KR880006569A - 감광성 조성물 및 광 내식막 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (16)
- 알카리 용해성 수지 및 다음일반식(Ⅰ)의 화합물을 필수적으로 함유하는 감광성분의 혼합물로 이루어진 감광성 조성물상기식에서, X는 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-설포닐잔기이다.
- 제1항에 있어서, 수지가 하이드록시 아릴수지인 조성물.
- 제2항에 있어서, 수지가 노볼락 수지인 조성물.
- 제3항에 있어서, 수지가 크레졸 노볼락 수지인 조성물.
- 제2항에 있어서, 수지가 폴리비닐 페놀 수지인 조성물.
- 제1항에 있어서, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-4-설포닐잔기인 조성물.
- 제1항에 있어서, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-5-설포닐잔기인 조성물.
- 제1항에 있어서, 수지 대 나프토퀴는 유도체의 중량비가 약 1:1 내지 약 10:1의 범위인 조성물.
- 제1항에 있어서, 수지가 크레졸 노블락 수지이고, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-4-설포닐잔기인 조성물.
- 제1항에 있어서, 수지가 크레졸 노블락 수지이고, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-5-설포닐잔기인 조성물.
- 제9항에 있어서, 수지 대 나프토퀴논 유도체의 중량비가 약 1:1 내지 10:1의 범위인 조성물.
- 제10항에 있어서, 수지대 나프토귀논 유도체의 중량비가 약 6:1 내지 약 10:1의 범위인 조성물.
- 지지물상에 제1항의 조성물을 피복시킨 광내식막.
- 제13항에 있어서, 지지물이 반도체 재료, 금속, 플라스틱필름, 나무, 종이, 도자기 및 직물로 이루어진 그룹중에서 선택되는 광내식막.
- 제13항에 있어서, 지지물이 실리콘을 기본으로 하는 웨이퍼인 광내식막.
- 제14항에 있어서, 지지물이 알루미늄으로 이루어진 광내식막.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR860009217A KR880006569A (ko) | 1986-11-01 | 1986-11-01 | 감광성 조성물 및 광 내식막 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR860009217A KR880006569A (ko) | 1986-11-01 | 1986-11-01 | 감광성 조성물 및 광 내식막 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR880006569A true KR880006569A (ko) | 1988-07-23 |
Family
ID=68469971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR860009217A KR880006569A (ko) | 1986-11-01 | 1986-11-01 | 감광성 조성물 및 광 내식막 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR880006569A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010039676A (ko) * | 1999-06-24 | 2001-05-15 | 고오사이 아끼오 | 포지티브 내식막 조성물 |
KR101035845B1 (ko) * | 2004-02-04 | 2011-05-19 | 삼성전자주식회사 | 고분자 감광성 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트조성물 및 이의 제조 방법 |
-
1986
- 1986-11-01 KR KR860009217A patent/KR880006569A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010039676A (ko) * | 1999-06-24 | 2001-05-15 | 고오사이 아끼오 | 포지티브 내식막 조성물 |
KR101035845B1 (ko) * | 2004-02-04 | 2011-05-19 | 삼성전자주식회사 | 고분자 감광성 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트조성물 및 이의 제조 방법 |
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