JPS6086528A - 光偏向装置 - Google Patents
光偏向装置Info
- Publication number
- JPS6086528A JPS6086528A JP19425583A JP19425583A JPS6086528A JP S6086528 A JPS6086528 A JP S6086528A JP 19425583 A JP19425583 A JP 19425583A JP 19425583 A JP19425583 A JP 19425583A JP S6086528 A JPS6086528 A JP S6086528A
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- JP
- Japan
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- optical
- light
- incident
- laser light
- optical deflector
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/295—Analog deflection from or in an optical waveguide structure]
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は光導波路を用いてレーリ′光を偏向する光偏向
装置に関するものである。
装置に関するものである。
第１図で従来の光導波路を用いた光偏向器の動作原理を
説明する。この光偏向器は電気光学的表面プリズム光偏
向器と称される。結晶１は電気光学効果を持つ結晶であ
シ、結晶の表面には第１図（ａ）に示すような電極パタ
ーンが作成されている。
説明する。この光偏向器は電気光学的表面プリズム光偏
向器と称される。結晶１は電気光学効果を持つ結晶であ
シ、結晶の表面には第１図（ａ）に示すような電極パタ
ーンが作成されている。
電極端子Ａ、Ｂ間に電圧を印加すると結晶の表面には主
にＺ方向の電界Ｅｘが生じる。第１図（ｂ）に示すよう
に結晶の表面には１−１に示すような屈折率が他よシも
大きい光導波層が設けられておシ、片側の端面から入射
したレーデ光は光導波層を導波され他端から出射する。
にＺ方向の電界Ｅｘが生じる。第１図（ｂ）に示すよう
に結晶の表面には１−１に示すような屈折率が他よシも
大きい光導波層が設けられておシ、片側の端面から入射
したレーデ光は光導波層を導波され他端から出射する。
レーデ光は光導波層を導波する時、電極によシ生じた電
界と電気光学効果による相互作用を受け、出射したレー
ザ光は入射レーデ光と異なる位相パターンをもつ。
界と電気光学効果による相互作用を受け、出射したレー
ザ光は入射レーデ光と異なる位相パターンをもつ。
結晶１として＃Ｘ−カットＬｉＮｂｏｓ 結晶を用いた
場合、出射したレーデ光の位相パターンη（Ｚ）は次式
で与えられる。
場合、出射したレーデ光の位相パターンη（Ｚ）は次式
で与えられる。
ｖ（Ｚ）＝−（πｎ：ｒｚｓ／）＜）ｆ Ｅｚ（ｚ＊ｙ
）ｄｙ −・・−・（１）ここで、ｎｏは屈折率、γ３
３は電気光学定数、λ０は真空での光の波長。
）ｄｙ −・・−・（１）ここで、ｎｏは屈折率、γ３
３は電気光学定数、λ０は真空での光の波長。
式（１）は近似的に次式のように計算できる。
η（Ｚ）＝２ηｏ（１−２Ｚ／ｗ）＝ａ＋＋ｋｚ −−
（２）ただし、ηｏ ＝ ２０”ａ ｒｓｓ Ｖｔ／（
λｏＷ）、ここでＶは印加電圧。
（２）ただし、ηｏ ＝ ２０”ａ ｒｓｓ Ｖｔ／（
λｏＷ）、ここでＶは印加電圧。
式（２）で示されているように、出射レーデ光の位相は
