KR920013755A - 멀티게이트를 사용한 모스 트랜지스터 및 그 제조방법 - Google Patents

멀티게이트를 사용한 모스 트랜지스터 및 그 제조방법 Download PDF

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KR920013755A
KR920013755A KR1019900022046A KR900022046A KR920013755A KR 920013755 A KR920013755 A KR 920013755A KR 1019900022046 A KR1019900022046 A KR 1019900022046A KR 900022046 A KR900022046 A KR 900022046A KR 920013755 A KR920013755 A KR 920013755A
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KR
South Korea
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gate
forming
etching
oxide film
manufacturing
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Application number
KR1019900022046A
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Inventor
차건업
Original Assignee
문정환
금성일렉트론 주식회사
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

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내용 없음

Description

멀티게이트를 사용한 모스 트랜지스터 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명 채널의 길이방향으로 게이트를 배열한 모스 트랜지스터의 단면도 및 등가회로도. 제3도는 본 발명 채널의 폭방향으로 게이트를 배열한 모스트랜지스터의 등가회로도.

Claims (2)

  1. 채널의 길이방향으로 다수의 게이트를 배열하거나 수직 방향으로 다수의 게이트를 배열하여서 된 멀티게이트를 사용한 모스 트랜지스터.
  2. 기판위에 산화막, 질화막을 형성하고 마스킹 공정에 의해 선택적 식각한 후 필드산화막을 형성하는 공정과, 상기 산화막, 질화막을 제거하고 이온 주입 후 게이트 산화막, 제1폴리실리콘을 형성하는 공정과, 게이트 마스크 및 식각을 하고 제2게이트 산화막을 형성한 후 제2폴리실리콘을 형성하는 공정과, 제2게이트 마스크를 실시하고 식각하여 측벽스페이서를 형성한 후 N+이온 주입으로 소오스/드레인을 형성하는 공정을 차례로 실시하여서 이루어짐을 특징으로 하는 멀티게이트를 사용한 모스트랜지스터의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900022046A 1990-12-27 1990-12-27 멀티게이트를 사용한 모스 트랜지스터 및 그 제조방법 KR920013755A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100808600B1 (ko) * 2006-12-28 2008-02-29 주식회사 하이닉스반도체 모스 트랜지스터

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