JP2004314640A - 立体像形成のための光硬化性組成物ならびにそれを用いる立体像形成方法および装置 - Google Patents
立体像形成のための光硬化性組成物ならびにそれを用いる立体像形成方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004314640A JP2004314640A JP2004197661A JP2004197661A JP2004314640A JP 2004314640 A JP2004314640 A JP 2004314640A JP 2004197661 A JP2004197661 A JP 2004197661A JP 2004197661 A JP2004197661 A JP 2004197661A JP 2004314640 A JP2004314640 A JP 2004314640A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- pulse
- scan
- radiation beam
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 34
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 51
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 19
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 abstract description 39
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 4
- ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 1-(6-hydroxy-6-methylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1C=CC=CC1(C)O ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 56
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 description 30
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- -1 acrylate compound Chemical class 0.000 description 19
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 17
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 11
- 230000004044 response Effects 0.000 description 11
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 6
- 238000013178 mathematical model Methods 0.000 description 6
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 6
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Polymers C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Polymers OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UOGPKCHLHAWNIY-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COCC(O)COC(=O)C=C UOGPKCHLHAWNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCGZRZBMXNWTFH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-octanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl decanoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCCCCCC RCGZRZBMXNWTFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGBOZRQKCKDNPH-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OCC(C)O.C(C=C)(=O)OCC(C)O Chemical compound C(C=C)(=O)OCC(C)O.C(C=C)(=O)OCC(C)O XGBOZRQKCKDNPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 2
- MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N Menadione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=CC(=O)C2=C1 MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OPLZHVSHWLZOCP-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COCC(O)COC(=O)C(C)=C OPLZHVSHWLZOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- ZCZARILEUZFHJD-UHFFFAOYSA-N (2,2,4-trimethyl-3-prop-2-enoyloxypentyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C(C)C)C(C)(C)COC(=O)C=C ZCZARILEUZFHJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSTUKHPLWATFCG-UHFFFAOYSA-N (2-benzoylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DSTUKHPLWATFCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWABICBDFJMISP-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC(C(C)=C)=CC(C(C)=C)=C1 CWABICBDFJMISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C(C)=C)C=C1 ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C)=CC=C2C DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQEWHTMQTSAPLG-UHFFFAOYSA-N 10-hydroxydecyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCCCCCCCOC(=O)C=C IQEWHTMQTSAPLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIGVPIXONIAZHK-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO MIGVPIXONIAZHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(C)=C2 KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJXIBZNWQQXJAX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol prop-2-enoic acid Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C)(C)(C1=C(C=CC=C1)O)C1=C(C=CC=C1)O LJXIBZNWQQXJAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWDBMKZHFCSOOL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(C)COC(C)COC(=O)C(C)=C OWDBMKZHFCSOOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical compound CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPOWOBIMTNWQGE-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;4-propylphenol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CCCC1=CC=C(O)C=C1 SPOWOBIMTNWQGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUIOKRXOKLLURE-UHFFFAOYSA-N 2-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1O DUIOKRXOKLLURE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFOKCFWGAKFYBQ-UHFFFAOYSA-N 