JP2846746B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、情報産業等で利用され
ている高記録密度の磁気記録媒体に関するものであり、
特に自己潤滑性を有する潤滑膜を設けた磁気記録媒体に
関する。
ている高記録密度の磁気記録媒体に関するものであり、
特に自己潤滑性を有する潤滑膜を設けた磁気記録媒体に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年は、ポリエステルフィルム等にフェ
ライト粉末等の磁気材料を溶剤とともに塗布する磁気テ
−プ等の塗布型磁気記録媒体に代わって、メッキ法、ス
パッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法
等の方法によって、強磁性金属薄膜を非磁性支持体上に
設けた磁気記録媒体が、高密度磁気記録媒体として研究
されている。
ライト粉末等の磁気材料を溶剤とともに塗布する磁気テ
−プ等の塗布型磁気記録媒体に代わって、メッキ法、ス
パッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法
等の方法によって、強磁性金属薄膜を非磁性支持体上に
設けた磁気記録媒体が、高密度磁気記録媒体として研究
されている。
【０００３】しかしながら、前記した方法で作られた強
磁性金属薄膜を用いた磁気記録媒体は、その耐摩耗性お
よびその走行性に問題がある。すなわち、磁気記録媒体
は磁気信号の記録、再生の過程において、磁気ヘッドと
の高速相対運動の下におかれる。この時磁気記録媒体の
走行が円滑でかつ安定な状態で行わなければならない。
しかしながら前記方法で作られる強磁性金属薄膜は、磁
気記録、再生の過程の過酷な条件耐えることができず、
磁気ヘッド等の摩擦によって走行が不安定になったり、
長時間走行させた場合には摩耗したり、破損したり、摩
耗粉の発生によって著しく出力が低下することがあっ
た。そのため、潤滑材を磁気記録媒体表面に形成する必
要があった。参考として株式会社リアライズ社発行、電
気材料のトライポロジ−第１８５頁に潤滑材に関する記
述がある。
磁性金属薄膜を用いた磁気記録媒体は、その耐摩耗性お
よびその走行性に問題がある。すなわち、磁気記録媒体
は磁気信号の記録、再生の過程において、磁気ヘッドと
の高速相対運動の下におかれる。この時磁気記録媒体の
走行が円滑でかつ安定な状態で行わなければならない。
しかしながら前記方法で作られる強磁性金属薄膜は、磁
気記録、再生の過程の過酷な条件耐えることができず、
磁気ヘッド等の摩擦によって走行が不安定になったり、
長時間走行させた場合には摩耗したり、破損したり、摩
耗粉の発生によって著しく出力が低下することがあっ
た。そのため、潤滑材を磁気記録媒体表面に形成する必
要があった。参考として株式会社リアライズ社発行、電
気材料のトライポロジ−第１８５頁に潤滑材に関する記
述がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の潤滑剤として
は、固体潤滑剤と液体潤滑剤がある。固体潤滑剤は均一
に塗布することが困難で、使用されなくなってきてい
る。液体潤滑剤は、スピンコートやディッピングによっ
て潤滑膜を形成するが、その膜厚は薄くても５０オング
ストロームあり、高密度化、高容量を行うため、磁気ヘ
ッドにより接近をさせる場合は液体潤滑膜では限界があ
る。また、液体潤滑剤であるために磁気記録媒体表面に
付与した微細な凸凹のうち、凹部に潤滑液がたまり易
く、ヘッドと磁気記録媒体の接触による摩耗を潤滑膜に
よって低減すべき凸部に潤滑膜がほとんどない状態とな
っていた。また液体潤滑剤は、供給量の正確な制御が困
難で、供給量が多いと液体が飛散するという問題があっ
た。従って、潤滑膜としての要求がみたされていなかっ
た。
は、固体潤滑剤と液体潤滑剤がある。固体潤滑剤は均一
に塗布することが困難で、使用されなくなってきてい
る。液体潤滑剤は、スピンコートやディッピングによっ
て潤滑膜を形成するが、その膜厚は薄くても５０オング
ストロームあり、高密度化、高容量を行うため、磁気ヘ
ッドにより接近をさせる場合は液体潤滑膜では限界があ
る。また、液体潤滑剤であるために磁気記録媒体表面に
付与した微細な凸凹のうち、凹部に潤滑液がたまり易
く、ヘッドと磁気記録媒体の接触による摩耗を潤滑膜に
よって低減すべき凸部に潤滑膜がほとんどない状態とな
っていた。また液体潤滑剤は、供給量の正確な制御が困
難で、供給量が多いと液体が飛散するという問題があっ
