JPS60107828A - レ−ザビ−ム偏向装置 - Google Patents
レ−ザビ−ム偏向装置Info
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- JPS60107828A JPS60107828A JP21397783A JP21397783A JPS60107828A JP S60107828 A JPS60107828 A JP S60107828A JP 21397783 A JP21397783 A JP 21397783A JP 21397783 A JP21397783 A JP 21397783A JP S60107828 A JPS60107828 A JP S60107828A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、試料連続移動をともなうラスタ走査方式のレ
ーザビーム偏向装置に係り、特に、ＡＯ偏向素子を用い
た高速高精度偏向に好適なレーザビーム偏向装置に関す
る。
ーザビーム偏向装置に係り、特に、ＡＯ偏向素子を用い
た高速高精度偏向に好適なレーザビーム偏向装置に関す
る。
従来のＡＯ偏向素子を用い、試料連続移動にともなうラ
スタ走査型レーザビーム偏向装置では、高速偏向にとも
なうＡＯ偏向素子の円筒レンズ効果全補正していないた
め、広い偏向範囲を高速偏向する際に高速偏向方向の結
像光学系が乱れ、微小スポットを結像しなくなるという
欠点があった。
スタ走査型レーザビーム偏向装置では、高速偏向にとも
なうＡＯ偏向素子の円筒レンズ効果全補正していないた
め、広い偏向範囲を高速偏向する際に高速偏向方向の結
像光学系が乱れ、微小スポットを結像しなくなるという
欠点があった。
本発明の目的は、上記の点を鑑み、高速レーザビーム偏
向を行っても結像光学系が乱れないレーザビーム偏向装
置を提供することにある。
向を行っても結像光学系が乱れないレーザビーム偏向装
置を提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明では円筒レンズ効
果補正レンズ（逆極性の円筒レンズ）ｆｔ。
果補正レンズ（逆極性の円筒レンズ）ｆｔ。
装着した。特に、円筒レンズ効果補正レンズのレンズ作
用を有する方向は大振幅高速偏向方向及び試料の連続移
動方向と直交する方向に一致するようにした。
用を有する方向は大振幅高速偏向方向及び試料の連続移
動方向と直交する方向に一致するようにした。
以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図を用いて説
明する。
明する。
第１図は本発明をレーザパターンジェネレータに応用し
た場合の概略図を示す。図にかいて、１はレーザ源、２
は集光レンズ、３はＡＯ変調素子、４はコンデンサレン
ズ、２１．５はスリット、６は試料の連続移動にともな
うレーザビーム偏向誤差を補正するためのＹ方向ＡＯ偏
向素子、７はＸ方向ＡＯ偏向素子、２１ｊＸ方向にレン
ズ作用を有する円筒レンズ効果補正レンズ（円筒レンズ
効果に対して逆極性をもつ円筒レンズ）、８はリレーレ
ンズ、９ｔ、を集光（対物）レンズ、１８は試料、１１
はＹテーブルζ１２はＸテーブル、１３はＹ方向駆動モ
ータ（Ｘモータ）、１４はＸ方向駆動モータ（Ｘモータ
）、１５はレーザ測長器、１９は制御回路、２０は計算
機システムを示す。以下に動作について説明する。
た場合の概略図を示す。図にかいて、１はレーザ源、２
は集光レンズ、３はＡＯ変調素子、４はコンデンサレン
ズ、２１．５はスリット、６は試料の連続移動にともな
うレーザビーム偏向誤差を補正するためのＹ方向ＡＯ偏
