橋
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成で基板を確実に搬送することので
きる基板搬送方法および基板搬送装置を提供することを
目的とする。 【解決手段】 搬送機構20は、センサ34を付設し、
X方向に往復移動可能な支持台23と、支持台23上に
配設された多関節アーム24の先端に配設され、Y方向
に往復移動可能なハンド部25とを有する。基板1を搬
送する際には、基板1の後端をハンド部25の基端部に
配設された当接ピン40により押圧し、基板1を当接ピ
ン40とカセット10のストッパー15とにより挟持す
ることによって基板1を位置決めし、さらに、センサ3
4による基板1の側縁のX方向の位置の測定結果に基づ
いて、搬送機構20による基板1のX方向への移動量を
制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は基板搬送方法およ
び基板搬送装置に関し、特に、液晶表示パネル用ガラス
基板等の角形の基板をカセットから取り出し、基板搬送
位置まで搬送する場合に好適な基板搬送方法および基板
搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば複数の角形の基板をカセットに収
納した状態で処理液槽に浸漬して処理する基板処理装置
においては、基板を収納して搬送するための搬送専用カ
セットから搬送機構により処理すべき基板を取り出し、
この基板を処理専用カセットに移し替えるようにしてい
る。また、処理を終了した基板は、搬送機構により処理
専用カセットから搬送専用カセットに移し替えられる。
【0003】このとき、基板はカセット内においてその
側縁部を支持されているが、カセットにおける基板の支
持部分は基板の外形より若干大きく形成されている等の
理由により、複数の基板がカセットに収納された状態に
おいては、各基板の相対位置はそれぞれ若干異なってお
り、各基板は正確には整列していない。従って、カセッ
ト内の基板をカセットから搬出するため、基板を搬送機
構のハンド部により支持した場合に、当該ハンド部と基
板との位置関係が一定にはならない。このため、搬送機
構のハンド部により支持された基板をカセット内に収納
する際に、基板の端部がカセットと衝突して破損する
等、基板の搬送性に問題が生ずる。
【0004】従来の搬送装置においては、このような問
題を解消するため、複数の基板をカセット内に収納した
状態で、基板の端縁を一対の押圧部材により押圧、挟持
して移動させることにより、複数の基板を互いに整列さ
せている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年、基板が大型化、
薄型化していることにより、カセット内にその側縁部を
支持されて収納された基板には撓みが発生している。こ
のため、基板の端縁を一対の押圧部材で押圧、挟持した
のみでは基板を正確に整列させることはできない。ま
た、カセットと基板との間の摩擦係数が大きい場合等に
おいては、複数の基板を一括して押圧しても、基板は容
易には移動せず、カセットが倒れたり基板が損傷を受け
たりする場合もある。
【0006】このため、搬送機構自体に基板の端縁を押
圧する基板整列機構を付設し、基板を搬送機構により支
持する度に、搬送機構上で基板の位置決めを行うことも
考えられるが、この場合においては、搬送機構の構成が
複雑となり、また、使用するカセットの形状によっては
カセットと基板整列機構とが干渉するという問題も生ず
る。
【0007】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、簡易な構成で基板を確実に搬送するこ
とのできる基板搬送方法および基板搬送装置を提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、往復移動可能な支持台上に支持され前記支持台の移
動方向と交差する方向に往復移動可能な基板支持部材に
より、カセットに収納された角形の基板の下面を支持し
て当該カセット内から取り出し、基板搬送位置まで搬送
する基板搬送方法において、前記基板支持部材を、前記
カセットに収納された基板の下面に対して当該基板支持
部材の基端部に配設された当接部材の高さより小さい距
離だけ離隔した高さ位置において、前記カセット前面の
開口部から前記基板の下面と平行に進入させ、前記当接
部材で前記基板の後端を押圧することにより、当該基板
の先端をカセットの開口部と逆側に配設されたストッパ
ーに当接させて基板を位置決めする位置決め工程と、前
記基板支持部材を上昇させることにより、前記基板を当
該基板支持部材により支持する支持工程と、前記基板支
持部材を前記カセットの開口部から退出させることによ