第１図（Ｃ）２で示すように比例定数ｋをもつ直線状の
位相パターンとなる。出射レーザ光が式（２）で示され
た位相勾配をもっているとき、出射レーデ光の偏向角θ
は次式で表わされる。
第１図（Ｃ）２で示すように比例定数ｋをもつ直線状の
位相パターンとなる。出射レーザ光が式（２）で示され
た位相勾配をもっているとき、出射レーデ光の偏向角θ
は次式で表わされる。
θ＝２λ０ηｏ ／ （πＷ） ・・・・・・・・・（
３）この光偏向器の解像点数Ｎは次式で表わされる。
３）この光偏向器の解像点数Ｎは次式で表わされる。
ただし、αは入射ビームの断面形状に関係するパラメー
タ、Ｖｍ＊ｘは印加電圧の最大値、０ｍ１１ｘはＶ ｍ
ｉｘにおける光偏向角。
タ、Ｖｍ＊ｘは印加電圧の最大値、０ｍ１１ｘはＶ ｍ
ｉｘにおける光偏向角。
ｔ＝１ｍ、 λｏ＝０，６３３μｍ、Ｗ＝３０μｍ。
Ｖ ｍａｘ ＝５００ （ｖ）とすると解像点数は１１
点となる。
点となる。
ただし、ＬｉＮｂ０ｉ 結晶の場合ｎ ＠ ＝２．２゜
ｒｉ３＝３０Ｘ１０−”ｍ／ｖである。またα＝１とし
た。
ｒｉ３＝３０Ｘ１０−”ｍ／ｖである。またα＝１とし
た。
ところで、光偏向器をたとえばレーグプリンタに適用す
る場合、解像点数は１０００点から５０００点のものが
要求されている。したがって、第１図の光偏向器におい
て、上記の算出した解像点数１１点ははるかに要求仕様
を下まわるものである。
る場合、解像点数は１０００点から５０００点のものが
要求されている。したがって、第１図の光偏向器におい
て、上記の算出した解像点数１１点ははるかに要求仕様
を下まわるものである。
第２図は従来の光偏向器３を示す。これは電気光学的表
面プリズムアレイ（ＥＳＰ）型光偏向器と称する。第１
図の電極パターンを一次元γレイ状に配置したものであ
る。この場合、電極パターンに電圧を印加すると出射レ
ーデ光の位相パターンＥ （Ｚ）は第２図（ｂ）４に示
すものどなる。Ｅ （Ｚ）は次式で表わせる。
面プリズムアレイ（ＥＳＰ）型光偏向器と称する。第１
図の電極パターンを一次元γレイ状に配置したものであ
る。この場合、電極パターンに電圧を印加すると出射レ
ーデ光の位相パターンＥ （Ｚ）は第２図（ｂ）４に示
すものどなる。Ｅ （Ｚ）は次式で表わせる。
ただし、γレイ数はＮ個、 ｇ （Ｚ） ＝ ｅｘｐ（
ｉη（Ｚ））である。
ｉη（Ｚ））である。
η（Ｚ）は第１図（Ｃ）に示すごとく、η（Ｚ）＝ ｋ
Ｚ＋ ａ によらない定数。第３図に示すごとく焦点距＠ｆのレン
ズ５で出射レーザ光をスクリーン上に絞りこむ場合を考
える。偏向器上での座標を２１スクリーン上での座標を
Ｚとする。出射レーデ光のスクリーン上での回折パター
ンＧは次式で計算できる。
Ｚ＋ ａ によらない定数。第３図に示すごとく焦点距＠ｆのレン
ズ５で出射レーザ光をスクリーン上に絞りこむ場合を考
える。偏向器上での座標を２１スクリーン上での座標を
Ｚとする。出射レーデ光のスクリーン上での回折パター
ンＧは次式で計算できる。
ＩＧ（０月２＝１／−Ｅ （Ｚ）ｅｘｐ（−ｉζＺ）ｄ
ＺＩ２ −（６まただし、ζ＝２πＺ／（λｏｆ）。
ＺＩ２ −（６まただし、ζ＝２πＺ／（λｏｆ）。
式＋６１ を計算すると次式となる。
１Ｇ（ζ） ｌ”：ａｚＱｓ−ＧＭ ・・・・・・・・
・（７）ただし１ 、・２Ｗζ ａ２は定数 ここで、ｋは式（２）よシ に＝−４ηｏ ／ Ｗ ・・・・・・・・・（８）ただ
し、ηｏ ＝ ２０ ａ” ｒ ｓｓ ＶＬ／ （λＯ
Ｗ）式（７）を第４図にグラフで示す。印加電圧が零の
場合、すなわちに＝：０の場合、Ｇｓは実線６となりＧ
ｓ −Ｇｇは図中７となる。電圧が印加され、ｋ＝２π
／ＷとなるとＧｍは図中８となＦ）Ｇｙ ・Ｇｍは図中
９となる。すなわち、この光偏向器３による光偏向はス
