KR920008475B1

KR920008475B1 - 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치

Info

Publication number: KR920008475B1
Application number: KR1019890011818A
Authority: KR
Inventors: 이쯔오 다까나시; 신따로 나까가끼; 히로히꼬 시노나가; 쯔또우 아사꾸라; 마사또 후루야; 히로미찌 다이
Original assignee: 니뽕 빅터 가부시끼가이샤; 다까노 시즈오
Priority date: 1988-08-19
Filing date: 1989-08-19
Publication date: 1992-09-30
Also published as: EP0356174B1; US4945423A; EP0356174A2; DE68921686T2; KR900003953A; DE68921686D1; EP0356174A3

Abstract

내용 없음.

Description

전하 잠상 기록매체를 위한 재생 장치

제1도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제1실시예를 나타내는 구성도.

제2도는 제1도의 실시예에서 사용되는 판독 헤드의 한 예를 나타내는 단면도.

제3도는 제1도의 실시예에서 사용되는 판독 헤드의 다른 예를 나타내는 단면도.

제4도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제2실시예를 나타내는 구성도.

제5도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제3실시예를 나타내는 구성도.

제6도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제4실시예를 나타내는 구성도.

제7도는 3색 분해상을 얻을 수 있는 본 발명의 재생 장치에 대한 제5실시예를 나타내는 사시도.

제8도는 기록매체로의 전하 잠상 기록 상태를 나타내는 설명도.

제9도는 3색 분해계의 구성을 나타내는 평면도.

제10도는 그 사시도.

제11도는 3색으로 분해된 전하 잠성의 기록 영역에 대한 설명도.

제12도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제6실시에를 나타내는 구성도.

제13도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제1실시에를 나타내는 구성도.

제14도는 금속 반사경의 변형예를 나타내는 평면도.

제15도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제8실시에를 나타내는 구성도.

제16도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제9실시에를 나타내는 구성도.

제17도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제10실시에를 나타내는 구성도.

제18도는 제17도에 나타낸 실싱예에 있어서 판독 헤드의 반사경을 나타내는 사시도.

제19도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제11실시에를 나타내는 구성도.

제20도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제2실시에를 나타내는 구성도.

제21도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제13실시예에 있어서 판독 헤드 부분을 나타내는 확대 단면도.

제22도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제14실시예를 나타내는 구성도.

제23도는 제22도에 사용되는 판독 헤드의 동작 원리를 나타내는 설명도.

제24도는 제22도에 사용되는 판독 헤드의 감도를 나타내는 그래프.

제25도는 판독 헤드의 감도 조절을 나타내는 그래프.

제26도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제15실시예에 있어서 판독 헤드의 유전체 반사막을 나타내는 구성도

제27도는 제26도에 나타낸 유전체 반사막의 작용을 나타내는 그래프.

제28도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제16실시예를 나타내는 구성도.

제29도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제17실시예를 나타내는 구성도.

제30도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제18실시예를 나타내는 구성도.

제31도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제19실시예를 나타내는 구성도.

제32도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제20실시예를 나타내는 구성도.

제33도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제21실시예를 나타내는 구성도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

RL : 판독광 PS : 판독광의 광원

RM : 기록 매체 PL : 편광자

CHL : 투명 전하 잠상지지 부재 Hr : 광학적 판독 헤드

BP : 기판 Etr : 투명 전극

PML : 광 변조층 부재 AL : 검광자

PDEF : 광 편향기

본 발명은 전하 잠상 기록매체를 위한 재생 장치에 관한다.

최근에 고 화질, 고 해상도의 재생 화상에 대하는 요망이 높아지는데 따라 텔레비젼 방식에 대하여도 이른바 EDTV, HDTV 등의 새로운 제방식이 제안되어 오고 있는 것은 주지하고 있는 바와 같아. 고 화면, 고 해상도의 재생 화상을 얻을 수 있도록 하기 위하여는 고 화질, 고 해상도의 재생화상을 재생시키도록 영상신호를 발생시킬 수 있는 촬상 장치가 필요하게 된다.

그러나 종래의 촬상관이 사용되고 있는 촬상 장치에서는 그러한 영상 신호의 발생은 곤란하다. 이것은 촬상관에 있어서 전자 비임 경의 미소화에 한계가 있으므로 전자 비임경의 미소화에 의한 고 해상도화가 요망되지 않는다. 따라서 타겟트 면적의 증대에 의한 고 해상도화도 실현할 수 없기 때문이다. 한편 예를 들면 동화의 촬상 장치의 경우에는 고 해상도화에 따라 영상 신호의 주파수 대역이 수 ＋㎒ 내지 수백 ㎒ 이상으로 되지만, 이 점에서도 출력 용량의 증가 즉 타겟트 면적을 크게 하는 것을 바람직하지 않다.

이와 같이, 종래의 촬상 장치는 그것의 구성상 불가결한 촬상 소자의 존재에 의하여 고 화질, 고 해상도의 재생 화상을 재생시키도록 영상 신호를 양호하게 발생시킬 수 없었다.

이것을 해결하기 위하여 본 출원인 회사에서는 먼저 광-광 변환 소자를 사용한 촬상 장치에 의하여 고해상도의 광학상을 얻고, 그 광학상을 광, 전하 변환 소자를 사용하여 전하 축적층(또는 전하 지지층)을 가지는 기록 매체에 고 해상도를 가지는 전하상으로서 기록되도록 한 촬상 방식 및 기록 방식에 대하여 제안을 행하였다. (US p4,831,452)

그런데 이러한 본 출원인 회사에 의한 촬상 방식 및 기록 방식의 실시 때에는, 기록 매체에 기록된 전하상을 전기 신호로서 판독하는 것이 필요하게 되지만, 그를 위한 재생 장치는 종래 뛰어난 것을 얻을 수 없었다.

본 발명의 목적은 기록 매체에 기록된 전하상을 전기 신호로서 판독할 수 있는 재생 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 이러한 재생 장치에 적합한 판독 헤드를 제공하는 것이다.

전자 방사선원에서 전자 방사선을 판독하여 대상 정보가 전하 잠상으로서 미리 기록되어 있는 기록 매체 방향으로 이끄는 광학계와, 상기 기록 매체에 대향하도록 근접 배치되며, 상기 전자 방사선의 진행 방향으로 배치된 판독 헤드를 갖추며, 상기 판독 헤드는 지지 기관과, 상기 기록 매체의 전하 잠상에 의한 전계의 강도에 따라 통과하는 상기 전자 방사선에 모드 변조를 발생시키는 광 변조재층과, 이 광 변조재층에 대하여 소정의 전계를 부여하고 판독 파장역의 전자 방사선을 받으며, 광 변조재층에 향하여 투과시키는 전극이 적층되고, 상기 기록 매체에 근접 대향하여 있으며, 상기 전극과 광 변조재층 통과하여 온 전자 방사선을 사출시키는 출사면을 갖추며, 출사면에서 출사한 모드 변조시킨 전자 방사선을 프로세스하기 위한 프로세스 수단을 갖춘 것을 특징으로 하는 전하 잠상 기록 매체를 재생 장치가 제공된다.

제1도는 본 발명의 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치의 한 실시 예를 나타내는 설명도이다. PS는 판독 광 RL 즉 기록 매체에 기록되어 있던 정보의 판독(재생)에 사용되는 전자 방사선의 발생 원이다. 본 명세서 중에 기재하는 실시 예에서는 전자 방사선원으로서 레이저 광원을 사용하고 있다. 또한 전자 방사선과 는 본 발명 전체를 통하여 광 외의 광, 즉 전자파라 불리는 방사선의 전 스펙틀 영역(r선,x선 등의 영역에서 라디오 파의 파장까지를 포함하는 영역)의 방사선을 의미하고 있다. 판독광(RL)의 진행 방향으로는 편광자(PL)가 위치하고 있다. 이 편광자(PL)는 판독광의 광원(PS)이 소정의 직선 편광을 방사하고 있는 경우에는 불필요하게 된다. 판독광(RL)의 또 다른 진행 방향에는 광학적 판독 헤드(Hr)및 기록 정보를 전하 잠상형으로 기록하고 있는 기록 매체(RM)가 배치되어 있다. 이 기록 매체(RM)는 판독광(RM)는 판독광(RL)을 투과시킬 수 있는 투명 전극(예를 들면 ITO (indium-tin oxide)막에 의한 투명 전극)(Et)과 판독광(RL)을 투과시킬 수 있는 투명한 전하 잠상 지지부재(CHL)를 적층한 구성의 것이다. 기록 매체(RM)에 있어서 전하 잠상 지지 부재(CHL)로서는 그것에 형성된 전하 잠상을 장기간에 걸쳐 지지하도록 높은 절연성을 가지고, 판독 광의 파장역 광을 투과시키도록 재료층이 사용된다. 예를 들면 고 분자 재료에 의하여 형성된 절연층이 사용되어도 좋다.

기록 매체(RM)로서는 테이프상, 디스크상, 시트상, 카드상 등의 형태 여하를 문제없이 사용할 수 있으며, 기록 매체(RM)는 리지드한 것으로도 또는 플렉시블한 것으로도 어느 쪽으로도 사용할 수 있다.

판독광(RL)의 진행 방향으로는 파장판(WP), 검광자(AL), 광 검출기(PD)가 직렬 상으로 설치되며 광 검출기(PD)의 출력은 출력 단자(1)에서 취출된다. 파장판(P)은 광학적 판독 헤드(Hr)에 광학적으로 바이어스를 걸을 때에 필요에 따라 설치되는 것이다.

제2도에 나타나 있는 광학적 판독 헤드(Hr)는 판독광(RL)을 투과시키는 재료로서 만들어져 있는 기판(BP), 판독광(RL)을 투과시키는 투명 전극(Etr), 인가된 전압에 의하여 광의 상태를 변화시키는 전기 광학 효과를 가지는 물질(예를 들면 니오브산, 리치움 단결점, LiTaO₃, BSO)의 광 변조층 부재(PML)가 적층되어 광학적 판독헤드(Hr)를 구성하고 있다.