り、前記基板を前記カセット内から搬出する搬出工程
と、前記カセット内から搬出された基板の側縁の位置を
前記支持台に配設されたセンサにより測定する測定工程
と、前記支持台を移動させることにより、前記基板支持
部材に支持された基板を基板搬送位置まで移動させる移
動工程とを備え、前記測定工程における測定結果に基づ
いて前記支持台の移動量を制御することを特徴とする。
【0009】請求項2に記載の発明は、カセットに収納
された角形の基板を基板搬送位置まで搬送する基板搬送
装置であって、往復移動可能な支持台と、前記支持台に
支持され、前記支持台の移動方向と交差する方向に往復
移動可能な基板支持部材と、前記基板支持部材の基端部
に配設された当接部材と、前記基板支持部材を前記カセ
ットに収納された基板の下面に対して前記当接部材の高
さより小さい距離だけ離隔した高さ位置において前記カ
セット前面の開口部から前記基板の下面と平行に進入さ
せ、前記当接部材で前記基板の後端を押圧することによ
り、当該基板の先端をカセットの開口部と逆側に配設さ
れたストッパーに当接させて基板を位置決めし、前記基
板支持部材を上昇させることにより、前記基板を当該基
板支持部材により支持し、前記基板支持部材を前記カセ
ットの開口部から退出させることにより、前記基板を前
記カセット内から搬出する基板支持部材駆動手段と、前
記支持台に付設され、前記基板支持部材により前記カセ
ットから搬出された基板の側縁の位置を測定するセンサ
と、前記センサの測定結果に基づき、前記支持台を移動
させる支持台駆動手段とを備えたことを特徴とする。
【0010】請求項3に記載の発明は、往復移動可能な
支持台上に支持され前記支持台の移動方向と交差する方
向に往復移動可能な基板支持部材により、カセットに収
納された角形の基板の下面を支持して当該カセット内か
ら取り出し、基板搬送位置まで搬送する基板搬送方法に
おいて、前記基板支持部材を、前記カセットに収納され
た基板の下面に対して当該基板支持部材の先端部に配設
された当接部材の高さより大きい距離だけ離隔した高さ
位置において、前記カセット前面の開口部から前記基板
の下面と平行に進入させる進入工程と、前記基板支持部
材を前記基板の下面と近接する位置まで上昇させる上昇
行程と、前記基板支持部材を前記カセットの開口部方向
に移動させることにより、前記当接部材と前記基板の先
端とを当接させて基板を位置決めする位置決め工程と、
前記基板支持部材を上昇させることにより、前記基板を
当該基板支持部材により支持する支持工程と、前記基板
支持部材を前記カセットの開口部から退出させることに
より、前記基板を前記カセット内から搬出する搬出工程
と、前記カセット内から搬出された基板の側縁の位置を
前記支持台に配設されたセンサにより測定する測定工程
と、前記支持台を移動させることにより、前記基板支持
部材に支持された基板を基板搬送位置まで移動させる移
動工程とを備え、前記測定工程における測定結果に基づ
いて前記支持台の移動量を制御することを特徴とする。
【0011】請求項4に記載の発明は、カセットに収納
された角形の基板を基板搬送位置まで搬送する基板搬送
装置であって、往復移動可能な支持台と、前記支持台に
支持され、前記支持台の移動方向と交差する方向に往復
移動可能な基板支持部材と、前記基板支持部材の先端部
に配設された当接部材と、前記基板支持部材を前記カセ
ットに収納された基板の下面に対して前記当接部材の高
さより大きい距離だけ離隔した高さ位置において前記カ
セット前面の開口部から前記基板の下面と平行に進入さ
せ、前記基板支持部材を前記基板の下面と近接する位置
まで上昇させ、前記基板支持部材を前記カセットの開口
部方向に移動させることにより前記当接部材と前記基板
の先端とを当接させて基板を位置決めし、前記基板支持
部材を上昇させることにより、前記基板を当該基板支持
部材により支持し、前記基板支持部材を前記カセットの
開口部から退出させることにより、前記基板を前記カセ
ット内から搬出する基板支持部材駆動手段と、前記支持
台に付設され、前記基板支持部材により前記カセットか
ら搬出された基板の側縁の位置を測定するセンサと、前
記センサの測定結果に基づき、前記支持台を移動させる
支持台駆動手段とを備えたことを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。
【0013】先ず、基板を収納するカセット10の構造
について説明する。図12はカセット10の斜視図であ
り、図13はカセット10をその開口部16側から見た
正面図である。
【0014】このカセット10は、一対の支持板11を
8本の保持部材12および2本のストッパー15により
連結した構造を有する。各保持部材12には一定のピッ
チPで支持溝13が刻設されており、基板1はその側縁