向素子、７はＸ方向ＡＯ偏向素子、２１ｊＸ方向にレン
ズ作用を有する円筒レンズ効果補正レンズ（円筒レンズ
効果に対して逆極性をもつ円筒レンズ）、８はリレーレ
ンズ、９ｔ、を集光（対物）レンズ、１８は試料、１１
はＹテーブルζ１２はＸテーブル、１３はＹ方向駆動モ
ータ（Ｘモータ）、１４はＸ方向駆動モータ（Ｘモータ
）、１５はレーザ測長器、１９は制御回路、２０は計算
機システムを示す。以下に動作について説明する。
レーザ源１から出射されたレーザビーム２１は集光レン
ズ２でＡＯ変調素子３の中心部に集光される。ＡＯ変調
素子３で変調されたレーザビームは全部おるいは一部が
スリン）２１ｔニ一通過し、Ｙ方向ＡＯ偏向素子６に入
力し、Ｘ方向偏向量に比べて小さい偏向量で偏向され、
さらに、ＡＯ偏向素子７でＸ方向に偏向される。この時
、ＡＯ偏向素子７で漏速偏向さ扛たレーザビーム２１は
偏向方向に円筒レンズ効果が現われる。この効果はＡＯ
偏向素子に高周波から低周波に掃引する場合、偏向方向
のみに凹レンズ作用、また、低周波から高周波に掃引す
る場合、偏向方向のみに凸レンズ作用としてレーザビー
ムに働くものである。この効果を補正するために、Ｘ方
向のＡＯ偏向素子７の出射側に、逆極性の円筒レンズを
設置して平行ビームに補正している。
ズ２でＡＯ変調素子３の中心部に集光される。ＡＯ変調
素子３で変調されたレーザビームは全部おるいは一部が
スリン）２１ｔニ一通過し、Ｙ方向ＡＯ偏向素子６に入
力し、Ｘ方向偏向量に比べて小さい偏向量で偏向され、
さらに、ＡＯ偏向素子７でＸ方向に偏向される。この時
、ＡＯ偏向素子７で漏速偏向さ扛たレーザビーム２１は
偏向方向に円筒レンズ効果が現われる。この効果はＡＯ
偏向素子に高周波から低周波に掃引する場合、偏向方向
のみに凹レンズ作用、また、低周波から高周波に掃引す
る場合、偏向方向のみに凸レンズ作用としてレーザビー
ムに働くものである。この効果を補正するために、Ｘ方
向のＡＯ偏向素子７の出射側に、逆極性の円筒レンズを
設置して平行ビームに補正している。
本図はＸ軸用ＡＯ偏向素子７に高周波から低周波に掃引
する偏向信号を入力した場合を示しており、凸レンズ作
用をもった円筒レンズを設置している。平行ビームに補
正さ詐たレーザビームはリレーレンズ８により、ＸＹ偏
向さ扛る偏向点を対物レンズ中心に投影するように働き
、アタかも対物レンズ中ＩＬ？で偏向しているかのよう
に振る舞う。
する偏向信号を入力した場合を示しており、凸レンズ作
用をもった円筒レンズを設置している。平行ビームに補
正さ詐たレーザビームはリレーレンズ８により、ＸＹ偏
向さ扛る偏向点を対物レンズ中心に投影するように働き
、アタかも対物レンズ中ＩＬ？で偏向しているかのよう
に振る舞う。
尚、投影される偏向点は大角偏向されるＸ方向の偏向点
にするのが望ましい。その後、対物レンズ９はレーザビ
ーム２１を試料１８上に結像するとともにビーム走−ｋ
を行う。一方、レーザビームは、ＡＯ偏向素子を使用し
、試料１８上で１〜２μｍ径に絞った場合に、約５００
μｍ以下の領域のみ偏向されない。このような制約の中
で１００ｗ０等の広い領域でレーザビームを走査する場
合、試料の連続移動台ともなうラスク走査が最も適して
いる。即ち、−軸は試料の連続移動を行い、それに対す
る直交軸はレーザビームを走査することが望ましい。本
具体例では移動台の連続送り方向はＹ軸方向としてい息
。Ｙ軸方向の連続送りはＸモータ１３で行われ、Ｙテー
ブル１１上のＸＹミラー１０及びペンダ１６，１７等の
光学系部品とレーザ測長器１５からなるレーザ測長シス
テムによ！１１． ＸＹ位置が検出される。この位置情
報により、ＡＵ偏向素子６．７のラスク走査は起動され
る。
