KR880006569A - 감광성 조성물 및 광 내식막 - Google Patents

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KR880006569A
KR880006569A KR860009217A KR860009217A KR880006569A KR 880006569 A KR880006569 A KR 880006569A KR 860009217 A KR860009217 A KR 860009217A KR 860009217 A KR860009217 A KR 860009217A KR 880006569 A KR880006569 A KR 880006569A
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KR
South Korea
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resin
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naphthoquinone
diazide
photoresist
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KR860009217A
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English (en)
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지. 켈리 미카엘
마마토 도날드
두람 다나
제인 상야
크레인 로렌스
Original Assignee
아메리칸 훽스트 코포레이션
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내용 없음

Description

감광성 조성물 및 광 내식막
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (16)

  1. 알카리 용해성 수지 및 다음일반식(Ⅰ)의 화합물을 필수적으로 함유하는 감광성분의 혼합물로 이루어진 감광성 조성물
    상기식에서, X는 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-설포닐잔기이다.
  2. 제1항에 있어서, 수지가 하이드록시 아릴수지인 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 수지가 노볼락 수지인 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 수지가 크레졸 노볼락 수지인 조성물.
  5. 제2항에 있어서, 수지가 폴리비닐 페놀 수지인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-4-설포닐잔기인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-5-설포닐잔기인 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 수지 대 나프토퀴는 유도체의 중량비가 약 1:1 내지 약 10:1의 범위인 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 수지가 크레졸 노블락 수지이고, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-4-설포닐잔기인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 수지가 크레졸 노블락 수지이고, X가 나프토퀴논-(1,2)-디아지드-(2)-5-설포닐잔기인 조성물.
  11. 제9항에 있어서, 수지 대 나프토퀴논 유도체의 중량비가 약 1:1 내지 10:1의 범위인 조성물.
  12. 제10항에 있어서, 수지대 나프토귀논 유도체의 중량비가 약 6:1 내지 약 10:1의 범위인 조성물.
  13. 지지물상에 제1항의 조성물을 피복시킨 광내식막.
  14. 제13항에 있어서, 지지물이 반도체 재료, 금속, 플라스틱필름, 나무, 종이, 도자기 및 직물로 이루어진 그룹중에서 선택되는 광내식막.
  15. 제13항에 있어서, 지지물이 실리콘을 기본으로 하는 웨이퍼인 광내식막.
  16. 제14항에 있어서, 지지물이 알루미늄으로 이루어진 광내식막.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR860009217A 1986-11-01 1986-11-01 감광성 조성물 및 광 내식막 KR880006569A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010039676A (ko) * 1999-06-24 2001-05-15 고오사이 아끼오 포지티브 내식막 조성물
KR101035845B1 (ko) * 2004-02-04 2011-05-19 삼성전자주식회사 고분자 감광성 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트조성물 및 이의 제조 방법

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