KR920703007A - 세정제 조성물 - Google Patents

세정제 조성물

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Abstract

내용 없음

Description

세정제 조성물
[도면의 간단한 설명]
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (37)

  1. 히노키티올 또는 그 염을 함유함을 특징으로 하는 화장제 및 세정제용 저자극성 보존제.
  2. 하기 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 및 그 염 및 하기 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제로 구성된 군에서 선택된 적어도 1종의 계면활성제 및 방부제로 히노키티올 또는 그 염을 함유함을 특징으로 하는 세정제
    [상기 식중, R1은 탄소수 40 이하의 포화 또는 불포화 탄화수소기이고; R2은 저급 알킬기이며; A은 저급 알킬렌기이고; R3은 탄소수 40 이하의 포화 또는 불포화 탄화수소기이며; R4및 R5은 각각 저급 알킬기이고; B은 저급 알킬렌기이다.]
  3. 제2항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제에서 선택된 적어도 1종의 계면활성제 외에, (1) 하기 일반식(III)의 화합물 및 (2) 미라놀(Miranol) C2M Conc., 미라놀 C2M Conc. NP, 미라놀 2MCA 변형체 및 미나놀 HMS Conc. 중에서 선택된 이미다졸리늄 베타인형 양쪽성 계면활성제를 함유하는 세정제 조성물.
    [상기식중, R6은 탄소수 40이하의 포화 또는 불포화 탄화수소기이고; R7은 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속, 마그네슘 등의 알칼리 토금속 또는 구리, 아연 등의 금속 이온이다.]
  4. 제3항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 1:20∼20:1의 중량비로 함유하며, 이미다졸리놀 베타인형 양쪽성 계면활성제가 일반식(I)의 음이온성 계면활성제의 10∼200중량%이고, 계면활성제 3∼40중량% 및 히노키티올 또는 그 염 0.001중량%이상을 함유하는 세정제 조성물.
  5. 제4항에 있어서, R1및 R3가 각각 탄소수 5∼19의 탄화수소기이며, 계면활성제 5-30중량% 및 히노키티올 또는 그 염 0.001~1.0중량%를 함유하는 세정제 조성물.
  6. 제5항에 있어서, R1및 R3가 각각 탄소수 7∼13의 탄화수소기인 세정제 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 미라놀 C2M Conc. NP, 미라놀 2MCA 변형체 및 미라놀 HMS Conc. 중에서 선택된 이미다졸리늄 베타인형 양쪽성 계면활성제를 함유하며, A가 에틸렌이고, B가 트리메틸렌인 세정제 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(III)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼2:3로 함유하며, pH값이 6.4∼7.5인 세정제 조성물.
  9. 제8항에 있어서, R1및 R3가 탄소수 9∼13의 포화 탄화수소기인 세정제 조성물.
  10. 제9항에 있어서, R1가 운데실 또는 트리데실이고, R3가 코코알킬, 운데실 또는 트리데실인 세정제 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼3:2로 함유하는 세정제 조성물.
  12. 제10항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 3:2∼2:3로 함유하는 세정제 조성물.
  13. 제2항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염이 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제와 병용되는 세정제 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 1:20∼20:1로 함유하는 세정제 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 계면활성제 3∼40중량% 및 히노키티올 또는 그 염 0.001 중량% 이상을 함유하는 세정제 조성물.
  16. 제15항에 있어서, 계면활성제 5∼30중량% 및 히노키티올 또는 그 염 0.001-1.0중량%를 함유하는 세정제 조성물.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서, R1및 R3가 각각 탄소수 5∼19의 탄화수소기인 세정제 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼1:3로 함유하는 세정제 조성물.
  19. 제18항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼2:3로 함유하는 세정제 조성물.
  20. 제15항 또는 제16항에 있어서, R1및 R3가 각각 탄소수 7∼13의 탄화수소기인 세정제 조성물.
  21. 제20항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼1:3로 함유하는 세정제 조성물.
  22. 제21항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼2:3로 함유하는 세정제 조성물.
  23. 제17항에 있어서, R2,R4및 R5가 각각 메틸이고. A가 메틸렌 또는 에틸렌이며, B가 에틸렌 또는 트리메틸렌인 세정제 조성물.
  24. 제23항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼1:3로 함유하는 세정제 조성물.
  25. 제24항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼2:3로 함유하는 세정제 조성물.
  26. 제20항에 있어서, A가 에틸렌이고, B가 트리메틸렌인 세정제 조성물.
  27. 제20항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼1:3로 함유하며, PH값이 6.0∼8.0인 세정제 조성물.
  28. 제27항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼2:3로 함유하며, pH값이 6.4∼7.5인 세정제 조성물.
  29. 제28항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는 그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중랑비 4:1∼3:2로 함유하는 세정제 조성물.
  30. 제28항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 3:2∼2:3로 함유하는 세정제 조성물.
  31. 제27항에 있어서, R1및 R3가 각각 탄소수 9∼13의 탄화수소기인 세정제 조성물.
  32. 제27항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼2:3로 함유하며, pH값이 6.4∼7.5인 세정제 조성물.
  33. 제32항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 4:1∼3:2로 함유하는 세정제 조성물.
  34. 제32항에 있어서, 일반식(I)의 음이온성 계면활성제 또는그 염 및 일반식(II)의 양쪽성 계면활성제를 중량비 3:2∼2:3로 함유하는 세정제 조성물.
  35. 제32항에 있어서, R1가 운데실 또는 트리데실이고, R3가 코코알킬, 운데실 또는 트리데실인 세정제 조성물.
  36. 제33항에 있어서, R1가 운데실 또는 트리데실이고, R3가 코코알킬, 운데실 또는 트리데실인 세정제 조성물.
  37. 제34항에 있어서, R1가 운데실 또는 트리데실이고, R3가 코코알킬, 운데실 또는 트리데실인 세정제 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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