KR900016806A - 고체 영상 시스템 - Google Patents

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KR900016806A
KR900016806A KR1019900005573A KR900005573A KR900016806A KR 900016806 A KR900016806 A KR 900016806A KR 1019900005573 A KR1019900005573 A KR 1019900005573A KR 900005573 A KR900005573 A KR 900005573A KR 900016806 A KR900016806 A KR 900016806A
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    • G03C9/08—Producing three-dimensional images

Abstract

내용 없음

Description

고체 영상 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명 장치의 바람직한 구체예에 대한 플록 다이아그램이며; 제2도 및 제3도는 표면과 부피를 각각 픽셀 및 복셀로 나눈것을 도시한 것이다.

Claims (28)

  1. 액체 광경화 조성물을 용기에 위치시키고; 방사 수단을 사용하여 일정세기를 지니는 방사 비임을 발생시키고; 변조 수단을 사용하여 거의 0세기 준위로 부터 최대 세기까지 방사 비임의 세기를 제어적으로 변조시키고; 광경화 깊이로 액체 광경화 조성물의 예비선정 부위를 광경화시키기 위해 연속적 박층상의 예정 위치에 벡터 주사 방식으로 방사 비임을 제어적으로 굴절시키고, 또한 굴절수단을 사용하여 0의 준위로 부터 최대 가속도 까지의 가속으로, 그리고 0의 준위로 부터 최대 속도 까지의 속도로 방사 비임을 굴절시키고; 규칙적 대상체의 형상에 대응하는 그래픽 데이타를 저장하고; 각 연속 박층내에서 거의 일정 광경화 깊이를 산출하기 위해 액체 광경화 조성물의 예정 부위상에 거의 일정한 노출 준위 제공을 위한 제1컴퓨터 제어 수단, 굴절 수단 및 변조수단을 제2컴퓨터 제어 수단과 결합시키고; 용기내의 거의 편평한 이동 테이블상에 규칙적 대상체를 지지시키고; 제1컴퓨터 제어수단에 의해 제어되는 배치수단을 사용하여 편평한 테이블을 제어적으로 이동시키고; 제1컴퓨터 제어수단에 의해 제어되는 총 형성수단에 의해 액체 광경화 조성물의 연속적 박층을 형성시키는 단계들을 포함하는 액체 광경화 조성물의 연속층으로 부터 3차원 규칙적 대상체를 형성하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 방사 비임의 최대 세기는 하기식에 의해 주어진 값보다 더 큰 광경화 깊이를 일으키는 방법.
    상기식에서, G{E}는 노출 E(mJ/cm^2) 응답커브에 광경화 물질이 깊이를 수학적으로 대응시키는 방정식이며, Yk(cm)는 영상면에서 Y=O에 대해 위치한 각 주사선이 중심을 나타내며, Y(cm)는 주사방향에 대해 수선으로 움직이는 축에 따른 가변위치이며 P는 영사면에서 노출 비임의 방샤량(mW)이며, V는 영상면에서 비임점의 속도(cm/sec)이며, ro는 영상면을 교차하는 가우스 비임점의 1/e^2반경(cm)이다.
  3. 제2항에 있어서, 벡터 주사는 서로에 대해 거의 평행한 다중 주사선을 포함하며, 상기 주사선은 주사 간격을 지니며, 0속도 준위로 부터 최대 일정 속도에 도달하기 위해 비임의 최대 가속도에서 주사선상에서의 비임에 의해 주행된 거리는 주사 간격보다 더 큰 방법.
