KR900008614A - 마스크와 이 마스크를 사용하는 충전입자 비임 노출방법 - Google Patents

마스크와 이 마스크를 사용하는 충전입자 비임 노출방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

마스크와 이 마스크를 사용하는 충전입자 비임 노출방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 충전입자 비임 노출방법의 실시예가 적용된 노출 장치를 일반적으로 보여주는 다이어그램,
제3도는 본 발명에 따른 마스크의 제1실시에를 보여주는 평면도,
제4A,4B도 및 4C도는 각각 본 발명에 따른 충전입자 비임 노출방법의 실시예에서의 노출된 패턴을 설명하기 위한 다이어그램.

Claims (22)

  1. 충전입자 비임노출에 의해서 기판상에 소망패턴을 노출시키는데 사용하기 위한 마스크에 있어서, 각각이 거의 사각 영역내에 다수의 패턴을 포함하는 다수의 패턴그룹 및 상기 패턴그룹의 것과 다른 위치에 형성된 다수의 위치 매칭패턴을 구성하며, 각각의 상기 패턴그룹과 상기 위치 매칭패턴의 위치관계가 미리 정해져 있고 고정된 것을 특징으로 하는 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 패턴그룹과 상기 위치 매칭패턴이 각각 매트릭스 배열로 정렬되는 것을 특징으로 하는 마스크.
  3. 제2항에 있어서, 상기 위치매칭패턴이 사각형을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크.
  4. 제1항에 있어서, 상기 위치매칭패턴은 상기 패턴그룹이 형성되는 영역을 둘러싸는 마스크의 주변부위에 정렬되는 것을 특징으로 하는 마스크.
  5. 제4항에 있어서 상기 위치 매칭패턴이 사각형을 갖는 마스크의 4개 모서리 부위에 정렬되는 것을 특징으로 하는 마스크.
  6. 제5항에 있어서, 상기 위치매칭패턴이 사각형을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크.
  7. 제1항에 있어서, 상기 패턴그룹의 상기 패턴과 상기 위치 매칭패턴이 각각 마스크에 있는 구멍인 것을 특징으로 하는 마스크.
  8. 제1항에 있어서, 상기 패턴 그룹이 각각에서 기준점이 패턴그룹에 인접한 상기 위치 매칭패턴중 적어도 하나와 소정의 고정된 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크.
  9. 요구패턴이 패턴그룹의 형태로 마스크에 형성되고 상기 요구 패턴의 위치에 따라 편향방향으로 충전입자 비임을 적당히 편향시킴으로써 선택되는 다수의 패턴중 하나인 요구 패턴을 충전 입자비임에 의해 기관상에 노출시키기 위한 충전입자 비임노출 방출에 있어서, 충전입자비임을 편향시스템에 통과시킴으로써 각각이 마스크에서 인접한 패턴그룹과 소정의 고정된 위치관계를 갖는 다수의 위치매칭패턴중 하나를 충전입자 비임에 의해 기판상에 노출시키기 위한 제1단계, 상기 하나의 위치매칭패턴을 통하여 충전입자비임의 조사위치를 검출하기 위한 제2단계, 충전입자비임을 편향시스템에 통과시킴으로써 충전입자비임에 의해 기판상에 소정위치에서 마스크에 있는 또다른 위치매칭패턴을 노출시키기 위한 제3단계, 상기 다른 위치매칭패턴을 지나는 충전입자비임의 조사위치를 검출하기 위한 제4단계, 상기 하나 및 다른 위치매칭패턴을 지나 기판상에 조사되는 충전입자 비임의 조사 위치사이에 에러를 계산하기 위한 제5단계 및 에러가거의 제로가 되도록 편향시스템을 제어하기 위하여 수정량을 계산하기 위한 제6단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 충전입자 비임 노출방법.
  10. 제9항에 있어서, 위치매칭패턴을 위해 계산되는 수정량에 근거하여 마스크에 요구패턴에 대한 수정량을 계산하기 위한 제7단계, 및 요구패턴에 대하여 에러가 거의 제로가 되도록 요구패턴에 대한 수정량에 근거하여 편향시스템을 제어하기 위한 제8단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 충전입자 비임 노출방법.
  11. 제10항에 있어서, 요구패턴에 대한 수정량이 위치매칭패턴에 대란 수정량과 똑같다고 사료되는 것을 특징으로 하는 충전입자 비임 노출방법.
  12. 제9항에 있어서, 제1내지 제6단계가 마스크에서 모든 위치 매칭패턴에 대해 반복되는 것을 특징으로 하는 충전임자 비임노출방법.
  13. 제12항에 있어서, 위치매칭괘턴을 위하여 계산되는 수정량을 근거하여 마스크에서 요구패턴에 대한 수정량을 계산하기 위한 제7단계 및 요구 패턴에 대하여 에러가 거의 제로가 되도록 요구패턴을 위한수정량에 근거하여 편향시스템을 제어하기 위한 제8단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 충전입자비임 노출방법.
  14. 제13항에 있어서, 요구패턴에 대한 수정량이 요구패턴에 가장 가까운 위치 매칭패턴에 대한 수정량과 같다고 사료되는 것을 특징으로 하는 충전입자 비임 노출방법.
  15. 제13항에 있어서, 요구패턴에 대한 수정량이 요구패턴과 가장가깝게 둘러싸는 위치매칭패턴사이의 거리에 의해 요구패턴을 둘러싸고, 요구패턴에 가장 가까운 위치 매칭패턴에 대한수정량을 내부 분할함으로써 계산되는 것을 특징으로 하는 충전입자비임노출방법.
  16. 제9항에 있어서, 패턴그룹과 위치매칭패턴이 각각 마스크에서 매트릭스 배열로 정렬되는 것을 특징으로 하는 충전입자비임 노출방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 위치매칭패턴은 사각형을 갖는 것을 특징으로 하는 충전입자비임 노출방법.
  18. 제9항에 있어서 위치매칭패턴은 패턴그룹이 형성되는 영역을 둘러싸는 마스크의 주변 부위에 정렬되는 것을 특징으로 하는 충전입자 비임 노출방법.
  19. 제18항에 있어서, 위치매칭패턴이 사각형을 갖는 마스크의 4개 모서리부위에 정렬되는 것을 특징으로 하는 충전입자 비임노출방법.
  20. 제19항에 있어서, 위치매칭패턴이 사각형을 갖는 것을 특징으로 하는 충전입자비임 노출방법.
  21. 제9항에 있어서, 패턴그룹의 패턴과 위치매칭패턴이 각각 마스크에 구멍을 갖는 것을 특징으로 하는 충전입자 비임노출 방법.
  22. 제9항에 있어서, 패턴그룹과 각각에서 기준점은 패턴그룹에 인접한 위치 매칭패턴중 적어도 하나와 소정의 고정된 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 충전입자비임 노출방법.
    ※ 참고사항: 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890015872A 1988-11-04 1989-11-02 충전입자 비임 노출방법 및 장치 KR940006209B1 (ko)

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