3,4-di(prop-2-enoyloxy)butyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C DFOKCFWGAKFYBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUTBKTUHIQFLPI-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QUTBKTUHIQFLPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,5,5-tetramethylhexan-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(O)C(=O)C(C)(C)C YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAMCLRBWHRRBCN-UHFFFAOYSA-N 5-prop-2-enoyloxypentyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCOC(=O)C=C XAMCLRBWHRRBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFOHBSLKSOSFBE-UHFFFAOYSA-N 7,8,9,10-tetrahydrotetracene-5,12-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C1=C2 XFOHBSLKSOSFBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- WKCPYBQJCJXJLA-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OCC(OC(C=C)=O)CO.C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O Chemical compound C(C=C)(=O)OCC(OC(C=C)=O)CO.C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O WKCPYBQJCJXJLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010010144 Completed suicide Diseases 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004890 Triton X-100 Polymers 0.000 description 1
- 239000013504 Triton X-100 Substances 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)OC(=O)C(C)=C UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical class 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N bis(prop-2-enyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004151 quinonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000009291 secondary effect Effects 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M sodium;dodecane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCS([O-])(=O)=O DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09B—EDUCATIONAL OR DEMONSTRATION APPLIANCES; APPLIANCES FOR TEACHING, OR COMMUNICATING WITH, THE BLIND, DEAF OR MUTE; MODELS; PLANETARIA; GLOBES; MAPS; DIAGRAMS
- G09B25/00—Models for purposes not provided for in G09B23/00, e.g. full-sized devices for demonstration purposes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
- B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C9/00—Stereo-photographic or similar processes
- G03C9/08—Producing three-dimensional images
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Educational Technology (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Educational Administration (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】 放射ビームをパルス状のビームとし、液状硬化性組成物の表面上での放射ビームの走査速度に合わせて放射ビームのパルス間隔とパルス幅を制御することにより、放射ビームの移動速度の増減にかかわらず、放射ビームの露光レベルが一定になるようにする。
【選択図】 図1
Description
これらの方法は固化させようとしている領域あるいは体積を順次に照射することによって段階的に三次元物体の立体領域を形成することに関する。種々のマスキング技術の他に、直接レーザ描画法、すなわち、光硬化性組成物を所望のパターンに従ってレーザ・ビームで照射し、三次元モデルを一層ずつ重ねて行く方法も記載されている。
(1)少なくとも1種の光硬化性モノマーまたはオリゴマーおよび少なくとも1種の光重合開始剤を含有する立体像形成のための液状光硬化性組成物であって、前記光硬化性モノマーまたはオリゴマーが、分子量が少なくとも約300のエチレン性不飽和化合物を含むことを特徴とする光硬化性組成物、
(2)前記エチレン性不飽和化合物がアクリレート化合物であることを特徴とする前記(1)の光硬化性組成物、
(3)前記アクリレート化合物が、炭素数2〜15のアルキレングリコールから製造されたジアクリレートまたは1〜10のエーテル結合を含むアルキレンエーテル残基を有するジアクリレートであることを特徴とする前記(2)の光硬化性組成物、
(4)前記アクリレート化合物が、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスルトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ビスフエノール−Aのジ−(3−アクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフエノール−Aのジ−(2−アクリルオキシエチル)エーテルおよびポリオキシプロピルトリメチロールプロバントリアクリレートから選ばれた少なくとも1種の化合物であることを特徴とする前記(2)の光硬化性組成物、ならびに、
(5)前記アクリレート化合物が、ビスフェノールAビス(2−ヒドロキシプロピル)ジアクリレートであることを特徴とする前記(2)の光硬化性組成物、である。
さらに、本発明の装置は、少なくとも1種の光硬化性モノマーまたはオリゴマーおよび少なくとも1種の光重合開始剤を含有する液状光硬化性組成物であって、かつ前記光硬化性モノマーまたはオリゴマーが少なくとも約300の分子量を有するアクリレート化合物の少なくも1種を含む光硬化性組成物の層を形成する手段と、この層を一層ずつ露光させる手段を備えた立体像形成装置であって、レーザ・ビームの出力をパルス状にする手段と該レーザ・ビームの移動速度にあわせて照射エネルギを制御して硬化深度を均一にする手段とを有することを特徴とする立体像形成装置である。
本発明者によれば、前記モノマーのうち、分子量が少なくとも約300であるエチレン系不飽和化合物、例えば炭素数2〜15のポリアルキレングリコールから製造されるジアクリレートまたは1〜10のエーテル結合を含むポリアルキレンエーテルグリコールのジアクリレートが好ましいことが分かった。
これらが端末結合として存在する場合、複数の付加重合可能なエチレン系結合を有するもの、例えばポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、エチル化ペンタエリスリトールトリアクリレートが特に好適である。ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートおよび1,10デカンジオールジメチルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートも好適である。
また、光硬化性組成物には、必要に応じ、重合に関与しない物資、例えばコア・シェルポリマーを、フィラーとして配合することもできる。
なお、以下の説明では、コンピュータ制御手段をテーブルの位置、移動速度を制御する第1のコンピュータ制御手段と放射ビームの変調、偏向を制御する第2のコンピュータ制御手段に分けた例を示しているが、一つのコンピュータ制御手段でテーブルの位置、移動速度および放射ビームの変調、偏向を制御する実施例も当然考えられる。
本発明の光硬化組成物は、光硬化によって三次元物体を造形する方法に使用するものであり、一層詳しくは、比較的高い速度と精度で直接前記造形を行うべく比較的高出力のレーザを制御しながら使用する際に使用すると有利な組成物であるから、本発明は以下の説明によって何ら限定されるものでないことは言うまでもない。
