JPS6293250A - β−ツヤプリシン（ヒノキチオ−ル）の製造法 - Google Patents
β−ツヤプリシン（ヒノキチオ−ル）の製造法Info
- Publication number
- JPS6293250A JPS6293250A JP23188785A JP23188785A JPS6293250A JP S6293250 A JPS6293250 A JP S6293250A JP 23188785 A JP23188785 A JP 23188785A JP 23188785 A JP23188785 A JP 23188785A JP S6293250 A JPS6293250 A JP S6293250A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- cyclohexane
- obtaining
- methylethynyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
産業上の利用分野
本発明は、抗菌・抗カビ作用と、細胞賦活作用を有する
ことから発毛・育毛剤、歯Ｊ！膿漏の治療薬、歯磨、基
礎化粧品に配合諮れるβ−ツヤプリジン（ヒノキチオー
ル）の製造方法に関するものである。 またこのヒノキチオールは、メラニン色素生成阻害作用
から美白化粧品の成分としても注目されている。さらに
また衣類の防虫剤、材木のシロアリ防除剤としても応用
きれている。 従 来 技 術 ヒノキチオールは、当初タイワンヒノキ等の心材精油か
ら抽出していた。しかしながら、近年その需要の増大に
伴い安価な合成法が望まれていた。 そこで、１−イソプロピルシクロペンタ−１，３−；エ
ンとブハロケテンとを付加反応させ、１−イソプロピル
シクロペンタ−１，３−ジエンジハロケテン付加体を合
成し、得られたジハロケテン付加体を低級カルボン酸（
炭素数１〜３）とそのアルカリ金属塩を用いてβ−ツヤ
プリジンを製造することを特徴とするβ−ツヤプリジン
の製造方法が発明諮れている（特公昭５ｌ−３３９０１
）。 発明が解決しようとする問題点 しかしながらこの方法は原料と成る、１−イソプロピル
シクロペンター１．３−ジエンをシクロペンタレニンか
ら合成する工程が必ずしも容易ではないといった不都合
があった。 そこで本発明は、原料と成る物質が容易に入手出来、且
つ合成反応が簡単なβ−ツヤプリジンの製造方法を提供
することにある。 問題を解決するための手段 すなわち本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑み合成反
応が７Ｅｌな方法を錘意検討した結果カルボン（ｃａｒ
ｖｏｎｅ ）を過酸化水素で酸化して得られる２、３−
エポキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シ
クロヘキサノンを用いた合成方法で、以下に示す工程よ
りなる。 ■〉クロヘキサンのエポキシ化合物をアセタール化する
ことにより、シクロヘキサンのアセタール化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのアセタール化合物を加水分解するこ
とにより、シクロヘキサンのジヒドロキン化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのジヒドロキシ化合物を酸化開裂する
ことによりケトアルデヒドのジアルコキシ化合物を得る
工程。 ■ケトアルデヒドのジアルコキシ化合物をアルドール縮
合することによりシクロヘプタノンのヒドロキシ化合物
を得る工程。 ■シクロヘプタノンのヒドロキシ化合物ヲエステル化す
ることによりシクロヘプタノンのエステル化合物を得る
工程。 ■シクロヘプタノンのエステル化合物から酸を除去しシ
クロへブテノン化合物を得る工程。 ■シクロへブテノン化合物を加水分解することによりβ
−ツヤプリジン（ヒノキチオール）を得る工程。 とからなるβ−ツヤプリジンの製造方法である。 またもうひとつのものは、 ■シクロヘキサンのエポキシ化合物をアセタール化する
ことにより、シクロヘキサンのアセタール化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのアセタール化合物を加水分解するこ
とにより、シクロヘキサンのジヒドロキシ化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのジヒドロキシ化合物を酸化開裂する
ことによりケトアルデヒドのジアルコキシ化合物を得る
工程。 ■ケトアルデヒドのジアルコキシ化合物をアルドール縮
合することによりシクロヘプタノンのにドロキシ化合物
を得る工程。 ■／シクロヘプタノンヒドロキシ化合物を脱水すること
によりシクロへブテノン化合物を得る工程。 ■ンクロヘブ千ノン化合物を加水分解することによりβ
−ツヤプリジン（ヒノキチオール）を得る工程。 とからなるβ−ツヤプリジンの製造方法である。 具体的には、本発明ではカルボン（ｃａｒｖｏｎ ＠）
（Ｉ）を過酸化水素で酸化して得られる２、３−エポキ
シ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シクロヘ
キサノン（ＩＩ）のカルボニル基をアセタール化し、１
゜１−、＞アルコキシ−２，３−エポキシ−２−メチル
−５−（１−メチルエチニル）シクロヘキサン（Ｉ［Ｉ
＞を得る。ここで使用するアルコールは、アセタールを
生成するものであればその種類は問わないが、Ｌ２−エ
タン７オール、１．３−プロパンジオール、２．２−ジ
メチル−１，３−プロパンジオールが適当である。 次に１．１−ジアルコキシ−２，３−エポキシ−２−メ
チル−５−＜１−メチルエチニル）シクロヘキサン（Ｉ
ＩＩ）ヲ加水分解し、１．１−シアルフキシー２，３−
ジヒドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル
）シクロヘキサン（ＩＶ）を得る。 次に１．１−ジアルコキシ−２，３−ジヒドロキジー２
−メチル−５−（１−メチルエチニル〉シクロヘキサン
（ＩＶ）を酸化的に開裂し、５．５−ジアルコキシ−３
−（１−メチルエチニル）−６−オキツヘブタナール（
Ｖ）を得る。 酸化剤としては、公知のものを広く使用出来、例えばメ
タ過ヨウ素酸ナトリウム、四酢酸鉛が挙げられる。 次に５．５−’、’アルコキシー３−（１〜メチルエチ
ニル）−６−オキツヘブタナール（Ｖ）のアルドール縮
合によって２．２−ジアルコキシ−６−ヒドロキシ−４
−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン（ＶＩ）、
７．７−ジアルコキシ−５−（１−メチルエチニル）−
２−シクロへブテノンく■）、３．３−’ジアルコキシ
−２−ヒドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチ
ニル）シクロベンクンカルバルデヒド（ＩＸ）および３
．３−ジアルコキシ−２−メチルー５−（１−メチルエ
チニル〉−１−シクロペンテンカルバルデヒド（Ｘ）を
得る。 従来この種の化合物のアルドール縮合では、主生成物と
して五員環化合物が生じることが報告されているが、本
発明においては、アルドール縮合を行なう際の触媒の種
類・量及び溶媒の種類・量を種々検討し、七員環化合物
（■〉（■）および五員環化合物（ＩＸ ）（Ｘ ）の
生成比をコントロールすることに成功した。 ２．２−ジアルフキン−６−ヒドロキジ−４−（１−メ
