KR870000310A - 2-옥시-4h-3,1-벤즈옥사진-4-온 유도체의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (33)
- 일반식(II)의 화합물을 일반식(III)의 할로포르메이트 또는 일반식(IIIA)의 오르토카본산 유도체를 사용하여 폐환시키거나, 일반식(II*)의 화합물 또는 이의 유도체(저급 알킬 또는 벤질 에스테르)를 폐환시켜 일반식(I)의 화합물을 수득하거나, 일반식(IA)의 니트로-치환된 2-옥시-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온 유도체를 환원시켜 상응하는 일반식(IB)의 아미노-치환된 화합물을 수득하거나, 일반식(IB)의 화합물을 저급 알킬 알킬화제를 사용하여 알킬화시켜 일반식(IB*)의 화합물을 수득하거나, 일반식(IB)의 화합물을 일반식(IV)의 아실화제를 사용하여 아실화시켜 일반식(IC)의 화합물을 수득하거나, 일반식(IB)의 화합물을 일반식(III) 또는 (IIIA)의 화합물과 축합시켜 일반식(ID)의 화합물을 형성시키거나, 일반식(ID*)의 화합물을 2급 저급 알킬 아민과 축합시켜 일반식(IE)의 디(저급)알킬 우레이도-치환된 벤즈옥사진 유도체를 형성시키거나, R' 및 R" 중의 하나가 저급알킬인 일반식(I)의 벤즈옥사진 유도체를 측쇄에서 모노- 또는 디-할로겐화시켜 상응하는 모노- 또는 디-할로겐화 벤즈옥사진을 수득하거나, R' 및 R" 중의 하나가 모노할로 저급알킬 그룹인 일반식(I)의 화합물을 알킬화시켜 R' 및 R" 중의 하나가 적어도 2개의 탄소원자를 함유하는 저급 알킬 그룹인 상응하는 일반식(I)의 화합물을 수득하거나, 일반식(IG2)의 비티히(witting) 일라이드를 저급 지방족 알데히드로 처리하여 R' 및 R" 중의 하나가 분지된 저급 알케닐 그룹인 저급 알케닐-치환된 일반식(I)의 화합물을 수득하거나, 일반식(I)의 화합물을 산으로 처리하여 약제학적으로 허용되는 비독성 산부가염으로 전환시키거나, 일반식(I)화합물의 염을 염기로 처리하여 상응하는 일반식(I)의 유리염기로 전환시키거나, 일반식(I)의 염을 일반식(I)의 다른 염으로 전환시킴을 특징으로 하여, 일반식(I)의 2 -옥시-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온 유도체 및 이의 약제학적으로 허용되는 산부가염을 제조하는 방법.상기 식에서, R'은 수소, 저급 알킬, 저급 알케닐 또는 할로 저급 알킬이고, 단, 일반식(IG2)에서는 또한일 수도 있고, R"는 저급 알콕시, 저급 알킬, 저급 알케닐, 할로저급 알킬, 저급 알킬티오, 니트로, 아미노, 디(저급)알킬아미노, 저급 알콕시카보닐 아미노, 저급 아실아미도 또는 디(저급)알킬우레이도이고, 단, 일반식(II) 및 (II*)에서는 아미노는 아니며, X는 페닐에 의해 임의 치환된 저급 알킬이고, a는 0,1 또는 2이고, 단, 일반식(IB),(IB*)(IC),(ID),(ID*),(IE) 및 (IG2)에서는 1 또는 2이며, "저급"이란 용어는 탄소수 1 내지 4의 라디칼을 의미하고, 단, X가 에틸일 경우에 벤즈옥사진환은 적어도 하나의 치환체 R' 또는 R"를 함유하며, 할로는 클로로 또는 브로모이고,는 저급 아실이며, Y는 할로, 저급 알콕시, 하이드록실 또는 라디칼 -O-C(=O)R2이고, R2는 저급 알킬이며, R"는 저급 알킬이다.
- 제1항에 있어서, X가 벤질인 화합물을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, X가 저급 알킬인 화합물을 제조하는 방법.
- 제3항에 있어서, X가 에틸인 화합물을 제조하는 방법.
- 제2,3 또는 4항에 있어서, a가 0인 화합물을 제조하는 방법.
- 제2,3 또는 4하항에 있어서, a가 1 또는 2인 화합물을 제조하는 방법
- 제1 내지 6항중 어느 하나에 있어서, R'가 바람직하게는 탄소수 1 내지 3, 특히는 탄소수 1 또는 2인 저급알킬인 화합물을 제조하는 방법.
- 제1 내지 7항중 어느 하나에 있어서, R'가 수소인 화합물을 제조하는 방법.
- 제2,3,4,6,7 또는 8항에 있어서, R"가 저급 알콕시, 저급 알킬티오, 아미노, 디(저급)알킬아미노, 저급 알콕시카보닐 아미노, 저급 아실아미도 또는 디(저급)알킬우레이도인 화합물을 제조하는 방법.