た。従って、潤滑膜としての要求がみたされていなかっ
た。
【０００５】本発明は前記従来技術を解決するために、
磁気記録媒体の凹凸に沿って膜厚がナノメートル程度の
薄い均一な潤滑膜を形成し、滑性耐久性、走行性、耐摩
耗性の優れ、かつ自己潤滑性に有する潤滑膜を設けた磁
気記録媒体、及びその製造方法を提供することを目的と
する。
磁気記録媒体の凹凸に沿って膜厚がナノメートル程度の
薄い均一な潤滑膜を形成し、滑性耐久性、走行性、耐摩
耗性の優れ、かつ自己潤滑性に有する潤滑膜を設けた磁
気記録媒体、及びその製造方法を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の磁気記録媒体は、基体の上に磁気記録材料
が形成されてなる磁気記録媒体において、前記磁気記録
媒体の少なくとも一方の表面に、炭素数の異なる少なく
とも２種の直鎖状分子がシロキサン結合を介して結合さ
れ化学吸着膜を形成してなり、前記炭素数の異なる少な
くとも２種の直鎖状分子が、少なくとも末端にフッ化炭
素基を有する分子と末端にメチル基を有する分子である
ことを特徴とする。
め、本発明の磁気記録媒体は、基体の上に磁気記録材料
が形成されてなる磁気記録媒体において、前記磁気記録
媒体の少なくとも一方の表面に、炭素数の異なる少なく
とも２種の直鎖状分子がシロキサン結合を介して結合さ
れ化学吸着膜を形成してなり、前記炭素数の異なる少な
くとも２種の直鎖状分子が、少なくとも末端にフッ化炭
素基を有する分子と末端にメチル基を有する分子である
ことを特徴とする。
【０００７】また前記構成においては、炭素数の異なる
少なくとも２種の直鎖状分子のうち、炭素数の多い分子
が末端にメチル基を有し、残る分子の少なくとも１種が
末端にフッ化炭素基を有することが好ましい。さらに前
記構成においては、炭素数の異なる少なくとも２種の直
鎖状分子の炭素数差が１以上１５以下であることが好ま
しい。
少なくとも２種の直鎖状分子のうち、炭素数の多い分子
が末端にメチル基を有し、残る分子の少なくとも１種が
末端にフッ化炭素基を有することが好ましい。さらに前
記構成においては、炭素数の異なる少なくとも２種の直
鎖状分子の炭素数差が１以上１５以下であることが好ま
しい。
【０００８】次に本発明の磁気記録媒体の製造方法は、
基体に上に磁気記録材料が形成されてなる磁気記録媒体
に化学吸着膜を設ける製造方法であって、炭素数の異な
る少なくとも２種の末端にフッ化炭素基を有する直鎖状
分子と末端にメチル基を有する直鎖状分子を有する界面
活性剤を非水系有機溶媒に溶解した溶液に磁気記録媒体
を接触させ、次に前記磁気記録媒体上の余分な前記界面
活性剤を有機溶剤によって除去することを特徴とする。
基体に上に磁気記録材料が形成されてなる磁気記録媒体
に化学吸着膜を設ける製造方法であって、炭素数の異な
る少なくとも２種の末端にフッ化炭素基を有する直鎖状
分子と末端にメチル基を有する直鎖状分子を有する界面
活性剤を非水系有機溶媒に溶解した溶液に磁気記録媒体
を接触させ、次に前記磁気記録媒体上の余分な前記界面
活性剤を有機溶剤によって除去することを特徴とする。
【０００９】前記本発明方法においては、炭素数の異な
る少なくとも２種の直鎖状分子のうち、炭素数の多い分
子が末端にメチル基を有し、残る分子の少なくとも１種
が末端にフッ化炭素基を有することが好ましい。また前
記本発明方法においては、炭素数の異なる少なくとも２
種の直鎖状分子の炭素数差が１以上１５以下であること
が好ましい。
る少なくとも２種の直鎖状分子のうち、炭素数の多い分
子が末端にメチル基を有し、残る分子の少なくとも１種
が末端にフッ化炭素基を有することが好ましい。また前
記本発明方法においては、炭素数の異なる少なくとも２
種の直鎖状分子の炭素数差が１以上１５以下であること
が好ましい。
【００１０】
【作用】前記本発明の構成によれば、磁気記録媒体の少
なくとも一方の表面に、シロキサン結合を介して化学結
合させた化学吸着膜を形成するため、磁気ヘッドや走行
時に接触する各種部材等との摩擦によって、前記化学吸
着膜が削り落とされることなく、滑性耐久性、走行性、
耐摩耗性の優れた磁気記録媒体が得られる。また膜厚が
ナノメーターレベルのきわめて薄い膜であるから、磁気
記録媒体や磁気記録装置本来の機能を損ねることがな
い。
なくとも一方の表面に、シロキサン結合を介して化学結
合させた化学吸着膜を形成するため、磁気ヘッドや走行
時に接触する各種部材等との摩擦によって、前記化学吸
着膜が削り落とされることなく、滑性耐久性、走行性、