제2도에 나타내는 광학적 판독 헤드(Hr)를 전하 잠상이 형성되어 있는 기록 매체(RM)에 근접 배치하여, 기록 매체(RM)에 있어서 전하 잠상의 전계가 광 변조층 부재(PML)에 부여되도록 하면, 광 변조층 부재(PML)를 구성하고 있는 전기 광학 효과를 가지는 물질의 층이 그것에 부여된 전계에 따라 그 층의 중간을 통과하는 정상 광과 이상 광의 위상 차를 변위 시키도록 동작한다. 그 결과, 입사광의 편광면이 부여된 전계의 강도에 따라 회전한 상태에서 출사된다. 따라서 제2도 구성의 광학적 판독 헤드(Hr)와 기록체(RM)를 직렬 적으로 통과시킨 판독광(RL)을 검광자(AL)에 통과시키면, 기록 매체(RM)의 전하 잠상에 있어서 전하 패턴에 대응한 광의 강약의 패턴을 나타내는 광이 얻어진다.

광 변조층 부재(DML)로서 가한 전계의 크기에 따라 입사광의 산란 정도가 변화하는 산란 타입 액정 또는 산란 타입(PLZT)을 사용하면, 판독광(RL)은 광 강도의 강약으로서 변조시킴으로 광 검자(AL)는 불필요한 산란타입의 액정 또는 PLZT에는 전계가 가한 시산란을 발생하는 것과, 그 역, 즉 전계 0일 때에 산란을 발생시키고, 전계를 가했을 때 산란을 0으로 하는 타입으로 양쪽에 있지만 어느 쪽도 적용 가능하다.

제3도에 나타나 있는 광학적 판독 헤드(Hr)는 판독광(RL)을 투과시키는 투명 전극(Etr)과, 배향막(2)과, 스페이서(4),(5) 사이에 봉입된 전계 산란 효과를 나타내는 네마틱 액정 등의 액정에 의한 광 변조층부재(PML)와, 배향막(3)을 적층하여 구성되어 있다 .

제3도에 나타내는 광학적 판독 헤드(Hr)는 그것을 전하 잠상이 형성되어 있는 기록 매체(RM)에 근접 배치하여, 기록 매체(RM)에 있어서 전하 잠상의 전계가 광 변조층 부재(PML)에 부여하도록 한다. 이 결과 전계의 강도에 따라 다른 여광 효과를 나타내는 네마틱 액정 등의 액정층에서 되는 광 변조용의 재료층이, 그것에 기록 매체(RM)의 전하 잠상에서 부여된 전계에 따라 그 층의 중간을 통과하는 광 여광의 정도를 변화시키도록 동작한다. 제3도에 나타내는 구성의 광학적 판독 헤드(Hr)와 기록 매체(RM)를 직렬 적으로 통과한 판독광(RL)을 검광자(AL)에 통과시키면, 기록 매체(RM)의 전하 잠상에 있어서 전하 패턴에 대응한 광의 강약 패턴을 나타내는 판독광이 얻어진다.

따라서 제1도에 나타나 있는 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치에서, 전하 잠상 지지 부재(CHL)에 전하 잠상이 형성되어 있는 기록 매체(RM)에 광학적 판독 헤드(Hr)를 근접 배치하고 기록 매체(RM)의 투명 전극(Et)과, 광학적 판독 헤드(Hr)의 투명 전극(Etr)을 동전위로서 판독광의 광원(PS)에서 판독광(RL)을 방사하면, 판독광(RL)은 편광자(PL)→광학적 판독 헤드(Hr)→기록 매체(RM)→파장판(WP)→검광자(AL)→광 검출기(PO)의 광로에 의하여 광 검출기(PD)에 부여된다.

기록 매체(RM)에 근접 배치되어 있는 광학적 판독 헤드(Hr)의 광 변조층 부재(PML)에는 기록 매체(RM)에 있어서 전하 잠상 지지 부재(CHL)에 기록되어 있는 전하 잠상의 전계가 부여되어 있다.

따라서 제1도중에 사용되어 있는 광학적 판독 헤드(Hr)가 제2도 또는 제3도의 어느 것인가의 구성상태인 경우에서도, 광학적 판독 헤드(Hr)와 기록 매체(RM)를 직렬 적으로 투과한 판독광은 기록 매체(RM)에 기록되어 있는 전하 잠상에 있어서 전하량의 분포에 따른 전계에 대응하여 개술 하듯이 편광면이 변조되어 있는 상태로 되어 있다. 그래서 검광자(AL)를 통과하여 광 검출기(PD)에 부여되는 기록 매체(RM)에 기록되어 있는 전하 잠상과 대응하여 광 강도가 변화하고 있는 것으로 되어 있다.

따라서 광 검출기(PD)에서 출력 단자(1)에는 기록 매체(RM)에 기록되어 있는 전하 잠상의 전하량 분포와 대응한 전기 신호가 출력된다. 여기서 광학적 판독 헤드(Hr)와 기록 매체(RM)의 양자에 판독광(RL)을 직렬 적으로 투과시키는 순서는 광학적 판독 헤드(Hr)→기록 매체(Hr)와 같은 순서에서도 그 어느 쪽으로도 좋다. 판독광(RL)이 기록되어 있는 전극 상에 대하여 2차원 주사를 행하는 경우는 광 변환기(RM)에 기록되어 있던 전하 잠상에 의한 높은 정세도를 가지는 2차원적인 전하 잠상에 있어서 전하량 분포와 대응하고 있게 되어 있다. 따라서 판독광(RL)으로서, 예를 들면 지경이 1미크론의 레이저 광속을 사용한 경우에는 1000개/1mm로 되는 높은 해상도와 대응하는 영상 신호를 발생할 수 있다. 또 판독광(RL)의 비임 경을 충분히 크게 하고, 기록되어 있는 전하상을 일도로 재조명하고, 대응하는 전광 변환기(PD)로서 고 분해능의 면 구조의 것을 사용하여도 같은 효과를 얻을 수 있다.

제4도 내지 제6도는 본 발명의 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치의 제2내지 제4실시예의 구성도이고, 어느 경우도 광학적 판독 헤드(Hr)와 기록 매체(RM)는 근접 배치되어 있다.

우선 제4도에 나타내어 있는 본 발명의 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치의 제2실시 예는 판독광(RL)의 광원(PS)에서 방사된 판독광(RL)을 필요에 따라 설치하는 편광자(PL)를 투과시키므로 광 편향기(PDEF)에 부여되며, 광 편향기에서 소정의 편향 상태에서 편향된 상태의 광으로서 광학적인 판독 헤드(Hr)와 기록 매체(RM)에 공급하도록 한 것이다.

광 편향기(PDEF)로서는 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치에서 사용되는 광 검출기(PD)가 라이센서의 경우에는 라인센서 한쪽만으로 편향되어 있는 상태의 판독광(RL)을 입사시킬 수 있도록 편향 상태의 것이 사용되며, 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치에서 사용되는 광 검출기(PD)가 2차원 센서의 경우에는 2차원 센서에 직교하는 2방향에 편향되어 있는 상태의 판독광(RL)을 입사시킬 수 있는 편향 상태의 것이 사용된다. 광 편향기(PDEF)에서 소정의 편향상태에서 편향된 판독광(RL)은 렌즈(6)을 거쳐 광학적 판독 헤드(Hr)를 주사하도록 입사된다. 광학적 판독 헤드(Hr)에 있어서 광 변조층 부재(PML)는 기록 매체(RM)에 기록되어 있는 전하 잠상에 있어서 전하량 분포에 의한 전계 분포에 따라 편광면을 변화시킨 상태의 판독광(RL)을 출사시켜, 그 판독광(RL)은 투명한 기록 매체(RM)를 투과한 후에 렌즈(7)를 거쳐 검광자(AL)에 입사된다.

검광자(AL)에서는 그것에 입사된 판독광(RL)의 편광된 회전 상태에 따라, 광 강도가 강약으로 변화하고 있는 기록 매체(RM)에 기록되어 있던 전하 잠상에 있어서 전하량 분포와 상기 주사에 따른 시계열 적인 전기 신호가 출력 단자(1)에 송출된다.

또한 광 편향기(PDEF)에 있어서 광 편향의 상태에 따라 기록 매체(RM)도 소정의 상태에서 부주사(이동)가 행하여진다.

제4도에 나타내는 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치는 그것의 광 편향기(PDEF)에 2차원적인 광편향 동작을 행한 상태로 하여 있으며, 기록 매체(RM)에서 출사한 판독광(RL)을 투사 광학계에 의하여 스크린에 투영하여 이용하는 것도 가능하다.

광 편향기(PDEF)로서는 전기적인 광 편향 수단 또는 회전경 바퀴, 가동경 등을 사용한 기계적인 편향 수단의 어느 것에서도 사용할 수 있다.

다음에 제5도에 나타나 있는 본 발명의 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치의 제3실시 예에서는 판독광의 광원, PS에서 방사된 판독광(RL)은 필요에 따라 설치되어 있는 편광자(PL)에 의하여 소정의 편광면을 가지는 직선 편광으로 된 후에, 렌즈(8)에 의하여 큰 단면적의 비임을 가지는 판독광으로 되어 광학적 판독 헤드(Hr)에 입사된다.

광학적 판독 헤드(Hr)에 있어서 광 변조층 부재(PML)는 기록 매체(RM)에 기록되어 있는 전하 잠상에 있어서 진하량 분포에 의한 전계 분포에 따라 편광면을 변화시키는 상태의 판독광(RL)을 출사시키고, 그 판독광(RL)은 투명한 기록 매체(RM)를 투과한 후에 검광자(AL)에 입사된다.

검광자(AL)에서는 그것에 입사된 판독광(RL)에 있어서 편광면의 회전 상태에 따라 광 강도가 강약으로 변화하고 있는 광을 투사계의 렌즈(9)를 거쳐 스크린(10)에 투사되어 스크린(10)상에 대면적의 2차원적인 광학상을 주사하여 동시적으로 연출시킨다.

다음에 제6도에 나타나 있는 본 발명의 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치의 제4실시예에서는 판독광의 광원(PS)에서 방사된 판독광(RL)은 필요에 따라 설치되어 있는 편광자(PL)에 의하여 소정의 편광면을 가지는 직선 편광으로 된 후에, 실린드리컬 렌즈(11)에 의하여 단면이 1 방향으로 연장하여 있는 직선상 비임의 1개 판독광(RL)으로서 광학적 판독 헤드(Hr)에 입사한다.

