KR880006569A - 감광성 조성물 및 광 내식막 - Google Patents

감광성 조성물 및 광 내식막 Download PDF

Info

Publication number
KR880006569A
KR880006569A KR860009217A KR860009217A KR880006569A KR 880006569 A KR880006569 A KR 880006569A KR 860009217 A KR860009217 A KR 860009217A KR 860009217 A KR860009217 A KR 860009217A KR 880006569 A KR880006569 A KR 880006569A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin
composition
naphthoquinone
diazide
photoresist
Prior art date
Application number
KR860009217A
Other languages
English (en)
Inventor
지. 켈리 미카엘
마마토 도날드
두람 다나
제인 상야
크레인 로렌스
Original Assignee
아메리칸 훽스트 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아메리칸 훽스트 코포레이션 filed Critical 아메리칸 훽스트 코포레이션
Priority to KR860009217A priority Critical patent/KR880006569A/ko
Publication of KR880006569A publication Critical patent/KR880006569A/ko

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

감광성 조성물 및 광 내식막
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (16)

  1. 알카리 용해성 수지 및 다음일반식(Ⅰ)의 화합물을 필수적으로 함유하는 감광성분의 혼합물로 이루어진 감광성 조성물
    상기식에서, X는 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-설포닐잔기이다.
  2. 제1항에 있어서, 수지가 하이드록시 아릴수지인 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 수지가 노볼락 수지인 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 수지가 크레졸 노볼락 수지인 조성물.
  5. 제2항에 있어서, 수지가 폴리비닐 페놀 수지인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-4-설포닐잔기인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-5-설포닐잔기인 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 수지 대 나프토퀴는 유도체의 중량비가 약 1:1 내지 약 10:1의 범위인 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 수지가 크레졸 노블락 수지이고, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-4-설포닐잔기인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 수지가 크레졸 노블락 수지이고, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-5-설포닐잔기인 조성물.
  11. 제9항에 있어서, 수지 대 나프토퀴논 유도체의 중량비가 약 1:1 내지 10:1의 범위인 조성물.
  12. 제10항에 있어서, 수지대 나프토귀논 유도체의 중량비가 약 6:1 내지 약 10:1의 범위인 조성물.
  13. 지지물상에 제1항의 조성물을 피복시킨 광내식막.
  14. 제13항에 있어서, 지지물이 반도체 재료, 금속, 플라스틱필름, 나무, 종이, 도자기 및 직물로 이루어진 그룹중에서 선택되는 광내식막.
  15. 제13항에 있어서, 지지물이 실리콘을 기본으로 하는 웨이퍼인 광내식막.
  16. 제14항에 있어서, 지지물이 알루미늄으로 이루어진 광내식막.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR860009217A 1986-11-01 1986-11-01 감광성 조성물 및 광 내식막 KR880006569A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR860009217A KR880006569A (ko) 1986-11-01 1986-11-01 감광성 조성물 및 광 내식막

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR860009217A KR880006569A (ko) 1986-11-01 1986-11-01 감광성 조성물 및 광 내식막

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR880006569A true KR880006569A (ko) 1988-07-23

Family

ID=68469971

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR860009217A KR880006569A (ko) 1986-11-01 1986-11-01 감광성 조성물 및 광 내식막

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR880006569A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010039676A (ko) * 1999-06-24 2001-05-15 고오사이 아끼오 포지티브 내식막 조성물
KR101035845B1 (ko) * 2004-02-04 2011-05-19 삼성전자주식회사 고분자 감광성 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트조성물 및 이의 제조 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010039676A (ko) * 1999-06-24 2001-05-15 고오사이 아끼오 포지티브 내식막 조성물
KR101035845B1 (ko) * 2004-02-04 2011-05-19 삼성전자주식회사 고분자 감광성 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트조성물 및 이의 제조 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0718693A3 (en) Photoresist compositions and components
KR880005074A (ko) 양성다층 감광성 내식막
KR960008428A (ko) 화학적으로 증폭된 방사선-민감성 조성물
JPS561044A (en) Photosensitive composition
DE69020875D1 (de) Oestrogenhaltiges Gelpräparat.
KR870011503A (ko) 혼합 에스테르 o-퀴논 감광제
KR920700939A (ko) 감광성 내식막-패턴된 금속층용 부식제 용액
KR970028826A (ko) 신규 술포늄염 및 화학 증폭 포지형 레지스트 재료
KR870004334A (ko) 방사선감응성 포지티브 작용성 감광성 내식막 조성물
KR920015158A (ko) 네거티브 포토레지스트 조성물
KR870007450A (ko) 감광성 레진 조성물
KR860003538A (ko) 감광성 내식막의 제조방법
KR930021602A (ko) 시클릭 카보네이트 화합물류, 이들 화합물의 제조방법 및 이들 화합물을 사용한 포지티브 포토레지스트 조성물
KR920701869A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR930006500A (ko) 감광성 수지조성물 및 이를 사용한 패턴의 형성 방법
KR880006569A (ko) 감광성 조성물 및 광 내식막
KR900002125A (ko) 내식막 조성물
KR960042214A (ko) 포지티브형 내식막 조성물
KR960700306A (ko) 포토레지스트용 노볼락 수지 혼합물(novolak resin blends for photoresist applications)
KR960038487A (ko) 파지티브 포토레지스트 조성물
KR920702890A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR870011502A (ko) 감광제 조성물
KR960034162A (ko) 테트라페놀 화합물 및 이의 제조방법
KR950012149A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 사용한 패턴의 형성 방법
KR900000726A (ko) 방사선-감응 혼합물 및 이로부터 생성된 방사선-감응 복사물질

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application