耐摩耗性の優れた磁気記録媒体が得られる。また膜厚が
ナノメーターレベルのきわめて薄い膜であるから、磁気
記録媒体や磁気記録装置本来の機能を損ねることがな
い。
【００１１】次に本発明の製造方法によれば、直鎖状界
面活性剤は分子末端にクロロシリル基があるため、水分
に対して極めて活性であるが、水分を極めて低く管理し
た条件で反応を行うので、磁気記録媒体の酸化膜表面の
水酸基と分子末端のクロロシリル基とが脱塩酸反応して
金属酸化物表面に化学結合した１分子長の厚みの薄膜が
一様に形成される。また、分子長を変えることによっ
て、磁気記録媒体と磁気ヘッドが接触した場合の接触面
積を下げることができ、摩擦や摩耗を抑えることができ
る。さらに、分子長の小さい分子にフッ化炭素基を有す
る界面活性材を用いることにより、分子同志の摩擦摩耗
を低減できるともに、撥水・撥油効果を膜にもたせるこ
とができる。
面活性剤は分子末端にクロロシリル基があるため、水分
に対して極めて活性であるが、水分を極めて低く管理し
た条件で反応を行うので、磁気記録媒体の酸化膜表面の
水酸基と分子末端のクロロシリル基とが脱塩酸反応して
金属酸化物表面に化学結合した１分子長の厚みの薄膜が
一様に形成される。また、分子長を変えることによっ
て、磁気記録媒体と磁気ヘッドが接触した場合の接触面
積を下げることができ、摩擦や摩耗を抑えることができ
る。さらに、分子長の小さい分子にフッ化炭素基を有す
る界面活性材を用いることにより、分子同志の摩擦摩耗
を低減できるともに、撥水・撥油効果を膜にもたせるこ
とができる。
【００１２】
【実施例】本発明の磁気記録媒体としては磁気テ−プ、
光磁気記録ディスク、ハ−ドディスク等があり、磁気記
録媒体に使用しうる基体としては、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリ
フェニレンサルファイド、ポリ塩化ビニル、酢酸セルロ
ース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリアミド等の高分子材料、非磁性金
属材料、ガラス、磁器等のセラミック材料等周知の材料
からなるフィルム、板等がある。また、磁気記録材料と
しては、周知の任意の材料が使用でき、例えば鉄、コバ
ルト、ニッケルの１種類以上の合金またはこれらと、他
の金属例えばマンガン、クロム、チタン、リン、イトリ
ウム、サマリウム、ビスマス等とを組み合わせた合金が
あり、また、上記金属の酸化物等がある。基体上に磁気
記録材料を形成させるに当たっては、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、メッキ法等任意の周知の方法で形成させ
ることができる。
光磁気記録ディスク、ハ−ドディスク等があり、磁気記
録媒体に使用しうる基体としては、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリ
フェニレンサルファイド、ポリ塩化ビニル、酢酸セルロ
ース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリアミド等の高分子材料、非磁性金
属材料、ガラス、磁器等のセラミック材料等周知の材料
からなるフィルム、板等がある。また、磁気記録材料と
しては、周知の任意の材料が使用でき、例えば鉄、コバ
ルト、ニッケルの１種類以上の合金またはこれらと、他
の金属例えばマンガン、クロム、チタン、リン、イトリ
ウム、サマリウム、ビスマス等とを組み合わせた合金が
あり、また、上記金属の酸化物等がある。基体上に磁気
記録材料を形成させるに当たっては、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、メッキ法等任意の周知の方法で形成させ
ることができる。
【００１３】本発明の化学吸着膜は、炭素数の異なる少
なくとも２種以上の直鎖状界面活性剤からなり、末端に
メチル基、またはフッ化炭素基を有するクロロシラン系
直鎖状界面活性剤である。例えば、下記に示すような
（化１）の化合物群である。
なくとも２種以上の直鎖状界面活性剤からなり、末端に
メチル基、またはフッ化炭素基を有するクロロシラン系
直鎖状界面活性剤である。例えば、下記に示すような
（化１）の化合物群である。
【００１４】
【化１】
【００１５】前記（化１）の化合物群においては、（化
１）Ａの方が（化１）Ｂより直鎖の炭素数が多いほうが
好ましく、その炭素数差が１以上１５以下であることが
好ましい。さらに、（化１）Ｂのｌの炭素数が０から１