をこの支持溝13に支持されることにより、カセット1
0内において一定のピッチPで支持される。
【0015】次に、複数のカセット10間において基板
1を移し替える動作について説明する。図14は、基板
処理装置において、処理専用カセットと搬送専用カセッ
ト間で基板を移し替える動作を模式的に示す説明図であ
る。
【0016】この図において、10a、10b、10
c、10dは搬送専用カセットであり、10e、10f
は処理専用カセットである。これらのカセット10a、
10b、10c、10d、10e、10fは、基板処理
装置のインデクサー部に載置されている。また、20は
基板処理装置のインデクサー部をX方向に往復移動する
搬送機構である。なお、搬送専用カセット10a、10
b、10c、10dおよび処理専用カセット10e、1
0fは、図12および13に示すカセット10と同一の
構造を有する。
【0017】図示しないカセット搬送機構により前段の
処理装置から搬送された搬送専用カセット10aまたは
10bは、基板処理装置により処理すべき複数の基板1
を収納した状態でインデクサー部のローダ部17に載置
される。そして、搬送機構20が搬送専用カセット10
aまたは10bと対向する位置まで移動し、搬送専用カ
セット10aまたは10b内から基板1を取り出した
後、処理専用カセット10e内に収納する。搬送専用カ
セット10aまたは10b内の全ての基板1が処理専用
カセット10e内に移し替えられると、処理専用カセッ
ト10eは図示しないカセット搬送機構により処理装置
内に搬送される。
【0018】また、処理を終了した複数の基板1を収納
した処理専用カセット10fは、図示しないカセット搬
送機構によりインデクサー部のアンローダ部18に載置
される。そして、搬送機構20が処理専用カセット10
fと対向する位置まで移動し、処理専用カセット10f
内から基板1を取り出した後、搬送専用カセット10d
または10cと対向する位置まで移動し、搬送専用カセ
ット10dまたは10c内に処理の終了した基板1を収
納する。
【0019】このような基板1の移し替え時において
は、各カセット10内に収納された基板1の相対位置は
それぞれ若干異なっており、基板1は正確には整列して
いない。従って、基板1を搬送機構20のハンド部によ
り支持した場合に、当該ハンド部と基板1との位置関係
が一定にはならない。このため、搬送機構20のハンド
部により支持された基板1を再度カセット10内に収納
する際に、基板1の端部がカセット10と衝突する場合
があることから、搬送機構20のハンド部と基板1との
位置関係を調整する必要がある。
【0020】次に、搬送機構20の構成について説明す
る。図1は第1実施形態に係る搬送機構20の斜視図で
あり、図2はその平面図である。
【0021】この搬送機構20は、支持台23と、支持
台23上に配設された多関節アーム24と、多関節アー
ム24の先端に配設されたハンド部25とを有する。
【0022】支持台23は、一対のレール21、22に
沿ってX方向へ往復移動可能な移動テーブル32と、移
動テーブル32上をθ方向に回転可能な回転テーブル3
3とを互いに重畳させた構成となっている。そして、支
持台23における回転テーブル33には、基板1の側縁
の位置を検出するためのセンサ34が付設されている。
【0023】多関節アーム24は、回転テーブル33に
対して回動および上下移動可能な第1アーム35と、第
1アーム35の先端部において当該第1アーム35に対
して回動可能に配設された第2アーム36とから構成さ
れる。そして、第2アーム36の先端部には、上記ハン
ド部25が配設されている。これらの第1、第2アーム
35、36およびハンド部25は、各アーム35、36
内に配設された駆動伝達機構により互いに連結されてい
る。そして、第1、第2アーム35、36は、図示しな
いモータの駆動により、図2において実線で示す位置と
二点鎖線で示す位置との間を移動する。これにより、基
板支持部材としてのハンド部25は、支持台23の移動
方法と直交する方向(Y方向)に往復移動する。
【0024】ハンド部25の表面には、そこに載置され
た基板1を吸着保持するための4個の吸気孔37が配設
されている。また、ハンド部25の基端部には、後述す
るように、基板1の後端を押圧するための一対の当接ピ
ン40が配設されている。この当接ピン40の高さは、
カセット10内における基板1の支持ピッチPより小さ
くなっている。なお、ハンド部25の基端部とは、ハン
ド部25における基板1の支持領域より多関節アーム2
4における第2アーム36側の位置を指す。
【0025】図3は、この搬送機構20を有する基板搬
送装置の主要な電気的構成を示すブロック図である。
【0026】この基板搬送装置は、ROM41、RAM