광학적 판독 헤드(Hr)에 있어서 광 변조층 부재(PML)는 기록 매체(RM)에 기록되어 있는 전하 잠상에 있어서 전하량 분포에 의한 전계 분포에 따라 편광면을 변화시킨 상태의 1개의 직선상 판독광(RL)을 출사시키고, 그 판독광(RL)은 투명한 기록 매체(RM) 을 투과한 후에 검광자(AL)에 입사시킨다.

검광자(AL)에서는 그것에 입사된 1개의 단면이 직선상 비임의 판독광(RL)에 있어서 편광면 회전의 상태에 따라 광 강도가 강약으로 변화하고 있는 1개의 직선상 광을 라인 센서(12)에서는 기록 매체(RM)에 기록되어 있던 전하 잠상에 있어서 1개의 직선상, 전하량 분포에 따른 시계열 적인 전기 신호가 출력 단자(1)에 송출된다.

그리고 기록 매체(RM)는 1개의 직선상 비임의 판독광(RL)의 연장 방향으로 직교하는 방향(13)에 이동스테이지(13)에 의하여 소정의 이동 상태로서 이동하는 부주사가 행하여져 있다. 그래서, 기록 매체(RM)에 기록되어 있는 2차원적인 광학상은 1개의 직선상의 판독광(RL)이 공급되는 라인 센서(12)에 있어서 주주사와 기록 매체(RM)의 부주사에 의하여 기록 매체(RM)에 기록되어 있던 전하 잠상이 주사되어 얻게 되는 시계열 적인 전기 신호로 되어 라인 센서(12)에서 출력 단자(1)에 보내어진다.

제7도는 피사체의 광학상을 3색 분해 광학계에 의하여 3개의 광학상으로 분해하여 기록 매체(RM)에 3개의 전하 잠상으로서 기록하는 기록계(제7도중의 파선보다도 아래쪽에 나타나 있는 부분)와, 상기 기록계에서 기록 매체(RM)에 기록된 전하 잠상을 재생하는 재생계(제7도중의 파선보다도 위쪽에 나타나 있는 부분)를 갖추고 있는 구성 형태의 본 발명의 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치 제5의 실시 예에 대한 구성도이다. 우선 제8도 내지 제11도를 참조하여 기록 매체(RM)에 전하 잠상을 형성시키는데 사용되는 기록계의 구성과 동작을 설명한다. 제8도에서 기록 매체(RM)는 투명 도전성 재료로서 구성된 전극(Et)과 전하 잠상 지지 부재(CHL)에 의하여 구성되어 있으며, 이 기록 매체(RM)는 필요에 따라 구동 장치에 의하여 이송된다.

기록 헤드(ReH)는 제8도중에는 도시되어 있지 않는 투명한 지지 기관(제7도중에는 부호(BP)로서 나타내어 있다)에, 투명 전극(Etw)과 광 도전층 부재(PCL)를 적층하여 구성시킨 것이다.

우선 제8도에 나타나 있는 컬러 화상의 기록 장치에서 3색 분해 광학계(CSA)를 제거하여 피사체(0)의 광학상을 촬상렌즈(L)에 의하여 기록 헤드(ReH)에 있어서 광도전층 부재(PCL)로 결상 된다. 이 때 기록 헤드(ReH)에 있어서 투명 전극(Etw)와 기록 매체(RM)의 투명 전극(Et)에, 전극(Et)에 접촉하고 있는 전극(E)을 거쳐 전원(Vb)에서 전압을 주면, 기록 헤드(ReH)에 있어서 광 도전층 부재(PCL)의 전기 저항치가, 그것에 결상된 피사체(0)의 광학상에 따라 변화하고 있는 상태로 된다. 이 결과, 기록 헤드(ReH)에 있어서 기록 매체(RM)의 전하 잠상 지지 부재(CHL)에 대면하고 있는 광 도전층 부재(PCL)의 단면에, 피사체의 광학상에 대응하는 전하 잠상이 형성된다. 이 광 도전층 부재(PCL)의 단면에 형성된 전하 잠상은 기록 매체(RM)에 있어서 전하 잠상 지지 부재(CHL)에 전하 잠상으로서 기록된다.

다음에 기록 헤드(Rell)의 전방에 3색 분해 광학계(CSA)를 설치하여 컬러 화상의 기록이 행하여지는 경우에는 기록 헤드(ReH)의 투명 전극(Etw)과 기록 매체(RM)의 투명 전극(Et)에, 상술했듯이 전원(Vb)에서 전압을 부여하여 두고, 피사체(0)의 광학상을 촬상 렌즈(L)와 3색 분해계(CSA)를 거쳐 기록 헤드(ReH)에 있어서 광 도전층 부재(PCL)에 결상시킨다. 기록 헤드(ReH)에 있어서 광 도전층 부재(PCL)의 전기 저항치는 그것에 결상된 피사체(0)의 광학상에 따라 변화하고 있는 상태로 된다. 기록 헤드(ReH)에 있어서 기록 매체(RM)의 전하 잠상 지지 부재(CHL)에 대면하고 있는 광 도전층 부재(PCL)의 단면에는 1개의 피사체의 광학상이 3색 분해 광학계에 의하여 3색으로 분해된 결과로서 서로 색이 다른 3개의 독립한 상에 상당하는 전위 분포가 발생한다. 따라서 기록 매체(RM)에 있어서 전하 잠상 지지 부재(CHL)에는 PCL 단면상의 전위 분포에 전하 잠상 영역의 전하 잠상과 대응하는 전하 잠상이 제11도에 있어서 R,G,B 와 같은 각 영역에 기록된다.

그런데 3색 분해 광학계(CSA)는 그것 전체의 사시도가 제10도에 예시되어 있다. 그것의 구성 원리의 설명도에 대한 평면도가 제9도에 나타내어 있다. 제9도 및 제10도에서 Dp는 적색 광을 반사하여 녹색 광과 청색 광을 투과하는 다이크로익 미러(R면)와, 청색 광을 반사하여 녹색 광과 적색 광을 투과하는 다이크로익 미러(B면)를 직교시켜 구성한 프리즘 형태의 다이크로익 미러(다이크로익 프리즘 Dp)이고, Pr은 전반사면(Mr)을 가지는 프리즘, Pb는 전반사면(Mb)을 가지는 프리즘이다.

제9도에 피사체(0)에서의 광이 촤상 렌즈(L)를 거쳐 상기의 다이크로익 프리즘(Dp)에 입사하면, 다이크로익 프리즘(Dp)으로의 입사광 내에서, 다이크로익 미러(R면)와 다이크로익 미러(B면)의 쌍방을 통과한 피사체의 광학상의 녹색 광성분은 결상면(Ig)에 결상한다. 다이크로익 프리즘(Dp)으로의 입사 광 내에서, 다이크로익 미러(R면)에서 반사한 피사체의 광학상 적색 광 성분은 프리즘(Pr)의 전반사면에서 반사한 후에 프리즘(Pr)중을 통과하여, 상기 결상면(Ig)과 동일의 평면내이고, 상기의 결상면(Ig)에 근접하여 있는 결상면(Ir)에 결상한다. 다이크로익 프리즘(DP)으로의 입사광 내에서 다이크로익 미러(B면)에서 반사한 피사체의 광학상 청색 광 성분은 프리즘(Pb)의 전반사면으로 반사한 후에 프리즘(Pb)중을 통과하여 결상면(Ig),(Ir)과 동일의 평면내이고, 결상면(Ig),(Ir)에 근접하여 있는 결상면(Ib)에 결상한다.

그리고 3개의 결상면(Ig),(Ir)(Ib)는 동일의 평면내에 형성되어 있고, 일직선상에 배치되어 있다.

즉 프리즘(Pr)은 적색광의 광로 길이를 중개하고, 프리즘(Pb)은 청색광의 광로 길이를 늘리므로, 녹색광의 결상면(Ig)과, 적색광의 결상면(Ir)과 청색광의 결상면(Ib)이 동일의 평면내이고, 일직선상에 근접하여 배치되어 있는 상태로 된다. 프리즘(Pr),(Pb)에 의한 광로 길이의 신장량(x)은 각색광의 광축의 어긋날 량(a)과 같고, 즉 x=a로 되도록 된다.

프리즘(Pr),(Pb)에 의한 광로 길이의 신장량(x)은 프리즘(Pr),(Pb)중의 광로 길이를 d로 하고 프리즘(Pr),(Pb)의 구성물질의 굴절율을 n으로 하면, x=d(n-1)/n으로 나타냄으로 프리즘(Pr),(Pb)에 의하여 광로 길이의 신장량(x)과 각색광의 광축 어긋난 량(a)을 같게 하는데는 프리즘(Pr),(Pb)중의 광로 길이(d)와, 프리즘(Pr),(Pb)의 구성재료의 물질율(n)을 변화함으로서 행할 수 있다.

이와 같이 3색 분해 광학계(CSA)를 사용하여 복수의 결상면 위치에 높은 해상도의 3개 화상이 병렬한 상태로서 결상된다.

그래서 제8도에 나타나 잇는 전하 잠상에 의한 기록장치에서 기록헤드(ReH)에 있어서 투명 전극(Etw)와 기록매체(RM)의 전극(Et)사이에 전원(Vb)에 의하여 일정의 전압을 부여하는 상태로 하여 두고, 피사체(O)의 광학상이 촬상 렌즈(L)와 상기 3색 분해 광학계(CSA)를 거쳐 기록헤드(ReH)에 있어서 광도전층 부재(PCL)로, 동일 평면 내에서 일직선으로 근접하여 형성되는 3개의 결상면(Ir),(Ig),(Ib)에 개별색으로 분해되어 결상된다. 그러면 기록헤드(ReH)에 있어서 광도전층 부재(PCL)의 전기 저항치는 그것에 결상된 피사체(O)의 광학상에 따라 변화하고 있는 상태로 되며, 기록헤드(ReH)에 있어서 기록매체(RM)의 전하 잠상부재(CHL)에 대면하고 있는 광도전층 부재(PCL)의 단면에는 서로 색이 다른 3색의 독립한 상에 상당하는 전위 분포가 발생한다. 전위분포에 따라 기록매체(RM)에 있어서 전하 잠상 지지부재(CHL)에 분해된 각색에 대응하는 전하잠상 영역의 전하 잠상으로서 제11도에 있어서 R,G,B와 같은 각 영역에 기록된다. 제11도에서 화살표 X는 주주사 방향, 화살표 Y는 부주사 방향을 나타내고 있다.

