JPS61256321A - 液晶投射型表示装置 - Google Patents
液晶投射型表示装置Info
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- JPS61256321A JPS61256321A JP60097800A JP9780085A JPS61256321A JP S61256321 A JPS61256321 A JP S61256321A JP 60097800 A JP60097800 A JP 60097800A JP 9780085 A JP9780085 A JP 9780085A JP S61256321 A JPS61256321 A JP S61256321A
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- liquid crystal
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- circuit
- axis movement
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/132—Thermal activation of liquid crystals exhibiting a thermo-optic effect
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/02—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes by tracing or scanning a light beam on a screen
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は液晶素子への熱書込みをレーザ光によって行わ
れる液晶投射型表示装置に関する。
れる液晶投射型表示装置に関する。
近年、大画面表示装置の需要が管制用の用途において高
まっている。それも、グラフィックの表示が可能で、か
つ高解像度のものが要求されている。この要求を満足す
る大画面表示装置として液晶素子にレーザ光によって熱
書込みを行う液晶投射型表示装置が注目されている。
まっている。それも、グラフィックの表示が可能で、か
つ高解像度のものが要求されている。この要求を満足す
る大画面表示装置として液晶素子にレーザ光によって熱
書込みを行う液晶投射型表示装置が注目されている。
液晶投射型表示装置において、液晶素子への書込みはレ
ーザ源の発生するレーザ光をガルバノミラ−等の光軸制
御手段によって偏向させ液晶素子に照射することにより
行っている。レーザ光の偏光はＸ軸とＹ軸のＺ軸方向に
行われる。光軸制御手段としとはガルバノメータ型偏向
器や多面回転鏡型偏向器が用いられる。これらの偏向器
は機械的な変位にまってレーザ光の偏光を行う。ところ
が、変位開始時と変位停止時、つまり光軸の移動開始時
と移動停止時に変位の移動速度が変化するため書込み線
幅が変化するという問題点を有する。
ーザ源の発生するレーザ光をガルバノミラ−等の光軸制
御手段によって偏向させ液晶素子に照射することにより
行っている。レーザ光の偏光はＸ軸とＹ軸のＺ軸方向に
行われる。光軸制御手段としとはガルバノメータ型偏向
器や多面回転鏡型偏向器が用いられる。これらの偏向器
は機械的な変位にまってレーザ光の偏光を行う。ところ
が、変位開始時と変位停止時、つまり光軸の移動開始時
と移動停止時に変位の移動速度が変化するため書込み線
幅が変化するという問題点を有する。
この問題点を解決するためにレザ光をラスタスキャンし
て熱書込みを行う際に、液晶素子の幅寸セイデイング
オブ ザ ニス・アイ・ディ」（Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ
ｏｆ ｔｈｅ Ｓ、Ｉ、Ｄ、） ＶＯＬ、 １９ ／
１１９７８の第１〜７頁に記載されている。
て熱書込みを行う際に、液晶素子の幅寸セイデイング
オブ ザ ニス・アイ・ディ」（Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ
ｏｆ ｔｈｅ Ｓ、Ｉ、Ｄ、） ＶＯＬ、 １９ ／
１１９７８の第１〜７頁に記載されている。
ところが、光軸制御器を液晶素子の書込み面以外まで機
械的に変位させなければならず、書込み時間が長くなる
という欠点を有する。
械的に変位させなければならず、書込み時間が長くなる
という欠点を有する。
本発明は上記点に対処して成されたもので、その目的と
するところはレーザ光による線幅一定の熱書込みを短時
間で行える液晶投射型表示装置を提供することにある。
するところはレーザ光による線幅一定の熱書込みを短時
間で行える液晶投射型表示装置を提供することにある。
本発明の特徴とするところは液晶素子に照射するレーザ
光の強度を光軸の移動速度に応じて変化させるようにし
たことにある。
光の強度を光軸の移動速度に応じて変化させるようにし
たことにある。
換言すると、本発明は光軸の移動速度に拘らず液晶素子
に照射するレーザ光エネルギーが常に一定となるように
したことを特徴とする。
に照射するレーザ光エネルギーが常に一定となるように
したことを特徴とする。
第１図に本発明の一実施例を示す。
第１図において、レーザ光源］の発生するレーザ光は変
調器２を通った後にミラー３で反射し光路を変えられる
。変調器２は後述するようにしてレーザ光強度を変化さ
せる。ミラー３から反射したレーザ光はエキスパンダ４
でビーム径を所定の大きさに整えられるガルバノミラ−
５Ｘ、５Ｙに投射される。ガルバノミラ−５Ｘはレーザ
光をＸ軸方向に偏向させ、ガルバノミラ−５Ｙはレーザ
光をＹ軸方向に偏向させる。ガルバノミラ−５Ｘ。
調器２を通った後にミラー３で反射し光路を変えられる
。変調器２は後述するようにしてレーザ光強度を変化さ
せる。ミラー３から反射したレーザ光はエキスパンダ４