42およびCPU43を備えた制御部44を有する。こ
の制御部44は、インタフェース45を介して、前述し
たセンサ34と、支持台23における移動テーブル32
のX方向への移動と回転テーブル33のθ方向への回転
を制御する支持台制御部46と、ハンド部25のY方向
への移動と上下移動とを制御するハンド制御部47と各
々接続されている。
【0027】次に、上述した搬送機構20を使用して基
板1を搬送する動作について説明する。図4はハンド部
25により基板1を搬送する状態を示す平面図であり、
図5はその搬送状態を段階的に示す側面概要図である。
また、図6は基板1の搬送動作を示すフローチャートで
ある。
【0028】なお、以下の説明においては、図14に示
す処理専用カセット10fから基板1を取り出した後、
この基板1を搬送専用カセット10cに収納する場合の
動作を例にとって説明する。
【0029】先ず、支持台23をX方向に移動させるこ
とにより、搬送機構20を処理専用カセット10fと対
向する位置に配置する(ステップS11)。
【0030】続いて、第1アーム35を回転テーブル3
3に対して上下移動させることにより、多関節アーム2
4を介してハンド部25を昇降させ、ハンド部25の上
面が処理専用カセット10fに収納された基板1の下面
から当接ピン40の高さより小さい距離だけ下方に位置
する状態において停止させる。続いて、図5(a)に示
すように、この高さ位置において、ハンド部25をY方
向に移動させ、処理専用カセット10fの開口部16か
ら処理専用カセット10f内に進入させる。そして、ハ
ンド部25の基端部に配設された当接ピン40により基
板1の後端を押圧して基板1を移動させた後、基板1の
先端部が処理専用カセット10fのストッパー15と当
接した位置でハンド部25の移動を停止させる(ステッ
プS12)。
【0031】この状態においては、図5(b)に示すよ
うに、基板1は、ハンド部25の基端部に配設された当
接ピン40と処理専用カセット10fのストッパー15
とにより挟持される。このため、基板1は、ストッパー
15により規制される一定の位置に配置される。この状
態においては、基板1は、少なくともその角度θとY方
向の位置とが一定の位置となった状態で位置決めされる
ことになる。但し、基板1のX方向の位置は、基板1毎
に若干異なっている。
【0032】次に、ハンド部25を上昇させ、図5
(c)に示すように、基板1をハンド部25の上面によ
り支持する。また、吸気孔37より吸気を行うことによ
り、基板1をハンド部25上に吸着保持する(ステップ
S13)。
【0033】続いて、図5(d)に示すように、ハンド
部25を逆方向に移動させることにより、処理専用カセ
ット10f内から退出させる。これに伴い、ハンド部2
5に支持された基板1がカセット内から搬出される(ス
テップS14)。
【0034】ハンド部25が図2において実線で示す位
置まで移動すれば、ハンド部25を停止させる。この状
態においては、図4において二点鎖線で示すように、基
板1の側縁が支持台23の回転テーブル33に付設され
たセンサ34と対向する位置に配置される。
【0035】この状態において、センサ34により基板
1の側縁の位置を測定する(ステップS15)。この測
定により、ハンド部25と当該ハンド部25に支持され
た基板1とのX方向の位置関係、すなわち、ハンド部2
5が基板1を支持した状態において、ハンド部25のX
方向の中心位置と基板1のX方向の中心位置とのずれ量
を測定することができる。
【0036】続いて、支持台23の回転テーブル33を
移動テーブル32に対して180°回転させる。そし
て、支持台23をX方向に移動させて、ハンド部25を
基板1を収納すべき搬送専用カセット10cと対向する
位置まで移動させる(ステップS16)。但し、このと
きの支持台23のX方向の移動量は、上述したハンド部
25と当該ハンド部25に支持された基板1とのX方向
の位置関係を考慮したものとする。
【0037】すなわち、通常であれば、ハンド部25の
X方向の中心位置と搬送専用カセット10cの中心位置
とが一致する位置まで支持台23を移動させるべきもの
ではあるが、この場合においては、ハンド部25と当該
ハンド部25に支持された基板1とのX方向の位置関係
を考慮し、基板1のX方向の中心位置とハンド部25の
X方向の中心位置とのずれ量に応じた値だけ、支持台2
3の移動量を加減するようにする。例えば、基板1のX
方向の中心位置がハンド部25のX方向の中心位置に対
して1mmだけハンド部25の右方向にずれていた場合
においては、支持台23のハンド部25の右方向に対す
る移動量を1mmだけ小さくする。これにより、基板1
がハンド部25に支持された状態において、基板1がX
方向に位置ずれを生じていた場合であっても、支持台2