クリーン上で連続した元スヂットが得られないこと、し
たがって印加する電圧に対して得られる解像点数も少な
い欠点がある。
・（７）ただし１ 、・２Ｗζ ａ２は定数 ここで、ｋは式（２）よシ に＝−４ηｏ ／ Ｗ ・・・・・・・・・（８）ただ
し、ηｏ ＝ ２０ ａ” ｒ ｓｓ ＶＬ／ （λＯ
Ｗ）式（７）を第４図にグラフで示す。印加電圧が零の
場合、すなわちに＝：０の場合、Ｇｓは実線６となりＧ
ｓ −Ｇｇは図中７となる。電圧が印加され、ｋ＝２π
／ＷとなるとＧｍは図中８となＦ）Ｇｙ ・Ｇｍは図中
９となる。すなわち、この光偏向器３による光偏向はス
クリーン上で連続した元スヂットが得られないこと、し
たがって印加する電圧に対して得られる解像点数も少な
い欠点がある。
本発明は上記した従来の光偏向器の欠点を解消するため
になされたもので、解像点数が多く〜かつスクリーン上
で空間的に連続的な光偏向を可能とする。
になされたもので、解像点数が多く〜かつスクリーン上
で空間的に連続的な光偏向を可能とする。
本発明では上記の目的を達成するため電気光学的表面プ
リズムアレイ（ＥＳＰと略す。）を用い、図を用いて説
明する。
リズムアレイ（ＥＳＰと略す。）を用い、図を用いて説
明する。
ＥＳＰＩＯＫレーデ光１１が第■の光偏向器によシ入射
角度ψをもって入射する。この時、ＥＳＰ上（座標２）
に入射する入射光の位相りは次式で与えられる。
角度ψをもって入射する。この時、ＥＳＰ上（座標２）
に入射する入射光の位相りは次式で与えられる。
すなわち２に線形な位相となる。以下、ｈ−ＣＺ （Ｃ
は比例定数）とおく。
は比例定数）とおく。
ただし、
ＥＳＰはレーザ光に第２図（ｂ）で示した位相Ｅ■を与
えるので、結局、第５図のＥＳＦを出射後の光の位相ｑ
（ｚ）は第５図（ｂ）の１２となシ次式で与えられる
。
えるので、結局、第５図のＥＳＦを出射後の光の位相ｑ
（ｚ）は第５図（ｂ）の１２となシ次式で与えられる
。
・・・・・・・・・ａυ
ただし、
ａ３は定数
出射レーデ光のスクリーン上での回折パターン−Ｇは次
式で計算できる。
式で計算できる。
１（）（（’）ｌ”＝１４−ｅｘｐｉｑ（Ｚ）ｅｘｐ（
−ｉζＺ）ｄＺ１２・・・・・・・・・αま ただし、ζ＝２πＺ／（λｏｆ） 弐〇ｚを計算すると次式となる。
−ｉζＺ）ｄＺ１２・・・・・・・・・αま ただし、ζ＝２πＺ／（λｏｆ） 弐〇ｚを計算すると次式となる。
１Ｇ（ζ） Ｉ”＝ ａ４０ｇ−（ｈ −・−、・、、
α濁ただし、 ａ４は定数 式（Ｉ３１．（１１α最を第６図にグラフで示す。
α濁ただし、 ａ４は定数 式（Ｉ３１．（１１α最を第６図にグラフで示す。
第６図に示すように、関数Ｇｓ、、ＧＭの両方とも、パ
ラメータＣ１およびｋのために座標軸上を移動する。第
６図（ａ）に示すごとく、ｋ＝０の場合、すなわちＥＳ
Ｐの印加電圧が零の場合、Ｃをζ；Ｏから２π／Ｗまで
連続的に変化させることによシスクリーン上での回折パ
ターン１３はζ＝Ｏから２π／Ｗまで連続的に変化する
。つぎに、第６図（ｂ）に示すとと＜、ｋ＝２π／Ｗに
設定する。Ｃを（ａ）の場合と同様にＯから２π／Ｗｔ
で連続的に変化させると回折パターン１４は２π／Ｗか
ら４π／Ｗまで移動する。
ラメータＣ１およびｋのために座標軸上を移動する。第
６図（ａ）に示すごとく、ｋ＝０の場合、すなわちＥＳ
Ｐの印加電圧が零の場合、Ｃをζ；Ｏから２π／Ｗまで
連続的に変化させることによシスクリーン上での回折パ
ターン１３はζ＝Ｏから２π／Ｗまで連続的に変化する
。つぎに、第６図（ｂ）に示すとと＜、ｋ＝２π／Ｗに
設定する。Ｃを（ａ）の場合と同様にＯから２π／Ｗｔ
で連続的に変化させると回折パターン１４は２π／Ｗか
ら４π／Ｗまで移動する。
