KR940005773A - 화학흡착막의 제조 방법 - Google Patents

화학흡착막의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기재표면에 화학흡착막을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 기재형상에 제한받지 않고, 활성수소기를 가지거나 부여 한 기재표면에. 기조분위기속에서 화학 흡착제를 함유한 용액을 도포하여 발수발유. 방오염 성 등에 뛰어난 극박막의 피막을 고능율로 균일하게 형성하는 화학흡착막의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로한 것이며, 그 구성에 있어서, 수산기. 이미노기등 활성수조기를 가진 기재표면에. 클로로실란계 계면활성제를 함유한 용액을 도포해서 화학흡착을 형성한다 또, 먼저 기재 (1) 표면에 클로로실란화합물 또는 클로로실란 화합물을 함유한 용액을 도포해서 실록산계 단분자막 또는 폴리실록산막의 흡착막(4)을 형성하고, 클로로실란계 계면활성제를 함유한 용액을 도포해서 화학흡착을 행하므로서, 기재형성에 제한되는 일없이 또한 단시간에 기재의 표면에 화학흡착단분자막(5') 또는 폴리머막을 형성하는 것을 특징으로 한 것이다.

Description

화학흡착막의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1의 실시예에 있어서의 유기단분자막의 누적방법의 공정을 표한 것으로, 기재표면을 분자레벨까지 확대한 모식단면도, 제2도는 본 발명의 제1의 실시예에 있어서의 유기단분자막의 누적방법의 공정을 표시한 것으로. 기재표면에 클로로실란단분자량을 형성한 단계를 분자레벨까지 확대한 모식단면도. 제3도는 본 발명의 제1의 실시예에 있어서의 유기단자막의 누적방법의 공정을 표시한 것으로. 기재표면에 실록산계단분 자막 형상의 내층막을 형성하는 중간단계를 분자레벨까지 확대한 모식 단면도. 제4도는 본발명의 제1실시예에 있어서의 유기단분자막의 누적방법의 공정을 표시한 것으로, 기재표면에 실란올기를 다수 함유한 폴리실록산막 (내층막)을 형성한 중간 단계를 분자레벨가지 확대한 모식단면도, 제5도는 본 발명의 제1의 실시예에 있어서의 유기단분자막의 누적방법의 공정을 표시한 것으로, 내층막의 위에 불소계의 화학흡착막을 형성한 모식단면도.

Claims (14)