3の移動距離によってこの位置ずれを補正することがで
きる。
【0038】そして、ハンド部25を搬送専用カセット
10c内に進入させた後、ハンド部25を下降させるこ
とにより、そこに保持した基板1を搬送専用カセット1
0c内に収納する(ステップS17)。
【0039】以上のように、第1実施形態に係る搬送機
構20においては、基板1の後端を当接ピン40により
押圧し、基板1を当接ピン40とストッパー15とによ
り挟持することにより、基板1の角度θとY方向の位置
とを一定の位置として位置決めし、さらに、処理専用カ
セット10fから搬出した基板1の側縁のX方向の位置
の測定結果に基づいて、搬送機構20による基板1のX
方向への移動量を制御していることから、処理専用カセ
ット10fに収納された基板1がわずかな位置ずれを生
じていた場合であっても、その位置ずれを補正して基板
1を搬送専用カセット10cに搬送することが可能とな
る。このとき、基板1の縁部の測定と測定結果に基づく
移動量の制御とは、X方向のみについて行えばよいこと
から、その制御が複雑なものとなることはない。
【0040】また、基板1の端縁の位置を測定するため
のセンサ34を支持台23に付設しているため、複数の
位置に配置されたカセット10a、10b、10c、1
0d、10e、10fのうちいずれのカセットから基板
1を取り出す場合においても、単一のセンサ34により
基板1の端縁を測定することが可能となる。
【0041】次に、搬送機構の他の実施形態について説
明する。図7は第2実施形態に係る搬送機構50の斜視
図であり、図8はその平面図である。
【0042】第1実施形態に係る搬送機構20において
は、一対の当接ピン40をハンド部25の基端部に配設
していたが、この搬送機構50においては、一対の当接
ピン60をハンド部25の先端部に配設している。
【0043】第2実施形態に係る搬送機構50は、第1
実施形態に係る搬送機構20と同様、支持台23と、支
持台23上に配設された多関節アーム24と、多関節ア
ーム24の先端に配設されたハンド部25とを有する。
【0044】支持台23は、一対のレール21、22に
沿ってX方向へ往復移動可能な移動テーブル32と、移
動テーブル32上をθ方向に回転可能な回転テーブル3
3とを互いに重畳させた構成となっている。そして、支
持台23における回転テーブル33には、基板1の側縁
の位置を検出するためのセンサ34が付設されている。
【0045】多関節アーム24は、回転テーブル33に
対して回動および上下移動可能な第1アーム35と、第
1アーム35の先端部において当該第1アーム35に対
して回動可能に配設された第2アーム36とから構成さ
れる。そして、第2アーム36の先端部には、上記ハン
ド部25が配設されている。これらの第1、第2アーム
35、36およびハンド部25は、各アーム35、36
内に配設された駆動伝達機構により互いに連結されてい
る。そして、第1、第2アーム35、36は、図示しな
いモータの駆動により、図2において実線で示す位置と
二点鎖線で示す位置との間を移動する。これにより、基
板支持部材としてのハンド部25は、支持台23の移動
方法と直交する方向(Y方向)に往復移動する。
【0046】ハンド部25の表面には、そこに載置され
た基板1を吸着保持するための4個の吸気孔37が配設
されている。また、ハンド部25の先端部には、後述す
るように、基板1の先端を押圧するための一対の当接ピ
ン60が配設されている。この当接ピン60の高さは、
カセット10内における基板1の支持ピッチPより小さ
くなっている。
【0047】この搬送機構50は、第1実施形態に係る
搬送機構20と同様、図3に示すような電気的構成を具
備し、制御部44により制御される。
【0048】次に、上述した搬送機構50を使用して基
板1を搬送する動作について説明する。図9はハンド部
25により基板1を搬送する状態を示す平面図であり、
図10はその搬送状態を段階的に示す側面概要図であ
る。また、図11は基板1の搬送動作を示すフローチャ
ートである。
【0049】なお、以下の説明においては、第1実施形
態の場合と同様、図14に示す処理専用カセット10f
から基板1を取り出した後、この基板1を搬送専用カセ
ット10cに収納する場合の動作を例にとって説明す
る。
【0050】先ず、支持台23をX方向に移動させるこ
とにより、搬送機構50を処理専用カセット10fと対
向する位置に配置する(ステップS21)。
【0051】続いて、第1アーム35を回転テーブル3
3に対して上下移動させることにより、多関節アーム2
4を介してハンド部25を昇降させ、ハンド部25の上
面が処理専用カセット10fに収納された基板1の下面
から当接ピン60の高さより大きい距離だけ下方に位置
する状態において停止させる。続いて、図10(a)に