でビーム径を所定の大きさに整えられるガルバノミラ−
５Ｘ、５Ｙに投射される。ガルバノミラ−５Ｘはレーザ
光をＸ軸方向に偏向させ、ガルバノミラ−５Ｙはレーザ
光をＹ軸方向に偏向させる。ガルバノミラ−５Ｘ。
５Ｙは書込み制御回路７から与えられるＸ軸位置制御信
号あるいはＹ軸位置制御信号に基づいて連続的に機械的
な変位を行いレーザ光の光軸を変える。ガルバノミラ−
５Ｘ、５Ｙによって光軸を制御されたレーザ光は集光レ
ンズ６で集光され、スメクチック液晶素子１０に照射さ
れる。カフリーンコントローラ８は図示しない上位計算
機から位置情報を入力してＸ軸位置指令とＹ軸位置指令
を求め書込み制御器Ｎ７に加える。コントローラ８は上
位計算機から位置情報だけでなく、書込みか消去の表示
情報、書込みあるいは消去する図形の図形情報なども入
力する。スクリンコン１−ローラ８は液晶素子１０に印
加する交流電圧の大きさとタイミングも制御する。液晶
素子１０に交流電圧を印加するのは全面消去あるいは部
分消去を行うためである。以上のレーザ光源１、変調器
２、ミラー３、エキスパンダ４、ガルバノミラ−５Ｘ。
号あるいはＹ軸位置制御信号に基づいて連続的に機械的
な変位を行いレーザ光の光軸を変える。ガルバノミラ−
５Ｘ、５Ｙによって光軸を制御されたレーザ光は集光レ
ンズ６で集光され、スメクチック液晶素子１０に照射さ
れる。カフリーンコントローラ８は図示しない上位計算
機から位置情報を入力してＸ軸位置指令とＹ軸位置指令
を求め書込み制御器Ｎ７に加える。コントローラ８は上
位計算機から位置情報だけでなく、書込みか消去の表示
情報、書込みあるいは消去する図形の図形情報なども入
力する。スクリンコン１−ローラ８は液晶素子１０に印
加する交流電圧の大きさとタイミングも制御する。液晶
素子１０に交流電圧を印加するのは全面消去あるいは部
分消去を行うためである。以上のレーザ光源１、変調器
２、ミラー３、エキスパンダ４、ガルバノミラ−５Ｘ。
５Ｙ、集光レンズ６および書込み制御器［７とで書込み
系９を構成する。キセノンランプなどの光源１１からの
光はレンズ１２により平行光線とされハーフミラ−１３
に照射される。ハーフミラ−１３に当った平行光線の１
７２の光量は透過し、１／２の光量が液晶素子１０に照
射される。液晶素子１０に照射された光は書込まれた線
以外の部分から反射し、ハーフミラ−１３と投射レンズ
１４を介してスクリーン１６に投射される。光源１１、
レンズ１２、ハーフミラ−］−３および投射レンズ１−
４とで投射系を構成する。
系９を構成する。キセノンランプなどの光源１１からの
光はレンズ１２により平行光線とされハーフミラ−１３
に照射される。ハーフミラ−１３に当った平行光線の１
７２の光量は透過し、１／２の光量が液晶素子１０に照
射される。液晶素子１０に照射された光は書込まれた線
以外の部分から反射し、ハーフミラ−１３と投射レンズ
１４を介してスクリーン１６に投射される。光源１１、
レンズ１２、ハーフミラ−］−３および投射レンズ１−
４とで投射系を構成する。
第２図に変調器１２の一例を示す。変調器としては電気
光学効果を利用したもの、あるいは音響光学効果を利用
したものとがある。第２図は音響光学効果を利用した変
調器を示す。
光学効果を利用したもの、あるいは音響光学効果を利用
したものとがある。第２図は音響光学効果を利用した変
調器を示す。
第２図において、レーザ光源１の発生する入射レーザ光
重、は集光レンズ２４によって集光されてガラス体２２
に入る。ガラス体２２に圧電素子２３が設けられている
。圧電素子２３は圧電素子駆動回路２６によって駆動さ
れる。圧電素子２３に振動によってガラス体２２内に超
音波が伝播し、ガラス体２２内に回折格子２２ａが発生
する。入射レーザ光Ｔ、は回折格子２２ａによって一次
光重、とＯ次光■。に分けられる。１次光工、はレンズ
２４によって平行光にされミラー３に照射され、また、
０次光Ｉ。は阻止材２５により遮光される。
重、は集光レンズ２４によって集光されてガラス体２２
に入る。ガラス体２２に圧電素子２３が設けられている
。圧電素子２３は圧電素子駆動回路２６によって駆動さ
れる。圧電素子２３に振動によってガラス体２２内に超
音波が伝播し、ガラス体２２内に回折格子２２ａが発生
する。入射レーザ光Ｔ、は回折格子２２ａによって一次
光重、とＯ次光■。に分けられる。１次光工、はレンズ
２４によって平行光にされミラー３に照射され、また、
０次光Ｉ。は阻止材２５により遮光される。
第３図に書込み制御回路７とガルバノミラ−５Ｘ、５Ｙ
の詳細構成図を示す。なお、Ｘ軸周の部品には添字Ｘを
付し、Ｙ軸用の部品には添字Ｙを付している。
の詳細構成図を示す。なお、Ｘ軸周の部品には添字Ｘを
付し、Ｙ軸用の部品には添字Ｙを付している。
第３図において、位置制御回路３１Ｘはコントローラ８
から与えられるＸ軸位置指令信号Ｐ□とＸ軸ミラーの位
置を検出する位置検出器５３Ｘで検出したＸ軸位置信号
Ｐ８．とを入力し、位置偏差に応じた速度指令信号ｖ、
、を出力する。速度指令信号□は上限速度制限回路３２
Ｘを介して速度制御回路３３Ｘに加えられる。上限速度
制御回路８２Ｘはコントローラ８から与えられるＸ軸速
度制限値ｖ、Ｌを設定される。Ｘ軸速度制限値ｖ、Ｌは
ガルバノミラ−５ｘの機械的な移動速度やレーザ光量１
の発生するレーザ光の強度などによって決定される。速
度制御回路３３Ｘは速度指令信号Ｖ＝、と速度検出器５
２Ｘで検出した速度検出信号ｖ１を入力し、速度偏差に
応じた電流指令信号１０を出力し電流制御回路３４Ｘに
加える。電流制御回路３４Ｘは電流指令ｉ□に基づきミ
ラー駆動回路５１Ｘを作動させミラー５４Ｘを駆動する
。
から与えられるＸ軸位置指令信号Ｐ□とＸ軸ミラーの位
置を検出する位置検出器５３Ｘで検出したＸ軸位置信号
Ｐ８．とを入力し、位置偏差に応じた速度指令信号ｖ、
、を出力する。速度指令信号□は上限速度制限回路３２
Ｘを介して速度制御回路３３Ｘに加えられる。上限速度
制御回路８２Ｘはコントローラ８から与えられるＸ軸速