まず、電気光学式スイッチであり、これは電圧を印加したときに光学的極性を変える結晶を基礎とするものである。
G{E}(mm)= −0.66+0.446 ln〔E〕−0.356(ln〔E〕^2)
Pは像平面におけるビーム放射束(mW)であり、Yは走査中心から離れる可変距離であり、roはガウスビームの1/e^2ビーム半径であり、 vは表面を横切るビーム走査速度である。ここで驚くべ きことには、G{E}を二次自然対数多項式と関係させる等式における露光単位が無次元でなくても、良くなじむということである。
これらの曲線は共通最高相対値1に対して正規化されていて分布の差を良く示している。
前記数3の前記数2以上の精度の決定は図6のグラフから容易に理解できる。この図6では、3本の連続した走査線が或る特定の間隔で引かれた前記数2に基づく数学モデルが、光硬化性組成物の底におけるリプルが同じ間隔をもって3本の走査線を引いた場合に前記数3が示すものよりも2倍の周波数を持つことになることを誤って示している。実施例1に記載された組成物の表面に同じ間隔で互いに平行に延びる走査線によって形成した層の顕微鏡写真から得た測定結果で前記数3で示すリプル周波数が実際の組成物応答性に一致することが確認されている。
偏向手段で発生したボクセルはX、Y、Z寸法が等しく、各ボクセルの所望寸法はそれぞれの寸法で0.0127cm(0.005 ″)である。
ビーム放射照度の関数G{ΣE(mJ/2cm^2) }として或る露光を受けた材料を用いて達成される光硬化深度(cm) は次の関数演算子によって表現される。
G{ΣE}(cm)=−0.066+0.0446 ln〔ΣE〕−0.00356(ln〔ΣE〕) ^ 2
等しい時間幅(w)のディジタル方形波時間パルスを有し、ストップから最高速度まで加速するこのような変調ベクトル走査システムのための一般化した露光方程式は次の通りである。
ディジタル・コンピュータ近似法を用いて、各寸法でのボクセル・サイズが0.0127cmであるビーム・スポットの1/e^0.693 直径の間隔で他のベクトル走査で囲まれたベクトル走査について光硬化厚さを計算した。このスポットのパルスはボクセルあたり、スポットから加速されたビームの4倍で生じる。走査半径は大きくして、1.27*10^6cm/sec^2のスポット加速度を与えた。スポットはパルスあたりw=3.93*10^ −6secにわたってディジタル式にパルス化し、像平面でのビーム出 力は 150mWであった。
好ましい解決策は、走査線の始まりの最初のボクセルと終りの最後のボクセル内の最初の2、3のパルスに長いパルス時間を与えることである。これが走査システムの速度を低下させることはないし、走査システムの任意他の部分になんら負の影響を与えることもないが、各ベクトルの始まりと終りでボクセルの回復を許すことになる。
第2コンピュータ制御手段34は変調手段14、偏向手段、第1コンピュータ制御手段30にそれぞれ制御/フィードバック・ライン50、54、58を介して接続している。第1コンピュータ制御手段30に記憶された図形データは第2コンピュータ制御手段34に送られ、処理された後、モータ24、26を回転させ、ミラー20、22を移動させ、放射ビームを薄層48上の所定位置に向って偏向する。ミラー20、22の相対運動に関する電気的フィードバックは偏向手段によってライン54を介して第2コンピュータ制御手段34に与えられる。このフィードバックは薄層48の所定部分でのビームの速度ならびに平均残留時間に相互関係があり、第2コンピュータ制御手段34によって処理されてから、ライン50を通して制御指令として変調器14に送られて放射ビーム12の強さを変調し、その結果、放射ビーム12の強さと薄層48の所定部位のうち各部位での平均残留時間の積がほぼ一定に留まる。こうして、これら2つのパラメータの積として定義される露光レベルがほぼ一定に留まる。この露光レベルを各隣り合った薄層の所定部分にわたって一定に維持することによって、光硬化深度もほぼ一定に保たれる。この補正は、膨らんだ縁が上述したようなベクトル走査における縁のところの低い初期速度による過剰露光の結果として現れる薄層の不支持部分で特に非常に重要である。放射ビーム12″の強さが高ければ高いほど、あるいは、光硬化性組成物の光感度が高ければ高いほど、露光レベルを一定に保つ手段がない場合にはこの問題はそれだけ厳しいものとなる。また、光硬化性組成物40の感度が大きければ大きいほど、或る種の露光制御手段なしには問題はそれだけ厳しいものとなる。
剛性物体の第1層が完了したならば、可動テーブル41を第1コンピュータ制御手段30からの指令を介して設定手段42によって所定の短い距離だけ下降させる。第1コンピュータ制御手段30からの同様の指令により、層形成手段、例えば、ドクターナイフ43が像形成面46を拭って平らにする。次いで同じ手順が繰り返され、第2の、第3、そしてそれに続く層を製造し、最終的に剛性物体が完成する。
G{ΣE}=光硬化深度=A +B ln〔E〕+C(ln〔E〕)^2
変調器14は、好ましくは第2コンピュータ制御手段34を介して制御されてほぼ方形波パルスの形で放射ビームをオン、オフする。各パルスは、通常は、ほぼ同じ振幅あるいは強さならびに同じ持続時間を有する。ビームが光硬化性組成物40の像形成面46を走査するにつれて、パルス周波数は像形成面46上をビームが移動する速度に比例するように第2コンピュータ制御手段34、走査システム16、フィードバック手段54によって設定される。
本発明の好ましい具体例では、隣接の露光による影響が少ない領域での交差の損失ならびに層接着性の低下は、これが先に述べたようにベクトルの始まりと終りでの影響によるものであろうと、隣接のベクトル走査による影響のない走査線によるものであろうと、ディジタル・パルス化音響光学式変調器の露光時間幅パルス制御によって補正される。
最後に、可動テーブル41の運動は並進運動、回転運動、無作為運動あるいはそれらの組合せであってもよい。
[実施例1]
Novacure 3704 〔ビスフエノール−Aビス(2‐ヒドロキシプロピル)ジアクリレート〕:29.6
TMPTA (トリメチロールプロバントリアクリレート):29.6
Plastha11 4141 (CP ta11社) (トリエチレングリコールカプレート−カプリレート):14.8
Triton X-100 (オクチルフエノールポリエーテルアルコール):0.78
Iragacure 651 (2,2 −ジメトキシ2−フエニルアセトフエノン): 1.6
コア−シエルポリマー*(RCP 1674): 26.0
上記のコア−シエルポリマー*は、ブチルアクリレート 70%、ブチレングリコールジアクリレート、5%アリルメタクリレート 25%からなるコアとメチルメタクリレート 100%からなるシエルを有する。
(コアの製造)
脱イオン水2388gおよびドデシルスルホン酸ナトリウムの30%水溶液37.5gを機械式攪拌機、凝縮器、加熱マントル、添加用漏斗、温度計および窒素取入口を備えた5lの4ツ口フラスコに入れた。フラスコの内容物を室温下窒素で30分間パージして、次いで80℃に加熱した。この温度でブチルアクリレート(BA)1046g、アリルメタクリレート(AMA)279g および 1,4−ブチレングリコールジアクリレート(BGD)70gからなるモノマー材料の8分の1を一度に加えた。続いて直ちにリン酸水素ナトリウムの7%溶液19 および過硫酸アンモニウムの5%溶液20 (いずれも水溶液)を一度に加えた。加熱を中止し、反応混合物の発熱にまかせた。発熱により84℃のピークとなった時、残りのモノマー材料を90分かけて反応温度が80〜85℃に維持するように断続的に加熱しながら加えた。モノマーの添加(全モノマー材料1345g)が終了したら、さらに反応混合物を 2.5時間80〜85℃で加熱した。最終生成物は青みを帯び、固形分35.1%を有する乳化液であり粒径0.097ミクロンを有した。
上述のコア乳化液2000g をコアを調整するときに使用したのと同じ装置を備えた5lのフラスコに入れた。フラスコ内容物を窒素により室温で30分間パージした。窒素パージの後、過硫酸アンモニウム1.45g、ドデシル硫酸ナトリウム30%水溶液 2.9gおよび脱イオン水 332gからなる混合物を撹拌しながらフラスコに30分かけて加えた。次いでフラスコの内容物を85℃に加熱して、メチルメタクリレート179gを60分間かけて加えた。すべてのモノマーを加えて、更に反応混合物を2時間加熱した。最終生成物は青みを帯び、固形分36.2%を有する乳化液であり、粒径0.107ミクロンを有した。コア:シエルの比率は実質的に4:1であった。
11 立体物体
12 放射ビーム
12’ 変調済みの放射ビーム
14 変調器
16 偏向手段
20、22 ミラー
24、26 モータ
30 第1コンピュータ制御手段
34 第2コンピュータ制御手段
40 光硬化性組成物
41 可動テーブル
42 設定手段(エレベータ・モータ)
43 ドクターナイフ
44 容器
46 像形成面
52、60、62、58 制御/フィードバック・ライン
Claims (6)
- 液状硬化性組成物の表面にビームを放射して前記液状硬化性組成物の所定部分を硬化させる立体造形装置であって、前記放射ビームがパルス状であることを特徴とする立体造形装置。
- 前記放射ビームが、その一つのパルスと次のパルスとの間隔もしくは各パルスの幅を変更可能とされていることを特徴とする請求項1記載の立体造形装置。
- 前記放射ビームにより、前記液状硬化性組成物の所定部分に薄い層内で所望のほぼ一定深さの硬化を生じさせることを特徴とする請求項1もしくは請求項2記載の立体造形装置。
- 液状硬化性組成物の表面にビームを放射して前記液状硬化性組成物の所定部分を硬化させる立体造形装置であって、前記放射ビームをパルス状のビームとし、前記液状硬化性組成物の表面上での放射ビームの走査速度に合わせて放射ビームの一つのパルスと次のパルスとの間隔もしくは各パルスの幅を制御することにより、単価面積あたりほぼ一定のエネルギー量を前記液状硬化性組成物に放射し、該液状硬化性組成物に薄い層内で所望のほぼ一定深さの硬化を生ぜしめることを特徴とする立体造形装置。
- 前記放射ビームの一つのパルスと次のパルスとの間隔もしくは各パルス幅の変更が音響光学変調器により行われることを特徴とする請求項2乃至請求項4記載の立体造形装置。