にするのが望ましい。その後、対物レンズ９はレーザビ
ーム２１を試料１８上に結像するとともにビーム走−ｋ
を行う。一方、レーザビームは、ＡＯ偏向素子を使用し
、試料１８上で１〜２μｍ径に絞った場合に、約５００
μｍ以下の領域のみ偏向されない。このような制約の中
で１００ｗ０等の広い領域でレーザビームを走査する場
合、試料の連続移動台ともなうラスク走査が最も適して
いる。即ち、−軸は試料の連続移動を行い、それに対す
る直交軸はレーザビームを走査することが望ましい。本
具体例では移動台の連続送り方向はＹ軸方向としてい息
。Ｙ軸方向の連続送りはＸモータ１３で行われ、Ｙテー
ブル１１上のＸＹミラー１０及びペンダ１６，１７等の
光学系部品とレーザ測長器１５からなるレーザ測長シス
テムによ！１１． ＸＹ位置が検出される。この位置情
報により、ＡＵ偏向素子６．７のラスク走査は起動され
る。
しかし、上記の連続移動をともなうシスタ走査の場合、
試料１Ｂ上に描かれる軌跡が連続移動方向に速度成分と
して加わシ、Ｘ軸に対して小さな角度をもってレーザビ
ーム１２が走査されることになる。従って、該速度成分
を打ち消すようにＹ方向ＡＯ偏向素子６を駆動すれば良
い。
試料１Ｂ上に描かれる軌跡が連続移動方向に速度成分と
して加わシ、Ｘ軸に対して小さな角度をもってレーザビ
ーム１２が走査されることになる。従って、該速度成分
を打ち消すようにＹ方向ＡＯ偏向素子６を駆動すれば良
い。
第２図に上記の動作に基づいたＡＯ偏向素子６゜７を印
加する信号（図中、上図はＸ方向、Ｋυ偏向素子入力信
号、下図はＹ方向ＡＯ偏向素子入力信号）′ｌｒ、示す
。図において高速にＸ方向にレーザビーム１２を偏向す
る際に、Ｙ方向の繰り返し周波数もＸ方向のそれと同様
となる。しかし、その信号の振幅は小さい。実際に、円
筒レンズ効果の焦点距離Ｆｃは高周波から低周波（低周
波から高周波）への掃引時間Ｔ、掃引周波数帯域Δｆ。
加する信号（図中、上図はＸ方向、Ｋυ偏向素子入力信
号、下図はＹ方向ＡＯ偏向素子入力信号）′ｌｒ、示す
。図において高速にＸ方向にレーザビーム１２を偏向す
る際に、Ｙ方向の繰り返し周波数もＸ方向のそれと同様
となる。しかし、その信号の振幅は小さい。実際に、円
筒レンズ効果の焦点距離Ｆｃは高周波から低周波（低周
波から高周波）への掃引時間Ｔ、掃引周波数帯域Δｆ。
ＡＯ素子内の音波の速度Ｖ及び使用するレーザ光の波長
λによって次式のように表わされる。
λによって次式のように表わされる。
一方、Ｙ方向ＡＯ偏向素子６に入力する掃引周波数帯域
（Δｆ、 ）は、Ｘ方向ＡＯ偏向累子７に入力する掃引
周波数帯域（Δｆ、）に比べ、約ｌ／４００と小さい値
ですむ。これは（１）式からＹ方向ＡＯ偏向素子６の円
筒レンズ効果の焦点距離がＸ方向のそれに比べて約４０
０倍と長いこと全意味している。実際の使用条件’ｊｉ
”ｖ＝５．５ Ｘ １０’ｃｙｒｖ’ Ｓ 。
（Δｆ、 ）は、Ｘ方向ＡＯ偏向累子７に入力する掃引
周波数帯域（Δｆ、）に比べ、約ｌ／４００と小さい値
ですむ。これは（１）式からＹ方向ＡＯ偏向素子６の円
筒レンズ効果の焦点距離がＸ方向のそれに比べて約４０
０倍と長いこと全意味している。実際の使用条件’ｊｉ
”ｖ＝５．５ Ｘ １０’ｃｙｒｖ’ Ｓ 。
λ＝５１４．５ｎｍ、Ｔ＝４０μｓ、Ｊｆ＝５０ＭＨ２
（Ｘ方向Ｊとすると、Ｘ方向のＦｃは約６６ｃｍとなる
。また、これより、Ｙ方向のＦｃは約２６３ｍとなシ、
Ｙ方向ＡＯ偏向素子６の円筒レンズ効果は殆んど無視で
きる。従って、円筒レンズ効果補正レンズは１つで良く
、Ｘ方向、即ち、広い走査範囲を偏向するＡＯ偏向素子
７の出射側に該補正レンズ２５を設置すれば良い。また
、その時の補正レンズ２５のレンズ作用はＸ方向ＡＯ偏