チルエチニル）シクロヘプタノン（Ｖｌ）及び７．７−
シアルフキシー５−（１−メチルエチニル）−２−シク
ロへブテノン（■〉はともにβ−ツヤプリジン（ヒノキ
チオール）へ導くことができる。 また３、３−シアルフキシー２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−５−（１−メチルエチニル）シクロペンタンカルバ
ルデヒド（ＩＸ）、３．３−ジアルコキシ−２−メチル
−５−（１−メチルエチニル）−１−シクロペンテンカ
ルバルデヒド（Ｘ）は、他の天然有機化合物の合成中間
体として利用することが可能である。そのひとつの例と
してダラム陽性菌・陰性菌に抗菌活性をもつ抗生物質と
して知られるメチレノマイシンが挙げられる。メチレノ
マイシンの構造式は次にかかげる。 ２．２−シアルフキシー６−ヒドロキシ−４−（１−メ
チルエチニル）シクロヘプタノン（ＶＩ）をエステル化
シ得られたエステル（■）を塩基で処理して７．７−ジ
アルコキシ−５−（Ｌ−メチルエチニル）−２−シクロ
へブテノン（■）へ導く、このエステル化は酸無水物ま
たは酸塩化物を用いる通常の方法で行なえる。 またエステル（■〉と反応させる塩基としては、広く公
知のものを使用出来るが、特にトリエデルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、１．８−ジアサヒシクロ［５
，４，０］ウンデス−７−エンなどの３級アミンが使用
される。 次に７．７−ジアルフキシー５−（１−メチルエチニル
）−２−シクロへブテノン（■）を酸で処理すると、α
−ジケトンを経てさらに１−メチルエチニル基の二重結
合が七員環内に異性化し、β−ツヤプリジン（ヒノキチ
オール）を得る。ここで用いる酸の種類は問わないが、
塩酸、硫酸、リン酸などが用いられる。 本発明では、（ｒ）から（■）の各化合物を必ずしも順
次繰る必要はなく、より短い工程でβ−ツヤブリ／ンを
製造することも出来る。すなわち先に述べたように、５
．５−シアルフキシー３−（Ｌ−メチルエチニル）−６
−オキツヘブタナール（ｖ）のアルドール縮合と脱水反
応とを同時に起こし、１段階で（■）に導くことが可能
である。また（ＶＩ）から〈■）を単離することなしに
１段階で（■〉を得ることも出来る。 尚本発明のアルコキシ基は、アルキル基又はアルキレン
基のものを指す。 実 施 例 以下に本発明を実施例に従って詳細に説明する。 実施例−１ 「カルボン（１）からβ−ツヤプリジンの合成」（イ）
２−カルボン（１−ｃａｒｖｏｎａ）（１）１０．
５１０ｇを８７ｍ１のメタノールに溶かし、かきまぜな
がら３０％過酸化水素水１２．３ｍｌを加え氷冷した後
、６規定の水酸化ナトリウム水溶液５．８ｍｌをゆっく
り滴下した。滴下終了後さらに３時間かきまぜた後、反
応液を水で希釈しノクロロメタンで抽出し、有機層を１
０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順
次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留
去して、粗２．３−エポキシー２−メ１ルー５−（１−
メチルエチニル）シクロヘキサノン＜ｆｆ）を得た。 （ロ） 次にこの粗２，３−エポキシー２−メチル−５
〜（１−メチルエチニル）シクロヘキサノン（ＩＩ）の
全量を無水ベンゼンＬＯＯｍｌに溶かし、エチレングリ
フール３．９ｍｌ 、 ｐ−トルエンスルホン酸６６ｍ
ｇを加え、Ｄｅａｎ−５ｔａｒｋ トラップを用い、生
じる水を留去しながら、窒素気流下４時間加熱還流した
。冷却後エーテルで希釈し飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を減圧留去し、粗１．１−二チレンジオ
キシ−２，３−エポキシ−２−メチル−５−（１−メチ
ルエチニル）シクロヘキサン（ｉ＞を得た。 （ハ）次にこの粗１，１−エチレンジオキシ−２，３−
エポキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シ
クロヘキサン（ｊ）の全量を２６０ｍ１のりメチルスル
ホキシドに溶かし、１５％水酸化カリウム水溶液１５０
ｍ１を加え、１１０℃に加熱し２日間かきまぜた。反応
終ｒ後、反応液を氷水中に注ぎ、ヘキサン・ジエチルエ
ーテル混液（２：１）可溶部を除去し、水層をジクロロ
メタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し粗１．
１−エチレンジオキシ−２，３−／ヒドロキシー２−メ
チルー５−（１−メチルエチニル）・シクロヘキサン（
ｉｖ＞を得た。さらにシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、無色結晶の１．１−エチレンジオキ
シ−２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−５−（１−メ
チルエチニル）シクロヘキサン（〜）８．８５ｇを得た
。！−カルボン（１−ｃａｒｖｏｎｅ）（Ｉ ）から３
段階で５５．４％の収率である。 （ニ） 次に１．１−エチレンジオキシ−２，３−ジヒ
ドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シ
クロヘキサン〈〜）２３２ｍｇのテトラヒドロフラン溶
液にメタ過ヨウ素酸ナトリウム４３５ｍｇの水溶液を加
え、室温で１時間かきまぜた。生じる沈殿を濾別し、濾
液を水で希釈後ジクロロメタンで抽出し、有機層を水、
飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を加温することなく減圧留去し粗５．５−エチレ
ンジオキシ−３−（１−メチルエチニル）−６−オキツ
ヘブタナール（１）を得た。 （ホ） 次にこの粗５．５−エチレンジオキシ−３−（
１−メチルエチニル）−６−オキツヘブタナール（Ｖ）
の全量を５４ｍｇのナトリウムメトキシドを含む５０ｍ
１の無水メタノールに溶かし、窒素気流下０〜４℃に保
ち２日間かきまぜた。 反応終了後水で希釈し、希塩酸を加え酸性としジクロロ
メタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗い
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、
粗２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−４−（
Ｌ−メチルエチニル）シクロヘプタノン（−）を得た。 さらにノリ力ゲル薄層グロマトグラフィーによって２．
２−エチレンブ才キジ−６−ヒドロキシ−４−（１−メ
チルエチニル）シクロヘプタノン（ｖｉ ）１２６ｍｇ
ヲ！１１１１ｉした。１．１−エチレンジオキシ−２
，３−ジヒドロキノー２−メチル−５−（１−メチルエ
チニル）シクロヘキサン（１ｖ）より２段階で５８％の
収率である。 （へ） 次に２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキ
シ−４−（１−メチルエチニル〉シクロヘプタノン（■
） ８２３ｍｇをピリジン４ｍｌに溶かし、窒素気流下
かきまぜながら無水酢酸２ｍｌを加え、室温で１２時間
かきまぜた。反応終了後、反応液を０℃に冷却し、メタ
ノール２．５ｍｌを加え室温で２０分間かきまぜた後、