- 上記液状硬化性組成物は少なくとも一種の光硬化性モノマーまたはオリゴマーを含有し、かつ少なくとも一種の光硬化性開始剤を含有することを特徴とする請求項1乃至請求項5記載の立体造形装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/341,517 US5014207A (en) | 1989-04-21 | 1989-04-21 | Solid imaging system |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002189286A Division JP3676325B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-06-28 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004314640A true JP2004314640A (ja) | 2004-11-11 |
JP3672917B2 JP3672917B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=23337917
Family Applications (10)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2103200A Expired - Lifetime JPH0661847B2 (ja) | 1989-04-21 | 1990-04-20 | 立体像形成システム |
JP28649895A Expired - Lifetime JP3167601B2 (ja) | 1989-04-21 | 1995-10-06 | 立体像形成装置 |
JP2000400309A Expired - Lifetime JP3294240B2 (ja) | 1989-04-21 | 2000-12-28 | 立体像形成装置 |
JP2001302765A Expired - Lifetime JP3344420B2 (ja) | 1989-04-21 | 2001-09-28 | 立体像形成装置 |
JP2002155140A Expired - Lifetime JP3476451B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-05-29 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2002189286A Expired - Lifetime JP3676325B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-06-28 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2002219032A Expired - Lifetime JP3668727B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-07-29 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2002219031A Expired - Lifetime JP3668726B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-07-29 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2003083968A Pending JP2003326608A (ja) | 1989-04-21 | 2003-03-26 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2004197661A Expired - Lifetime JP3672917B2 (ja) | 1989-04-21 | 2004-07-05 | 立体像形成のための光硬化性組成物ならびにそれを用いる立体像形成方法および装置 |
Family Applications Before (9)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2103200A Expired - Lifetime JPH0661847B2 (ja) | 1989-04-21 | 1990-04-20 | 立体像形成システム |
JP28649895A Expired - Lifetime JP3167601B2 (ja) | 1989-04-21 | 1995-10-06 | 立体像形成装置 |
JP2000400309A Expired - Lifetime JP3294240B2 (ja) | 1989-04-21 | 2000-12-28 | 立体像形成装置 |
JP2001302765A Expired - Lifetime JP3344420B2 (ja) | 1989-04-21 | 2001-09-28 | 立体像形成装置 |
JP2002155140A Expired - Lifetime JP3476451B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-05-29 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2002189286A Expired - Lifetime JP3676325B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-06-28 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2002219032A Expired - Lifetime JP3668727B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-07-29 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2002219031A Expired - Lifetime JP3668726B2 (ja) | 1989-04-21 | 2002-07-29 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
JP2003083968A Pending JP2003326608A (ja) | 1989-04-21 | 2003-03-26 | 立体像形成装置及び立体造形方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5014207A (ja) |
EP (1) | EP0393677B1 (ja) |
JP (10) | JPH0661847B2 (ja) |
KR (1) | KR0122467B1 (ja) |
CN (1) | CN1038069C (ja) |
AU (1) | AU615613B2 (ja) |
CA (1) | CA2014810A1 (ja) |
DE (1) | DE69022274T2 (ja) |
HK (1) | HK150296A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015005220A1 (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | セメダイン株式会社 | 導電性硬化物の製造方法及び導電性硬化物並びにパルス光硬化性組成物の硬化方法及びパルス光硬化性組成物 |
CN112894149A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-06-04 | 北京理工大学 | 超短脉冲激光烧蚀物体的超快连续三维成像系统及方法 |
KR102331715B1 (ko) * | 2020-05-29 | 2021-11-29 | 한국생산기술연구원 | 단일 레이저빔 기반 다중 레이저빔 스캐닝 장치 및 방법 |
Families Citing this family (88)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0369343A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-25 | Japan Steel Works Ltd:The | 三次元物体の形成方法 |
US5182715A (en) * | 1989-10-27 | 1993-01-26 | 3D Systems, Inc. | Rapid and accurate production of stereolighographic parts |
US5133987A (en) * | 1989-10-27 | 1992-07-28 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic apparatus and method |
DE9018057U1 (de) * | 1989-10-30 | 1994-06-23 | 3D Systems Inc | Vorrichtung zur Verbesserung stereolithographischer Konstruktionstechniken |
US5626919A (en) * | 1990-03-01 | 1997-05-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging apparatus and method with coating station |
US5506607A (en) * | 1991-01-25 | 1996-04-09 | Sanders Prototypes Inc. | 3-D model maker |
US5740051A (en) * | 1991-01-25 | 1998-04-14 | Sanders Prototypes, Inc. | 3-D model making |