向素子７の偏向方向及び試料の連続移動方向と直角な方
向に一致しなければならない。
（Ｘ方向Ｊとすると、Ｘ方向のＦｃは約６６ｃｍとなる
。また、これより、Ｙ方向のＦｃは約２６３ｍとなシ、
Ｙ方向ＡＯ偏向素子６の円筒レンズ効果は殆んど無視で
きる。従って、円筒レンズ効果補正レンズは１つで良く
、Ｘ方向、即ち、広い走査範囲を偏向するＡＯ偏向素子
７の出射側に該補正レンズ２５を設置すれば良い。また
、その時の補正レンズ２５のレンズ作用はＸ方向ＡＯ偏
向素子７の偏向方向及び試料の連続移動方向と直角な方
向に一致しなければならない。
以上の説明のように、レーザビーム２１がＡＯ偏向素子
６．７により２軸偏向され、微小範囲を高速偏向すると
ともに、移動台はＸモータ１３で連続移動し、長方形を
した描画フィールド（例えば％ ３００８ｍＸ１００＋
＋ｍ）ｋレーザビームがラス。
６．７により２軸偏向され、微小範囲を高速偏向すると
ともに、移動台はＸモータ１３で連続移動し、長方形を
した描画フィールド（例えば％ ３００８ｍＸ１００＋
＋ｍ）ｋレーザビームがラス。
走査する。さらに、大面積をラスタ走査するためｖ −
サ？’−ム走青方向にＸモータ１４にょシステップ移動
し、隣りの描画フィールドをラスタ走査する。このよう
にして順次、ＸＹ移動を行い、レーザビームは所望のフ
ィールド上を全てラスタ走査する。尚、ラスタ走査を起
動する同期信号は上記の移動に伴なってレーザ測長器１
５よ多位置情報が計測され、制御回路１９に転送された
後、制御回路１９内にて発生される。一方、パターン発
生において、所望の図形データは予め計算機システム２
０に格納され、必要に応じて計算機システム２０全通し
て、制御回路１９に転送される。該回路１９はレーザ測
長器１５からの位置情報及びラスタ走査情報よｐ変調信
号を時系列的に形成し。
サ？’−ム走青方向にＸモータ１４にょシステップ移動
し、隣りの描画フィールドをラスタ走査する。このよう
にして順次、ＸＹ移動を行い、レーザビームは所望のフ
ィールド上を全てラスタ走査する。尚、ラスタ走査を起
動する同期信号は上記の移動に伴なってレーザ測長器１
５よ多位置情報が計測され、制御回路１９に転送された
後、制御回路１９内にて発生される。一方、パターン発
生において、所望の図形データは予め計算機システム２
０に格納され、必要に応じて計算機システム２０全通し
て、制御回路１９に転送される。該回路１９はレーザ測
長器１５からの位置情報及びラスタ走査情報よｐ変調信
号を時系列的に形成し。
ラスタ走査とともにレーザビーム２１を変調して試料１
８上に微細パターンを発生する。
８上に微細パターンを発生する。
以上の説明は試料の連続移動を伴なうラスタ走査の場合
を示したが、ステップアンドリピート方式のように、試
料を静止してＴＶ走査の様にラスタ走査全行い、上記の
方式を用いて大面積全レーザ走置する場合も考えられる
。この場合、上記の具体例と異なり円筒レンズ効果補正
レンズのレンズ作用の方向の規制は１つとなる。即ち％
Ｘ方向を高速偏向軸と考えると、Ｙ方向は緩やかな周波
数掃引で良く、掃引時間はＸ方向のそれに比べ約１／４
００〜５００となり、前述の具体例と同様に高速偏向用
のＡＯ素子に円筒レンズ効果補正レンズｔｌ−１つ使用
すれば良く、該補正レンズのレンズ作用も高速偏向方向
とすれば良いことがわかる。
を示したが、ステップアンドリピート方式のように、試
料を静止してＴＶ走査の様にラスタ走査全行い、上記の
方式を用いて大面積全レーザ走置する場合も考えられる
。この場合、上記の具体例と異なり円筒レンズ効果補正
レンズのレンズ作用の方向の規制は１つとなる。即ち％
Ｘ方向を高速偏向軸と考えると、Ｙ方向は緩やかな周波