塩化ｉチレンで希釈し、氷冷しながら希塩酸。 水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去して粗６−アセトキシー２．２−
エチレンジオキン−４−（１−メチルエチニル）シクロ
ヘプタノン〈ｖｉ）を得た。 （ト）次にこの粗６−アセトキシー２．２−エチレンジ
オキシ−４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン
く■）の全量をトリエチルアミン２０ｍ１に溶かし、窒
素気流下１７時間加熱還流した。 反応終了後反応液を水で希釈し希塩酸を加えて酸性とし
ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で
順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
留去して粗７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メチ
ルエチニル〉−２−シクロへブテノンを得た。シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより７，７−ニチレンジ
オキシー５−（１−メチルエチニル）−２−シクロへブ
テノンを５６３ｍｇ単離精製した。 ２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−５−（１
−メチルエチニル）シクロへブタノン（ｖｉ）より２段
階で７４％の収率である。 （チ） 次に７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メ
チルエチニル）−２−シクロへブテノン（ｉ ）４３６
ｍｇをジオキナン６２ｍ１に溶かし、かきまぜながら塩
酸６．２ｍｌを加え１００〜１１０℃に加熱し２９時間
かきまぜた。 反応液を冷却後水で希釈し、酢酸エチルで抽出し有機層
を１０％水酸化ナトリウム水溶液で抽出した。抽出した
水層を氷冷しながら希塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽
出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗い無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し粗β−ツヤ
プリジン（ヒノキチオール） ２６３ｍｇを得た。 及１五ニュ 「７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メチルエチニ
ル）−２−シクロへブテノン（Ａ）の合成。 （イ）１．１−エチレンジオキシ−２，３−ジヒドロキ
シ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シクロヘ
キサン（ｉｖ ）５００ｍｇを１０ｍ１の無水ベンゼン
に溶かし、９０％四酢酸鉛１１８８ｍｇを加え室温で３
０分間かきまぜた。 反応液をアルミ士ショートカラムに通し、溶媒を加熱す
ることなく減圧留去し、粗５．５−エチレンジオキシ−
３−（１−メチルエチニル）−６−オキツヘブタナール
（Ｖ）を得た。 （ロ） 次にこの粗５．５−エチレンジオキシ−３−（
１−メチルエチニル）−６−オキツヘプタナール（Ｖ）
の全量を少量のメタノールに溶かし、約−１０℃に冷却
した１％水酸化カリウム、メタノール−水（２： １）
溶液中に滴下し、かきまぜながら約９０分間で０℃ｆ寸
近まで徐々に温度を上昇許せた後、希塩酸を加え酸性と
して、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水
で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去
して、粗２，２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−
４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン（ｖｉ）
を得た。 （ハ） 次にこの粗２．２−エチレンジオキシ−６−ヒ
ドロキシ−４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノ
ン（■）の全量を４ｍｌのピリジンに溶かし、かきまぜ
ながら塩化ｐ−）ルエンスルホニル６８２ｍｇヲ加、ｔ
、室温で１２時間かきまぜた。反応終了後、反応液をジ
クロロメタンで希釈し、氷冷しながら希塩酸で数回洗い
、さらに飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下溶媒を留去し、粗ｒトルエンスルホン酸エ
ステル（ｖｉ’）ヲ得た。 （ニ）次にこの粗ｐ−トルエンスルホン酸エステルの全
量を無水ジクロロメタン４ｍｌに溶かし、トリエチルア
ミン１ｍｌを加え室温で５時間かきまぜた。 反応終了後、減圧下溶媒を留去し、シリカゲル薄層クロ
マトグラフィーによって、７．７−ニチレンジオキシー
５−（ｌ−メチルエチニル）−２−シクロへブテノン（
た） １５２ｍｇを単離した。 １．１−エチレンジオキシ−２，３−ジヒドロキシ−２
−メチル−５−（１−メチルエチニル）シクロヘキサン
（ｉｖ）より４段階で３３％の収率である。 及１ヱニ」 ｒ７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メチルエチニ
ル）−２−シクロへブテノン（Ａ）の合成」 （イ） 塩化ｐ−ｔ−ルエンスルホニル５１ｍｇトド
’）エチルアミン０．１８ｍ１の混合物を０℃に保ち、
これニ２゜２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−４
−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン（■）３０
ｍｇの無水ジク
ことから発毛・育毛剤、歯Ｊ！膿漏の治療薬、歯磨、基
礎化粧品に配合諮れるβ−ツヤプリジン（ヒノキチオー
ル）の製造方法に関するものである。 またこのヒノキチオールは、メラニン色素生成阻害作用
から美白化粧品の成分としても注目されている。さらに
また衣類の防虫剤、材木のシロアリ防除剤としても応用
きれている。 従 来 技 術 ヒノキチオールは、当初タイワンヒノキ等の心材精油か
ら抽出していた。しかしながら、近年その需要の増大に
伴い安価な合成法が望まれていた。 そこで、１−イソプロピルシクロペンタ−１，３−；エ
ンとブハロケテンとを付加反応させ、１−イソプロピル
シクロペンタ−１，３−ジエンジハロケテン付加体を合
成し、得られたジハロケテン付加体を低級カルボン酸（
炭素数１〜３）とそのアルカリ金属塩を用いてβ−ツヤ
プリジンを製造することを特徴とするβ−ツヤプリジン
の製造方法が発明諮れている（特公昭５ｌ−３３９０１
）。 発明が解決しようとする問題点 しかしながらこの方法は原料と成る、１−イソプロピル
シクロペンター１．３−ジエンをシクロペンタレニンか
ら合成する工程が必ずしも容易ではないといった不都合
があった。 そこで本発明は、原料と成る物質が容易に入手出来、且
つ合成反応が簡単なβ−ツヤプリジンの製造方法を提供
することにある。 問題を解決するための手段 すなわち本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑み合成反
応が７Ｅｌな方法を錘意検討した結果カルボン（ｃａｒ
ｖｏｎｅ ）を過酸化水素で酸化して得られる２、３−
エポキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シ
クロヘキサノンを用いた合成方法で、以下に示す工程よ
りなる。 ■〉クロヘキサンのエポキシ化合物をアセタール化する
ことにより、シクロヘキサンのアセタール化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのアセタール化合物を加水分解するこ
とにより、シクロヘキサンのジヒドロキン化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのジヒドロキシ化合物を酸化開裂する
ことによりケトアルデヒドのジアルコキシ化合物を得る
工程。 ■ケトアルデヒドのジアルコキシ化合物をアルドール縮
合することによりシクロヘプタノンのヒドロキシ化合物
を得る工程。 ■シクロヘプタノンのヒドロキシ化合物ヲエステル化す
ることによりシクロヘプタノンのエステル化合物を得る
工程。 ■シクロヘプタノンのエステル化合物から酸を除去しシ
クロへブテノン化合物を得る工程。 ■シクロへブテノン化合物を加水分解することによりβ
−ツヤプリジン（ヒノキチオール）を得る工程。 とからなるβ−ツヤプリジンの製造方法である。 またもうひとつのものは、 ■シクロヘキサンのエポキシ化合物をアセタール化する
ことにより、シクロヘキサンのアセタール化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのアセタール化合物を加水分解するこ
とにより、シクロヘキサンのジヒドロキシ化合物を得る
工程。 ■シクロヘキサンのジヒドロキシ化合物を酸化開裂する
ことによりケトアルデヒドのジアルコキシ化合物を得る
工程。 ■ケトアルデヒドのジアルコキシ化合物をアルドール縮
合することによりシクロヘプタノンのにドロキシ化合物
を得る工程。 ■／シクロヘプタノンヒドロキシ化合物を脱水すること
によりシクロへブテノン化合物を得る工程。 ■ンクロヘブ千ノン化合物を加水分解することによりβ
−ツヤプリジン（ヒノキチオール）を得る工程。 とからなるβ−ツヤプリジンの製造方法である。 具体的には、本発明ではカルボン（ｃａｒｖｏｎ ＠）
（Ｉ）を過酸化水素で酸化して得られる２、３−エポキ
シ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シクロヘ
キサノン（ＩＩ）のカルボニル基をアセタール化し、１
゜１−、＞アルコキシ−２，３−エポキシ−２−メチル
−５−（１−メチルエチニル）シクロヘキサン（Ｉ［Ｉ
＞を得る。ここで使用するアルコールは、アセタールを
生成するものであればその種類は問わないが、Ｌ２−エ
タン７オール、１．３−プロパンジオール、２．２−ジ
メチル−１，３−プロパンジオールが適当である。 次に１．１−ジアルコキシ−２，３−エポキシ−２−メ
チル−５−＜１−メチルエチニル）シクロヘキサン（Ｉ
ＩＩ）ヲ加水分解し、１．１−シアルフキシー２，３−
ジヒドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル
）シクロヘキサン（ＩＶ）を得る。 次に１．１−ジアルコキシ−２，３−ジヒドロキジー２
−メチル−５−（１−メチルエチニル〉シクロヘキサン
（ＩＶ）を酸化的に開裂し、５．５−ジアルコキシ−３
−（１−メチルエチニル）−６−オキツヘブタナール（
Ｖ）を得る。 酸化剤としては、公知のものを広く使用出来、例えばメ
タ過ヨウ素酸ナトリウム、四酢酸鉛が挙げられる。 次に５．５−’、’アルコキシー３−（１〜メチルエチ
ニル）−６−オキツヘブタナール（Ｖ）のアルドール縮
合によって２．２−ジアルコキシ−６−ヒドロキシ−４
−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン（ＶＩ）、
７．７−ジアルコキシ−５−（１−メチルエチニル）−
２−シクロへブテノンく■）、３．３−’ジアルコキシ
−２−ヒドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチ
ニル）シクロベンクンカルバルデヒド（ＩＸ）および３
．３−ジアルコキシ−２−メチルー５−（１−メチルエ
チニル〉−１−シクロペンテンカルバルデヒド（Ｘ）を
得る。 従来この種の化合物のアルドール縮合では、主生成物と
して五員環化合物が生じることが報告されているが、本
発明においては、アルドール縮合を行なう際の触媒の種
類・量及び溶媒の種類・量を種々検討し、七員環化合物
（■〉（■）および五員環化合物（ＩＸ ）（Ｘ ）の
生成比をコントロールすることに成功した。 ２．２−ジアルフキン−６−ヒドロキジ−４−（１−メ
チルエチニル）シクロヘプタノン（Ｖｌ）及び７．７−
シアルフキシー５−（１−メチルエチニル）−２−シク
ロへブテノン（■〉はともにβ−ツヤプリジン（ヒノキ
チオール）へ導くことができる。 また３、３−シアルフキシー２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−５−（１−メチルエチニル）シクロペンタンカルバ
ルデヒド（ＩＸ）、３．３−ジアルコキシ−２−メチル
−５−（１−メチルエチニル）−１−シクロペンテンカ
ルバルデヒド（Ｘ）は、他の天然有機化合物の合成中間
体として利用することが可能である。そのひとつの例と
してダラム陽性菌・陰性菌に抗菌活性をもつ抗生物質と
して知られるメチレノマイシンが挙げられる。メチレノ
マイシンの構造式は次にかかげる。 ２．２−シアルフキシー６−ヒドロキシ−４−（１−メ
チルエチニル）シクロヘプタノン（ＶＩ）をエステル化
シ得られたエステル（■）を塩基で処理して７．７−ジ
アルコキシ−５−（Ｌ−メチルエチニル）−２−シクロ
へブテノン（■）へ導く、このエステル化は酸無水物ま
たは酸塩化物を用いる通常の方法で行なえる。 またエステル（■〉と反応させる塩基としては、広く公
知のものを使用出来るが、特にトリエデルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、１．８−ジアサヒシクロ［５
，４，０］ウンデス−７−エンなどの３級アミンが使用
される。 次に７．７−ジアルフキシー５−（１−メチルエチニル
）−２−シクロへブテノン（■）を酸で処理すると、α
−ジケトンを経てさらに１−メチルエチニル基の二重結
合が七員環内に異性化し、β−ツヤプリジン（ヒノキチ
オール）を得る。ここで用いる酸の種類は問わないが、
塩酸、硫酸、リン酸などが用いられる。 本発明では、（ｒ）から（■）の各化合物を必ずしも順
次繰る必要はなく、より短い工程でβ−ツヤブリ／ンを
製造することも出来る。すなわち先に述べたように、５
．５−シアルフキシー３−（Ｌ−メチルエチニル）−６
−オキツヘブタナール（ｖ）のアルドール縮合と脱水反
応とを同時に起こし、１段階で（■）に導くことが可能
である。また（ＶＩ）から〈■）を単離することなしに
１段階で（■〉を得ることも出来る。 尚本発明のアルコキシ基は、アルキル基又はアルキレン
基のものを指す。 実 施 例 以下に本発明を実施例に従って詳細に説明する。 実施例−１ 「カルボン（１）からβ−ツヤプリジンの合成」（イ）
２−カルボン（１−ｃａｒｖｏｎａ）（１）１０．
５１０ｇを８７ｍ１のメタノールに溶かし、かきまぜな
がら３０％過酸化水素水１２．３ｍｌを加え氷冷した後
、６規定の水酸化ナトリウム水溶液５．８ｍｌをゆっく
り滴下した。滴下終了後さらに３時間かきまぜた後、反
応液を水で希釈しノクロロメタンで抽出し、有機層を１