US5217653A (en) * | 1991-02-18 | 1993-06-08 | Leonid Mashinsky | Method and apparatus for producing a stepless 3-dimensional object by stereolithography |
US5204823A (en) * | 1991-03-20 | 1993-04-20 | Calcomp Inc. | Method and apparatus for high-speed layer thickness curing in 3-D model making |
DE4134265C2 (de) * | 1991-10-16 | 1993-11-25 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mittels Stereographie |
US5644689A (en) * | 1992-01-13 | 1997-07-01 | Hitachi, Ltd. | Arbitrary viewpoint three-dimensional imaging method using compressed voxel data constructed by a directed search of voxel data representing an image of an object and an arbitrary viewpoint |
FR2703945A1 (fr) * | 1993-04-12 | 1994-10-21 | Du Pont | Procédé d'exposition pour réduire la distorsion de modèles fabriqués par imagerie tridimensionnelle. |
US5429908A (en) * | 1993-04-12 | 1995-07-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Exposure method for reducing distortion in models produced through solid imaging by forming a non-continuous image of a pattern which is then imaged to form a continuous hardened image of the pattern |
EP0715573B1 (en) * | 1993-08-26 | 2001-11-07 | Solidscape, Inc. | 3-d model maker |
US5753171A (en) * | 1994-05-13 | 1998-05-19 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Method and apparatus for producing a three-dimensional object |
DE4416901A1 (de) * | 1994-05-13 | 1995-11-16 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
JP3117394B2 (ja) * | 1994-11-29 | 2000-12-11 | 帝人製機株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
DE19606128A1 (de) * | 1996-02-20 | 1997-08-21 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes |
DE69716332T2 (de) | 1996-04-15 | 2003-02-20 | Teijin Seiki Co Ltd | Verwendung einer photohärtbaren Harzzusammensetzung zur Herstellung eines Objektes mittels Stereolithographie |
AU2653497A (en) | 1996-05-09 | 1997-11-26 | Dsm N.V. | Photosensitive resin composition for rapid prototyping and process for the manufacture of 3-dimensional objects |
EP0807853B1 (en) * | 1996-05-16 | 2003-10-08 | Teijin Seiki Co., Ltd. | Photocurable resin composition, method of producing photo-cured shaped object, vacuum casting mold, vacuum casting method and urethane acrylate |
JP3150066B2 (ja) * | 1996-07-16 | 2001-03-26 | 有限会社アロアロ・インターナショナル | 造形装置および方法 |
JP3724893B2 (ja) * | 1996-09-25 | 2005-12-07 | ナブテスコ株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
US6203966B1 (en) | 1997-02-05 | 2001-03-20 | Teijin Seiki Co., Ltd. | Stereolithographic resin composition |
US6001297A (en) * | 1997-04-28 | 1999-12-14 | 3D Systems, Inc. | Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography |
US5980812A (en) | 1997-04-30 | 1999-11-09 | Lawton; John A. | Solid imaging process using component homogenization |
US6085122A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Dtm Corporation | End-of-vector laser power control in a selective laser sintering system |
US6151345A (en) * | 1998-07-07 | 2000-11-21 | Dtm Corporation | Laser power control with stretched initial pulses |
JP4007704B2 (ja) | 1998-11-10 | 2007-11-14 | ナブテスコ株式会社 | 光学的立体造形用の光硬化性樹脂組成物 |
US6129884A (en) * | 1999-02-08 | 2000-10-10 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application |
US6325961B1 (en) * | 1999-02-08 | 2001-12-04 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation and application |
US6126884A (en) * | 1999-02-08 | 2000-10-03 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application |
US6834370B1 (en) * | 1999-07-08 | 2004-12-21 | Osi Software, Inc. | Method for creating master recipes |
GB0000632D0 (en) | 2000-01-13 | 2000-03-01 | Hastings Stephen A | Apparatus for and method of targeting |
AU2001234163A1 (en) * | 2000-02-28 | 2001-09-03 | Sankyo Company Limited | Photofabrication, photofabrication apparatus, recorded medium on which photofabrication program is recorded |
US6708071B1 (en) | 2000-08-15 | 2004-03-16 | Vought Aircraft Industries, Inc. | Method and system for defining and verifying a part |
JP4659300B2 (ja) * | 2000-09-13 | 2011-03-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工方法及び半導体チップの製造方法 |
US7174236B2 (en) | 2001-08-16 | 2007-02-06 | Riken | Ultra-precise processing method and apparatus for inhomogeneous material |
JP4346021B2 (ja) * | 2001-08-16 | 2009-10-14 | 独立行政法人理化学研究所 | V−cadデータを用いたラピッドプロトタイピング方法と装置 |
CN1311390C (zh) | 2001-12-04 | 2007-04-18 | 独立行政法人理化学研究所 | 三维形状数据向单元内部数据的变换方法 |
WO2003073335A1 (fr) | 2002-02-28 | 2003-09-04 | Riken | Procede et programme de conversion de donnees frontieres en forme a l'interieur d'une cellule |