７までの整数であることが好ましい。このような条件を
満たしていれば、３種類以上の界面活性剤を混合するこ
とも可能である。また、低級アルキル基置換のジクロロ
シラン系、あるいは、モノクロロシラン系を用いても同
様な化学吸着膜を形成することができる。さらに、上記
クロロシラン界面活性剤以外のハロゲン化シラン界面活
性剤や、シリコン以外のチタン等の界面活性剤、つま
り、クロロチタン界面活性剤等でも同様の効果が得られ
る。
１）Ａの方が（化１）Ｂより直鎖の炭素数が多いほうが
好ましく、その炭素数差が１以上１５以下であることが
好ましい。さらに、（化１）Ｂのｌの炭素数が０から１
７までの整数であることが好ましい。このような条件を
満たしていれば、３種類以上の界面活性剤を混合するこ
とも可能である。また、低級アルキル基置換のジクロロ
シラン系、あるいは、モノクロロシラン系を用いても同
様な化学吸着膜を形成することができる。さらに、上記
クロロシラン界面活性剤以外のハロゲン化シラン界面活
性剤や、シリコン以外のチタン等の界面活性剤、つま
り、クロロチタン界面活性剤等でも同様の効果が得られ
る。
【００１６】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、直鎖
状界面活性剤の非水系有機溶液に浸漬する工程と前記磁
気記録媒体上の余分な前記界面活性剤を有機溶剤によっ
て除去する工程とからなる。両工程において、界面活性
剤中のクロロシリル基は水分に対して極めて活性である
ため、乾燥窒素ガス等によってできるだけ乾燥状態に管
理する必要があり、湿度２５％以下に管理された雰囲気
で行われることが好ましい。前記工程において、磁気記
録媒体の全表面に水酸基の露出が少なく、全表面を一様
に直鎖状界面活性剤からなる化学吸着膜で覆うことが難
しい場合は、直鎖状界面活性剤からなる溶液に浸漬する
前に、たとえば、ＳｉＣｌ4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2
Ｃｌ2 、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2 Ｏ）n −ＳｉＣｌ3 （但し
式中ｎは自然数）、ＳｉＣｌm （ＣＨ3 ）4-m 、ＳｉＣ
ｌm （Ｃ2 Ｈ5 ）4-m （ただし式中ｍは１〜３の整
数）、ＨＳｉＣｌl （ＣＨ3 ）3-l 、ＨＳｉＣｌl （Ｃ
2 Ｈ5 ）3-l （但し式中ｌは１又は２）等のようなクロ
ロシリル結合を複数個含む物質を磁気記録媒体表面に化
学吸着させた後、水と反応すると表面のクロロシリル結
合が親水性のシラノール結合に変わり、基体表面が親水
性となる。なお、このクロロシリル基を複数個含む物質
の中でも、テトラクロロシラン（ＳｉＣｌ4 ）は反応性
が高く分子量も小さいためより高密度にシラノール結合
を付与できるため好ましい。このようにして親水性化し
た後、直鎖状界面活性剤に浸漬し化学吸着膜を形成する
ことができる。
状界面活性剤の非水系有機溶液に浸漬する工程と前記磁
気記録媒体上の余分な前記界面活性剤を有機溶剤によっ
て除去する工程とからなる。両工程において、界面活性
剤中のクロロシリル基は水分に対して極めて活性である
ため、乾燥窒素ガス等によってできるだけ乾燥状態に管
理する必要があり、湿度２５％以下に管理された雰囲気
で行われることが好ましい。前記工程において、磁気記
録媒体の全表面に水酸基の露出が少なく、全表面を一様
に直鎖状界面活性剤からなる化学吸着膜で覆うことが難
しい場合は、直鎖状界面活性剤からなる溶液に浸漬する
前に、たとえば、ＳｉＣｌ4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2
Ｃｌ2 、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2 Ｏ）n −ＳｉＣｌ3 （但し
式中ｎは自然数）、ＳｉＣｌm （ＣＨ3 ）4-m 、ＳｉＣ
ｌm （Ｃ2 Ｈ5 ）4-m （ただし式中ｍは１〜３の整
数）、ＨＳｉＣｌl （ＣＨ3 ）3-l 、ＨＳｉＣｌl （Ｃ
2 Ｈ5 ）3-l （但し式中ｌは１又は２）等のようなクロ
ロシリル結合を複数個含む物質を磁気記録媒体表面に化
学吸着させた後、水と反応すると表面のクロロシリル結
合が親水性のシラノール結合に変わり、基体表面が親水
性となる。なお、このクロロシリル基を複数個含む物質
の中でも、テトラクロロシラン（ＳｉＣｌ4 ）は反応性
が高く分子量も小さいためより高密度にシラノール結合