０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順
次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留
去して、粗２．３−エポキシー２−メ１ルー５−（１−
メチルエチニル）シクロヘキサノン＜ｆｆ）を得た。 （ロ） 次にこの粗２，３−エポキシー２−メチル−５
〜（１−メチルエチニル）シクロヘキサノン（ＩＩ）の
全量を無水ベンゼンＬＯＯｍｌに溶かし、エチレングリ
フール３．９ｍｌ 、 ｐ−トルエンスルホン酸６６ｍ
ｇを加え、Ｄｅａｎ−５ｔａｒｋ トラップを用い、生
じる水を留去しながら、窒素気流下４時間加熱還流した
。冷却後エーテルで希釈し飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を減圧留去し、粗１．１−二チレンジオ
キシ−２，３−エポキシ−２−メチル−５−（１−メチ
ルエチニル）シクロヘキサン（ｉ＞を得た。 （ハ）次にこの粗１，１−エチレンジオキシ−２，３−
エポキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シ
クロヘキサン（ｊ）の全量を２６０ｍ１のりメチルスル
ホキシドに溶かし、１５％水酸化カリウム水溶液１５０
ｍ１を加え、１１０℃に加熱し２日間かきまぜた。反応
終ｒ後、反応液を氷水中に注ぎ、ヘキサン・ジエチルエ
ーテル混液（２：１）可溶部を除去し、水層をジクロロ
メタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し粗１．
１−エチレンジオキシ−２，３−／ヒドロキシー２−メ
チルー５−（１−メチルエチニル）・シクロヘキサン（
ｉｖ＞を得た。さらにシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、無色結晶の１．１−エチレンジオキ
シ−２，３−ジヒドロキシ−２−メチル−５−（１−メ
チルエチニル）シクロヘキサン（〜）８．８５ｇを得た
。！−カルボン（１−ｃａｒｖｏｎｅ）（Ｉ ）から３
段階で５５．４％の収率である。 （ニ） 次に１．１−エチレンジオキシ−２，３−ジヒ
ドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シ
クロヘキサン〈〜）２３２ｍｇのテトラヒドロフラン溶
液にメタ過ヨウ素酸ナトリウム４３５ｍｇの水溶液を加
え、室温で１時間かきまぜた。生じる沈殿を濾別し、濾
液を水で希釈後ジクロロメタンで抽出し、有機層を水、
飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を加温することなく減圧留去し粗５．５−エチレ
ンジオキシ−３−（１−メチルエチニル）−６−オキツ
ヘブタナール（１）を得た。 （ホ） 次にこの粗５．５−エチレンジオキシ−３−（
１−メチルエチニル）−６−オキツヘブタナール（Ｖ）
の全量を５４ｍｇのナトリウムメトキシドを含む５０ｍ
１の無水メタノールに溶かし、窒素気流下０〜４℃に保
ち２日間かきまぜた。 反応終了後水で希釈し、希塩酸を加え酸性としジクロロ
メタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗い
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、
粗２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−４−（
Ｌ−メチルエチニル）シクロヘプタノン（−）を得た。 さらにノリ力ゲル薄層グロマトグラフィーによって２．
２−エチレンブ才キジ−６−ヒドロキシ−４−（１−メ
チルエチニル）シクロヘプタノン（ｖｉ ）１２６ｍｇ
ヲ！１１１１ｉした。１．１−エチレンジオキシ−２
，３−ジヒドロキノー２−メチル−５−（１−メチルエ
チニル）シクロヘキサン（１ｖ）より２段階で５８％の
収率である。 （へ） 次に２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキ
シ−４−（１−メチルエチニル〉シクロヘプタノン（■
） ８２３ｍｇをピリジン４ｍｌに溶かし、窒素気流下
かきまぜながら無水酢酸２ｍｌを加え、室温で１２時間
かきまぜた。反応終了後、反応液を０℃に冷却し、メタ
ノール２．５ｍｌを加え室温で２０分間かきまぜた後、
塩化ｉチレンで希釈し、氷冷しながら希塩酸。 水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去して粗６−アセトキシー２．２−
エチレンジオキン−４−（１−メチルエチニル）シクロ
ヘプタノン〈ｖｉ）を得た。 （ト）次にこの粗６−アセトキシー２．２−エチレンジ
オキシ−４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン
く■）の全量をトリエチルアミン２０ｍ１に溶かし、窒
素気流下１７時間加熱還流した。 反応終了後反応液を水で希釈し希塩酸を加えて酸性とし
ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で
順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
留去して粗７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メチ
ルエチニル〉−２−シクロへブテノンを得た。シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより７，７−ニチレンジ
オキシー５−（１−メチルエチニル）−２−シクロへブ
テノンを５６３ｍｇ単離精製した。 ２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−５−（１
−メチルエチニル）シクロへブタノン（ｖｉ）より２段
階で７４％の収率である。 （チ） 次に７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メ
チルエチニル）−２−シクロへブテノン（ｉ ）４３６
ｍｇをジオキナン６２ｍ１に溶かし、かきまぜながら塩
酸６．２ｍｌを加え１００〜１１０℃に加熱し２９時間
かきまぜた。 反応液を冷却後水で希釈し、酢酸エチルで抽出し有機層
を１０％水酸化ナトリウム水溶液で抽出した。抽出した
水層を氷冷しながら希塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽
出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗い無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し粗β−ツヤ
プリジン（ヒノキチオール） ２６３ｍｇを得た。 及１五ニュ 「７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メチルエチニ
ル）−２−シクロへブテノン（Ａ）の合成。 （イ）１．１−エチレンジオキシ−２，３−ジヒドロキ
シ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）シクロヘ
キサン（ｉｖ ）５００ｍｇを１０ｍ１の無水ベンゼン
に溶かし、９０％四酢酸鉛１１８８ｍｇを加え室温で３
０分間かきまぜた。 反応液をアルミ士ショートカラムに通し、溶媒を加熱す
ることなく減圧留去し、粗５．５−エチレンジオキシ−
３−（１−メチルエチニル）−６−オキツヘブタナール
（Ｖ）を得た。 （ロ） 次にこの粗５．５−エチレンジオキシ−３−（
１−メチルエチニル）−６−オキツヘプタナール（Ｖ）
の全量を少量のメタノールに溶かし、約−１０℃に冷却
した１％水酸化カリウム、メタノール−水（２： １）
溶液中に滴下し、かきまぜながら約９０分間で０℃ｆ寸
近まで徐々に温度を上昇許せた後、希塩酸を加え酸性と
して、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水
で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去
して、粗２，２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−
４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン（ｖｉ）
を得た。 （ハ） 次にこの粗２．２−エチレンジオキシ−６−ヒ
ドロキシ−４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノ
ン（■）の全量を４ｍｌのピリジンに溶かし、かきまぜ
ながら塩化ｐ−）ルエンスルホニル６８２ｍｇヲ加、ｔ
、室温で１２時間かきまぜた。反応終了後、反応液をジ
クロロメタンで希釈し、氷冷しながら希塩酸で数回洗い
、さらに飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下溶媒を留去し、粗ｒトルエンスルホン酸エ
ステル（ｖｉ’）ヲ得た。 （ニ）次にこの粗ｐ−トルエンスルホン酸エステルの全
量を無水ジクロロメタン４ｍｌに溶かし、トリエチルア
ミン１ｍｌを加え室温で５時間かきまぜた。 反応終了後、減圧下溶媒を留去し、シリカゲル薄層クロ
マトグラフィーによって、７．７−ニチレンジオキシー
５−（ｌ−メチルエチニル）−２−シクロへブテノン（
た） １５２ｍｇを単離した。 １．１−エチレンジオキシ−２，３−ジヒドロキシ−２
−メチル−５−（１−メチルエチニル）シクロヘキサン
（ｉｖ）より４段階で３３％の収率である。 及１ヱニ」 ｒ７．７−ニチレンジオキシー５−（１−メチルエチニ
ル）−２−シクロへブテノン（Ａ）の合成」 （イ） 塩化ｐ−ｔ−ルエンスルホニル５１ｍｇトド
’）エチルアミン０．１８ｍ１の混合物を０℃に保ち、
これニ２゜２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−４
−（１−メチルエチニル）シクロヘプタノン（■）３０
ｍｇの無水ジク
【ｆロメタン溶液を加え、４０℃で５時
間かきまぜた。 反応終了後反応液をジクロロメタンで希釈し、希塩酸、
水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去し、シリカゲル薄層クロマトグラ
フィーによって、７．７−ニチレンジオキシー５−（１
−メチルエチニル）−２−シクロヘプテノン（Ｖｊ＞１
８ｍｇを得た。 ２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−４−（１
−メチルエチニル）シクロヘプタノン（ｖｉ）より１段
階で６５％の収率である。 寒】口九二」− １５，５−エチレンジオキシ−３−（１−メチルエチニ
ル）−６−オキツヘプタナール（Ｖ）のアルドール縮合
。 ５．５−エチレンジオキシ−３−（１−メチルエチニル
）−６−オキツヘブタナール（ｖ）のアルドール縮合を
触媒、溶媒の種類・量を変えて繰り返した。 反応生成物として主に２．２−エチレンジオキシ−６−
ヒドロキシ−４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタ
ノン（ｖｉ ）、 ３．３−エチレンジオキシ−２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）−
１−シクロペンタンカルバルデヒド（板）および３．３
−エチレンジオキシ−２−メチル−５−（１−メチルエ
チニル）−１−シクロペンテンカルバルデヒド（Ｘ）が
得られた。 それらの反応条件及び（■）、 （ｉｘ ＞、 （Ｘ
）の収率を表−１に示す。 またこれら（■＞、 （ｉｘ ）、 （ｘ ）からなる
反応生成物から各成分を単離することなく混合物のまま
アセチル化を行なったところ、６−アセトキシ−２，２
−エチレンジオキシ−４−（１−メチルエチニル）シク
ロヘプタノン（ｖｉ ） 、 （’ｒｘ ）および（Ｘ
）を得た。 アセチル化の後に単１１ｉ精製した（ｖｉ）、（ｉｘ＞
、（ｘ）の収率を表−２に示す。 これらの実施例−１，２，３及び４で得られた（Ｉ［）
、（ｉ ）、（ｉｖ ）、（ｖ ）、（ｖｉ ）、（ｖ
ｉ ）、（ｉ ）及びβ−ツヤプリジンの各化合物は先
に同様の方法で合成し単離精製の後に同定されている標
品と同一であることを薄層クロマトグラフィーにより確
認した。 またβ−ツヤプリジンはＩＲ，ＮＭＲのスペクトルが標
品のものと一致する事を確認した。 各化合物の標品については、ＩＲ，ＮＭＲのスペクトル
によって図面に示した構造式をもつものであることを確
認した。
間かきまぜた。 反応終了後反応液をジクロロメタンで希釈し、希塩酸、
水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去し、シリカゲル薄層クロマトグラ
フィーによって、７．７−ニチレンジオキシー５−（１
−メチルエチニル）−２−シクロヘプテノン（Ｖｊ＞１
８ｍｇを得た。 ２．２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−４−（１
−メチルエチニル）シクロヘプタノン（ｖｉ）より１段
階で６５％の収率である。 寒】口九二」− １５，５−エチレンジオキシ−３−（１−メチルエチニ
ル）−６−オキツヘプタナール（Ｖ）のアルドール縮合
。 ５．５−エチレンジオキシ−３−（１−メチルエチニル
）−６−オキツヘブタナール（ｖ）のアルドール縮合を
触媒、溶媒の種類・量を変えて繰り返した。 反応生成物として主に２．２−エチレンジオキシ−６−
ヒドロキシ−４−（１−メチルエチニル）シクロヘプタ
ノン（ｖｉ ）、 ３．３−エチレンジオキシ−２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−５−（１−メチルエチニル）−
１−シクロペンタンカルバルデヒド（板）および３．３
−エチレンジオキシ−２−メチル−５−（１−メチルエ
チニル）−１−シクロペンテンカルバルデヒド（Ｘ）が
得られた。 それらの反応条件及び（■）、 （ｉｘ ＞、 （Ｘ
）の収率を表−１に示す。 またこれら（■＞、 （ｉｘ ）、 （ｘ ）からなる
反応生成物から各成分を単離することなく混合物のまま
アセチル化を行なったところ、６−アセトキシ−２，２
−エチレンジオキシ−４−（１−メチルエチニル）シク
ロヘプタノン（ｖｉ ） 、 （’ｒｘ ）および（Ｘ
）を得た。 アセチル化の後に単１１ｉ精製した（ｖｉ）、（ｉｘ＞
、（ｘ）の収率を表−２に示す。 これらの実施例−１，２，３及び４で得られた（Ｉ［）
、（ｉ ）、（ｉｖ ）、（ｖ ）、（ｖｉ ）、（ｖ
ｉ ）、（ｉ ）及びβ−ツヤプリジンの各化合物は先
に同様の方法で合成し単離精製の後に同定されている標
品と同一であることを薄層クロマトグラフィーにより確