示すように、この高さ位置において、ハンド部25をY
方向に移動させ、処理専用カセット10fの開口部16
から処理専用カセット10f内に進入させる。そして、
ハンド部25の先端部に配設された当接ピン60が基板
1の先端より奥側に到達する位置までハンド部25を移
動させた後、停止させる(ステップS22)。
【0052】続いて、ハンド部25を基板1と近接する
位置まで上昇させる。この位置は、図10(b)に示す
ように、ハンド部25の上面が基板1の下面から当接ピ
ン60の高さより小さい距離だけ離隔した位置である。
【0053】次に、図10(c)に示すように、ハンド
部25を逆方向にわずかな距離だけ移動させ、当接ピン
60により基板1の先端を押圧して基板1を移動させる
(ステップS24)。この状態においては、基板1は、
ハンド部25の先端部に配設された当接ピン60により
その位置を規制され、一定の位置に配置される。この状
態においては、基板1は、少なくともその角度θとY方
向の位置とが一定の位置となった状態で位置決めされる
ことになる。但し、基板1のX方向の位置は、基板1毎
に若干異なっている。
【0054】次に、ハンド部25を上昇させ、図10
(d)に示すように、基板1をハンド部25の上面によ
り支持する。また、吸気孔37より吸気を行うことによ
り、基板1をハンド部25上に吸着保持する(ステップ
S25)。
【0055】続いて、図10(e)に示すように、ハン
ド部25を逆方向に移動させることにより、処理専用カ
セット10f内から退出させる。これに伴い、ハンド部
25に支持された基板1がカセット内から搬出される
(ステップS26)。
【0056】ハンド部25が図8において実線で示す位
置まで移動すれば、ハンド部25を停止させる。この状
態においては、図9において二点鎖線で示すように、基
板1の側縁が支持台23の回転テーブル33に付設され
たセンサ34と対向する位置に配置される。
【0057】この状態において、センサ34により基板
1の側縁の位置を測定する(ステップS27)。この測
定により、ハンド部25と当該ハンド部25に支持され
た基板1とのX方向の位置関係、すなわち、ハンド部2
5が基板1を支持した状態において、ハンド部25のX
方向の中心位置と基板1のX方向の中心位置とのずれ量
を測定することができる。
【0058】続いて、支持台23の回転テーブル33を
移動テーブル32に対して180°回転させる。そし
て、支持台23をX方向に移動させて、ハンド部25を
基板1を収納すべき搬送専用カセット10cと対向する
位置まで移動させる(ステップS28)。但し、このと
きの支持台23のX方向の移動量は、第1実施形態の場
合と同様、上述したハンド部25と当該ハンド部25に
支持された基板1とのX方向の位置関係を考慮したもの
とする。
【0059】そして、ハンド部25を搬送専用カセット
10c内に進入させた後、ハンド部25を下降させるこ
とにより、そこに保持した基板1を搬送専用カセット1
0c内に収納する(ステップS29)。
【0060】以上のように、第2実施形態に係る搬送機
構50においては、基板1の先端を当接ピン60により
押圧して一定の距離移動させることにより、基板1の角
度θとY方向の位置とを一定の位置として位置決めし、
さらに、処理専用カセット10fから搬出した基板1の
側縁のX方向の位置の測定結果に基づいて、搬送機構5
0による基板1のX方向への移動量を制御していること
から、処理専用カセット10fに収納された基板1がわ
ずかな位置ずれを生じていた場合であっても、その位置
ずれを補正して基板1を搬送専用カセット10cに搬送
することが可能となる。このとき、第1実施形態の場合
と同様、基板1の縁部の測定と測定結果に基づく移動量
の制御とは、X方向のみについて行えばよいことから、
その制御が複雑なものとなることはない。
【0061】また、基板1の端縁の位置を測定するため
のセンサ34を支持台23に付設しているため、複数の
位置に配置されたカセット10a、10b、10c、1
0d、10e、10fのうちいずれのカセットから基板
1を取り出す場合においても、単一のセンサ34により
基板1の端縁を測定することが可能となる。
【0062】上述した第1、第2実施形態においては、
当接ピン40、60として、カセット10内に収納され
た基板1のピッチPより小さい高さを有するものを使用
していることから、この当接ピン40、60を備えたハ
ンド部25を複数の基板1をピッチPで収納したカセッ
ト内に進入させることが可能となる。このとき、例えば
基板処理装置における処理槽の大きさを小さくする目的
等により、処理専用カセット10e、10fにおける基
板1の支持ピッチP1が搬送専用カセット10a、10
b、10c、10dにおける基板1の支持ピッチP2よ