を付与できるため好ましい。このようにして親水性化し
た後、直鎖状界面活性剤に浸漬し化学吸着膜を形成する
ことができる。
【００１７】本発明に用いる非水系溶媒は、クロロシラ
ン系界面活性剤と反応する活性水素を持たない有機溶媒
であればよい。その例としては１，１−ジクロロ，１−
フルオロエタン、１，１−ジクロロ，２，２，２−トリ
フルオロエタン、１，１−ジクロロ，２，２，３，３，
３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ，１，
１，２，２，３−ヘプタフルオロプロパン等のフッ素系
溶媒、たとえばヘキサン、オクタン、ヘキサデカン、シ
クロヘキサン等の炭化水素系溶媒、たとえばジブチルエ
ーテル、ジベンジルエーテル等のエーテル系溶媒、例え
ば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ア
ミル等エステル系溶媒の何れかが好ましい。
ン系界面活性剤と反応する活性水素を持たない有機溶媒
であればよい。その例としては１，１−ジクロロ，１−
フルオロエタン、１，１−ジクロロ，２，２，２−トリ
フルオロエタン、１，１−ジクロロ，２，２，３，３，
３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ，１，
１，２，２，３−ヘプタフルオロプロパン等のフッ素系
溶媒、たとえばヘキサン、オクタン、ヘキサデカン、シ
クロヘキサン等の炭化水素系溶媒、たとえばジブチルエ
ーテル、ジベンジルエーテル等のエーテル系溶媒、例え
ば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ア
ミル等エステル系溶媒の何れかが好ましい。
【００１８】以下に、本発明の代表例を示す。 実施例１ 界面活性材には信越化学工業株式会社製オクタデシルト
リクロロシランおよび東芝シリコン株式会社製ヘプタフ
ルオロエチルトリクロロシランを用いた。前記界面活性
剤を１：１のモル比でアルドリッチ製ヘキサデカン、関
東化学株式会社製クロロホルムおよび四塩化炭素の非水
系混合溶媒（重量比８０：１２：８）に１ミリモル／リ
ットルとなるように溶かし、界面活性剤溶液２を作成し
た。前記溶液は密閉したポリテトラフルオロエチレン容
器に保存した。次に、乾燥窒素ガスによって湿度１０％
の乾燥状態に保ったグローブバック内に、基体浸漬用の
シャーレ１を入れ、シャーレ１内に前記界面活性剤溶液
２を入れた。基材として加工洗浄の終えた磁気記録媒体
としてハードディスク３を用い、界面活性剤溶液２に１
時間浸漬した（図１）。ハードディスクの最表面には酸
化物からなる膜が形成されており、酸化膜４表面には多
くの水酸基５が露出している（図２）。１時間の浸漬に
より、ハードディスク表面の水酸基５とトリクロロシリ
ル基との脱塩酸反応が十分進み、下記に示すような（化
２）、（化３）のシロキサン結合が形成され、化学吸着
膜６によってよって一様に覆われた。
リクロロシランおよび東芝シリコン株式会社製ヘプタフ
ルオロエチルトリクロロシランを用いた。前記界面活性
剤を１：１のモル比でアルドリッチ製ヘキサデカン、関
東化学株式会社製クロロホルムおよび四塩化炭素の非水
系混合溶媒（重量比８０：１２：８）に１ミリモル／リ
ットルとなるように溶かし、界面活性剤溶液２を作成し
た。前記溶液は密閉したポリテトラフルオロエチレン容
器に保存した。次に、乾燥窒素ガスによって湿度１０％
の乾燥状態に保ったグローブバック内に、基体浸漬用の
シャーレ１を入れ、シャーレ１内に前記界面活性剤溶液
２を入れた。基材として加工洗浄の終えた磁気記録媒体
としてハードディスク３を用い、界面活性剤溶液２に１
時間浸漬した（図１）。ハードディスクの最表面には酸
化物からなる膜が形成されており、酸化膜４表面には多
くの水酸基５が露出している（図２）。１時間の浸漬に
より、ハードディスク表面の水酸基５とトリクロロシリ
ル基との脱塩酸反応が十分進み、下記に示すような（化
２）、（化３）のシロキサン結合が形成され、化学吸着
膜６によってよって一様に覆われた。
【００１９】
【化２】
【００２０】
【化３】
【００２１】このとき、ハードディスク上に形成された
薄膜を構成している界面活性剤の比率は、浸漬溶液を作
成した界面活性剤の混合比率とほぼ同じであることを確
認した。つぎに、前記グローブバック内を同様に湿度１
０％に管理し、クロロホルムの入った洗浄容器７を入
れ、界面活性剤溶液から取り出したハードディスク３を
洗浄容器７に入れ、スターラーによる撹拌洗浄を１５分