以上の説明でわかるように、＃！７図（ａ）の１５に示
すととくｋは２π／Ｗを変化幅とし、階段状に変化させ
Ｃは第７図（ｂ）の１６に示すように０から２π／Ｗま
でをくシ返し、鋸歯状波的に変化させるとスクリーン上
で連続的に光スポットｔ−走査させることが可能となる
。
すととくｋは２π／Ｗを変化幅とし、階段状に変化させ
Ｃは第７図（ｂ）の１６に示すように０から２π／Ｗま
でをくシ返し、鋸歯状波的に変化させるとスクリーン上
で連続的に光スポットｔ−走査させることが可能となる
。
以下本発明の実施例を述べる。
第８図は本発明の光偏向装置を示している。
第８図（ａ）においてｌはＸカットＬ ｊ Ｎ ｂ Ｏ
ｓ 結晶を示す。結晶表面には第１図で説明したごと〈
導波路層が形成されておシ、この導波層中をレーザ光が
通過する。
ｓ 結晶を示す。結晶表面には第１図で説明したごと〈
導波路層が形成されておシ、この導波層中をレーザ光が
通過する。
１７は第■の光偏向器である。入射レーデ光２０が館■
の光偏向器１７を通過するとレーザ光の位相はＺ座標に
線形なものとなる。さらに導波路レンズｉｓ、１９でビ
ーム拡大を行ないＥＳＦ３に入射する。
の光偏向器１７を通過するとレーザ光の位相はＺ座標に
線形なものとなる。さらに導波路レンズｉｓ、１９でビ
ーム拡大を行ないＥＳＦ３に入射する。
Ｅ８Ｐ３を出射したレーデ光は第８図（ｂ） ２３の位
相をもっている。
相をもっている。
第９図は入射レーデ光および出射レーデ光を本発明の光
偏向器と結合させる方法としてルチル結晶２４を用いた
場合を示す。
偏向器と結合させる方法としてルチル結晶２４を用いた
場合を示す。
第１０図は本発明の光偏向装置をレーザプリンタに応用
した例を示す。
した例を示す。
半導体レーザ２５から出射したレーザ光はカップリング
レンズ２６によシ平行光に変換される。
レンズ２６によシ平行光に変換される。
カップリングレンズを出射した元は円筒レンズ２７によ
シ本発明の光偏向器２８に導ひく。光偏向器２８を出射
したレーデ光は円筒レンズ２９によシ平行光に変換し、
結像レンズ３０に導く。結像レンズ３０を出射したレー
デ光は感光ドラム３５上へ絞シとまれる。円筒レンズ３
１がない場合、感光ドラムへ絞シとまれるスポットは楕
円形状となるが円筒し／ズ３１は円形スポットに絞シこ
む機能をもつ。感光ドラム３５は矢印のように回転して
おシ、感光ドラム上全面を光走査することが可能となる
。
シ本発明の光偏向器２８に導ひく。光偏向器２８を出射
したレーデ光は円筒レンズ２９によシ平行光に変換し、
結像レンズ３０に導く。結像レンズ３０を出射したレー
デ光は感光ドラム３５上へ絞シとまれる。円筒レンズ３
１がない場合、感光ドラムへ絞シとまれるスポットは楕
円形状となるが円筒し／ズ３１は円形スポットに絞シこ
む機能をもつ。感光ドラム３５は矢印のように回転して
おシ、感光ドラム上全面を光走査することが可能となる
。
半導体レーデ２５にはパターン発生器３３からの信号が
印加され、半導体レーザから出射するレーデ光を変調し
、感光ドラム上にパターンを光記録する。
印加され、半導体レーザから出射するレーデ光を変調し
、感光ドラム上にパターンを光記録する。
３４は光偏向器の駆動回路である。３４−１は第■の光
偏向器を第７図１６に示した信号でもって印加するため
の信号線、３４−２はＥＳＰを第７図１５で示した信号
で印加するための信号線を示す。３４−３は駆動回路３
４の同期信号をパターン発生器３３に与える信号線であ
る。
偏向器を第７図１６に示した信号でもって印加するため
の信号線、３４−２はＥＳＰを第７図１５で示した信号
で印加するための信号線を示す。３４−３は駆動回路３
４の同期信号をパターン発生器３３に与える信号線であ
る。
第１１図は第■の光偏向器として弾性表面波を発生する
