KR930001008A - 포지티브 포토레지스트용 감광성 수지 조성물 - Google Patents

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KR930001008A
KR930001008A KR1019910010106A KR910010106A KR930001008A KR 930001008 A KR930001008 A KR 930001008A KR 1019910010106 A KR1019910010106 A KR 1019910010106A KR 910010106 A KR910010106 A KR 910010106A KR 930001008 A KR930001008 A KR 930001008A
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photoresist
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김광태
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서주인
제일합섬 주식회사
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/22—Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface

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Abstract

내용없음

Description

포지티브 포토레지스트용 감광성 수지 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (5)

  1. 포토레지스트용 감광성 수지 조성물에 있어서, 광활성물질로서 구조식(Ⅰ)의 퀴논 디아지드계 화합물을 조성물 전체 고형분에 대하여 10~50% 함유하고
    여기서 D는 H또는 벤조퀴논 -1,2 디아지드-4-설포닐기, 나프토퀴논-1,2-디아지드-4-설포닐기, 나프토퀴논-1,2-디아지드-5-설포닐기, 나프토퀴논2,1-디아지드-4-설포닐기, 나프토퀴논 2,1-디아지드-5-설포닐기 중에서 한 가지를 나타내며 D1~C3중 1개 이상은 H가 퀴논디아지드 설포닐기로 치환된다. 바인더 레진으로 구조식(Ⅱ)의 크레졸 노볼락레진과 구조식(Ⅲ)의 폴리하이드록시 스틸렌의 혼합물이 함유되며, 구조식(Ⅳ)의 첨가제 0~10%의 공지의 혼합용제를 혼합함을 특징으로 하는 포토레지스트 감광성 수지 조성물.
    (상기 식에서, R은 메틸기로서 메타, 파라 위치 중 한 곳에 위치함)
    여기서 R1은 수소원자, R2는 C1~C4의 알킬리 혹은 알콕시기이다.
  2. 제1항에 있어서, 크레졸 노블락레진은 메타크레졸이 50~100%이고, 파라크레졸이 50~0% 로 공중합된 무게 평균 중량이 1,000~40,000인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트용 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 폴리하디드록시 스틸렌은 무게 평균 분자량이 5,000~20,000인것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트용 감광성 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 바인더레진 중 구조식(Ⅱ)의 노블락레진은 50~100%, 구조식(Ⅲ)의 폴리하이드록시 스틸렌은 50~0% 함유함을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트용 감광성 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 포토레지스트용 감광성 성물 중 바인더레진이 전체 고형분에 대하여 20~90% 함유함을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트용 감광성 수지 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019910010106A 1991-06-18 1991-06-18 포지티브 포토레지스트용 감광성 수지 조성물 KR940011202B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100446683B1 (ko) * 2001-12-21 2004-09-01 주식회사 포스코 가열로의 공급가스 열량 변동에 따른 공연비 제어방법

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