間、さらにクロロホルムを替えて２回行った（図４）。
この操作で、ハードディスク上に化学結合せず物理吸着
している界面活性材は取り除かれる。これら一連の処理
によって、ハ−ドディスク上にオクタデシルトリクロロ
シランおよびヘプタフルオロエチルトリクロロシランか
らなる界面活性剤の分子長分の膜厚（この場合は約２．
５ナノメートル）で化学吸着膜６が形成された。この薄
膜形成されたハードディスクの動摩擦係数は、２０ｇ荷
重の測定において２００回の摺動後で０．１以下とな
り、実用に耐え得ることが確認できた。
薄膜を構成している界面活性剤の比率は、浸漬溶液を作
成した界面活性剤の混合比率とほぼ同じであることを確
認した。つぎに、前記グローブバック内を同様に湿度１
０％に管理し、クロロホルムの入った洗浄容器７を入
れ、界面活性剤溶液から取り出したハードディスク３を
洗浄容器７に入れ、スターラーによる撹拌洗浄を１５分
間、さらにクロロホルムを替えて２回行った（図４）。
この操作で、ハードディスク上に化学結合せず物理吸着
している界面活性材は取り除かれる。これら一連の処理
によって、ハ−ドディスク上にオクタデシルトリクロロ
シランおよびヘプタフルオロエチルトリクロロシランか
らなる界面活性剤の分子長分の膜厚（この場合は約２．
５ナノメートル）で化学吸着膜６が形成された。この薄
膜形成されたハードディスクの動摩擦係数は、２０ｇ荷
重の測定において２００回の摺動後で０．１以下とな
り、実用に耐え得ることが確認できた。
【００２２】実施例２ 厚さ２０μｍのポリイミドフィルム基板上に、真空蒸着
法によりコバルト（９０wt％）−クロム（１０wt％）か
らなる膜厚１５０ｎｍの強磁性金属薄膜を作成した。こ
の強磁性金属薄膜を形成した基板から１００ｍｍ×１０
０ｍｍの大きさの片を切取り、信越化学工業株式会社製
オクタデシルトリクロロシランおよび東芝シリコン株式
会社製ヘプタフルオロエチルトリクロロシランを１：１
のモル比でアルドリッチ製ヘキサデカン、関東化学株式
会社製クロロホルムおよび四塩化炭素の非水系混合溶媒
（重量比８０：１２：８）に１ミリモル／リットルとな
るように溶かした界面活性剤溶液に、乾燥窒素ガスによ
って湿度１０％の乾燥状態に保ったグローブバック内
で、１時間浸漬し、引き続いて未反応の界面活性剤をク
ロロホルムで洗浄した。オクタデシルトリクロロシラン
およびヘプタフルオロエチルトリクロロシランからなる
界面活性剤がシロキサン結合を介して化学吸着膜を前記
強磁性金属薄膜表面に形成した。用いた界面活性剤の分
子長分の膜厚（この場合は約２．５ナノメートル）で化
学吸着膜が形成されており、この薄膜形成されたハード
ディスクの動摩擦係数は、２０ｇ荷重の測定において２
００回の摺動後で０．１以下となり、実用に耐え得るこ
とが確認できた。
法によりコバルト（９０wt％）−クロム（１０wt％）か
らなる膜厚１５０ｎｍの強磁性金属薄膜を作成した。こ
の強磁性金属薄膜を形成した基板から１００ｍｍ×１０
０ｍｍの大きさの片を切取り、信越化学工業株式会社製
オクタデシルトリクロロシランおよび東芝シリコン株式
会社製ヘプタフルオロエチルトリクロロシランを１：１
のモル比でアルドリッチ製ヘキサデカン、関東化学株式
会社製クロロホルムおよび四塩化炭素の非水系混合溶媒
（重量比８０：１２：８）に１ミリモル／リットルとな
るように溶かした界面活性剤溶液に、乾燥窒素ガスによ
って湿度１０％の乾燥状態に保ったグローブバック内
で、１時間浸漬し、引き続いて未反応の界面活性剤をク
ロロホルムで洗浄した。オクタデシルトリクロロシラン
およびヘプタフルオロエチルトリクロロシランからなる
界面活性剤がシロキサン結合を介して化学吸着膜を前記
強磁性金属薄膜表面に形成した。用いた界面活性剤の分
子長分の膜厚（この場合は約２．５ナノメートル）で化
学吸着膜が形成されており、この薄膜形成されたハード
ディスクの動摩擦係数は、２０ｇ荷重の測定において２
００回の摺動後で０．１以下となり、実用に耐え得るこ
とが確認できた。
【００２３】なお、以上の実施例では、ハ−ドディス
ク、磁気テ−プについて示したが、本発明の磁気記録媒
体は磁気ディスク、磁気カ−ド、光磁気記録ディスク等
にも適用できることが明らかである。またたとえば磁気
テープなどにおいては、本発明の化学吸着膜を記録材料
層側に形成してもよいし、裏面の樹脂基材層側に形成し
てもよい。
ク、磁気テ−プについて示したが、本発明の磁気記録媒
体は磁気ディスク、磁気カ−ド、光磁気記録ディスク等
にも適用できることが明らかである。またたとえば磁気