  4. 제3항에 있어서, 0속도 준위로 부터 상기 특정화 최대 일정 속도에 도달하기 위해 비임의 최대 가속도에서 주사선상에서의 비임에 의해 주행된 거리는 주사 간격의 5배 이상인 방법.
  5. 제4항에 있어서, 0속도 준위로 분터 상기 특정화 최대 일정 속도에 도달하기 위해 비임의 최대 가속도에서 주사선상에서의 비임에 의해 주행된 거리는 주사간격의 10배 이상인 방법.
  6. 제3항에 있어서, 방사 비임의 세기는 특정 주파수에서 펄스로 변조되고, 각 펄스는 특정 지속성 및 세기를 가지는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 펄스는 거의 동일한 지속성, 거의 동일한 세기 및 상기 비임속도에 비례하는 가변 주파수를 갖는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 비임의 가속동안 방사비임의 세기는 다음과 거의 같은 광경화 두께를 제공하는 방법.
    상기식에서, G{E}는 노출 E(mJ/cm^2) 응답커브에 광경화 물질이 깊이를 수학적으로 대응시키는 방정식이며; ro는 영상면을 교차하는 가우스 비임점의 1/e^2반경(cm)이며; Yk(cm)는 영상면에서 Y=O에 대해 위치하는 각 주사선의 시작점이며; xp(cm)는 영상면에서 X=0에 대해 위치하는 각 비임 펄스의 주심을 나타내며; X(cm)는 주사 방향에 평행하게 움직이는 축에 따른 가변위치이며; Y(cm)는 주사 방향에 수선으로 움직이는 축에 따른 가변 위치이며; t(sec)는 임의 시간 t=0에 대해 영상면에서 각 비임 펄스가 시작될때의 시간이며; W(sec)는 각 펄스의 시간 너비이며; p는 영상면에서 각 펄스의 노출 비임의 방사량(mW)이며; “a”는 영상면에서 비임 점의 가속도(cm/sec^2)이다.
  9. 제2항에 있어서, 방사 비임의 세기는 아날로그 방식으로 변조되는 방법.
  10. 제2하엥 있어서, 비임은 적외 방사선을 포함하는 방법.
  11. 제2항에 있어서, 비임은 가시 방사선을 포함하는 방법.
  12. 제2항에 있어서, 비임은 자외 방사선을 포함하는 방법.
  13. 액체 광경화 조성물을 함유하기 위한 용기; 일정 세기를 지니는 방사 비임제 공용 방사 수단; 거의 0세기 준위로 부터 최대 비임 세기까지 방사 비임의 세기를 변조하기 위한 변조 수단; 액체 광경화 조성물의 예비 선정 부위를 광경화의 깊이로 광경화 시키기 위해 연속 박층상의 예정된 위치에 벡터 주사 방식으로 방사 비임을 제어적으로 굴절시키고, 또한 0준위로 부터 최대 가속도까지의 가속과 0준위로 부터 최대 일정 속도까지의 속도로 비임을 제어적으로 굴절시키는 굴절수단; 규칙적 대상체의 형상에 대응하는 그래픽 데이타를 저장하기 위한 제1컴퓨터 제어수단; 각 연속 박층내에서 거의 일정한 광경화 깊이를 도달하기 위해 액체 광경화 조성물의 예비 선정 부위상에 거의 일정한 노출 준위를 제공하기 위한 제1컴퓨터 제어 수단, 굴절 수단 및 변조 수단과 결합된 제2컴퓨터 제어수단; 규칙적 대상체를 지지하기 위한 용기내의 거의 편평한 이동 테이블; 용기내에 이동 테이블의 배치를 정확하게 제어하기 위해 이동 테이블에 힘을 제공하기 위한 제1컴퓨터 제어수단에 의해 제어되는 배치수단; 및 액체 광경화 조성물의 연속 박층을 형성하기 위해 제1컴퓨터 제어 수단에 의해 제어되고, 이동 테이블 상에 위치하는 층 형성 수단을 포함하는 액체 광경화 조성물의 연속 박층으로 부터 3차원 규칙적 대상체를 정확하게 형성하기 위한 장치.
  14. 제13항에 있어서, 방사 비임의 최대 세기는 하기식으로 표현되는 값보다 더 큰 광경화 깊이를 제공하는 장치.