度制限値ｖ、Ｌを設定される。Ｘ軸速度制限値ｖ、Ｌは
ガルバノミラ−５ｘの機械的な移動速度やレーザ光量１
の発生するレーザ光の強度などによって決定される。速
度制御回路３３Ｘは速度指令信号Ｖ＝、と速度検出器５
２Ｘで検出した速度検出信号ｖ１を入力し、速度偏差に
応じた電流指令信号１０を出力し電流制御回路３４Ｘに
加える。電流制御回路３４Ｘは電流指令ｉ□に基づきミ
ラー駆動回路５１Ｘを作動させミラー５４Ｘを駆動する
。
ミラー駆動回路５１Ｘに流れる電流１７．は電流制御回
路３４Ｘに帰還される。ミラー５４Ｘの移動速度と位置
は機械的に直結された速度検出器５２′Ｘおよび位置検
出器５３Ｘによって検出される。
路３４Ｘに帰還される。ミラー５４Ｘの移動速度と位置
は機械的に直結された速度検出器５２′Ｘおよび位置検
出器５３Ｘによって検出される。
Ｙ軸用のガルバノミラ−５Ｙも同様に位置制御回路３１
Ｙ、上限速度制御回路３２Ｙ、速度制御回路３３Ｙおよ
び電流制御回路３４ＹによってＹ軸位置指令信号Ｐ□に
基づき駆動される。光軸移動速度演算回路３５は速度検
出器５３Ｘ、５２Ｙで検出したＸ軸移動速度信号ｖ８１
とＹ軸移動速度信号Ｖ□を入力し光軸移動速度Ｖ＆６を
求め速度・光量変換回路３６に加える。速度・光強度変
換回路３６は光軸移動速度ｖｔｅに基づき液晶素子１０
に照射するレーザ光強度を求め、光強度制御信号Ω。を
スイッチング回路３７を介して変調器２に与える。光軸
移動速度指令演算回路３８は上限速度制限回路３２Ｘ、
３２Ｙから出力されるＸ軸速度指令信号８．とＹ軸速度
指令信号ｖ１．を入力し光軸移動速度指令値ｖＬ、を求
める。光軸移動検出口路３９は光軸移動速度指令値ｖ、
、の有無によって光軸が移動中か否かを検出し、光軸移
動中のときスイッチング回路３７をオンする。
Ｙ、上限速度制御回路３２Ｙ、速度制御回路３３Ｙおよ
び電流制御回路３４ＹによってＹ軸位置指令信号Ｐ□に
基づき駆動される。光軸移動速度演算回路３５は速度検
出器５３Ｘ、５２Ｙで検出したＸ軸移動速度信号ｖ８１
とＹ軸移動速度信号Ｖ□を入力し光軸移動速度Ｖ＆６を
求め速度・光量変換回路３６に加える。速度・光強度変
換回路３６は光軸移動速度ｖｔｅに基づき液晶素子１０
に照射するレーザ光強度を求め、光強度制御信号Ω。を
スイッチング回路３７を介して変調器２に与える。光軸
移動速度指令演算回路３８は上限速度制限回路３２Ｘ、
３２Ｙから出力されるＸ軸速度指令信号８．とＹ軸速度
指令信号ｖ１．を入力し光軸移動速度指令値ｖＬ、を求
める。光軸移動検出口路３９は光軸移動速度指令値ｖ、
、の有無によって光軸が移動中か否かを検出し、光軸移
動中のときスイッチング回路３７をオンする。
次にその動作を説明する。
レーザ光源１の発生するレーザ光は変調器２、ミラー３
、エキスパンダ５を介してガルバノミラ−５Ｘ、５Ｙに
投射される。ガルバノミラ−５Ｘ。
、エキスパンダ５を介してガルバノミラ−５Ｘ、５Ｙに
投射される。ガルバノミラ−５Ｘ。
５Ｙはその角度（位置）髪書込み制御回路７によって制
御される。Ｘ軸ミラー５４Ｘは次のようにして駆動され
る。位置制御回路３１Ｘはコントローら８から与えられ
るＸ軸位置指令Ｐ０と位置検出器５３Ｘで検出したＸ軸
位置指令Ｐ８．の偏差に比例した速度指令信号ｖＮ、を
出力する。速度指令信号ｖ、、は上限速度制限回路３２
Ｘを介して速度制御回路３３Ｘに入力される。速度制御
回路３３Ｘは速度指令信号ｖ、、と速度検出信号ｖｇ、
の速度偏差に比例して電流指令信号ｉ□を出力し電流制
御回路３４Ｘに与える。電流制御回路３４Ｘは電流指令
信号１０とミラー駆動回路５１Ｘから帰還される電流検
出信号１１を入力してミラー駆動回路５１Ｘを制御して
ミラー５４Ｘを駆動する。このような動作によってＸ軸
のガルバノミラ−５ｘはＸ軸位置指令Ｐ、、と一致する
ように制御される。
御される。Ｘ軸ミラー５４Ｘは次のようにして駆動され
る。位置制御回路３１Ｘはコントローら８から与えられ
るＸ軸位置指令Ｐ０と位置検出器５３Ｘで検出したＸ軸
位置指令Ｐ８．の偏差に比例した速度指令信号ｖＮ、を
出力する。速度指令信号ｖ、、は上限速度制限回路３２
Ｘを介して速度制御回路３３Ｘに入力される。速度制御
回路３３Ｘは速度指令信号ｖ、、と速度検出信号ｖｇ、
の速度偏差に比例して電流指令信号ｉ□を出力し電流制
御回路３４Ｘに与える。電流制御回路３４Ｘは電流指令
信号１０とミラー駆動回路５１Ｘから帰還される電流検
出信号１１を入力してミラー駆動回路５１Ｘを制御して
ミラー５４Ｘを駆動する。このような動作によってＸ軸
のガルバノミラ−５ｘはＸ軸位置指令Ｐ、、と一致する
ように制御される。
位置に駆動される。ガルバノミラ−５Ｘ、５Ｙで液晶素
子１０上の位置を決定されたレーザー光は集光レンズ６
で集光され液晶素子１０の所定位置に照射される。この
ような動作が連続的に行われて液晶素子１０への書込み
が実行される。
子１０上の位置を決定されたレーザー光は集光レンズ６
で集光され液晶素子１０の所定位置に照射される。この
ような動作が連続的に行われて液晶素子１０への書込み
が実行される。
液晶素子１０に書込まれた画像は投射系１．５の動作に
よってスクリーン１６上に表示される。投射系１５の動
作は良く知られているので詳細説明を省略する。液晶素
子１０に書込まれた画像を総て透明電極の間にコントロ
ーラ８から高い交流電圧（例えば１００ボルト）を印加
する。また、画像の部分消去を行う場合には、液晶素子
１０の電極間に低い交流電圧（例えば２０ボルト程度）
を印加して消去すべき個所にレーザ光源１の発生するレ
ーザ光を照射することにより行われる。
よってスクリーン１６上に表示される。投射系１５の動
作は良く知られているので詳細説明を省略する。液晶素
子１０に書込まれた画像を総て透明電極の間にコントロ
ーラ８から高い交流電圧（例えば１００ボルト）を印加
する。また、画像の部分消去を行う場合には、液晶素子
１０の電極間に低い交流電圧（例えば２０ボルト程度）
を印加して消去すべき個所にレーザ光源１の発生するレ