テープなどにおいては、本発明の化学吸着膜を記録材料
層側に形成してもよいし、裏面の樹脂基材層側に形成し
てもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上説明した通り本発明によれば、前記
磁気記録媒体の少なくとも一方の表面に、炭素数の異な
る少なくとも２種以上の直鎖状分子をシロキサン結合で
化学結合させた化学吸着膜を形成することにより、磁気
ヘッドや磁気テープなどの磁気記録媒体の走行時に接触
する各種部材等との摩擦によって、前記化学吸着膜が削
り落とされることがなく、滑性耐久性、走行性、耐摩耗
性にすぐれ、それを長期間維持することができる。この
化学吸着膜が、末端にフッ化炭素基、または、メチル基
を有する炭素数の異なる直鎖状クロロシラン系界面活性
剤であり、それぞれの界面活性剤の分子長を変えること
によって、磁気記録媒体と磁気ヘッドが接触した場合の
接触面積を下げることができ、摩擦摩耗を抑えることが
できる。さらに、分子長の小さい分子にフッ化炭素基を
有する界面活性材を用いることにより、分子同士の摩擦
摩耗を低減できるともに、撥油効果を膜にもたせること
ができる。
磁気記録媒体の少なくとも一方の表面に、炭素数の異な
る少なくとも２種以上の直鎖状分子をシロキサン結合で
化学結合させた化学吸着膜を形成することにより、磁気
ヘッドや磁気テープなどの磁気記録媒体の走行時に接触
する各種部材等との摩擦によって、前記化学吸着膜が削
り落とされることがなく、滑性耐久性、走行性、耐摩耗
性にすぐれ、それを長期間維持することができる。この
化学吸着膜が、末端にフッ化炭素基、または、メチル基
を有する炭素数の異なる直鎖状クロロシラン系界面活性
剤であり、それぞれの界面活性剤の分子長を変えること
によって、磁気記録媒体と磁気ヘッドが接触した場合の
接触面積を下げることができ、摩擦摩耗を抑えることが
できる。さらに、分子長の小さい分子にフッ化炭素基を
有する界面活性材を用いることにより、分子同士の摩擦
摩耗を低減できるともに、撥油効果を膜にもたせること
ができる。
【図１】 本発明の磁気記録媒体表面に化学吸着膜を形
成するための製造方法の工程概念図である。
成するための製造方法の工程概念図である。
【図２】 本発明の磁気記録媒体の第１の実施例を説明
するために磁気記録媒体表面を分子レベルまで拡大した
処理前の断面概念図である。
するために磁気記録媒体表面を分子レベルまで拡大した
処理前の断面概念図である。
【図３】 本発明の磁気記録媒体の第１の実施例を説明
するために磁気記録媒体表面を分子レベルまで拡大した
処理後の断面概念図である。
するために磁気記録媒体表面を分子レベルまで拡大した
処理後の断面概念図である。
【図４】 本発明の磁気記録媒体表面に化学吸着膜形成
後、余分な界面活性剤を洗浄するための製造方法の工程
概念図である。
後、余分な界面活性剤を洗浄するための製造方法の工程
概念図である。
１ シャーレ ２ 界面活性剤溶液 ３ ハードディスク ４ 酸化膜 ５ 水酸基 ６ 化学吸着膜 ７ 洗浄容器
Claims (6)
- 【請求項１】 基体の上に磁気記録材料が形成されてな
る磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体の少なくと
も一方の表面に、炭素数の異なる少なくとも２種の直鎖
状分子がシロキサン結合を介して結合され化学吸着膜を
形成してなり、前記炭素数の異なる少なくとも２種の直
鎖状分子が、少なくとも末端にフッ化炭素基を有する分
子と末端にメチル基を有する分子であることを特徴とす
る磁気記録媒体。 - 【請求項２】 炭素数の異なる少なくとも２種の直鎖状
分子のうち、炭素数の多い分子が末端にメチル基を有
し、残る分子の少なくとも１種が末端にフッ化炭素基を
有する請求項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 炭素数の異なる少なくとも２種の直鎖状
分子の炭素数差が１以上１５以下である請求項１に記載
の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 基体に上に磁気記録材料が形成されてな
る磁気記録媒体に化学吸着膜を設ける製造方法であっ
て、炭素数の異なる少なくとも２種の末端にフッ化炭素
基を有する直鎖状分子と末端にメチル基を有する直鎖状
分子を有する界面活性剤を非水系有機溶媒に溶解した溶
液に磁気記録媒体を接触させ、次に前記磁気記録媒体上