US7235195B2 (en) * | 2002-09-06 | 2007-06-26 | Novartis Ag | Method for making opthalmic devices |
DE10245617A1 (de) * | 2002-09-30 | 2004-04-08 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Vorrichtung und Verfahren zum schichtweisen Herstellen von dreidimensionalen Objekten |
JP4381743B2 (ja) | 2003-07-16 | 2009-12-09 | 独立行政法人理化学研究所 | 境界表現データからボリュームデータを生成する方法及びそのプログラム |
GB0317387D0 (en) * | 2003-07-25 | 2003-08-27 | Univ Loughborough | Method and apparatus for combining particulate material |
US20050101684A1 (en) * | 2003-11-06 | 2005-05-12 | Xiaorong You | Curable compositions and rapid prototyping process using the same |
US7633033B2 (en) | 2004-01-09 | 2009-12-15 | General Lasertronics Corporation | Color sensing for laser decoating |
US7261542B2 (en) | 2004-03-18 | 2007-08-28 | Desktop Factory, Inc. | Apparatus for three dimensional printing using image layers |
US7339712B2 (en) * | 2005-03-22 | 2008-03-04 | 3D Systems, Inc. | Laser scanning and power control in a rapid prototyping system |
EP1757979B1 (en) | 2005-08-26 | 2012-12-12 | Cmet Inc. | Rapid prototyping resin compositions |
US8293810B2 (en) * | 2005-08-29 | 2012-10-23 | Cmet Inc. | Rapid prototyping resin compositions |
JP4783100B2 (ja) | 2005-09-12 | 2011-09-28 | 独立行政法人理化学研究所 | 境界データのセル内形状データへの変換方法とその変換プログラム |
US7931460B2 (en) * | 2006-05-03 | 2011-04-26 | 3D Systems, Inc. | Material delivery system for use in solid imaging |
US7467939B2 (en) * | 2006-05-03 | 2008-12-23 | 3D Systems, Inc. | Material delivery tension and tracking system for use in solid imaging |
US20080226346A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-09-18 | 3D Systems, Inc. | Inkjet Solid Imaging System and Method for Solid Imaging |
US7614866B2 (en) * | 2007-01-17 | 2009-11-10 | 3D Systems, Inc. | Solid imaging apparatus and method |
US7771183B2 (en) * | 2007-01-17 | 2010-08-10 | 3D Systems, Inc. | Solid imaging system with removal of excess uncured build material |
US7731887B2 (en) * | 2007-01-17 | 2010-06-08 | 3D Systems, Inc. | Method for removing excess uncured build material in solid imaging |
US7706910B2 (en) * | 2007-01-17 | 2010-04-27 | 3D Systems, Inc. | Imager assembly and method for solid imaging |
US20080170112A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-17 | Hull Charles W | Build pad, solid image build, and method for building build supports |
US8003039B2 (en) | 2007-01-17 | 2011-08-23 | 3D Systems, Inc. | Method for tilting solid image build platform for reducing air entrainment and for build release |
US8105066B2 (en) * | 2007-01-17 | 2012-01-31 | 3D Systems, Inc. | Cartridge for solid imaging apparatus and method |
US20080181977A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Sperry Charles R | Brush assembly for removal of excess uncured build material |
US8221671B2 (en) * | 2007-01-17 | 2012-07-17 | 3D Systems, Inc. | Imager and method for consistent repeatable alignment in a solid imaging apparatus |
US8536483B2 (en) | 2007-03-22 | 2013-09-17 | General Lasertronics Corporation | Methods for stripping and modifying surfaces with laser-induced ablation |
JP5293993B2 (ja) * | 2008-01-09 | 2013-09-18 | ソニー株式会社 | 光造形装置および光造形方法 |
US20120132627A1 (en) | 2009-04-28 | 2012-05-31 | Bae Systems Plc | Additive layer fabrication method |
US10112257B1 (en) * | 2010-07-09 | 2018-10-30 | General Lasertronics Corporation | Coating ablating apparatus with coating removal detection |
GB2490143B (en) * | 2011-04-20 | 2013-03-13 | Rolls Royce Plc | Method of manufacturing a component |
US9895771B2 (en) | 2012-02-28 | 2018-02-20 | General Lasertronics Corporation | Laser ablation for the environmentally beneficial removal of surface coatings |
US9034237B2 (en) | 2012-09-25 | 2015-05-19 | 3D Systems, Inc. | Solid imaging systems, components thereof, and methods of solid imaging |
CN103273652B (zh) * | 2013-06-08 | 2015-12-09 | 王夏娃 | 数字光信号处理立体成型机及其立体成型方法 |
CN103273653B (zh) * | 2013-06-18 | 2015-12-02 | 王夏娃 | 激光电镜立体成型机及立体成型方法 |
US10086597B2 (en) | 2014-01-21 | 2018-10-02 | General Lasertronics Corporation | Laser film debonding method |
JP6414588B2 (ja) | 2014-03-05 | 2018-10-31 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 三次元形状造形物の製造方法 |
JP2015168228A (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-28 | 日本電子株式会社 | 三次元積層造形装置及び三次元積層造形方法 |
WO2015197495A1 (en) * | 2014-06-27 | 2015-12-30 | Koninklijke Philips N.V. | Printing device and method for 3d printing |
BE1025292B1 (nl) * | 2017-06-06 | 2019-01-15 | Layerwise N.V. | Apparaat voor het additief vervaardigen van een product met een kalibratie-inrichting en werkwijze voor het kalibreren van een dergelijk apparaat |