ーザ光を照射することにより行われる。
以上のようにした液晶素子１０への書込みと投射表示が
行われるが、書込みの際に例えば第４図（ａ）のように
液晶素子１０の位置Ｐ、から位置Ｐａまでレーザ光を走
査したとする。Ｘ軸とＹ軸のガルバノミラ−５Ｘ、５Ｙ
は第４図（ｂ）に示すような速度で変位する。時刻ｔ。
行われるが、書込みの際に例えば第４図（ａ）のように
液晶素子１０の位置Ｐ、から位置Ｐａまでレーザ光を走
査したとする。Ｘ軸とＹ軸のガルバノミラ−５Ｘ、５Ｙ
は第４図（ｂ）に示すような速度で変位する。時刻ｔ。
において位置Ｐ、、から駆動されると一定の加速特性で
加速し位置Ｐ１ に達した時刻ｔ１において１． ＯＯ
％速度になる。時刻ｔ工から位置Ｐ２ に達する時刻ｔ
２までは一定速度（１００％速度）で移動する位置Ｐ、
からは一定の減速特性で減速し時刻ｔ３ に位ＷＰａで
停止する。
加速し位置Ｐ１ に達した時刻ｔ１において１． ＯＯ
％速度になる。時刻ｔ工から位置Ｐ２ に達する時刻ｔ
２までは一定速度（１００％速度）で移動する位置Ｐ、
からは一定の減速特性で減速し時刻ｔ３ に位ＷＰａで
停止する。
さて、光軸移動速度演算回路３５はＸ軸とＹ軸の速度検
出信号Ｖ＊ｔｐ”□を入力し次式に基づき光軸移動速度
ｖ１゜を求める。
出信号Ｖ＊ｔｐ”□を入力し次式に基づき光軸移動速度
ｖ１゜を求める。
・、。＝ ｆＴ”； 、、＞’清訂〆 ・・・（１
）光軸移動速度演算回路３５で求められた光軸移動速度
Ｖ、。は速度・光強度変換回路３６に入力される。速度
・光強度変換回路３６は光軸移動速度Ｖ、。と第６図に
示すような特性の光強度制御信号（１］） Ｑｏを出力する。速度・光強度変換回路３６は関数発生
器やリードオンメモリなどで構成される。
）光軸移動速度演算回路３５で求められた光軸移動速度
Ｖ、。は速度・光強度変換回路３６に入力される。速度
・光強度変換回路３６は光軸移動速度Ｖ、。と第６図に
示すような特性の光強度制御信号（１］） Ｑｏを出力する。速度・光強度変換回路３６は関数発生
器やリードオンメモリなどで構成される。
一方、光軸移動速度指令演算回路３８はＸ軸とＹ軸の速
度指令信号Ｖ、、、ｖ□を入力して（１）式と同様な関
係によって光軸移動指令Ｖ’ＬＰを求める。
度指令信号Ｖ、、、ｖ□を入力して（１）式と同様な関
係によって光軸移動指令Ｖ’ＬＰを求める。
光軸移動検出回路３９は光軸移動速度指令Ｖ。が存在し
ているときにスイッチング３７をオンする。
ているときにスイッチング３７をオンする。
第４図（、）に示すように光軸を位置Ｐ。からＰ３に移
動させて書込みを行っている間は光軸移動速度指令Ｖｔ
、が存在している。スイッチング回路３７は光軸の移動
中の間だけオンしている。スイッチング回路３７がオン
すると、速度・光強度変換回路３６の発生する光強度制
御信号Ｑ。は変調器２に加えられる。光強度制御信号Ｑ
。は光軸移動速度ｖ１゜に対し第６図に示す特性のよう
に光軸移動速度Ｖｔ、が高くなるのに伴い大きくなる。
動させて書込みを行っている間は光軸移動速度指令Ｖｔ
、が存在している。スイッチング回路３７は光軸の移動
中の間だけオンしている。スイッチング回路３７がオン
すると、速度・光強度変換回路３６の発生する光強度制
御信号Ｑ。は変調器２に加えられる。光強度制御信号Ｑ
。は光軸移動速度ｖ１゜に対し第６図に示す特性のよう
に光軸移動速度Ｖｔ、が高くなるのに伴い大きくなる。
変調器２を構成する圧電素子駆動回路２６は光強度制御
信号Ｑ。の大きさに比例して圧電素子２３を振動させる
。圧電素子２３はガラス体２２に超音波を加える。ガラ
ス体２２は超音波を加えられる（］２） と内部に疎密波を発生する。疎密波によってレーザ光の
屈折率が変化する。レンズ２４により集光されたレーザ
光■１ はガラス体２２内の疎密波からなる回折格子２
２ａによりＯ次光■。と１次光、■、に分けられる。１
次光■１はレンズ２４によ蜘で平行光にされ液晶素子１
０に照射される。−ビ 方、Ｏ次光重。は阻止材２５によって阻止される。
信号Ｑ。の大きさに比例して圧電素子２３を振動させる
。圧電素子２３はガラス体２２に超音波を加える。ガラ
ス体２２は超音波を加えられる（］２） と内部に疎密波を発生する。疎密波によってレーザ光の
屈折率が変化する。レンズ２４により集光されたレーザ
光■１ はガラス体２２内の疎密波からなる回折格子２
２ａによりＯ次光■。と１次光、■、に分けられる。１
次光■１はレンズ２４によ蜘で平行光にされ液晶素子１
０に照射される。−ビ 方、Ｏ次光重。は阻止材２５によって阻止される。
圧電素子２３は光強度制御信号α。の大きさに比例した
強度の超音波を発生する。超音波強度が大になるのに伴
い回折効率がよくなり１次光工、の強度も大になる。変
調器２はこのようにして液晶素子１０に照射するレーザ
光強度を変えるのであるが、位置Ｐ。からＰｌまでの加
速時についてみると、レーザ光強度は第５図に示すよう
に光軸移動速度Ｖａ、が高くなるのに伴い強くなる。以
上のようにして書込みが行われる。
強度の超音波を発生する。超音波強度が大になるのに伴
い回折効率がよくなり１次光工、の強度も大になる。変
調器２はこのようにして液晶素子１０に照射するレーザ
光強度を変えるのであるが、位置Ｐ。からＰｌまでの加
速時についてみると、レーザ光強度は第５図に示すよう
に光軸移動速度Ｖａ、が高くなるのに伴い強くなる。以
上のようにして書込みが行われる。
本発明は以上のようにガルバノミラ−５Ｘ。
５Ｙの移動速度、つまり光軸移動の加速時には光軸移動
速度ｖＬ。が高くなるのに伴い液晶素子１０に照射する
レーザ光強度を強くし、減速時には光軸移動速度Ｖｔ、
が低下するのに伴いレーザ光強度を弱くしている。液晶
素子１０に照射するレーザ光強度を一定にした場合、光
軸移動速度ｖ１゜と書込み線幅の関係は第７図のように
なる。第７図に２すように光軸移動速度■１．が１００
％のときの込み線幅に対し低速になるのに従って書込み
線幅が太くなる。５０％速度で２００％の線幅となり、