数掃引で良く、掃引時間はＸ方向のそれに比べ約１／４
００〜５００となり、前述の具体例と同様に高速偏向用
のＡＯ素子に円筒レンズ効果補正レンズｔｌ−１つ使用
すれば良く、該補正レンズのレンズ作用も高速偏向方向
とすれば良いことがわかる。
尚、上記に２具体例を示したが、高速性全考慮すると、
走査範囲が狭い微小スポット領域にシ・いては、移動台
の無駄時間の少ない連続移動を伴なうラスタ走査方式の
方が高速性に優れている。
走査範囲が狭い微小スポット領域にシ・いては、移動台
の無駄時間の少ない連続移動を伴なうラスタ走査方式の
方が高速性に優れている。
上記例ではパターンジェネレータへ適用した場合を示し
ｆｃが、その他、マスク検査装置、欠陥検査装置など種
々のレーザビーム偏向機能金有する精密機器への適用が
可能となる。
ｆｃが、その他、マスク検査装置、欠陥検査装置など種
々のレーザビーム偏向機能金有する精密機器への適用が
可能となる。
以上の説明のごとく、本発明によれば、高速偏向を行っ
ても、結像光学系を乱１−ことなく微小スポットが得ら
れ、低速偏向時と同様に微細ノ（ターンを得ることがで
きる。また、高速高鞘度偏向が必要な半導体リングラフ
ィ技術へのレーザビーム応用を容易ならしめるものであ
り、種々なる利点を有するものである。
ても、結像光学系を乱１−ことなく微小スポットが得ら
れ、低速偏向時と同様に微細ノ（ターンを得ることがで
きる。また、高速高鞘度偏向が必要な半導体リングラフ
ィ技術へのレーザビーム応用を容易ならしめるものであ
り、種々なる利点を有するものである。
第１図は本発明をパターンジェネレータに適用した例を
示す概略図、第２図は連続移動をともなうラスク走査の
場合において、第１図のＸ方向ＡＯ偏向累子、Ｙ方向Ａ
Ｏ偏向素子へ印加する信号波形を示す図である。 １・・・レーザ源、２・・・レンズ、３・・・ＡＯ変変
調子子４・・・平行ビームに直すためのレンズ系、６・
・・Ｙ方向ＡＵ偏向素子、７・・・Ｘ方向ＡＵ偏向素子
％２５・・・円筒レンズ効果補正レンズ、８・・・リレ
ーレンズ、９・・・集光（対物ンレンズ％ １８・・・
試料、１３・・・Ｙモータ％ １１・・・Ｙテーブル、
１０・・・ミラー、１６゜１７・・・ベンダ、１５・・
・レーザ測長器、２２．２３・・・レーザ測長用レーザ
ビーム、１９・・・制御回路、′ｆＪ＋図
示す概略図、第２図は連続移動をともなうラスク走査の
場合において、第１図のＸ方向ＡＯ偏向累子、Ｙ方向Ａ
Ｏ偏向素子へ印加する信号波形を示す図である。 １・・・レーザ源、２・・・レンズ、３・・・ＡＯ変変
調子子４・・・平行ビームに直すためのレンズ系、６・
・・Ｙ方向ＡＵ偏向素子、７・・・Ｘ方向ＡＵ偏向素子
％２５・・・円筒レンズ効果補正レンズ、８・・・リレ
ーレンズ、９・・・集光（対物ンレンズ％ １８・・・
試料、１３・・・Ｙモータ％ １１・・・Ｙテーブル、
１０・・・ミラー、１６゜１７・・・ベンダ、１５・・
・レーザ測長器、２２．２３・・・レーザ測長用レーザ
ビーム、１９・・・制御回路、′ｆＪ＋図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 レーザビーム全微小スポットに絞り、高速高鞘度
で大面積ｔレーザ走査するレーザビーム偏向装置におい
て、レーザビームを微小スポット径に保持し、微小範囲
をレーザ走査するため２次元レーザ偏向可能な音響光学
（以下、ＡＯと略す）偏向素子と、ＡＯ偏向素子の円筒
レンズ効果を補正するための逆極性をもった補正円筒レ
ンズと、対物レンズ中心に上記偏向点全投影するリレー
レンズと、微小スポットに結像可能な対物レンズと、少
なくとも２次元移動可能な高速歯ＪｒｔＪ度移動台と、
該移動台の位置検出可能な精密位置検出器と、上記各機