- 제9항에 있어서, "저급"이란 용어가 탄소수 1 또는 2의 라디칼을 의미하는 화합물을 제조하는 방법.
- 제9 또는 10항에 있어서, R"가 7-위치에 존재하는 화합물을 제조하는 방법.
- 제11항에 있어서, R'가 수소이고 a가 2이며 R"는 6- 및 7-위치에 존재하는 메톡시인 화합물, 즉 2-벤질옥시-6,7-디메톡시-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온 및 이의 약제학적으로 허용되는 산부가염을 제조하는 방법.
- 제8항에 있어서, a가 0이고 X는 벤질인 화합물, 즉 2-벤질옥시-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온 및 이의 약제학적으로 허용되는 산부가염을 제조하는 방법.
- 제7항에 있어서, R'가 에틸이고 X가 에틸이며 a는 0인 화합물, 즉 2-에톡시-5-에틸-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제7항에 있어서, R'가 메틸이고 X가 에틸이며 a는 0인 화합물, 즉 2-에톡시-5-메틸-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제7항에 있어서, R'가 n-프로필이고 X가 에틸이며 a는 0인 화합물, 즉 2-에톡시-5-n-프로필-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제7항에 있어서, R'가 이소프로필이고 X가 에틸이며 a는 0인 화합물, 즉 2-에톡시-5-이소프로필-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제5 또는 6항에 있어서, R'가 저급 알킬인 화합물을 제조하는 방법.
- 제18항에 있어서, R"가 저급 알콕시, 저급 알킬티오, 아미노, 디(저급)알킬아미노, 저급 알콕시카보닐-아미노, 저급 아실아미도 또는 디(저급)알킬우레이도인 화합물을 제조하는 방법.
- 제19항에 있어서, "저급"이란 용어가 탄소수 1 또는 2의 라디칼을 의미하는 화합물을 제조하는 방법.
- 제8항에 있어서, a가 1이고 R"가 6-메틸머캅토이며 X는 에틸인 화합물, 즉 2-에톡시-6-메틸머캅토-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제8항에 있어서, a가 1이고 R"가 6-디메틸아미노이며 X는 에틸인 화합물, 즉 2-에톡시-6-디메틸아미노-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제8항에 있어서, a가 1이고 R"가 7-에톡시카보닐아미노이며 X는 에틸인 화합물, 즉 2-에톡시-7-에톡시카보닐아미노-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제8항에 있어서, a가 1이고 R"가 7-니트로, 7-아미노 또는 7-아세트아미도이며 X는 에틸인 화합물 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제8항에 있어서, a가 1이고 R"가 7-디메틸아미노 또는 7-(3-디에틸우레이도)이며 X는 에틸인 화합물 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제5항에 있어서, R'가 브로모메틸 또는 디브로모메틸이고 X는 에틸인 화합물 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제7항에 있어서, R'가 에틸이고 a가 1이며 R"가 7-니트로이고 X는 에틸인 화합물, 즉 2-에톡시-5-에틸-7-니트로-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
- 제7항에 있어서, R'가 메틸 또는 에틸이고 a가 1이며 R"가 7-아미노이며 X는 에틸인 화합물 및 이의 약제학적으로 허용되는 산부가염을 제조하는 방법.
- 제5항에 있어서, R'가 1-프로펜닐이고 X는 에틸인 화합물, 즉 2-에톡시-5-(1-프로페닐)-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온 및 이의 약제학적으로 허용되는 산부가염을 제조하는 방법.
- 제7항에 있어서, R'가 에틸이고 a가 1이며 R"가 7-니트로이고 X는 에틸인 화합물, 즉 2-에톡시-5-에틸-7-니트로-4H-3,1-벤즈옥사진-4-온, 및 이의 약제학적으로 허용되는 산부가염을 제조하는 방법.
- 제28항에 있어서, R'가 메틸인 화합물을 제조하는 방법.
- 제28항에 있어서, R'가 에틸인 화합물을 제조하는 방법.
- 일반식(A-1)의 화합물을 일반식 HOX의 화합물로 에스테르화시키고 수득되는 일반식(A-2)의 화합물을 가수분해시켜 일반식(A)의 화합물을 수득하거나, 생성된 일반식(A)의 화합물을 염으로 전환시킴을 특징으로 하여, 적어도 하나의 치환체 R' 또는 R"가 수소가 아닌 일반식(A)의 화합물 및 이의 유도체(저급 알킬, 펜닐 저급 알킬 에스테르 도는 염)를 제조하는 방법.상기 식에서, R'은 수소, 저급 알킬, 저급 알케닐 또는 할로저급 알킬이고, R"는 저급 알킬, 저급 알콕시, 저급 알케닐, 할로 저급알킬, 저급 알킬티오, 니트로, 디(저급)알킬아미노, 저급 알콕시카보닐아미노, 저급 아실아미도 또는 디(저급)킬우레이도이며, X는 펜닐에 의해 임의 치환된 저급 알킬이고, a는 0,1 또는 2이며, P는 저급 알킬 또는 벤질이다.※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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