KR860007724A - 레지스트막 건조현상 방법 및 장치 - Google Patents

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후지쓰 가부시끼가이샤
야마모도 다꾸마
후지쓰가부시끼가이샤
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Abstract

내용 없음

Description

레지스트막 건조현상 방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명의 건조현상 방법에 적용되는 예시적인 장치의 개략 횡단면도.
제 2 도는 CMS 레지스트막의 건조현상시 두께감소와 노출시간간의 관계를 나타내는 그래프.
제3A 및 3C도는 본 발명에 의한 건조현상의 예시적인 방법을 나타내는 횡단면도,

Claims (12)

  1. 전자비임에 민감한 레지스트막을 기판상에 형성하는 단계와,
    소정패턴의 잠재영상을 형성하도록 상기 전자비임으로 상기 레지스트막을 선택적으로 노출시키는 단계와,
    그리고 대기압의 산화가스내에서 상기 레지스트막에 원UV(자외선)을 조사하는 단계를 포함하며, 상기 레지스트막은 상기 전자비임에 상기 선택적인 노출을 받아 상기 레지스트막이 상기 잠재영상에 대응하는 상기 소정 패턴을 형성하도록 제거되는 것을 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  2. 제 1 항에서, 상기 레지스트는 네가티브형인 것이 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  3. 제 2 항에서, 상기 레지스트는 클로로-메틸 폴리스티렌으로 조성되는 것이 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  4. 제 1 항에서, 상기 원 자외선은 2537Å 또는 단파장의 스펙트럼 성분을 갖는 것이 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  5. 제 4 항에서, 상기 원 자외선은 1849Å의 스택트럼 성분을 갖는 것이 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  6. 제 1 항에서, 상기 산화가스는 산소를 포함하는 것이 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  7. 제 1 항에서, 상기 산화가스는 대기인 것이 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  8. 제 1 항에서, 상기 레지스트막은 1,000Å 이상의 두께를 갖도록 형성되는 것이 특징인 레지스트막 건조현상 방법.
  9. 한실을 제 1 및 제 2 실로 분리시키는 석영판을 갖는 실과, 상기 석영판을 통해 상기 제 2 실내의 기판으로 상기 원자외선을 조사하도록 상기 제 1 실내에 고정되어 있는 원 자외선 소오스와,
    상기 소오스를 냉각시키기 위해 상기 제 1 실내로 냉매를 도입하기 위한 상기실의 제 1 실의 대향 측벽들에 각각 제공되는 인입구 및 출구와, 그리고
    상기 기판이 상기 제 2 실내로 들어오고 그리고 밖으로 나가도록 대기를 허락하기 위해 상기 실의 상기 제 2 실의 대향측벽들 각각상에 형성되는 적어도 하나의 문부분들을 포함하는 것이 특징인 레지스트막 건조 현상 장치.
  10. 제 9 항에서, 상기 실온 상기 기판을 상기 제 2 실내로 그리고 밖으로 이동시키기 위해 상기 제 2 실내에서 상기 문부분들을 따라 일렬로 정렬되어 배치된 콘베어를 더 갖고 있는 것이 특징인 레지스트막 건조현상 장치.
  11. 제 9 항에서, 상기 원 자외선의 상기 소오스는 저압수은 램프들인 것이 특징인 레지스트막 건조현상장치.
  12. 제 9 항에서, 상기 제 2 실은 상기 제 2 실내로 산화가스를 도입하기 위한 제 2 인입구를 더 갖고 있는 것이 특정인 레지스트막 건조현상 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860002300A 1985-03-29 1986-03-27 레지스트막 건조현상 방법 및 장치 KR900001238B1 (ko)

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