１０％速度では線幅が５７０％になる。一方、光軸移動
速度Ｖｔ、を一定にしたときのレーザ光強度と書込み線
幅に関する液晶素子１０の特性は第８図のようになる。
速度ｖＬ。が高くなるのに伴い液晶素子１０に照射する
レーザ光強度を強くし、減速時には光軸移動速度Ｖｔ、
が低下するのに伴いレーザ光強度を弱くしている。液晶
素子１０に照射するレーザ光強度を一定にした場合、光
軸移動速度ｖ１゜と書込み線幅の関係は第７図のように
なる。第７図に２すように光軸移動速度■１．が１００
％のときの込み線幅に対し低速になるのに従って書込み
線幅が太くなる。５０％速度で２００％の線幅となり、
１０％速度では線幅が５７０％になる。一方、光軸移動
速度Ｖｔ、を一定にしたときのレーザ光強度と書込み線
幅に関する液晶素子１０の特性は第８図のようになる。
第８図は本発明者達の実験結果である。第８図から明ら
かなようにレーザ光強度と書込み線幅は比例する。なお
、レーザ光強度が１０％以下になると書込み不能となる
。
かなようにレーザ光強度と書込み線幅は比例する。なお
、レーザ光強度が１０％以下になると書込み不能となる
。
第７図、第８図の特性から明らかなように、光軸移動速
度とレーザ光強度の関係は第９図のような特性になる。
度とレーザ光強度の関係は第９図のような特性になる。
したがって、光軸移動速度Ｖ。に対してレーザ光強度ｕ
０を第６図のように制御することによって液晶素子１０
への書込み線幅を一定にすることができる。
０を第６図のように制御することによって液晶素子１０
への書込み線幅を一定にすることができる。
第１０図は第４図における位置Ｐ０から位置Ｐ１までの
加速時の線幅を示す。第１０図の実線は本発明による線
幅を示し、点線はレーザ光強度を光軸移動速度によって
変化させない場合の線幅を示す。第１０図から明らかな
ように本発明では光軸移動速度の大小に関係なく書込み
線幅を一定にできる。
加速時の線幅を示す。第１０図の実線は本発明による線
幅を示し、点線はレーザ光強度を光軸移動速度によって
変化させない場合の線幅を示す。第１０図から明らかな
ように本発明では光軸移動速度の大小に関係なく書込み
線幅を一定にできる。
ここで、以上の説明は液晶素子１０に書込みする場合に
ついて説明したが、液晶素子１０の電極用に低い電圧を
印加して部分消去する際に消去線幅を一定にできる。ど
のため、消去も確実に行え画像の解明度を向上させるこ
とができるのは勿論である。
ついて説明したが、液晶素子１０の電極用に低い電圧を
印加して部分消去する際に消去線幅を一定にできる。ど
のため、消去も確実に行え画像の解明度を向上させるこ
とができるのは勿論である。
以上説明したように本発明は液晶素子に照射するレーザ
光強度を光軸移動速度に応じて変化させるだけで書込み
線幅を一定にできるので、線幅一定の熱書込みを短時間
に行うことができる。
光強度を光軸移動速度に応じて変化させるだけで書込み
線幅を一定にできるので、線幅一定の熱書込みを短時間
に行うことができる。
なお、上述の実施例は変調器を用いて液晶素子の照射す
るレーザ光強度を調節するようにしている。レーザ光源
として半導体レーザ光源を用いた場合には光源自体でレ
ーザ光強度を可変できるが、本発明はレーザ光源として
半導体レーザを用いた場合にも同様にして行えるのは勿
論である。
るレーザ光強度を調節するようにしている。レーザ光源
として半導体レーザ光源を用いた場合には光源自体でレ
ーザ光強度を可変できるが、本発明はレーザ光源として
半導体レーザを用いた場合にも同様にして行えるのは勿
論である。
また、変調器は電気光学効果を利用したものであっても
よいのは明らかなことである。
よいのは明らかなことである。
さらに、本発明は３枚の液晶素子を用いてカラー表示す
るものに用いても同様な効果が得られるのき勿論である
。また、書込み制御回路やスクリーンコントローラとし
て計算機を用いてディジタル制御できるのは明らかなこ
とである。
るものに用いても同様な効果が得られるのき勿論である
。また、書込み制御回路やスクリーンコントローラとし
て計算機を用いてディジタル制御できるのは明らかなこ
とである。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は変調
器の一例構成図、第３図は書込み制御回路とガルバノミ
ラ−の詳細構成図、第４図、第５図は本発明を説明する
ための特性図、第６図は速度・光量変換回路の特性図、
第７図は光軸移動速度と書込み線幅の特性図、第８図は
レーザ光強度と書込み線幅の特性図、第９図は光軸移動
速度とレーザ光強度の特性図、第１０図は光軸加速時の
書込み線幅の関係を示す特性図である。 １・・・レーザ光源、２・・・変調器、５Ｘ、５Ｙ・・
・ガルバノミラ−１７・・・書込み制御回路、８・・・
スクリーンコントローラ、１０・・・液晶素子、１１・
・・光源。 １４・・・投射レンズ、１６・・・スクリーン。
器の一例構成図、第３図は書込み制御回路とガルバノミ
ラ−の詳細構成図、第４図、第５図は本発明を説明する
ための特性図、第６図は速度・光量変換回路の特性図、
第７図は光軸移動速度と書込み線幅の特性図、第８図は
レーザ光強度と書込み線幅の特性図、第９図は光軸移動
速度とレーザ光強度の特性図、第１０図は光軸加速時の
書込み線幅の関係を示す特性図である。 １・・・レーザ光源、２・・・変調器、５Ｘ、５Ｙ・・
・ガルバノミラ−１７・・・書込み制御回路、８・・・
スクリーンコントローラ、１０・・・液晶素子、１１・
・・光源。 １４・・・投射レンズ、１６・・・スクリーン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レーザ発生手段の発生するレーザ光を、機械的変位
によつて光軸を変える光軸制御手段を介して液晶素子に
照射して熱書込みを行うようにした液晶投射型表示装置
において、前記液晶素子に照射するレーザ光強度を可変
できるレーザ光強度可変手段と、前記光軸制御手段の機
械的変位を制御すると共に前記レーザ光強度可変手段を