기록 동작시에서 기록헤드(ReH)에 있어서 광도전층 부재(PCL)의 단면과 기록 매체(RM)의 전하 잠상 지지부재(CHL)와의 밀착 상태, 또는 상기의 양자간에 미소한 간격이 형성되도록 된다. 1개의 기록 재생 영역에 대하는 기록동작의 종료에 의하여 기록 매체(RM)가 회전 또는 회동시키는 사이는 광학상, 전하상 변화소자에 있어서 광도전층 부재(PCL)의 단면과 기록매체(RM)의 전하 잠상 지지부재(CHL)사이가 이간된 상태로 보유된다.

제7도중의 아래쪽에 나타나 있는 EA는 기록 매체(RM)에 전하 잠상의 형으로서 이미 기록되어 있는 기록 내용이 있는 경우에는 그것을 새로운 기록을 행하기 전에, 소거하기 위한 소거장치이다.

제7도에 나타나 있는 본 발명의 전하 잠상 기록 매체를 위한 재생 장치는 판독광(RL)의 광원(PS)에서 방사된 판독광(RL)을 필요에 따라 설치되는 편광자(PL)를 투과시키므로 광편향기(PDEF)에 부여되며, 광편향기(PDEF)에서 소정의 편향 상태에서 편향된 상태의 광으로서, 그것을 fQ렌즈(14)를 거쳐 광학적 판독해도(Hr)와 기록매체(RM)에 공급한다.

광편향기(PDEF)로서는 상술했듯이 전하잠상 매체를 위한 재생 장치에서 사용되는 광검출기(PD)가 라인센서인지 2차원 센서인지에 의하여 1방향 또는 2방향의 편향 상태의 것이 사용된다.

광편향기(PDEF)에서 소정의 편향 상태로서 편향된 판독광(RL)은 fQ렌즈(14)를 거쳐 광학적 헤드(Hr)에 입사되지만, 광학적 판독헤드(Hr)는 기록매체(RM)에 근접하여 배치되어 있으므로, 광학적 판독헤드(Hr)에 있어서 광변조층 부재(PML)은 기록매체(RM)에 기록되어 있는 전하잠상에 있어서 전하량 분포에 의한 전계분표에 따라 광학적 판독헤드(Hr)를 통과하는 판독광(RL)의 편광면을 변화시킨 상태의 판독광(RL)을 출사시키고, 그 판독광(RL)은 투명한 기록매체(RM)를 투과한 후에 fQ렌즈(15)를 거쳐 검광자(AL)에 입사한다.

검광자(AL)에서는 그것에 입사한 판독광(RL)에 있어서 편광면의 회전 상태에 따라 광강도가 강약으로 변화하고 있는 광으로 변환하고 광검출기(PD)에 공급한다. 따라서 광검출기(PD)에서는 기록매체(RM)에 기록되어 있던 전하잠상이 주사되었을 때의 전하량 분포에 따른 시계 열적인 전기 신호가 출력단자(1)로 송출된다.

광편향기(PDEF)에 있어서 광편향의 상태에 따라 기록매체(RM)도 소정부 주사의 상태로서 부주사가 행하여 질 것이고, 기록매체(RM)는 도중의 화살표(17)방향으로 소정의 이동상태로서 이동된다.

제7도에 나타나 있는 본 발명의 전하잠상 기록매체를 위한 재생 장치의 실시 예에서는 기록계에 의하여 기록의 대상으로 되어 있는 정보를 전하잠상으로서 기록한 기록 완료 기록매체를 화살표(17)와 같이 이동시키고, 재생계에서, 상기 기록 완료 기록매체의 기록 정보를 재생할 수 있도록 구성되어 있다.

그러나 본 발명의 실시 예에 따라 기록계와 재생계를 분리하고, 기록계에 의하여 기록된 기록 완료 기록매체를 기록계에서 제외하여 기록계와는 다른 공간 위치에 설치되어 있는 재생계로 이주한 것에서 기록 완료 기록매체에서 기록 정보가 재생 가능한 구성 형태의 것으로 전하잠상 기록매체를 위한 재생 장치를 구성시켜도 좋다.

이제까지 기술된 각 실시 예에서 광 검출기(PD)에서 출력된 신호는 그것에 필요에 따라 신호 처리를 시행한 후에 프린터에 공급하여 하드코피를 얻거나 디스플레이 장치에 공급하여 소프트코피를 얻거나 하여 이용하거나 파일 장치에 공급하여 파일 하거나 기록매체(RM)의 전하잠상 지지부재(CHL)에 정보가 기록된 상태로 기록매체(RM)를 보존하여둔 후에서 재생 이용하는 등, 여러 가지 이용 상태의 이용이 가능하다. 광 정보로서 판독된 것을 전기 신호로 변화하지 않고 광 정보의 상태로서 신호 처리하여 이용할 수도 있다.

제12도는 본 발명의 전하잠상 기록매체를 위한 재생 장치의 제6 실시 예이고 제1도 및 제3도의 변형 예를 나타낸다.

여기서 사용되는 판독헤드(20)는 투명 지지기판(BP1)하에 투명전극(Etr)이 설치되며, 투명전극(Etr)과 스페이서(4),(5), 그리고 고유전체 지지기판(BP3)사이에 액정층(PML)이 봉입 되어 있으며, 투명전극(Etr)은 매체(RM)의 전극(Et)과 접속되어 있다.

그리고 고유전체 지지기판(BP3)는 비유전율(80)의 니오브산리치움, 비유전율 5000의 치탄산바리움등의 강유전성 결정이나 유기물 등의 재료로서 구성되어 있으며, 이것에 의하여 액정에 이러한 전계 강도가 증가하고, 고유 전체 지지기판(PB3)의 등가공기 두께는 무시할 수 있는 만큼 작게 된다.

본 실시예의 장치에서 광원(PS)에서 출력된 광원 렌즈(21), 편광소자(PL)를 거쳐 판독헤드(20)의 투명지지기판(BP1)과 투명전극(Etr)을 통하고, 액정층(PML)에 입사된다.

그리고 액정층(PML)에 입사된 광은 매체 절연막(CHL)의 표면에 나타나는 정전잠상(LI)의 전계에 의하여 여광성이 변화하고 고유 전체 지지기판(BP3), 매체 절연막(CHL), 매체 전극(Et)을 통하고, 편집소자(AL), 렌즈(22)를 거쳐 광강도 검출소자(PD)에, 정전잠상(LI)에 대응하는 광의 강도 변화로 되어 검출된다.

고 분해능을 얻기 위하여 광원(PS)으로서, 레이저 광원을 사용하는 것이 좋다.

그리고 폴리곤미러, 갈바노미러 등을 사용하여 검출광을 편향함으로서 광감도 검출소자(PD)상에서 검출되는 광을 주사하여 2차원 화상을 얻을 수 있다.

투명 전극(Etr)과 매체전극(Et)을 접속하여, 쌍방을 같은 위치로 함으로서, 전하 잠상(LI)의 전계를 보다 정확하게 검출하고 있다.

다음에 본 발명의 제7 실시 예를 제13도에 나타낸다.

본 실시 예는 제12도의 실시 예에 있어서 판독헤드(20)의 스페이서(45), 액정층(PML)과 고유 전체 지지기판(BP3)사이에 판독광을 반사시키는 미러층(24)을 협입한 판독헤드(23)와, 반사된 광의 방향을 변화하는 하프미러(25)를 사용한 반사형의 정전잠상 판독 장치이다.

광원(PS)에서 출력되며, 렌즈(21), 편광소자(PL), 하프미러(25)를 거쳐 판독헤드(23)에 공급된 광은 투명 지지체 기판(BP1), 투명 전극층(Etr), 액정층(PML)을 거쳐서 미러층(24)에 도달하고, 미러층(24)에서 반사되어 액정층(PML), 투명 전극층(Etr),투명 지지체 기판(BP1)으로 되돌아간다.

그리고 광은 액정층(PML)을 통하는 사이에 전하잠상(LI)의 전계에 의한 액정층(PML)의 여광성의 변화에 의한 변조를 받는다.

판독헤드(23)에서 나온 광은 하프미러(25)에 의하여 방향을 변화시키고, 편광소자(26), 렌즈(27)를 거쳐, 광검출로(PD)에 공급된다.

하프미러(25)는 비임 스프링으로도 좋다.

그리고 본 실시 예에서 사용되는 미러층(24)의 재료로서는 유전체 미러나 금속 미러를 사용하는 것이 가능하다. 여기서 유전체 미러는 면상의 적층한 다층막에서 되며, 금속 미러는 진공 중착법에서 구성한 면상의 알루미늄 막이다.

이러한 미러층에서는 높은 분해능으로 표면 전위를 검출하여 비임 경의 작은 레이저 광속을 판독 헤드로 입사시켜도 종래, 판독 헤드(23)에서 사용되고 있는 미러층(24)은 그것의 구성부재가 면의 넓은 방향에 있어서 전기 저항치가 반드시 충분하게 크지 않으므로 높은 분해능으로서 표면 전위의 검출을 행하는 것은 곤란하였다.

특히 판독헤드(23)에 있어서 미러층(24)이 예를 들면 진공 성막법을 적용하여 형성시킨 면상의 광학적 특성이 알루미늄 박막인 경우에는 미러층(24)과 대응하고 있는 부분의 피검출체에 대한 표면에 부착하고 잇는 부하 패턴이 예로서 미세한 전하의 분포에 의하여 구성되어 있던 것으로도, 반사경(24)을 구성하고 있는 도전체의 알루미늄의 구성 전위는 면전체가 동일 전위로 됨으로, 액정층(PML)에 이러한 전계도 마찬가지로 되어버리고, 전하 잠상을 검출할 수 없다. 따라서 검출용에 사용되고 잇는 레이저 광속의 경이 가늘어도 표면 전위 분포 검출의 분해능은 미러층(24)의 면적에 의하여 결정되어 버린다. 기존 제안의 전하잠상의 재생 장치에서 사용하고 있는 판독 헤드에 있어서 반사경(24)이 예를 들면 면상의 다층막에서 되는 유전체 미러가 사용되고 있던 경우에서도 유전체 미러에 있어서 면의 확장 방향의 전기 저항치는 상기의 알루미늄의 박막경우에 비하면 높은 전기 저항치를 가지는 것의 무한대는 아니다. 이것은 유전체막의 넓은 방향의 전기 저항(R)과 판독헤드의 광변조재층(PML)의 성진용량(C)에 의하여 정하여지는 시정수에 따라 유전체 미러의 표면 전위가 차례로 평균화하여 감으로서, 표면 전위 분포검출의 분해능이 시간의 경광과와 함께 저하하는 것을 의미한다.