り小さく設定されている場合等においては、当接ピン4
0、60の高さは、より小さい支持ピッチP1よりさら
に小さくする必要がある。
【0063】なお、上述した第1、第2実施形態におい
ては、当接部材として一対の当接ピン40、60を使用
した場合について説明したが、X方向に所定の大きさを
有し、基板1の先端または後端と当接する当接面を備え
た単一の当接部材を使用してもよい。
【0064】また、上述した第1、第2実施形態におい
ては、基板1を処理専用カセット10fから搬送専用カ
セット10cに搬送する場合について説明したが、この
発明は基板1をカセット間で搬送するものに限らず、基
板1をカセットから基板処理部等の他の基板搬送位置ま
で搬送する各種の基板搬送装置に適用することが可能で
ある。
【0065】
【発明の効果】請求項1または2に記載の発明によれ
ば、基板の後端を当接部材により押圧し、基板を当接部
材とストッパーとにより挟持することにより、基板の支
持部材の移動方向に対する位置決めを行い、さらに、基
板の側縁の位置の測定結果に基づいて、支持台の移動方
向への基板の移動量を制御していることから、カセット
に収納された基板が位置ずれを生じていた場合であって
も、その位置ずれを補正して基板を搬送することが可能
となる。
【0066】請求項3または4に記載の発明によれば、
基板の先端を当接部材により押圧して一定の距離移動さ
せることにより、基板の支持部材の移動方向に対する位
置決めを行い、さらに、基板の側縁の位置の測定結果に
基づいて、支持台の移動方向への基板の移動量を制御し
ていることから、カセットに収納された基板が位置ずれ
を生じていた場合であっても、その位置ずれを補正して
基板を搬送することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係る搬送機構20の斜視図であ
る。
【図2】第1実施形態に係る搬送機構20の平面図であ
る。
【図3】基板搬送装置の主要な電気的構成を示すブロッ
ク図である。
【図4】ハンド部25により基板1を搬送する状態を示
す平面図である。
【図5】基板1の搬送状態を段階的に示す側面概要図で
ある。
【図6】基板1の搬送動作を示すフローチャートであ
る。
【図7】第2実施形態に係る搬送機構50の斜視図であ
る。
【図8】第2実施形態に係る搬送機構50の平面図であ
る。
【図9】ハンド部25により基板1を搬送する状態を示
す平面図である。
【図10】基板1の搬送状態を段階的に示す側面概要図
である。
【図11】基板1の搬送動作を示すフローチャートであ
る。
【図12】カセット10の斜視図である。
【図13】カセット10の正面図である。
【図14】カセット間で基板を移し替える動作を模式的
に示す説明図である。
【符号の説明】
1 基板 10 カセット 15 ストッパー 20 搬送機構 23 支持台 24 多関節アーム 25 ハンド部 32 移動テーブル 33 回転テーブル 34 センサ 35 第1アーム 36 第2アーム 40 当接ピン 44 制御部 46 支持台制御部 47 ハンド制御部 50 搬送機構 60 当接ピン

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 往復移動可能な支持台上に支持され前記
    支持台の移動方向と交差する方向に往復移動可能な基板
    支持部材により、カセットに収納された角形の基板の下
    面を支持して当該カセット内から取り出し、基板搬送位
    置まで搬送する基板搬送方法において、 前記基板支持部材を、前記カセットに収納された基板の
    下面に対して当該基板支持部材の基端部に配設された当
    接部材の高さより小さい距離だけ離隔した高さ位置にお
    いて、前記カセット前面の開口部から前記基板の下面と
    平行に進入させ、前記当接部材で前記基板の後端を押圧
    することにより、当該基板の先端をカセットの開口部と
    逆側に配設されたストッパーに当接させて基板を位置決
    めする位置決め工程と、 前記基板支持部材を上昇させることにより、前記基板を
    当該基板支持部材により支持する支持工程と、 前記基板支持部材を前記カセットの開口部から退出させ
    ることにより、前記基板を前記カセット内から搬出する
    搬出工程と、 前記カセット内から搬出された基板の側縁の位置を前記
    支持台に配設されたセンサにより測定する測定工程と、 前記支持台を移動させることにより、前記基板支持部材
    に支持された基板を基板搬送位置まで移動させる移動工
    程とを備え、 前記測定工程における測定結果に基づいて前記支持台の
    移動量を制御することを特徴とする基板搬送方法。
  2. 【請求項2】 カセットに収納された角形の基板を基板