制御する書込み制御手段を設け、該書込み制御手段は前
記液晶素子に照射されるレーザ光エネルギーが一定とな
るように前記レーザ光強度可変手段を制御することを特
徴とする液晶投射型表示装置。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記書込み制御手
段は、前記光軸制御手段が機械的変位するときの速度変
化時に前記レーザ光強度可変手段を制御して前記液晶素
子に照射するレーザ光強度を変化させるようにしたこと
を特徴とする液晶投射型表示装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60097800A JPS61256321A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 液晶投射型表示装置 |
| FR8606654A FR2581780B1 (fr) | 1985-05-10 | 1986-05-07 | Ecran de projection a cristal liquide |
| US07/223,709 US4810064A (en) | 1985-05-10 | 1988-07-22 | Liquid crystal projection display having laser intensity varied according to beam change-of-axis speed |
| US07/301,533 US4952034A (en) | 1985-05-10 | 1989-01-26 | Liquid crystal projection display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60097800A JPS61256321A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 液晶投射型表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61256321A true JPS61256321A (ja) | 1986-11-13 |
Family
ID=14201857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60097800A Pending JPS61256321A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 液晶投射型表示装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4810064A (ja) |
| JP (1) | JPS61256321A (ja) |
| FR (1) | FR2581780B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0321432A (ja) * | 1989-04-21 | 1991-01-30 | E I Du Pont De Nemours & Co | 立体像形成システム |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61256321A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Hitachi Ltd | 液晶投射型表示装置 |
| US5138368A (en) * | 1988-10-25 | 1992-08-11 | Greyhawk Systems, Inc. | Fabrication of printed wiring boards by projection imaging |
| US5014326A (en) * | 1989-03-03 | 1991-05-07 | Greyhawk Systems, Inc. | Projected image linewidth correction apparatus and method |
| US5111513A (en) * | 1989-03-03 | 1992-05-05 | Greyhawk Systems, Inc. | Projected image linewidth correction apparatus and method |
| US5170270A (en) * | 1989-09-07 | 1992-12-08 | Sharp Corporation | Image writing device |
| JP2780409B2 (ja) * | 1990-01-20 | 1998-07-30 | キヤノン株式会社 | 角度検出装置 |
| US5220452A (en) * | 1990-08-06 | 1993-06-15 | Texas Instruments Incorporated | Volume display optical system and method |
| DE69126181T2 (de) * | 1990-08-27 | 1998-01-02 | Sharp Kk | Bilderzeugungsvorrichtung |
| JPH04200070A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-21 | Sharp Corp | 画像形成方法 |
| JP2701183B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1998-01-21 | 株式会社小松製作所 | 液晶マスク式レーザマーカ |
| US5418546A (en) * | 1991-08-20 | 1995-05-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Visual display system and exposure control apparatus |