    상기식에서, G{E}는 노출 E(mJ/cm^2) 응답커브에 광경화 물질의 깊이를 수학적으로 대응시키는 방정식이며, Yk(cm)는 영상면에서 Y=O에 대해 위치한 각 주사선의 중심을 나타내며, Y(cm)는 주사방향에 대해 수선으로 움직이는 축에 따른 가변위치이며 P는 영사면에서 노출 비임의 방샤량(mW)이며, V는 영상면에서 비임점의 속도(cm/sec)이며, ro는 영상면을 교차하는 가우스 비임점의 1/e^2반경(cm)이다.
  15. 제13항 또는 제 14항에 있어서, 벡터 주사는, 서로 거의 평행한 다중 주사선을 포함하며, 상기 주사선은 주사 간격을 지니며, 0속도 준위로 부터 최대 일정 속도에 도달하기 위해 비임의 최대 가속도에서 주사선상의 비임에 의해 주행된 거리는 주사 간격보다 더 큰장치.
  16. 제15항에 있어서, 0속도 준위로 부터 최대 일정 속도에 도달하기 위해 비임의 최대 가속도에서 주사선상의 비임에 의해 주행된 거리는 주사 간격의 5배 이상인 장치.
  17. 제16항에 있어서, 0속도 준위로 부터 최대 일정 속도에 도달하기 위해 비임의 최대 가속도에서 주사선상의 비임에 의해 주행된 거리는 주사 간격이 10배 이상인 장치.
  18. 제15항에 있어서, 방사 비임의 세기는 어떤 주파수에서 펄스로 변조되고 각 펄스는 어떤 지속성 및 세기를 지니는 장치.
  19. 제18항에 있어서, 펄스는 거의 동일한지속성, 거의 동일한 세기 및 가변 주파수를 지니는 장치.
  20. 제19항에 있어서, 비임의 가속동안 방사 비임의 세기는
    상기식에서, G{E}는 E(mJ/cm2) 응답커브에 광경화 물질의 깊이를 수학적으로 대응시키는 방정식이며, ro는 영상면을 교차하는 가우스 비임점의 1/e^2반경(cm)이며; Yk(cm)는 영상면에서 Y=O에 대해 위치하는 각 주사선의 중심을 나타내며, xp(cm)는 영상면에서 X=0에 대해 위치하는 각 비임 펄스의 주심을 나타내며; X(cm)는 주사 방향에 평행하게 움직이는 축에 따른 가변위치이며; Y(cm)는 주사 방향에 수선으로 움직이는 축에 따른 가변 위치이며; t(sec)는 임의 시간 t=0에 대해 영상면에서 각 비임 펄스가 시작될때의 시간이며; W(sec)는 각 펄스의 시간 너비이며; p는 영상면에서 각 펄스의 노출 비임의 방사량(mW)이며; “a”는 영상면에서 비임 점의 가속도(cm/sec^2)이다.
  21. 제14항에 있어서, 방사 비임의 세기는 아날로그 방식으로 변조되는 장치.
  22. 제14항에 있어서, 비임은 적외 방사선을 포함하는 장치.
  23. 제14항에 있어서, 비임은 가시 방사선을 포함하는 장치.
  24. 제14항에 있어서, 비임은 자외 방사선을 포함하는 장치.
  25. 제20항에 있어서, 주사선은 시작과 끝을 가지며, 주사선의 시작 및 끝에서 1/e^2점 반경의 2배와 같은 거리내의 비임 펄스의 지속성은 나머지 펄스의 지속성 보다 더 큰 장치.
  26. 제20항에 있어서, 층의 어떤 주변으로 부터 1/e^2점 반경의 2배와 같은 거리내의 주사선은 나머지 펄스의 주사선보다 더 큰 지속성의 비임펄스를 가지는 장치.
  27. 제20항에 있어서, 층의 평행선 주사이외에 층의 임의 주변도 또한 주사되는 장치.
  28. 제15항에 있어서, 비임 방사량은 영상면에서 형성된 층의 임의 주변의 1/e^2점 반경의 2배 이내의 나머지 층보다 더큰 노출을 제공하기 위해 변조 수단에 의해 아날로그 방식으로 제어되는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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