KR940003046A - 디램셀의 구조 - Google Patents

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KR940003046A
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권호엽
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문정환
금성일렉트론 주식회사
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Abstract

본 발명은 디램셀에 관한 것으로 종래의 디램셀에서, 비트라인형성시 워드라인과 쇼트될가능성이 있고 워드라인의 스캐링 한계가 있으며 소자의 면적을 최소화하는데 한계가 있는 등의 문제점을 개선하기 위한 것이다.
이와같은 본 발명은 액티브 영역을 뒤집힌 T자형(┴)으로 형성하여 볼록한 부분끝에 제1불순물영역을 형성하고 양측가지에 제2불순물영역을 형성하고, 볼록한 부분양측에 워드라인을 형성하고, 제1불순물영역에 콘택되어 비트라인이 형성될 디램 셀 구조이다.
따라서 트랜지스터가 수직방향으로 동작되기 때문에 면적을 줄일 수 있고, 비트라인과 워드라인이 쇼트될 가능성이 전혀 없으며, 단차를 줄일 수 있는등의 효과가 있다.

Description

디램셀의 구조
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 디램셀 공정사시도.

Claims (1)

  1. 액티브영역이 뒤집힌 T자형(┴)으로 형성되는 기판과, 볼록한 부분의 끝에 기판과 반대도전형 이온주입으로 형성되는 제1불순물영역과, 양쪽가지부분의 기판표면에 기판과 반대도전형 이온주입으로 형성되는 제2불순물영역과, 볼록한 부분양측에 절연막으로 기판과 격리되어 형성되는 워드라인과, 절연막으로 격리되어 제1불순물영역에 콘택되어 워드라인과 직각방향으로 형성되는 비트라인과, 절연막으로 격리되어 제2불순물영역에 콘택되어 형성되는 커패시터 노드를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 디램셀의 구조.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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