| US5363117A (en) * | 1991-09-04 | 1994-11-08 | Sony Corporation | Laser-addressed liquid crystal display |
| JPH05313085A (ja) * | 1992-05-08 | 1993-11-26 | Komatsu Ltd | 走査装置 |
| US7830587B2 (en) * | 1993-03-17 | 2010-11-09 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light with semiconductor substrate |
| US6674562B1 (en) * | 1994-05-05 | 2004-01-06 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
| US6404553B1 (en) * | 1994-02-07 | 2002-06-11 | Engineered Support Systems, Inc. | Phase active diffractive optical method |
| US7826120B2 (en) * | 1994-05-05 | 2010-11-02 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for multi-color interferometric modulation |
| US7852545B2 (en) * | 1994-05-05 | 2010-12-14 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light |
| US7839556B2 (en) * | 1994-05-05 | 2010-11-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light |
| US8081369B2 (en) * | 1994-05-05 | 2011-12-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for a MEMS device |
| US8014059B2 (en) | 1994-05-05 | 2011-09-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for charge control in a MEMS device |
| US5990983A (en) * | 1994-09-30 | 1999-11-23 | Laser Power Corporation | High resolution image projection system and method employing lasers |
| US7898722B2 (en) * | 1995-05-01 | 2011-03-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device with restoring electrode |
| WO1998020475A1 (en) * | 1996-11-01 | 1998-05-14 | Laser Power Corporation | Projection display with gradation levels obtained by modulation of beamlets |
| US7929197B2 (en) * | 1996-11-05 | 2011-04-19 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for a MEMS device |
| US6154259A (en) * | 1996-11-27 | 2000-11-28 | Photera Technologies, Inc. | Multi-beam laser scanning display system with speckle elimination |
| US7830588B2 (en) * | 1996-12-19 | 2010-11-09 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of making a light modulating display device and associated transistor circuitry and structures thereof |
| KR100703140B1 (ko) * | 1998-04-08 | 2007-04-05 | 이리다임 디스플레이 코포레이션 | 간섭 변조기 및 그 제조 방법 |
| US8928967B2 (en) | 1998-04-08 | 2015-01-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light |
| GB0000632D0 (en) * | 2000-01-13 | 2000-03-01 | Hastings Stephen A | Apparatus for and method of targeting |
| US6351324B1 (en) | 2000-03-09 | 2002-02-26 | Photera Technologies, Inc. | Laser imaging system with progressive multi-beam scan architecture |
| US7916980B2 (en) | 2006-01-13 | 2011-03-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interconnect structure for MEMS device |