KR102567116B1 (ko) * | 2017-09-08 | 2023-08-16 | 가부시키가이샤 니콘 | 패턴 묘화 장치 |
KR102031069B1 (ko) * | 2017-12-07 | 2019-10-11 | 단국대학교 산학협력단 | 리사쥬 패턴을 이용한 3d 프린팅 방법 및 리사쥬 패턴을 이용한 3d 프린터 |
JP7040236B2 (ja) * | 2018-04-05 | 2022-03-23 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 三次元形状データの編集装置、三次元造形装置、三次元造形システム、及び三次元形状データの編集プログラム |
US11123921B2 (en) | 2018-11-02 | 2021-09-21 | Fermi Research Alliance, Llc | Method and system for in situ cross-linking of materials to produce three-dimensional features via electron beams from mobile accelerators |
JP2020151937A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | 株式会社リコー | 立体造形物を造形する装置、立体造形物を造形する方法、プログラム |
JP7213757B2 (ja) * | 2019-05-31 | 2023-01-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品製造方法 |
JP7336933B2 (ja) * | 2019-09-24 | 2023-09-01 | 株式会社フジクラ | レーザ照射装置及び樹脂成形体の製造方法 |
CN113102754B (zh) * | 2019-12-24 | 2022-07-29 | 天津大学 | 一种高熵合金激光选区熔化工艺参数优化方法 |
US20230001639A1 (en) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | General Electric Company | Additive manufacturing using solid state optical deflectors |
CN113624907B (zh) * | 2021-08-10 | 2022-05-13 | 中国科学技术大学 | 一种点燃实验模拟装置 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2775758A (en) * | 1951-05-25 | 1956-12-25 | Munz Otto John | Photo-glyph recording |
DE2025122C3 (de) * | 1969-07-17 | 1974-07-25 | Vianova-Kunstharz Ag, Wien | Verfahren zur Härtung von Anstrichstoffen und Überzügen mittels von einem Laser emittierter Infrarot-Strahlung |
JPS54157641A (en) * | 1978-06-02 | 1979-12-12 | Hitachi Ltd | Light modulating circuit |
US4196461A (en) * | 1979-03-06 | 1980-04-01 | Chartglen, Ltd. | Pattern generating entertainment device |
JPS56144478A (en) * | 1980-04-12 | 1981-11-10 | Hideo Kodama | Stereoscopic figure drawing device |
US4393450A (en) * | 1980-08-11 | 1983-07-12 | Trustees Of Dartmouth College | Three-dimensional model-making system |
JPS57102016A (en) * | 1980-12-17 | 1982-06-24 | Hitachi Ltd | Pattern generator |
US4665492A (en) * | 1984-07-02 | 1987-05-12 | Masters William E | Computer automated manufacturing process and system |
US4929402A (en) * | 1984-08-08 | 1990-05-29 | 3D Systems, Inc. | Method for production of three-dimensional objects by stereolithography |
US4575330A (en) * | 1984-08-08 | 1986-03-11 | Uvp, Inc. | Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
US4675825A (en) * | 1984-10-30 | 1987-06-23 | Dementhon Daniel F | Computer-controlled peripheral shaping system |
JPS61116320A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-03 | Fujitsu Ltd | 立体形状形成装置 |
JPS61116321A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-03 | Fujitsu Ltd | 立体形状形成装置 |
JPS61114818A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | Fujitsu Ltd | 立体形状形成装置 |
JPS61114817A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | Fujitsu Ltd | 立体形状形成装置 |
JPS61116322A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-03 | Fujitsu Ltd | 立体形状形成装置 |
JPS61256321A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Hitachi Ltd | 液晶投射型表示装置 |
FR2582858B1 (fr) * | 1985-06-04 | 1988-11-10 | Videocolor | Procede et appareil d'illumination de la dalle d'un tube de television en couleurs pour la formation de l'ecran |
JPH074818B2 (ja) * | 1985-08-20 | 1995-01-25 | 松下電器産業株式会社 | 紫外線照射装置 |
WO1987005843A1 (en) * | 1986-03-26 | 1987-10-08 | Nauchno-Issledovatelsky Tsentr Po Tekhnologicheski | Installation for laser treatment of materials |
DE3750709T2 (de) * | 1986-06-03 | 1995-03-16 | Cubital Ltd | Gerät zur Entwicklung dreidimensionaler Modelle. |
JPS63145016A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-17 | Fujitsu Ltd | 立体形状形成装置 |
US4752498A (en) * | 1987-03-02 | 1988-06-21 | Fudim Efrem V | Method and apparatus for production of three-dimensional objects by photosolidification |
FR2612718B1 (fr) * | 1987-03-20 | 1989-05-26 | Thomson Csf | Systeme numerique de generation des signaux de commande des circuits multivoies de modulation laser pour projecteur a miroirs oscillants, d'image tramee |
JPH01228828A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-12 | Osaka Prefecture | 光学的造形法 |
US5015424A (en) * | 1988-04-18 | 1991-05-14 | 3D Systems, Inc. | Methods and apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
US4915757A (en) * | 1988-05-05 | 1990-04-10 | Spectra-Physics, Inc. | Creation of three dimensional objects |
JPH02251419A (ja) * | 1989-03-27 | 1990-10-09 | Sony Corp | 立体形状形成方法 |
-
1989
