KR920009008A - 레이저 다이오드의 제조방법 - Google Patents

레이저 다이오드의 제조방법 Download PDF

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KR920009008A
KR920009008A KR1019900016460A KR900016460A KR920009008A KR 920009008 A KR920009008 A KR 920009008A KR 1019900016460 A KR1019900016460 A KR 1019900016460A KR 900016460 A KR900016460 A KR 900016460A KR 920009008 A KR920009008 A KR 920009008A
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KR
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laser diode
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KR1019900016460A
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Inventor
김종열
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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내용 없음

Description

레이저 다이오드의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도의 (A)-(D)는 이 발명에 따른 TS형 레이저 다이오드의 제조공정도이다.

Claims (4)

  1. 제 1도전형의 반도체 기판 (1)상에 제2도전형의 반도체층을 형성한후 소정부분을 기판(1)과 함께 메사에칭하여 제1전류저한층(7)을 형성하는 공정과: 상기 구조의 전표면에 사기 제1전류제한층(7)과 동일한 층을 형성한 후 통상의 방법에 의해 메사에칭하여 제2전류제한층(8)을 형성하는 공정과: 상기 기판(1)과 제1,제2전류제한층(7),(8)의 상부에 제1도전형의 제1클레드층(2). 제1또는 제2도전형의 활성층(3), 제2도전형의 제2클레드층(4) 및 제2도전형의 캡층 (9)을 순차적으로 형성하는 공정과: 상기 캡층 (9) 상부에 제2도전형의 전극 (10)을. 상기 기판 (1) 하부에 제1도전형의 전극 (11)을 각각 형성하는 공정과;로 되는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 각각의 층들의 MBE또는 MOCVD방법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1클레드층 (2)은 상기 제1, 제2전류제한층 (7), (8)의 상부보다 노출된 기판(1) 상부에서 두껍게 형성함을 특징으로 하는 레이저 다이오드의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 활성층 (3)은, 상기 제1, 제2 클레드층 (2). (4)보다 굴절률이 큰 물질로 형성함을 특징으로 하는 레이저 다이오드의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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