の余分な前記界面活性剤を有機溶剤によって除去するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】 炭素数の異なる少なくとも２種の直鎖状
分子のうち、炭素数の多い分子が末端にメチル基を有
し、残る分子の少なくとも１種が末端にフッ化炭素基を
有する請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】 炭素数の異なる少なくとも２種の直鎖状
分子の炭素数差が１以上１５以下である請求項４に記載
の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9891191A JP2846746B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| KR1019920001353A KR0138251B1 (ko) | 1991-02-05 | 1992-01-30 | 자기기록매체 및 그 제조방법 |
| DE69207784T DE69207784T2 (de) | 1991-02-05 | 1992-02-03 | Magnetischer Aufzeichnungsträger und Verfahren zu seiner Herstellung |
| EP19920101718 EP0498338B1 (en) | 1991-02-05 | 1992-02-03 | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| CA 2060629 CA2060629C (en) | 1991-02-05 | 1992-02-04 | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| US08/155,244 US5443901A (en) | 1991-02-05 | 1993-11-22 | Magnetic recording medium having an adsorbed film of molecules comprising two species of straight carbon chain molecules |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9891191A JP2846746B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04328321A JPH04328321A (ja) | 1992-11-17 |
| JP2846746B2 true JP2846746B2 (ja) | 1999-01-13 |
Family
ID=14232316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9891191A Expired - Lifetime JP2846746B2 (ja) | 1991-02-05 | 1991-04-30 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2846746B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06274859A (ja) * | 1993-03-18 | 1994-09-30 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
| KR101100380B1 (ko) * | 2009-06-10 | 2011-12-30 | 도레이첨단소재 주식회사 | 기재의 표면을 고소수성으로 처리하는 표면처리방법 |
| JP5747530B2 (ja) * | 2011-02-01 | 2015-07-15 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレートの製造方法及び液体噴出ヘッド |
-
1991
- 1991-04-30 JP JP9891191A patent/JP2846746B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04328321A (ja) | 1992-11-17 |
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Legal Events
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