- 1989-04-21 US US07/341,517 patent/US5014207A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-04-18 CA CA002014810A patent/CA2014810A1/en not_active Abandoned
- 1990-04-19 EP EP90107452A patent/EP0393677B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-19 DE DE69022274T patent/DE69022274T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-20 JP JP2103200A patent/JPH0661847B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-20 KR KR1019900005573A patent/KR0122467B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-04-20 AU AU53761/90A patent/AU615613B2/en not_active Ceased
- 1990-04-21 CN CN90102258A patent/CN1038069C/zh not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-10-06 JP JP28649895A patent/JP3167601B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-08-08 HK HK150296A patent/HK150296A/xx not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-12-28 JP JP2000400309A patent/JP3294240B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001302765A patent/JP3344420B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-05-29 JP JP2002155140A patent/JP3476451B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-28 JP JP2002189286A patent/JP3676325B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-29 JP JP2002219032A patent/JP3668727B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-29 JP JP2002219031A patent/JP3668726B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-03-26 JP JP2003083968A patent/JP2003326608A/ja active Pending
-
2004
- 2004-07-05 JP JP2004197661A patent/JP3672917B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015005220A1 (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | セメダイン株式会社 | 導電性硬化物の製造方法及び導電性硬化物並びにパルス光硬化性組成物の硬化方法及びパルス光硬化性組成物 |
KR102331715B1 (ko) * | 2020-05-29 | 2021-11-29 | 한국생산기술연구원 | 단일 레이저빔 기반 다중 레이저빔 스캐닝 장치 및 방법 |
CN112894149A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-06-04 | 北京理工大学 | 超短脉冲激光烧蚀物体的超快连续三维成像系统及方法 |
US11313971B1 (en) | 2021-01-21 | 2022-04-26 | Beijing Institute Of Technology | Three-dimensional imaging system and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3668727B2 (ja) | 2005-07-06 |
JP3294240B2 (ja) | 2002-06-24 |
JPH0321432A (ja) | 1991-01-30 |
JPH0661847B2 (ja) | 1994-08-17 |
JP2003094526A (ja) | 2003-04-03 |
KR0122467B1 (ko) | 1997-11-10 |
AU5376190A (en) | 1990-10-25 |
CA2014810A1 (en) | 1990-10-21 |
JP3476451B2 (ja) | 2003-12-10 |
JP2003326608A (ja) | 2003-11-19 |
JP2002160301A (ja) | 2002-06-04 |
JP3167601B2 (ja) | 2001-05-21 |
JP2003025455A (ja) | 2003-01-29 |
CN1046615A (zh) | 1990-10-31 |
JP2003053848A (ja) | 2003-02-26 |
DE69022274T2 (de) | 1996-03-28 |
CN1038069C (zh) | 1998-04-15 |
JPH08224789A (ja) | 1996-09-03 |
US5014207A (en) | 1991-05-07 |
JP3668726B2 (ja) | 2005-07-06 |
EP0393677A3 (en) | 1991-04-17 |
KR900016806A (ko) | 1990-11-14 |
DE69022274D1 (de) | 1995-10-19 |
JP2001225393A (ja) | 2001-08-21 |
EP0393677A2 (en) | 1990-10-24 |
HK150296A (en) | 1996-08-16 |
JP3344420B2 (ja) | 2002-11-11 |
AU615613B2 (en) | 1991-10-03 |
JP2003094527A (ja) | 2003-04-03 |
JP3672917B2 (ja) | 2005-07-20 |
JP3676325B2 (ja) | 2005-07-27 |
EP0393677B1 (en) | 1995-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3167601B2 (ja) | 立体像形成装置 | |
JP3585913B2 (ja) | 三次元物体製造方法 | |
JP2648222B2 (ja) | 中空球を含有する光硬化性組成物を用いる立体像形成法 | |
US8815143B2 (en) | Method for producing a three-dimensional object by means of mask exposure | |
EP0393673B1 (en) | Solid imaging method using multiphasic photohardenable compositions | |
JP2610692B2 (ja) | 三次元物体形成用光硬化性組成物および三次元物体の造形方法 | |
US4942066A (en) | Solid imaging method using photohardenable materials of self limiting thickness | |
US4987044A (en) | Method and apparatus for maintaining desired exposure levels | |
JPH0675925B2 (ja) | 立体形状形成装置 | |
JPH03281329A (ja) | 光学的立体造形方法 | |
KR20000018892A (ko) | 액정 패널을 이용한 3차원 광조형물 제조 방법 및 제조 장치 | |
JPH0850358A (ja) | 写真製版製造装置 | |
JPH03205135A (ja) | 光学的立体造形方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040803 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040803 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040803 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20041015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050118 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050315 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050419 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050420 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080428 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 5 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |