KR920017036A - 자기기록매체 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

자기기록매체 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예인 비자기성판위에 형성한 강자성금속박막의 표면에 실록산결합을 개재해서 화학 흡착막을 형성한 개념단면도, 제2도는 동, 제2도를 모식적으로 표시한 개념 단면도, 제3도는 본 발명의 다른 실시예인 비자성기판의 뒷면에 실록산결합을 개재해서 화학흡착단분자막을 형성한 개념단면도.

Claims (20)

  1. 비자성기판의 강자금속박막이 형성된 자기기록매체로서, 상기 강자성금속박막위 또는 기판의 뒷면의 적어도 한쪽에, 실록산결합을 가진 화학흡착막을 형성한 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  2. 제1항에 있어서, 강자성금속박막위에 무기산화물을 형성하고, 상기 무기산화물층위에, 실록산 결합을 가진 화학흡착막을 형성한 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학흡착막이, 불화알칼기 또는 알킬기를 함유하는 막인것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학흡착막이 단분자막 또는 플리머막인것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기판이 수지제필름 또는 디스크인 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  6. 제2항에 있어서, 무기산화물층이 SiO2, TiO2, Al2O3로 부터 선택되는 적어도 하나를 함유하는 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  7. 제2항에 있어서, 무기산화물층의 두께가 1∼100㎜인 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  8. 제2항에 있어서, 무기산화물층이 증착막 또는 스퍼터링막인 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학흡착막이, 실록산계 내층막의 위에 형성되어있는 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서,화학흡착막이, 탄소수가 다른 적어도 2종 이상의 직사슬상분자로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  11. 제10항에 있어서, 탄소수가 다른 적어도 2종이상의 직사슬상분자가 적어도 말단에 불화탄소기를 가진 분자와 말단에 메틸기를 가진 분자인 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  12. 제10항에 있어서, 탄소수가 다른 적어도 2종이상의 직사슬상분자중, 탄소수가 많은 분자가 말단에 메틸기를 남기고, 남는 분자의 적어도 1종이 말단에 불화탄소기를 가진 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  13. 제 10항에 있어서, 타소수가 다른 적어도 2종 이상의 직사슬상 분자의 탄소수차가 1이상 15이하인 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  14. 자기기록매체의 표면 또는 기재뒷면에 단분자막으로 이루어진 화학흡착막을 제조하는 방법으로서, 표면에 활성수소기를 함유한 기재를, 불소기와 클로로 시릴기를 분자내어 함유한 흡착제를 함유한 비수계용매에 접촉시켜서 탈염화수소반응을 일으키게하고, 이어서 기재표면과 반응한 흡착막전구체를 수분과 반응시키고, 그 후 건조하는 것을 특징으로 자기기록매체의 제조방법.
  15. 자기기록매체의 또는 기재뒷면에 폴리머막으로 이루어진 화학흡착막 제조하는 방법으로서 표면에 활성수소기를 함유한 기재를, 불소기와 클로로 시릴기를 분자내에 함유한 흡착제를 함유한 비수계용매에 접촉시켜서 탈염화수소반응을 일으키게하고, 이어서 기재표면과 반응한 흡착막전구체를 수분과 반응시키고, 그후 건조하는 것을 특징으로 하는 자기기록매체의 제조방법.
  16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 기재가, 표면에 수산기, 아미노기, 이미노기로부터 선택되는 적어도 한개의 기를 함유하는 것을 특징으로 하는 자기기록매체의 제조방법.
  17. 제14항 또는 제 15항에 있어서, 기제가, 미리 표면을 산소를 함유한 플라즈마 또는 코로나분위기로 처리해서 친수성화한 플라스틱인것을 특징으로 하는 방오염성흡착막의 제조방법.
  18. 제14항 또는 제 15항에 있어서, 흡착제가 CF3-(CF2)n-(R)m-SiXpCl3-p(n은 0 또는 정수, R는 알칼기, 함비닐기, 함에리닐기, 함실리콘 혹은 산소원자를 함유한 치환기, m은 0 또는 1, X는 H, 알칼기, 알콕실기, 함불소알킬기 또는 함불소알콕시기의 치환기, p는 0, 1 또는 2)인 것을 특징으로 하는 자기기록매체의 제조방법.
  19. 제14항 또는 제15항에 있어서, 자기 기록매체의 표면에 무기산화물층유 증착 또는 스퍼터링 방법에 의해서 형성하고, 그위에 화학흡착막을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
  20. 제14항 또는 15항에 있어서, 자기기록매체의 표면 또는 기재뒷면에, 먼저 내층막용의 다관능클로로실탄계 흡착제를 접촉시켜 화합흡착반응을 행하고, 얻게된 내층막의 표면에 화학흡착막을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기기록매체.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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