認した。 またβ−ツヤプリジンはＩＲ，ＮＭＲのスペクトルが標
品のものと一致する事を確認した。 各化合物の標品については、ＩＲ，ＮＭＲのスペクトル
によって図面に示した構造式をもつものであることを確
認した。
第１図は本発明の各工程で合成される化合物の一般式及
び工程を示す図であり、第２図は本発明の各実施例で合
成される化合物の工程を示す図である。
び工程を示す図であり、第２図は本発明の各実施例で合
成される化合物の工程を示す図である。
Claims (2)
- （１）次の各工程、 ［１］式（II）のシクロヘキサンのエポキシ化合物式（
II）：▲数式、化学式、表等があります▼ をアセタール化することにより、式（III）のシクロヘ
キサンのアセタール化合物 式（III）：▲数式、化学式、表等があります▼Ｒ＿１
：アルキル基又は アルキレン基 を得る工程。 ［２］式（III）のシクロヘキサンのアセタール化合物
を加水分解することにより、式（IV）のシクロヘキサン
のジヒドロキシ化合物 式（IV）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［３］式（IV）のシクロヘキサンのジヒドロキシ化合物
を酸化開裂することにより式（Ｖ）のケトアルデヒドの
ジアルコキシ化合物 式（Ｖ）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［４］式（Ｖ）のケトアルデヒドのジアルコキシ化合物
をアルドール縮合することにより式（VI）のシクロヘプ
タノンのヒドロキシ化合物 式（VI）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［５］式（VI）のシクロヘプタノンのヒドロキシ化合物
をエステル化することにより式（VII）のシクロヘプタ
ノンのエステル化合物 式（VII）：Ｒ＿２：アシル基、スルホニ ル基及びその誘導体 を得る工程。 ［６］式（VII）のシクロヘプタノンのエステル化合物
から酸を除去し式（VIII）のシクロヘプテノン化合物 式（VIII）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［７］式（VIII）のシクロヘプテノン化合物を加水分解
することによりβ−ツヤプリシン（ヒノキチオール）を
得る工程。 とからなるβ−ツヤプリシンの製造法。 - （２）次の各工程、 ［１］式（II）のシクロヘキサンのエポキシ化合物式（
II）：▲数式、化学式、表等があります▼ をアセタール化することにより、式（III）のシクロヘ
キサンのアセタール化合物 式（III）：▲数式、化学式、表等があります▼Ｒ＿１
：アルキル基又は アルキレン基 を得る工程。 ［２］式（III）のシクロヘキサンのアセタール化合物
を加水分解することにより、式（IV）のシクロヘキサン
のジヒドロキシ化合物 式（IV）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［３］式（IV）のシクロヘキサンのジヒドロキシ化合物
を酸化開裂することにより式（Ｖ）のケトアルデヒドの
ジアルコキシ化合物 式（Ｖ）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［４］式（Ｖ）のケトアルデヒドのジアルコキシ化合物
をアルドール縮合することにより式（VI）のシクロヘプ
タノンのヒドロキシ化合物 式（VI）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［５］式（VI）のシクロヘプタノンのヒドロキシ化合物
を脱水することにより式（VIII）のシクロヘプテノン化
合物 式（VIII）：▲数式、化学式、表等があります▼ を得る工程。 ［６］式（VIII）のシクロヘプテノン化合物を加水分解
することによりβ−ツヤプリシン（ヒノキチオールを得
る工程。 とからなるβ−ツヤプリシンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23188785A JPS6293250A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | β−ツヤプリシン（ヒノキチオ−ル）の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23188785A JPS6293250A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | β−ツヤプリシン（ヒノキチオ−ル）の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6293250A true JPS6293250A (ja) | 1987-04-28 |
| JPS6341896B2 JPS6341896B2 (ja) | 1988-08-19 |
Family
ID=16930585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23188785A Granted JPS6293250A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | β−ツヤプリシン（ヒノキチオ−ル）の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6293250A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0249713A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-20 | Shiseido Co Ltd | 化粧料 |
| WO1992005240A1 (en) * | 1990-09-14 | 1992-04-02 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Detergent composition |
| FR2785541A1 (fr) * | 1998-11-09 | 2000-05-12 | Oreal | Systeme a activite antimicrobienne et son utilisation, notamment dans les domaines cosmetique et dermatologique |
| US6310255B1 (en) | 1998-03-30 | 2001-10-30 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Process for producing hinokitiol |
| US20170354177A1 (en) * | 2014-09-12 | 2017-12-14 | Maruha Nichiro Corporation | Antifungal composition comprising antifungal peptide and terpene alcohol |
| JP2020045295A (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-26 | 株式会社サンギ | 脂環式含酸素化合物の製造方法 |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP23188785A patent/JPS6293250A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0249713A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-20 | Shiseido Co Ltd | 化粧料 |