    搬送位置まで搬送する基板搬送装置であって、 往復移動可能な支持台と、 前記支持台に支持され、前記支持台の移動方向と交差す
    る方向に往復移動可能な基板支持部材と、 前記基板支持部材の基端部に配設された当接部材と、 前記基板支持部材を前記カセットに収納された基板の下
    面に対して前記当接部材の高さより小さい距離だけ離隔
    した高さ位置において前記カセット前面の開口部から前
    記基板の下面と平行に進入させ、前記当接部材で前記基
    板の後端を押圧することにより、当該基板の先端をカセ
    ットの開口部と逆側に配設されたストッパーに当接させ
    て基板を位置決めし、前記基板支持部材を上昇させるこ
    とにより、前記基板を当該基板支持部材により支持し、
    前記基板支持部材を前記カセットの開口部から退出させ
    ることにより、前記基板を前記カセット内から搬出する
    基板支持部材駆動手段と、 前記支持台に付設され、前記基板支持部材により前記カ
    セットから搬出された基板の側縁の位置を測定するセン
    サと、 前記センサの測定結果に基づき、前記支持台を移動させ
    る支持台駆動手段と、を備えたことを特徴とする基板搬
    送装置。
  3. 【請求項3】 往復移動可能な支持台上に支持され前記
    支持台の移動方向と交差する方向に往復移動可能な基板
    支持部材により、カセットに収納された角形の基板の下
    面を支持して当該カセット内から取り出し、基板搬送位
    置まで搬送する基板搬送方法において、 前記基板支持部材を、前記カセットに収納された基板の
    下面に対して当該基板支持部材の先端部に配設された当
    接部材の高さより大きい距離だけ離隔した高さ位置にお
    いて、前記カセット前面の開口部から前記基板の下面と
    平行に進入させる進入工程と、 前記基板支持部材を前記基板の下面と近接する位置まで
    上昇させる上昇行程と、 前記基板支持部材を前記カセットの開口部方向に移動さ
    せることにより、前記当接部材と前記基板の先端とを当
    接させて基板を位置決めする位置決め工程と、 前記基板支持部材を上昇させることにより、前記基板を
    当該基板支持部材により支持する支持工程と、 前記基板支持部材を前記カセットの開口部から退出させ
    ることにより、前記基板を前記カセット内から搬出する
    搬出工程と、 前記カセット内から搬出された基板の側縁の位置を前記
    支持台に配設されたセンサにより測定する測定工程と、 前記支持台を移動させることにより、前記基板支持部材
    に支持された基板を基板搬送位置まで移動させる移動工
    程とを備え、 前記測定工程における測定結果に基づいて前記支持台の
    移動量を制御することを特徴とする基板搬送方法。
  4. 【請求項4】 カセットに収納された角形の基板を基板
    搬送位置まで搬送する基板搬送装置であって、 往復移動可能な支持台と、 前記支持台に支持され、前記支持台の移動方向と交差す
    る方向に往復移動可能な基板支持部材と、 前記基板支持部材の先端部に配設された当接部材と、 前記基板支持部材を前記カセットに収納された基板の下
    面に対して前記当接部材の高さより大きい距離だけ離隔
    した高さ位置において前記カセット前面の開口部から前
    記基板の下面と平行に進入させ、前記基板支持部材を前
    記基板の下面と近接する位置まで上昇させ、前記基板支
    持部材を前記カセットの開口部方向に移動させることに
    より前記当接部材と前記基板の先端とを当接させて基板
    を位置決めし、前記基板支持部材を上昇させることによ
    り、前記基板を当該基板支持部材により支持し、前記基
    板支持部材を前記カセットの開口部から退出させること
    により、前記基板を前記カセット内から搬出する基板支
    持部材駆動手段と、 前記支持台に付設され、前記基板支持部材により前記カ
    セットから搬出された基板の側縁の位置を測定するセン
    サと、 前記センサの測定結果に基づき、前記支持台を移動させ
    る支持台駆動手段と、を備えたことを特徴とする基板搬
    送装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000053246A (ja) * 1998-08-11 2000-02-22 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd ガラス基板の支持構造およびガラス基板搬送用ハンド
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