따라서 정지화의 재생시와 같이 장시간에 걸쳐 전하상의 검출 동작이 연속 행하여지는 경우에는 재생 화상이 흐려져 버리는 것도 일어난다.

그래서, 제14도에 나타나듯이 금속 미러를 전하잠상(L2)의 화소 크기와 소편(28)으로 분할되며, 인접 금속미러의 소편과는 접촉하지 안도록 독립시킨다.

이렇게 함으로서 각 금속 미러(28)마다 전하 잠상을 판독할 수 있다.

제12도 및 제13도에 나타난 실시 예에서는 공히 광검출기(PD)를 사용하여 정전잠상(LI)을 판독한 광강도를 전기 신호로 변환하여 출력하고 있지만, 광강도 변화대로 출력하여도 양호하고 그 예를 제15도 및 제16도에 나타낸다.

본 발명의 제8실시 예를 나타내는 제15도에서는 제12도에 나타낸 실시 예에 있어서 광 검출기(PD)대신에 렌즈(30)와, 광 신호 전송매체(31)를 사용하여 광 신호로 출력하려는 것이다.

본 실시 예에 있어서 작용은 제12도의 경우와 마찬가지이지만, 렌즈(22)를 통과한 광은 렌즈(30)에 의하여 평행 광으로 되며, 광섬유 등의 광 신호 전송 매체(31)에 의하여 전송되도록 구성하고 있는 점이 다르다.

제16도에 나타낸 제9의 실시 예에서는 렌즈(22)를 통과한 광은 광 강도 변화를 그대로 2차원의 영상으로서, 스크린(32)에 투영하여 볼 수 있도록 한 것이다.

스크린(32)으로서는 스리글래스 등이 사용된다.

그리고 제15도 및 제16도에 나타난 실시 예는 공히 제12도에 나타난 실시 예와 같은 투과형의 정전 잠상 재생 장치이지만, 쌍방과도 판독 헤드(20)를 미러층(24)을 가지는 판독헤드(23)로 대체하여 제13도와 같은 광로를 통하는 장치로 하면, 반사형의 정전 잠상 기록매체를 위한 재생 장치도 구성할 수 있다.

제17도는 제13도에 대응하는 본 발명의 제10실시 예를 나타낸다. 본 실시 예에 의하면 판독헤드(Hr)가 액정형이지 않고 유전체 기판(BP3)을 가지고 있지 않은 것 외는 거의 같은 구성을 가지고 있으므로, 동일부분에는 동일 부호를 붙여 그 설명을 생략한다.

본 실시 예에서는 판독 헤드(Hr)의 광 변조층 부재(PML)중, 기록매체(RM)의 전하 잠상 지지부재(CHL)와 대향하는 면에, 복수개의 반사경(Md)을 설치하고 있다. 제18도는 그 설치 형태를 나타내는 사시도이다.

복수개의 반사경(Md)은 예를 들면 알루미늄과 같은 도전성 물질의 박막에 의하여 소정의 패턴이 구성되도록 하여도 좋다. 제18도에 나타나 있는 복수개의 반사경(Md),(Md)...의 개개의 형상은 4각형에 한하지 않고 임의로서 양호하며, 개개의 반사경(Md)의 크기 및 배열의 피치는 전위 분포의 검출이 높은 분해능으로 양호하게 할 수 있게 하기 위하여 매우 미세하여도 좋다. 그리고 판독헤드(Hr)에 있어서 미소한 치수의 반사경(Md)을 복수개를 검출헤드에 있어서 광 변조층 부재(PML)의 단면에 구성시키는 것은 주지의 박막패턴의 형성 기술의 적용에 의하여 용이하다. 예를 들면 각 반사경(Md),(Md)...의 배열 피치가 4미크론으로 되도록 하여 복수의 반사경(Md),(Md)...을 배열 구성시킨 경우에는 250개/mm의 분해능을 가지는 정전잠상 기록매체를 위한 재생 장치를 구성할 수 있다.

판독헤드(Hr)의 구성에 따라 각 반사경(Md),(Md)...의 상호간 부분에 전기 저항이 매우 큰 차광성 재료에 의한 마스크 패턴을 설치하는 것이 좋다. 이것에 의하여 예를 들면 광편광기에서 편광되어 있는 레이저 광속이 각 반사경(Md),(Md)...의 상호간 부분에서 판독헤드(Hr)의 외부로 일출하지 않도록 할 수 있다. 따라서 판독헤드(Hr)에서 일출한 레이저 광속이 재 입사하여 판독정도를 열화 시키는 것을 방지할 수 있다.

제17도에서 판독헤드(Hr)에서의 출사광은 비임 스플리터(25)에서 반사됨으로, 필요에 따라 설치되어 있는 광학적 바이어스를 설정하기 위한 파장판(33)을 투과한 후에 검광자(34)에 입사되며, 검광자(34)를 투과한 광은 광전 변화기(PD)에 의하여 전기 신호로 변환된다. 이 전기 신호는 높은 해상도의 재생 화상을 재생할 수 있다.

제19도는 본 발명의 다른 실시 예를 나타내는 구성도이다. 광학계의 구성은 제17도와 유사함으로, 동일부분에는 동일부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.

여기서 사용되는 기록부재(RM)는 기판(BL)과, 도전성을 가지는 물질로서 구성되어 표면이 광에 대하는 반사면을 형성하고 있는 전극(CL)과, 전하상의 지지기능을 가지고, 지지되어 있는 전하상의 판독에 사용되는 검출광을 투과시킬 수 있는 재료로서 구성된 전하 지지층(CHL)을 적층 구성한 것이다.

그리고 전하 지지층(CHL)으로서는 예를 들면 실리콘 수지를 사용하여 구성할 수 있고, 전극 CL로서는 예를 들면 알루미늄의 중착막에 의하여 구성된 것을 사용할 수 있다.

이와 같이 반사전극을 기록 매체축에 설치한 것은 유전체 미러가 다층막 구조의 것으로 구성됨으로 제작이 간단하지 않고 유전체 미러는 그것에 입사한 광의 일부가 투과함으로서 반사율이 100%되지 않으므로, 감도가 높은 검출 헤드를 구성하는 것이 곤란하기 때문이다.

다음에 제19도에 있어서 동작을 설명한다. 전하 지지층(CHL)에는 정전 잠상(IL)이 형성되어 있게 하면 판독헤드(Hr)의 광변조층 부재(PML)에는 기록부재(RM)의 전하 지지층(CHL)에 지지되어 있는 전하상에 의한 전계가 부여되어 있다. 판독페드(Hr)에 있어서 광변조층(PML)에 입사한 레이저 광속은 전하상에서 생기고 있는 전계에 따라 정상광과 이상광의 상태(이 예의 경우에는 편광면의 각도)가 변화한다.

그래서 판독헤드(Hr)의 투광전극(Et)축에서 입사한 레이저 광속은 광변조층부(PML)를 통과한 후에 판독 헤드(Hr)에서 출사하여 기록매체(RM)에 입사한다. 그리고 광속은 기록부재(RM)에 있어서 전하 지지층(CHL)을 통과한 후에, 광의 반사면을 형성하는 전극(CL)에 의하여 반사하여, 그 반사광이 재차 전하지지층(CHL)과 판독헤드(Hr)의 광변조층 부재(PML)를 통과하여 투명전극(Etr)의 면에서 출사한다. 이 광은 기록부재(RM)의 전하상의 전위분포와 대응하여 광의 상태가 변조하고 있게 되어 있다.

이러한 구성에서 광의 반사율은 거의 100%로 되며, 기록매체(RM)의 표면전위를 높은 감도로서 검출한다.

제20도는 본 발명의 재생 장치에 대한 제12도의 실시 예를 나타내는 구성도이다. 이 구성도 제17도와 유사함으로 동일 부분에는 동일 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.

제20도와 제17도가 다른 점은 판독헤드(Hr)의 구조이다. 판독헤드(Hr)는 투명전극(Etr)과 광변조층 부재(PML)와 도전 물질체의 반사경(MM)을 적층하여 구성되어 있으며, 그것의 도전물질제의 반사경(MM)축이 피검출체인 매체의 전하 지지층(CHL)에 근접하여 대면하고 있도록 배치되어 있다. 반사경(MM)의 크기는 판독할 전하상의 최소화소 사이즈에 대하여 매우 작다. 판독 헤드(Hr)에 있어서 광변조층 부재(PML)에 있어서 광변조층 부재(PML)에는 도전물질제의 반사경(MM)을 거쳐 전하 지지층(CHL)에 지지된 전하에 의한 전계가 부여되어 있으므로, 판독헤드(Hr)의 광변조층 부재(PML)에 입사한 레이저 광속은 판독 헤드(Hr)의 도전물질제의 반사경(MM)에 부여된 전하 패턴에서 생기고 잇는 전계에 따라 광변조층 부재(PML)에 발생한 정상광과 이상광의 상태(이 예의 경우에는 편광면의 각도)가 변화한다. 이하의 판독 동작은 제17도, 제19도의 경우와 마찬가지이다.

본 실시 예에서 입사광속은 도전 물질제의 반사경(MM)에서 100% 반사되고, 따라서 피검출체의 표면 전위를 높이는 강도로서 검출할 수 있다. 상기의 도전 물질제의 반사경(MM)은 예를 들면 진공 성막법의 적용에 의하여 쉽게 제작할 수 있다.