| US20080090396A1 (en) * | 2006-10-06 | 2008-04-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light exposure apparatus and method for making semiconductor device formed using the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53147554A (en) * | 1977-05-30 | 1978-12-22 | Hitachi Ltd | Laser beam recorder |
| JPS5849963A (ja) * | 1982-07-21 | 1983-03-24 | Hitachi Ltd | レ−ザプリンタ装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2515054A (en) * | 1948-08-11 | 1950-07-11 | Western Electric Co | Light modulating system |
| FR2082476A5 (ja) * | 1970-03-17 | 1971-12-10 | Thomson Csf | |
| US3896362A (en) * | 1970-10-21 | 1975-07-22 | Street Graham S B | Light-beam steering apparatus |
| US3717772A (en) * | 1971-09-03 | 1973-02-20 | Midland Capital Corp | Linear bidirectional scanning system |
| FR2379085A1 (fr) * | 1977-01-31 | 1978-08-25 | Comp Generale Electricite | Obturateur electro-optique ultrarapide |
| JPS5430854A (en) * | 1977-08-12 | 1979-03-07 | Canon Inc | Two-dimensional scanner |
| DE2913270A1 (de) * | 1979-04-03 | 1980-10-23 | Krautkraemer Gmbh | Laseranordnung mit einem elektrooptischen gueteschalter und verfahren zum betrieb dieser anordnung |
| CA1167901A (en) * | 1980-10-27 | 1984-05-22 | Denis M. Vincent | Control system for an optical modulator |
| JPS5887535A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
| US4482902A (en) * | 1982-08-30 | 1984-11-13 | Harris Corporation | Resonant galvanometer scanner system employing precision linear pixel generation |
| JPS61256321A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Hitachi Ltd | 液晶投射型表示装置 |
-
1985
- 1985-05-10 JP JP60097800A patent/JPS61256321A/ja active Pending
-
1986
- 1986-05-07 FR FR8606654A patent/FR2581780B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-07-22 US US07/223,709 patent/US4810064A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-01-26 US US07/301,533 patent/US4952034A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53147554A (en) * | 1977-05-30 | 1978-12-22 | Hitachi Ltd | Laser beam recorder |
| JPS5849963A (ja) * | 1982-07-21 | 1983-03-24 | Hitachi Ltd | レ−ザプリンタ装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0321432A (ja) * | 1989-04-21 | 1991-01-30 | E I Du Pont De Nemours & Co | 立体像形成システム |
| JPH0661847B2 (ja) * | 1989-04-21 | 1994-08-17 | 帝人製機株式会社 | 立体像形成システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4952034A (en) | 1990-08-28 |
| FR2581780B1 (fr) | 1993-05-07 |
| US4810064A (en) | 1989-03-07 |
| FR2581780A1 (fr) | 1986-11-14 |
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