KR910010626A - 충전입자 빔 노광 방법 및 장치 - Google Patents

충전입자 빔 노광 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

충전입자 빔 노광 방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 충전입자 빔 노광방법이 적용된 노광 장치의 실시예를 나타내는 개략도
제3도는 마스크 정보 테이타와 패턴 고광 데이타가 준비되는 방법을 설명하기 위해 사용된 본 발명의 실시예를 나타내는 개략도
제4도는 노광 방법을 수행하고 준비하기 위해 사용된 기본 단계의 흐름도

Claims (10)

  1. 다수의 마스크 패턴으로 형성된 스텐슬 마스크를 가지며, 상기 다수의 마스크패턴으로부터 선택된 마스크 패터에 충전입자 빔을 형성하며, 상기 형성된 빔을 편향하고 웨이퍼위에 동일한 것을 주사하므로써 웨이퍼 광을 실행하는 충전입자 빔 노광방법에 있어서, 상기 선택된 마스크 패턴에 상기 충전입자 빔을 편향하기위한 정보이고, 마스크메모리에서 인덱스를 상기 스탠슬 마스크의 모든 마스크 패턴에 제공하는 마스크 정보 데이타를 홀딩하고, 상기 마스크 메모리에서 유지된 각 마스크 팬터의 상기 인덱스를 사용하므로써 마스크패턴을 설계하고 데이타 메모리에서 상기 웨이퍼위의 소정의 영역에 설계된 마스크 패턴으로 형성된 상기 충전 입자 빔을 편향하기 위한 정보인 패턴 노광 데이타를 홀딩하며, 상기 스텐들 마스크위의 상기 충전입자 빔을 편향하고 상기 패턴 노광 데이타로 설계된 인덱스에 응답하여 상기 마스크 메모리로부터 출력된 상기 마스크정보 데이타를 사용함으로써 상기 빔을 형성하는 단계로 이루어지는 충전입자 빔 노광 방법.
  2. 청구범위 제1항에 있어서, 상기 마스크 정보 데이타가 상기 스텐슬 마스크 위의 각 마스크 패턴의 위치 정보를 포함하는 충전입자 빔 노광 방법.
  3. 청구범위 제1항에 있어서 , 상기 마스크 정보 데이타가 상기 스텐슬 마스크에서 상기 충전입자 빔의 빔 편향 정보를 좀 더 포함하는 충전입자 빔 노광 방법.
  4. 청구범위 제1항에 있어서, 상기 마스크 정보 데이타가 통과하는 상기 빔을 통하여 각 마스크 패턴의 영역정보를 포함하는 충전입자 빔 노광 방법.
  5. 청구범위 제4항에 있어서 각 마스크 패턴의 상기 영역 정보에 의하여 , 리포커스 코일이 제어되고 집중 레벨이 조절되는 충전입자 빔 노광 방법.
  6. 청구범위 제1에 있어서, 상기 마스크 정보 데이타가 노광시간 보정 정보를 포함하고 상기 충전입자 빔의 주사시간을 제어하는 충전입자 빔 노광 방법.
  7. 청구범위 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼를 노출하므로써 패턴에 대한 설계 데이터로부터의 노광시간에 반복하여 사용될수 있는 다수의 상기 마스크 패턴을 축출하고 , 마스크 인덱스를 갖는 상기 다수의 마스크 패턴으로부터 하나의 마스크 패턴을 선택하기위한 정보를 준비하며 상기 웨이퍼의 소정의 위치에서 주사하는 단계를 포함할 수있도록 패턴 노광데이타가 준비되고 , 상기 다수의 마스크 패턴이 2차원 좌표에 배열되는 상기 마스크 패턴에 상기 충전입자 빔을 편향하고 모든 마스크 태턴에서 상기 빕의 주사 형태로 형성하기 위하여 사용된 정보를 상기 마스크 인덱스를 부여하는 단계를 포함할수 있도록 상기 마스크 정보 데이타가 준비되는 충전입자 빔 노광 방법.
  8. 충전입자 빔의 소스, 상기 충전입자 빔에 의하여 노출되는 웨이퍼 위에 설치된 웨이퍼 스테이지, 상기 충전입자 빔이 통과하고 형성되는 그것을 통하여 다수의 마스크 패턴으로 형서오디는 스펜슬 마스크, 상기 마스크 스텐슬 위에 주사된 상기 충전입자 빔의 편향 주건을 제어하기 위한 마스크부 편향 제어기, 상기 웨이퍼에 관한 상기 마스크 스텐슬을 통하여 통과한 상기 충전입자 빔의 편향 조건을 제어하기 위한 웨이퍼부 편향제어기로 이루어진 충전입자 빔 노광 장치에 있어서, 상기 충전입자 빔 노광장치가 상기 마스크 부 편향 제어기에 입력되고 모든 마스크 패턴에서 인덱스로 표시되는 마스크 정보 데이타를 홀딩하기 위한 마스크 메모리와 상기 인덱스로 소정의 마스크 패턴을 설계하고 상기 웨이퍼에 관한 상기 스텐슬 마스크를 통하여 통과한 상기 충전입자빔의 편향조건을 나타내는 패턴 노광 데이타를 홀딩하기 위한 데이타 메모리를 포함하고 상기 소정의 마스크 패턴을 설계하는 상기 인덱스가 상기 데이타 메모리에 출력되고, 상기 웨이퍼에 관한 상기 스텐슬 마스크를 통하여 통과한 상기 충전입자 빔의 상기 편향 조건의 상기 데이타 메모리에 의하여 웨이퍼부편향 제어기에 입력되며 상기 인덱스에 대응하는 상기 마스크 정보 데이타는 상기 인덱스가 입력되는 상기 마스크 메모리에 의하여 상기 마스크부 편향 제어기에 출력되는 충전입자 빔 노광 장치.
  9. 청구범위 제8항에 있어서, 상기 마스크 메모리에서 유지된 상기 마스크 정보 데이타와 상기 데이타 메모리에서 유지된 상기 패턴 노광 데이타가 외부 저장 매체로부터 전송되는 충전 입자 빔 노광 장치.
  10. 청구범위 제8항에 있어서, 상기 데이타 메모리로부터의 데이타출력, 상기 마스크메모리로부터의 데이타의 출력 및 상기 마스크부 편향 제어기와 웨이퍼부 편향 제어기의 동작이 파이프라인 처리에 의하여 실행되는 충전입자 빔 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임
KR1019900019257A 1989-11-30 1990-11-27 하전입자 빔 노광 방법 및 장치 KR940008019B1 (ko)

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