그런데 판독 헤드의 표면 전위 검출의 분해능은 헤드에 있어서 도전 물질제의 반사경(MM)의 형상치수와, 피검출체(CHL)의 표면과 판독헤드에 있어서 도전물질제의 반사경(MM)의 간격에 의하여 결정된다. 따라서 판독 헤드(Hr)에 의하여 검출되는 피검출체의 표면 전위 분포 검출의 분해능을 향상시키기 위하여는 피검출체(CHL)의 표면과 판독헤드에 있어서 도전 물질제의 반사경(MM)의 간격을 작게 하고, 판독헤드에 있어서 도전 물질제의 반사경(MM)의 형상 치수를 미소한 것으로 하는 것이 필요하게 된다. 그러나 판독 헤드의 형상 치수를 미소한 것으로 하거나 상술한 간격을 일정의 미소한 간격으로 지지하여 검출 동작을 행하는 것은 통상 곤란함을 수반한다.

제21도는 이러한 문제를 해결하기 위하여 된 본 발명의 제13실시 예를 나타내는 것으로 판독헤드(Hr)만을 확대하고 있다.

이 실시 예에서는 도전 물질제의 반사경(MM) 도전 물질제의 침상 전극(ED)을 설치시키고, 상기의 도전물질제의 침상전극(ED)이 삽통하기 위한 투공(40)이 설치되어 있는 정전차체(S)를 설치하여 구성되어 있다.

제21도 중에 나타나 있는 판독 헤드(Hr)에서는 정전차폐체(S)체 설치된 공(40)이 삽통되어 있는 침상 전극(ED)에 의하여 피검출체(CHL)에 있어서 표면 전위 분포를 높은 분해능으로서 검출하는 것이 가능하게 된다. 제20도, 제21도의 실시 예에서 판독 헤드는 기록 매체의 전하 잠상을 정확하게 얻을 수 있도록 고정도 위치를 주사하도록 구성된다.

그리고 미소한 도전성 전극(MM) 또는 침상 전극(ED)을 사용함으로서, 충분한 분해능을 할 수 있다.

제22도는 본 발명의 제14실시 예를 나타내는 구성도이다. 제22도의 구성은 판독 헤드(Hr)만 제17도에 나타난 실시 예와 다르고, 다른 구성은 같으므로 동일 부호를 붙여 설명을 생략한다.

판독 헤드(Hr)는 투명 전극(Et)과 광변조층부재(PML)와 유전체 미러(DML)를 적층하여 구성되어 있는 것이지만, 판독 헤드(Hr)에 있어서 광변조층 부재(PML)는 그 두께가 제22도에 나타나 있듯이 차례로 변화하고 있는 상태로 되어 있다.

장치 헤드(Hr)를 제22도의 좌우 방향으로 이동시키는 구동수단(M)이 설치되어 있다. 이 구동 수단은 래크 피니온 기계, 캠기구, 리니어 모터 등 공지의 어떤 수단을 사용할 수 있다.

따라서 판독 헤드(Hr)와, 그것에 입사되는 레이저관속(P1)의 상대적인 위치를 도중의 화살표 X, 즉 입사하는 레이저 광속에 대하여 거의 직각의 방향으로 어긋나면, 판독 헤드(Hr)의 광변조층 부재(PML)에 있어서 다른 두께의 장소를 레이저 광속이 통과하도록 된다.

이러한 구성은 다음과 같은 이유로서 고안되었다.

즉 판독 헤드와 피검출체의 거리가 변화하면 검출 장치의 출력 전압이 변화한다. 피검출체의 표면 전위가 판독 헤드에 있어서 관변조층 부재에 가하는 전계의 강도가 변화하지만, 그 크기가 반파장 전압을 초과하는 경우에는 검출 장치의 출력전압의 전하가 일어난다. 종래 장치에서는 판독 헤드 자체에 강도의 조절 기능을 가지고 있지 않았으므로 상기와 같은 경우에 사용상으로 불편이 감지되며, 그것의 개선책이 요구된 것이다. 반파장 전압과는 광변조층 부재를 진행하는 정상광과 이상광의 위상차를 π로 하는 전계의 강도이다.

본 실시 예에서는 레이저광속(Pl)의 진행 방향으로 개구(41)을 가지는 정전차폐체(S)가 설치되어 있다.

다음에 판독 헤드(Hr)와 그것에 입사되는 레이저광속(Pl)의 상대적인 위치가 도중의 화살표 X방향으로 벗어날 경우, 판독 헤드(Hr)의 광변조층 부재(PML)에 있어서 다른 두께(t)의 장소에 레이저광속이 통과함으로서 검출되는 전압이 어떻게 변화하는지에 대하여 제23도를를 참조하여 설명한다. 피검출체인 기록매체의 전하 지지층(CHL)의 표면 전위는 Vf로 되어 있으며, 판독 헤드(Hr)에 있어서 검출되는 전압(Vd)은 피검출체(CHL)에 있어서 표면 전위(Vf)를 정전용량 장치(C1),(C2)에 의하여 분할한 다음의 (1)식에서 나타내는 값으로 된다.

Vd=C2,Vf/(C1+C2)·························(1)

그리고 (1)식에 있어서 정전용량(C1)의 값은 판독 헤드(Hr)에 있어서 광변조층 부재(PML)의 두께(t)에 반비례하여 변화한다.

따라서 판도 헤드(Hr)와, 그것에 입사되는 레이저광속(Pl)의 상대적인 위치를 구동 수단(M)으로 도중의 화살표(X)방향으로 비키어놓음으로서 판독 헤드(Hr)의 감도를 조절할 수 있는 것이고, 그 형태는 제24도에 나타나 있다.

제24도에서 횡축 1은 광변조층 부재(PML)에 가하는 전계 강도를 나타내고, 피 검출체(CHL)에 대하는 거리가 일정하면, 그 표면 전위(Vf)에 비례하는 값을 나타낸다. C1소라 표시되어 있는 곡선은 레이저광속(Pl)이 광변조층 부재(PML)에 있어서 두께(t)가 큰 장소를 통과하도록 했을 때의 출력 특성이고, C1대리 표시되어 있는 곡선은 레이저광속(Pl)이 광변조층 부재(PML)에 있어서 두께(t)가 작은 장소를 통과하도록 했을 때의 출력 특성이다.

제25도의 횡축에 있어서 화살표의 범위는 피검출체(CHL)의 표면 전위 분포에 대한 범위를 나타내고 있다. 실선 도시의 곡선과 점선 도시의 곡선은 광변조층 부재(PML)의 반파장 전압 특성을 나타내고 있다.

본 발명에 의하면 판독 헤드(Hr)와, 그것에 입사되는 레이저 광축(Pl)의 상대적인 위치를 도중의 화살표(X)방향으로 비키어 놓아 판독 헤드(Hr)의 광변조층 부재(PML)에 있어서 다른 두께(t)의 장소에 레이저 광속을 통과시키도록 하여 횡축에 있어서 화살표의 범위로서 나타내는 피검출체(CHL)의 표면 전위 분포의 범위와 대응하여 제25도의 점선 도시의 곡선과 같은 특성이 되도록 조절할 수 있는 것이다.

제26도는 본 발명의 장치에 사용되는 판독 헤드에 있어서 유전체 미러(DML)의 개량제를 나타내는 모식도이다.

제26도에 의하면, 기판을 이루는 굴절율(ns)의 광변조층 부재(PML)상에 낮은 굴절율(nl)의 물질에 의하여 광파장의 1/4두께로 구성한 층과, 높은 굴절율(nh)의 물질에 의하여 광파장이 1/4두께로 구성한 층을 순차 교대로 M층만큼 적층한 것의 최외층상에 낮은 굴절을 nl의 물질(높은 전기 저항율을 나타내는 물질)에 의하여 광파장의 1/2두께로 구성한 층을 부가한 구성의 것이다.

이것은 종래 사용되고 있는 유전체 미러 굴절율이 ns의 기판상에 낮은 굴절율(nl)의 물질에 의하여 광파장 1/4두께로 구성한 층과, 높은 굴절율(nh)의 물질에 의하여 광파장의 1/4두께로 형성한 층을 순차 교대로 M층만큼 적층하거나 또는 굴절율이 ns의 기판상에, 낮은 굴절율(nl)의 물질에 의하여 광파장의 1/4두께로 구성한 층과, 높은굴절율(nh)의 물질에 의하여 광파장의 1/4두께로 구성한 층을 순차 교대로 M층만큼 적층한 것의 최외층상에 낮은 굴절율 nl의 물질에 의하여 광파장의 1/4두께로 구성한 층을 부가한 구성의 것으로 되어 있던 것과 대비된다.

종래 구성의 유전체 미러(DML)에서 매질이 공기(굴절율 no=1)의 경우는 최외층으로서 굴절율이 높은 물질(예를 들면 nh=2.3의 TiO)층에서 구성하면 높은 반사율이 얻어지지만, 굴절율이 높은 물질로서 전기 저항율이 낮은 경우에는 기록 매체(RM)의 표면에 형성되어 있는 전하상을 판독하기 위해, 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전체 미러(DML)를 상기의 절연체계의 기록매체(RM) 표면에 접촉시킨 상태로 하면, 기록매체(RM)의 표면에 형성되어 있는 전하상이 전기 저항율이 낮은 유전체 미러(DML)의 최외층에 의하여 소거되는 것이 일어난다. 한편 전하상이 소거되지 않도록 유전체 미러(DML)의 최외층λ/4두께에 전기 저항율이 높은 물질(예를 들면,1TIMES10^15 OMEGA ㎝ 의 SiO_2, Al_2O_3 등 )층을 설치한 경우에는 낮은 반사율로 되어 버린다.(SiO_2에서 nl=1.46).

제26도에 나타내는 구멍은 이러한 문제를 해결하기 위하여 최외층이 높은 전기 저항율을 나타내는 물질을 사용하고, 두께를 1/2로 하고 있다. 이것에 의하여 전하 잠상 기록매체를 위한 재생 장치용으로서, 높은 반사율의 유전체 미러를 가지는 판독 헤드를 실현하였다.