ものを用いた場合を示す。弾性表面波は電極３６によ多
発生し、入射レーデ光２０を偏向させる。偏向したレー
ザ光は円筒レンズ３７によシＥＳＰ３に導かれている。
ものを用いた場合を示す。弾性表面波は電極３６によ多
発生し、入射レーデ光２０を偏向させる。偏向したレー
ザ光は円筒レンズ３７によシＥＳＰ３に導かれている。
第１２図は第■の光偏向器とＥＳＰを一枚の基盤上に集
積して実装した場合を示す。基盤４０はＬｉＮｂＯ５結
晶でＹカット板を用いる。光は結晶のＸ軸方向から入射
させる。弾性表面波４１は結晶の２軸方向に伝播させる
。入射レーザ光２０は弾性表面波によ）偏向されジオデ
シックレンズ３８．３９を介してＥＳＰ３に入射する。
積して実装した場合を示す。基盤４０はＬｉＮｂＯ５結
晶でＹカット板を用いる。光は結晶のＸ軸方向から入射
させる。弾性表面波４１は結晶の２軸方向に伝播させる
。入射レーザ光２０は弾性表面波によ）偏向されジオデ
シックレンズ３８．３９を介してＥＳＰ３に入射する。
２１は出射レーザ光を示す。
本発明によれば、解像点数が多く、かつスクリーン上で
空間的に連続的な光測光を得ることができる。
空間的に連続的な光測光を得ることができる。
第１図はｌ素子からなる従来の電気光学的表面プリズム
光偏向器を示す図、第２図は従来の電気光学的表面プリ
ズムｒレイ型元偏向器を示す図、第３図は第２図の光偏
向器を光学系に配置した従来装置の説明図、第４図は第
２図に示した従来の光偏向器の偏向特性を説明する図、
第５図は本発明の光偏向装置の原理を説明するための図
、第６図は本発明の光偏向装置の偏向特性を説明する図
、第７図は本発明の光偏向装置の動作を説明するための
図、第８図、第９図は本発明の光偏向装置を示す図、第
１０図は本発明の光偏向装置をレーザプリンタに応用し
た例を示す図、第１１図、第１２図は本発明の光偏向装
置を示す図。 ｌ・・・Ｌ Ｉ Ｎ ｂ Ｏｓ結晶、１−１・・・光導
波層、３・・・光偏向器、５・・・レンズ、１０・・・
ＥＳＰ、１１・・・レーデ光、１３．１４・・・回折パ
ターン、１７・・・第■光偏向器、１８．１９・・・導
波路レンズ、２ｏ・・・入射レーデ、２４・・・ルチル
結晶、２５・・・半導体レーデ、２６・・・カップリン
グレンズ、２７・・・円筒レンズ、２８・・・光偏向器
、２９・・・円筒レンズ、３０・−・結像レンズ、３１
・・・円筒レンズ、３３・・・パターン発生器、３４・
・・駆動回路、３５・・・感光ドラム、３６・・・電極
、３７・・・円筒レンズ、４０・・・基盤、４１・・・
弾性表面波。 ′！；２図 竿４ｇ ＝ 、。茅５区 （ｂ） 、２． 等４図 竿９図 ｚ６ 茅ｔｏ口 ４１１ 口 茅１２図
光偏向器を示す図、第２図は従来の電気光学的表面プリ
ズムｒレイ型元偏向器を示す図、第３図は第２図の光偏
向器を光学系に配置した従来装置の説明図、第４図は第
２図に示した従来の光偏向器の偏向特性を説明する図、
第５図は本発明の光偏向装置の原理を説明するための図
、第６図は本発明の光偏向装置の偏向特性を説明する図
、第７図は本発明の光偏向装置の動作を説明するための
図、第８図、第９図は本発明の光偏向装置を示す図、第
１０図は本発明の光偏向装置をレーザプリンタに応用し
た例を示す図、第１１図、第１２図は本発明の光偏向装
置を示す図。 ｌ・・・Ｌ Ｉ Ｎ ｂ Ｏｓ結晶、１−１・・・光導
波層、３・・・光偏向器、５・・・レンズ、１０・・・
ＥＳＰ、１１・・・レーデ光、１３．１４・・・回折パ
ターン、１７・・・第■光偏向器、１８．１９・・・導
波路レンズ、２ｏ・・・入射レーデ、２４・・・ルチル
結晶、２５・・・半導体レーデ、２６・・・カップリン
グレンズ、２７・・・円筒レンズ、２８・・・光偏向器
