KR930017173A - 디램 셀 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 디램셀 제조공정에 있어 디파인 능력과 반복능력을 향상시켜 커패시터 면적을 증대시키고 공정을 단순화하기 위한 것으로써 그 공정도 다음과 같다.
기판위에 필드영역과 액티브영역을 정의하는 공정과, 워드라인 및 소오스/드레인영역을 형성하는 공정과, 상기 워드라인을 절연시키고 콘택을 형성하여 스토리지 노드용 필름을 증착하는 공정과, 상기 스토리지 노드용 필름에 소정의 깊이로 홀을 형성하고 디파인하는 공정과, 그위에 유전체막과 플레이트 노드를 형성하는 공정을 이루어진다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 디램셀 구조단면도, 제3도는 본 발명의 공정단면도, 제4도는 전자빔의 도트 데이타 설명도, 제5도는 본발명에 따른 전자빔 공정의 설명도.
Claims (2)
- 기판위에 필드영역과 액티브영역을 정의하는 공정과, 워드라인 및 소오스/드레인영역을 형성하는 공정과, 상기 워드라인을 절연시키고 콘택을 형성하여 스토리지 노드용 필름을 증착하는 공정과, 상기 스토리지 노드용 필름에 소정의 깊이로 홀을 형성하고 디파인하는 공정과, 그 위에 유전체막과 플레이트 노드를 형성하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 디램셀 제조방법.
- 제1항에 있어서, 홀은 전자빔을 이용하여 형성함을 특징으로 하는 디램셀 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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- 1992-01-11 KR KR1019920000295A patent/KR100223796B1/ko not_active IP Right Cessation
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KR100223796B1 (ko) | 1999-10-15 |
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