제26도에 나타내고 있는 구성의 유전체 미러(DML)는 광변조재층(PML)과는 반대측이고, 기록매체에 대향하고 있는 최외층에 낮은 굴절율 nl의 물질(높은 전극 저항율을 나타내는 물질)에 의하여 광파장의 1/2두께로 구성한 층이 부가되어 있으므로, 유전체 미러의 최외층으로서 높은 광의 반사율과 높은 전기 저항율을 나타내는 것으로 하는 것이 가능하였다. 최외층의 구성 물질이 굴절율 낮은 nl의 것이어도 반사율은 최외층이 굴절율이 높은 nh의 것으로 한 경우와 마찬가지로 된다.

제27도는 그림 26도에 나타나 있는 구성의 유전체 미러가 그것의 최외층의 구성 물질이 굴절율이 낮은 이어도 그 최외층의 두께가 광파장의 1/2정수배로 되어 있으므로, 반사율이 높게 되는 것을 설명하기 위한 그래프이다.

제27도는 기판의 굴절율(ns)이, 1.5매질의 굴절율이 1.0, 기판상에 굴절율이 1인 두께가 d1의 단층 유전막을 설치한 경우에 있어서 광학적 막 두께 n1,d1(횡축)과 반사율(종축)의 관계를 나타내고 있다.

제27도를 보면, 단층 유전막의 광학적 막 두께 n1,d1이 광파장의 1/4 정수배에서 극 값을 취한다. 또 n1=ns일 때에는 반사율의 변화는 발생하지 않는다.

no＜n1＜ns인 경우에는 단층 유전막의 광학적 막 두께 n1,d1이 광의 파장 1/4, 3/4...에서 반사율이 최소로 되며, 단층 유전막의 광학적 막 두께 n1, d1이 광파장의 1/2, 1 ....에서 반사율이 최대로 된다.

ns＜n1의 경우에는 단층 막 두께 n1, d1이 광의 파장 1/4, 3/4에서 반사율이 최대로 되고, 단층 유전막의 광학적 막 두께 n1, d1이 광파장 1/2 ,1...에서 반사율이 최소로 되는 것을 알 수 있다.

제27도에 나타낸 반사 특성의 곡선을 보면, 제26도와 같이 구성한 경우의 유전체 미러에서는 no＜n1＜ns의 경우에 대응함으로, 최외층의 광학적 막 두께 n1, d1를 광파장의 1/2정수배로 선정함으로서 반사율을 높일 수 있음을 알 수 있다.

제28도는 본 발명에 의한 재생 장치의 제16실시 예를 타나내는 것이다. 이 도의 구성도 제17도와 유사함으로, 동일 부분에는 동일 부호를 붙여 그 설명을 생략한다.

제17도의 차이는 광원(PS)에서 발하게 된 레이저광이 편광자(PL)를 지난후 비임 엑스팬더(42)에 의하여 비임의 단면적이 증가하도록 확장되는 점과, 검광자 34에 검출된 광이 촬영 렌즈(43)에 의하여 스크린(SC)에 투영되도록 되어 있는 점이다.

비임 엑세팬더(3)를 종횡의 쌍방향으로 편향할 수 있는 광편향기로 바꾸면, 기록매체(CML)에서 전하상의 판독이 2차원적이고 순차적으로 행하여지도록 할 수 있다.

제29도는 본 발명 장치의 제17실시예를 나타내는 구성도이다.

제29도에 의하면 레이저광원(PS)에서 방사된 레이저광속은 필요에 따라 설치되어 있는 렌즈(21)로서 평행광으로 되고, 이어서 필요에 따라 설치되어 있는 편광자(PL)에 의하여 소정의 편광면을 가지는 직선 편광으로 된 후에, 비임 스플리터(25)에 입사된다.

비임 스플리터(25)를 투과한 레이저광속은 집광 렌즈(51)에 의하여 집광 되어 판독 헤드(Hr)에 입사되고, 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전에 미러(DML)의 반사면에 집광점을 발생한다. 유전체 미러를 가지는 판독 헤드(Hr)의 구성 및 동작은 상술한 대로이다. 이 판독 헤드(Hr)에서는 기록매체(RM)의 전하 패턴에 의한 광변조층 부재(PML)에 발생한 정상광과 이상광의 모드(이 예의 경우에는 편광면의 각도)가 변조된다. 판독헤드(Hr)에서 출사광은 비임 스플리터(25)에서 반사됨으로 필요에 따라 설치되어 있는 광강도 조절용의 파장판(33)에 의하여 P파와 S파가 동일의 광강도의 상태로 된 후에, 편광 비임 스플리터(52)에 입사된다.

그리고 편광 비임 스플리터(52)는 투과한 광은 집광렌즈(53)에 의하여 광전변환기(PD1)에 있어서 광전 변환면에 집광되어 이 광전변환기(PD1)에 의하여 자기 신호로 변환된다. 편광 비임 스플리터(52)에서 반사한 광은 광전변환기(PD2)에 있어서 광전변환면에 집광 렌즈(54)로서 집광되며, 광전변환기에 의하여 전기 신호로 변환된다. 광전변환기(PD1),(PD2)에서의 출력 신호는 감산기(55)에 의하여 감산되어 출력 단자(56)에는 상기의 광전변환기(PD1),(PD2)의 출력 신호의 차등 출력이 송출된다.

종래도 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전체 미러(DML)로서 반사된 후에 투명 전극 축에서 출사된 정상 관선과 이상 광선에 있어서 P파와 S파를, 각각 별개의 광전변환기(6),(7)에서 광전변환하여 얻은 전기 신호의 차동 출력이 출력 신호로서 사용되도록 한 장치가 제안되어 있다.

이것은 본원 장치와 마찬가지로 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전체 미러(DML)의 반사면의 자국 먼지 부착, 또는 레이저광의 흔들림 등의 원인에 의하여 출력 신호 중에 노이즈가 생기는 것을 위한 것이다.

그러나 종래의 장치에서 차동 출력에 의하여 노이즈 제거 효과를 얻는데는 판독 헤드에서 출력된 정상 광선과 이상 광선에 있어서 P파와 S파의 강도가 동일한 경우이다.

판독 헤드에서 출력된 정상 광선과 이상 광선에 있어서 P파와 S파의 크기가 다를 때는 상기의 원인에 의한 노이즈의 제거는 할 수 없게 된다. 그 때문에 예를 들면 파장 판 등을 사용하여 판독 헤드에 출력된 정상 광선과 이상 광선에 있어서 P파와 S파가 동일 강도로 되도록 하고 있다.

그러나 어떤 원인에 의하여 편광 비임 스플리터(5)에 입사하는 광의 입사각이 변화한 경우, 예를 들면 피검출체의 경사 또는 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전체 미러(DML)의 반사면의 경사, 그의 원인에 의하여 판독 헤드(Hr)에서 출사하여 편광 비임 스플리터에 입사는 광의 입사각이 변화함으로서 출력 신호 중에 노이즈가 발생한다.

본 실시예의 재생 장치는 이러한 문제를 해결하는 것이고, 종래의 장치와 다른 점은 투명 전극과 광변조층부재와 유전체 미러를 적층하여 구성된 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전체 미러(DML)에 렌즈(51)에 의하여 레이저광속을 일점으로 집광시켜 상기 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전체 미러(DML)로서 반사하고, 투명 전극에서 출사한 광은 상기 렌즈(51)에 의하여 일정 각 또는 광 축에 평행한 광으로서 후속의 광학부품에 입사시키도록 하고 있는 것이다.

이러한 구성에서는 제29도에서 파선으로 나타나듯이 판독 대상의 기록매체(RM)에 대하여 유전체 미러(DML)이 경사하여도 렌즈(51)의 초점면상에 있는 반사면에서 반사한 유전체 미러(DML)에서의 반사광은 렌즈(51)에 의하여 일정 각 또는 광 축에 평행한 광속으로서 비임 스플리터(25)에 입사되고, 비임 스플리터(25)에서 반사한 광속도 광 축으로 평행한 광으로서 편향 비임 스플리터(52)에 입사된다. 따라서 편광 비임 스플리터(52)에 입사되는 광속의 입사각은 판독 헤드(Hr)에 있어서 유전체 미러(DML)가 경사하여도 변화할 수 없다.

따라서 편광 비임 스플리터(52)에 입사되는 정상광과 이상광에 있어서 P파와 S파가 동일 광량으로 되도록 장치를 구성하고 있는 광학 부재의 동작 상태를 설정하여 두면, 2개의 광전변환기(PD1),(PD2)에서 출력 신호차의 신호를 출력하는 감산기(55)출력 신호는 항시 노이즈 성분의 직류 성분이 양호하게 제거되어 있는 상태의 것으로 되어 있다.

이제까지 설명한 실시 예에서는 편광 비임 스플리터(52)에 있어서 투과광과 반사광을 각각 집광 렌즈(53),(54)에서 집광시켜, 상기 각각의 투광광과 반사광을 개별의 광전변환기(PD1),(PD2)에 의하여 광전변환하고, 전기 신호로서 출력시키도록 하고 있지만, 광전변환기(PD1),(PD2) 가 큰 수광부를 갖추고 있는 것이면, 집광렌즈(53),(54),는 반드시 설치하지 않아도 좋다. 광신호의 상태에서 연산처리가 행하여지도록 구성된 경우에는 광전변환기(PD1),(PD2) 는 반드시 설정되지 않아도 좋다.

제30도 내지 제33도는 본 발명의 재생 장치의 제18도 내지 제21실시 예를 각각 나타낸다.

이들은 모두 반사형의 재생 장치이고, 기본 구조는 제17도와 유사하다. 따라서 동일 부분에는 동일 부호를 붙여 그 상세한 설명을 생략한다.

제30도에서는 레이저광원(PS)에서 방사된 레이저광속이 필요에 따라 설치되어 있는 편광자(PL)에 의하여 소정의 편광면을 가지는 직선 편광으로 된 후에, 회전 거울 바퀴(61)에 의하여, 일정 각도 범위로서 편향된 상태로 되어 fQ렌즈(62)에 입사되는 점에 특징이 있다.

fQ렌즈(62)에서 출사한 레이저광속은 비임 스플리터(25)를 투과하여 판독 헤드(Hr)에 입사시키면서 상기 레이저광속은 판독 헤드(Hr)에 있어서 동일 선상을 일정의 선속도로서 주사하게 된다.

레이저광속의 편향 수단으로서는 도중에 나타나있는 회전 거울 바퀴(6)와 같이 기계적인 광편향 수단이 아니고, 자기적인 광편향기가 사용되어도 좋다.