、２９・・・円筒レンズ、３０・−・結像レンズ、３１
・・・円筒レンズ、３３・・・パターン発生器、３４・
・・駆動回路、３５・・・感光ドラム、３６・・・電極
、３７・・・円筒レンズ、４０・・・基盤、４１・・・
弾性表面波。 ′！；２図 竿４ｇ ＝ 、。茅５区 （ｂ） 、２． 等４図 竿９図 ｚ６ 茅ｔｏ口 ４１１ 口 茅１２図
Claims (1)
- １、電気光学的表面プリズムアレイ（ＥＳＰと略す。）
を用いた光偏向装置において、光源と前記ＥＳＰとの間
に電気光学効果あるいは音響光学効果を利用する光偏向
器を用いることによシ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19425583A JPS6086528A (ja) | 1983-10-19 | 1983-10-19 | 光偏向装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19425583A JPS6086528A (ja) | 1983-10-19 | 1983-10-19 | 光偏向装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6086528A true JPS6086528A (ja) | 1985-05-16 |
Family
ID=16321573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19425583A Pending JPS6086528A (ja) | 1983-10-19 | 1983-10-19 | 光偏向装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6086528A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61282825A (ja) * | 1985-06-08 | 1986-12-13 | Brother Ind Ltd | レ−ザプリンタ |
| EP0230726A2 (en) * | 1985-11-20 | 1987-08-05 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical deflector device |
| JP2003084319A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Fujitsu Ltd | 光学装置 |
-
1983
- 1983-10-19 JP JP19425583A patent/JPS6086528A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61282825A (ja) * | 1985-06-08 | 1986-12-13 | Brother Ind Ltd | レ−ザプリンタ |
| JP2629170B2 (ja) * | 1985-06-08 | 1997-07-09 | ブラザー工業株式会社 | レーザプリンタ |
| EP0230726A2 (en) * | 1985-11-20 | 1987-08-05 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical deflector device |
| JP2003084319A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Fujitsu Ltd | 光学装置 |
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