能全有機的に制御し、少なくとも移動機能を用いてレー
ザビーム？試料上の広範囲に高速高祠度走査可能な制御
回路と、計算機システムと全具備せしめて大面積高速高
精度レーザビーム偏向を実現することを％徴としたレー
ザビーム偏向装置。 ２、特許請求の範囲第１項記載の装置において、広い走
査範囲を高速に偏向するＡＯ偏向素子のみに円筒レンズ
効果補正レンズを上記の偏向素子の出射側に設置するこ
とを特徴とするレーザビーム偏向装置。 ３、特許請求範囲第１項記載の装置において、ラスタ走
査とともに、試料が連続移動する際の移動方向と直交す
る方向が広い走査範囲を高速に偏向するＡＯ偏向素子の
偏向方向及び該偏向素子の出射側に設置した円筒レンズ
効果補正円筒レンズのレンズ作用を有する方向と一致す
るように構成したことを特徴とするレーザビーム偏向装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21397783A JPS60107828A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | レ−ザビ−ム偏向装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21397783A JPS60107828A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | レ−ザビ−ム偏向装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60107828A true JPS60107828A (ja) | 1985-06-13 |
Family
ID=16648196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21397783A Pending JPS60107828A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | レ−ザビ−ム偏向装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60107828A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225924A (en) * | 1989-04-07 | 1993-07-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Optical beam scanning system |
| JP2007024912A (ja) * | 1996-12-09 | 2007-02-01 | Fujitsu Ltd | 高さ検査方法及びそれを実施する高さ検査装置 |
-
1983
- 1983-11-16 JP JP21397783A patent/JPS60107828A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225924A (en) * | 1989-04-07 | 1993-07-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Optical beam scanning system |
| JP2007024912A (ja) * | 1996-12-09 | 2007-02-01 | Fujitsu Ltd | 高さ検査方法及びそれを実施する高さ検査装置 |
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