본 실시 예에서는 판독 헤드(Hr)에서의 출사광이 비임 스플리터(25)에서 반사됨으로 필요에 따라 설치되어 있는 광량 조절용의 파장판(33)과, 편광편의 회전 변화를 밝기의 변화로 변환하기 위한 검광자(34)를 거친 후, 집광 렌즈(63)에 입사시키고, 상기의 집광 렌즈(63)의 집광점 위치에 광전변환기(PD)를 배치하고 있다.

제31도에 나타낸 제19도의 실시 예에서는 레이저광원(PS)에서 방사된 레이저광속이 필요에 따라 설치되어 있는 편광자(PL)에 의하여 소정의 편광면을 가지는 직선 편광으로 된 후, 실린드리킬 렌즈(64)에 의하여, 직선 형상의 단면을 가지는 광속으로 되어 렌즈(62)에 입사된다.

렌즈(63)에서 출사한 레이저광속은 비임 스플리터(25)를 투과하여 판독 헤드(Hr)에 1개의 선상 광속으로 입사한다.

그리고 판독 헤드(Hr)에서의 출사광이 비임 스플리터(25)에서 반사됨으로, 파장판(33)과 검광자(34)를 거쳐 라인 메지 센서(66)에 입사된다. 피검출체(RM)와 판독 헤드(Hr)를 상대적으로 저면에 대하여 수직 방향으로 이동시키면, 상기의 라인 메지 센서(66)에서는 피검출체(RM)에 있어서 2차원적으로 전하상의 각 부분 전하량에 따라 진폭이 변화하고 있는 자기 신호(영상 신호)가 얻어진다.

라인 메지 센서(66)를 센서가 배열되어 있는 방향으로 부척의 원리에 따라 미소한 거리만큼 누적적으로 이동하면서 동일의 전하상에 대하여 이동할 때마다 판독 동작을 행하도록 하고, 그 때 얻어진 출력 신호를 합성하여 정세도가 높은 영상 신호를 발생시키도록 하는 것도 가능하다.

제32도에 나타내는 본 발명의 제20실시 예 및 제33도에 나타내는 본 발명의 제21실시에서는 레이저광원(PS)에서 방사된 레이저 광 축이 필요에 따라 설치되어 있는 편광자(PL)에 의하여 소정의 편광면을 가지는 직선 편광으로 된 후에, 비임 엑스팬더(65)에 의하여 단면이 대경의 레이저광속으로 되어 비임 스플리터(25)에 입사한다. 비임 스플리터(25)를 투과한 레이저광속은 판독 헤드(Hr)에 입사한다.

양자의 차이는 판독 헤드(Hr)에선 출사한 광이 최종적으로 입사되는 것이 제32도의 경우에는 라인 메지 센서(66)이고, 제33도의 경우에는 2차원 이 메지(67)인 점이다. 라인이 메지 센서(66)를 화살표의 방향으로 이동하여 2차원의 전하상을 주사하지만 2차원 이 메지 센서(67)의 경우는 당연하면서 이동하지 않고, 2차원의 전하상이 판독된다.

각 실시 예에서 사용한 두명 전극층(Etr)등의 투명과는 광원(PS)에서 출력되는 판독광을 투과시키는 의미이고, 눈으로 보아 투과한 것이 없어도 양호하다.

그리고 광원(PS)은 할로겐 램프 등의 인코히런트광을 출력하는 것도 사용할 수 있다.

광변조 부재로서 산란형의 액정이나 PLZT를 사용할 수 있다. 이것은 바인더로서의 고분자재중에 입상의 액정을 사용한 경우에는 광의 강약으로의 변환이 자료 내에서 행하여지기 위해 강도 변조로 변환하기 위한 검광자를 요하지 않고, 상의 직시가 가능하게 된다. 검광자를 통하지 않고 완수함으로 광의 이용율이 증가하고, 전력을 절약하는 것이 가능하다.

본 발명이 개시하는 전하 잠상의 처리 프로세스는 광컴퓨터의 동작 프로세스의 1개로서 운용이 가능하다.

Claims

전자 방사선원과, 이 전자 방사선원에서 발해진 전자 방사선을 독출하여 대상 정보가 전하 잠상으로서 미리 기록되어 있는 기록매체 방향으로 유도하는 광학계와, 상기 기록매체에 마주하도록 근접 배치되고, 상기 전자 방사선의 진행 방향으로 직렬 적으로 설치된 판독 헤드를 구비하고, 상기 판독 헤드는, 지지 기관과, 상기 기록매체의 전하 잠상에 의한 전계의 강도에 따라 통과하는 상기 전자 방사선에 모드 변조를 일으키게 하는 광변조재층과, 이 광변조재층에 대해서 소정의 전계를 부여함과 동시에 판독 파장역의 전자 방사선을 받아, 이 광변조재층으로 향해서 투과시키는 전극이 적층되어, 상기 전극과 광변조재층을 통과하여 온 전자 방사선을 출사시키는 출사면을 구비하고, 또한 이 출사면에서 출사한 모드 변조된 전자 방사선을 프로세스하기 위한 프로세스 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 전하 잠상 기록매체를 위한 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 프로세스 수단은 상기 기록매체에 대해서 상기 전자 방사선원의 반대 축에 놓여져, 상기 헤드와 상기 기록매체를 통과한 전자 방사선을 프로세스하는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 프로세스 수단은 상기 기록매체에 대해서 상기 전자 방사선원과 같은 쪽으로 놓여져, 상기 출사면에 마주하고, 또한 상기 판독 헤드에는 상기 광변조재층을 통과한 전자 방사선을 상기 출사면으로 향해서 반사하여 상기 기록매체에 접근하여 마주하는 반사 수단을 다시 구비하는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 프로세스 수단은 상기 기록매체에 대해서 상기 전자 방사선원과 같은 쪽으로 놓여지고 상기 출사면에 마주하고, 또한 상기 기록매체에는 상기 광변조재층을 통과한 전자 방사선을 상기 출사면으로 향해서 반사하는 반사 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 프로세스 수단은 상기 판독 헤드에서 뽑아 내어진 변조된 전자 방사선을 전기 신호로 변환하는 광전변환부를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 프로세스 수단은 상기 판독 헤드에서 뽑아내어진 모드 변조된 전자 방사선을 가시광으로 변화하는 수단을 다시 갖는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 광변조재층은 전기 광학 효과를 갖는 재료인 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 광변조재층은 더해준 전계에 응답하여 입사한 전자 방사선에 대한 산란의 정도가 변환하는 재료인 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 기록매체에는 3색으로 분해된 화상이 서로 인접하는 그루프로서 기록되어 있는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제5항에 있어서, 상기 전자 방사선원에서 말해진 전자 방사선을 편향하여 상기 판독 헤드에 공급하는 편향기를 다시 구비하고, 상기 판독 헤드에서 뽑아내어진 출력은 상기 광전변환부로 공급되는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제5항에 있어서, 상기 광전변환부는 라인센서를 갖추고, 상기 전자 방사선원으로부터 발해진 전자 방사선을 그 비임의 단면이 직선형상을 하도록 조려서 판독 헤드에 공급하는 수단을 다시 구비하고, 상기 판독 헤드에서 뽑아내어진 출력은 상기 직선형상의 비임 단면에 대응하여 배열되는 이 라인센서에 공급되는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제3항에 있어서, 상기 반사 수단은 독출할 전하 잠상의 화소의 크기에 대해서 충분히 적게 형성이 됨과 동시에 상기 반사 수단이 도전성 물질로 형성이 된 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제3항에 있어서, 상기 반사 수단은 도전성 물질로 형성이 됨과 동시에 미소 돌기 형상의 바늘 형상 전극을 갖는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제3항에 있어서, 상기 반사 수단은 독출해야 할 전하 잠상의 화소에 대응하여 분할된 반사경인 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제14항에 있어서, 상기 반사경은 고 도전 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제14항에 있어서, 상기 반사경은 유전체 물질인 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 전자 방사선에서 발해진 전자 방사선의 비임 단면을 확대하여 판독 헤드에 공급하는 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제17항에 있어서, 상기 광전변환 부분은 라이센서를 갖는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제17항에 있어서, 상기 광전변환부 2차면의 이미지 센서를 갖는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 광변조재층은 액정인 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제20항에 있어서, 상기 판독 헤드는 상기 기록 매체에 접근하여 마주하는 최소한 1장의 고유 도전에 물질로 형성된 기관을 갖는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제3항에 있어서, 상기 광변조재층의 두께가 상기 판독 헤드의 일단에서 타단으로 향해서 차례로 변화함으로서 상기 반사 수단과 상기 전극과의 거리가 상기 일단에서 타단으로 향해서 차례로 변화하도록 되어 있으며, 또한 상기 판독 헤드를 상기 일단과 타단을 통과하여 상기 전자 방사선의 입사 방향에 대해 거의 직각 방향으로 이동시켜서 가장 적합한 동작점을 선택하는 이동 수단이 설치된 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제3항에 있어서, 상기 반사 수단은 유전체 반사층이며, 이 반사층은 낮은 굴절율의 재료로 상기 전자 방사선의 파장의 1/4의 두께로 형성된 제1의 층과, 그것보다 높은 굴절율의 재료로 상기 전자 방사선의 파장의 1/4두께로 형성된 제2의 층을 교대로 쌓고, 상기 기록매체에 마주하고 있는 가장 겉 층의 낮은 굴절율로 상기 전자 방사선의 파장의 1/2의 두께로 형성된 제3의 층을 다시 적층하는 것을 특징으로 하는 재생 장치.
제1항에 있어서, 상기 프로세스 수단은, 판독 헤드에서 출력된 변조된 전자 방사선이 입사되는 편광 비임 스프링과, 이 비임 스프링의 투과광과 반사광의 차를 얻는 차 성분 출력 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 재생장치.
제24항에 있어서, 상기 차 성분 출력 수단은 상기 편광 비임 스플리터의 투과광의 반사광의 각각을 전기 신호로 변화하는 제1및 제2의 변화기와, 이 제1과 제2의 변환기의 각각의 출력의 차 몫을 검출하는 비교기를 갖는 것을 특징으로 하는 재생 장치.