  1. 단분자막형상의 화학흡착막의 제조방법으로서. 건조분위기하에서. 표면에 활성수소기를 함유한 기재표면에, 일단부에 크로르시릴기를 가진 직사슬상 탄소 또는 직사슬상 실록산결합을 함유한 분자로부터 이루어진 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과. 비수계 유기용매를 사용해서 상기 기재위에 남은 상기 기재와 미반응의 상기 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액을 제거하는 세정공정과, 남은 클로르시릴기를 물과 반응시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  2. 폴리머상의 화학흡착막의 제조방법으로서, 건조분위기하에서 표면에 활성수소기를 함유란 기재표면에, 일단부에 클로르시릴기를 가진 직사슬상 탄화수소원자로부터 이루어지는 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과, 상기 용액을 증발시킨 후 물과 반응시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학홉착막의 제조방법.
  3. 화학흡착누적막의 제조방법으로서, 건조분위기하에서. 먼저 표면에 활성수소기를 함유한 기재에, 클로로시릴기를 분자내에 복수함유한 물질을 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과, 비수계유기용매를 사용해서 상기 기재위에 남은 상기 기재와 미반응의 상기 물질을 함유한 용액을 세정제거하는 공정과, 물과 반응시키는 공정에 의해 상기 기재위에 실란올기를 다수 함유한 실록산계 단분자막을 헝성하는 공정과. 그 후, 건조분위기하에서 일단부에 클로르시 릴기 를 가진 직사슬상 탄화수소분자로 이루어진 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과, 비수계 유기용매를 사용해서 상기 기재위에 남은 상기 기재와 미반응의 상기 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액을 제거하는 세정공정과, 물과 반응시키는 공정에 의해 화학흡착단분자막을 누적하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  4. 화학홉착누적막의 제조방법으로서. 건조분위기하에서, 먼저 표면에 활성수소기를 함유한 기재에, 클로로시릴기를 분자내에 복수개 함유한 물질을 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과, 상기 용액을 증발시킨후 물과 반응시키는 공정에 의해 상기 기재 위 에 실란올기를 다수 함유한 실록산계 의 폴리 머 막을 형성하는 공정과, 그후, 건조분위기하에서, 일단부에 클로르시릴기를 가진 직사슬상 탄화수소분자로부터 이루어진 클로로실란기 흡착제를 함유한 용액을 도포해서 상기 실록산폴리머막 표면과 반응시키는 공정과, 비수계 유기용매를 사용해서 상기 기재 위에 남은 상기 기재와 미반응의 상기 클로로실린계 흡착제를 함유한 용액을 제거하는 세정공정과, 물과 반응시키는 공정에 의해 화학횹착 단분자막을 누적하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  5. 폴리머상의 화학흡착막의 제조방법으로서, 건조분위기하에서, 먼저 표면에 황성수소기를 함유한 기재에 클로로시릴기를 분자내에 복수 함유한 물질을 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과. 비수계 유기용매를 사용해서 상기 기재위에 남은 상기 기재와 미반응의 상기 물질을 함유한 용액을 세정제거하는 공정과, 물과 반응시키는 공정에 의해 상기 기재위에 실란올기를 다수 함유한 실록산계 단분자막을 형성하는 공정과 그후, 건조분위기하에서, 일단부에 클로로시릴기를 가진 직사슬상 탄화수소분자로부터 이루어진 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과, 상기 용액을 증발시킨 후 물과 반응시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  6. 폴리머상의 화학횹착막의 제조방법으로서, 35%이하의 건조분위기하에서, 먼저 표면에 활성수소기를 함유한 기재에, 클로로시릴기를 분자내에 보수함유한 물질을 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과, 상기 용액을 증발시킨 후 물과 반응시키는 공정에 의해 상기 기재위에 실란올기률 다수 함유한 실록산계의 폴리머막을 형성하는 공정과, 그후. 건조분위기하에서, 일단부에 클로르시릴기를 가진 직사슬상 탄화수소분자로부터 이루어지는 클로로실란계 흡착제률 함유한 용액을 도포해서 상기 기재표면과 반응시키는 공정과. 상기 용액을 증발시킨 후 물과 반응시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  7. 제1항, 2항, 3항, 4항, 5항"또는 6항에 있어서, 클로로실란계 홉착제의 탄화수소사슬의 적어도 일부가 -CF2-기로 치환되어 있는 화합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  8. 제1항, 2항, 3항, 4항, 5항또는 제6항에 있어서, 클로로실란계 홉착제가. CF3-(CF2)n- (R)m-SiXpC13-p(n은 0 또는 정수, R는 알킬기, 비닐기, 에티닐기, 아릴기, 실리콘 혹은 산소원자를 함유한 치환기, m은 0 또는 1, X는 H 알킬기. 알콕실기, 함불소알킬기 또는 항불소알콕시기의 치환기, p는 0, 1 또는 2)를 사용하는 건을 특징으로 하는 화합흡착막의 제조방법.
  9. 제3항. 4항, 5항 또는 제6항에 있어서, 클로로시릴기를 분자내에 복수함유한 물질이. SiCl4, SiHCl3, SiH2Cl2, 또는 Cl-(SiCl2O)n-SiCl3(단 n은 정수)의 물질로부터 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 화합흡착막의 제조방법.
  10. 제1항. 2항. 3항, 4항. 5항 또는 제6항에 있어서, 기재가. 금속, 세라믹스. 유리, 플라스틱. 종이, 섬유. 피혁으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법,
  11. 제10항에 있어서. 기재가. 먼저 표면을 산소를 함유한 플라즈마 또는 코로나 분위기에서 처리해서 친수성 화한 것인 것을 특징으로 하는 화학홉착막의 제조방법.
  12. 제1항, 2항. 3항. 4항, 5항 또는 제6항에 있어서. 화학흡착처리공정이 상대습도 30%이하의 저습도분위기에서 행하여지는 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  13. 제2항, 5항 또는 제6항에 있어서, 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액의 용매의 비점이 100℃이상인 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
  14. 제1항. 3항. 또는 제4항에 있어서, 클로로실란계 흡착제를 함유한 용액의 용매의 비점이 실온∼100℃이하인 것을 특징으로 하는 화학흡착막의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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