| JP2602069B2 (ja) * | 1988-08-12 | 1997-04-23 | 株式会社資生堂 | 化粧料 |
| WO1992005240A1 (en) * | 1990-09-14 | 1992-04-02 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Detergent composition |
| US6310255B1 (en) | 1998-03-30 | 2001-10-30 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Process for producing hinokitiol |
| FR2785541A1 (fr) * | 1998-11-09 | 2000-05-12 | Oreal | Systeme a activite antimicrobienne et son utilisation, notamment dans les domaines cosmetique et dermatologique |
| EP1000542A1 (fr) * | 1998-11-09 | 2000-05-17 | L'oreal | Système à activité antimicrobienne et son utilisation, notamment dans les domaines cosmétique et dermatologique |
| US20170354177A1 (en) * | 2014-09-12 | 2017-12-14 | Maruha Nichiro Corporation | Antifungal composition comprising antifungal peptide and terpene alcohol |
| JP2020045295A (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-26 | 株式会社サンギ | 脂環式含酸素化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6341896B2 (ja) | 1988-08-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4384144A (en) | Process for preparing cyclopentenone derivatives | |
| JPS6293250A (ja) | β−ツヤプリシン（ヒノキチオ−ル）の製造法 | |
| US4228093A (en) | (11Z,13Z)-11,13-Hexadecadiyn-1-ol and (11Z,13Z)-11,13-hexadecadien-1-ol and trimethylsilyl ethers thereof | |
| US3683091A (en) | Certain phenanthrene compounds for treatment of acne | |
| Jones et al. | Investigation of an Abnormal Organocadmium Reaction1 | |
| US4360691A (en) | Production of malonic anhydrides and derivatives thereof | |
| US3562313A (en) | Intermediates for benzoic acid lactones | |
| JPH039100B2 (ja) | ||
| US3852307A (en) | Synthesis of zearalanone and related compounds | |
| Chittenden | The chemistry of D‐gluconic acid derivatives. Part II1: The formation of (R)‐O‐isopropylideneglyceraldehyde from D‐glucono‐1, 5‐lactone | |
| JPS5989638A (ja) | アリ−ルオキシアルキル化合物の製造法 | |
| US3887547A (en) | Process for preparing dl-strigol | |
| JP2718715B2 (ja) | ９，１０−セコ−シクロアルタン誘導体 | |
| CH655716A5 (fr) | Derives chiraux de cyclopentene et procedes de leur preparation. | |
| JPS6064975A (ja) | ８α，１２−エポキシ−１３，１４，１５，１６−テトラノルラブダンの製造方法 | |
| JPH0848677A (ja) | ベンゾ複素環系の化合物、その製造方法及びそれを含有する組成物 | |
| JPH05230048A (ja) | （Ｓ）−γ−ラクトンの製造方法 | |
| FR2499555A1 (fr) | Procede de synthese de derives du 3-ceto-cyclopentene-5-oxy | |
| CH340816A (fr) | Procédé de préparation de nouveaux thiodérivés de colchicéines | |
| JPS596312B2 (ja) | セスキテルペン誘導体及びその製造法 | |
| FR2549470A1 (fr) | Procede de preparation d'esters d'alcoyle de l'acide cis-chrysanthemique et nouveaux intermediaires obtenus | |
| JPH04346963A (ja) | 新規塩素化合物ならびにその製造方法及びその塩素化合物を用いた光学活性ラクトンの製造方法 | |
| JPS60188381A (ja) | ｄ，ｌ−アナストレフイン及びｄ，ｌ−エピアナストレフインの製造法 | |
| Kurata et al. | Synthesis of dihydroactiniolide [5, 6, 7, 7a-tetrahydro-4, 4, 7a-trimethylbenzofuran-2 (4 H)-one] and 6, 7, 8, 8a-tetrahydro-5, 5, 8a-trimethylnaphthalene-1, 3 (5 H)-dione from 6, 7, 8, 8a-tetrahydro-2, 5, 5, 8a-tetramethyl-5 H-chromen | |
| FR2477139A1 (fr) | Procede de preparation de tetrahydronaphtacenes, derives obtenus et intermediaires de preparation |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |