KR830002819A - 수성분산물을 이용한 중합체 조성물의 제조방법 - Google Patents
수성분산물을 이용한 중합체 조성물의 제조방법 Download PDFInfo
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Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (99)
- (가) 그라프트 중합체 분자의 측쇄에 위치한 기본골격 탄소중 최소한 한개의 탄소에 탄소-탄소결합을 하므로서 기본골격에 결합된 최소한 한개의 측쇄 및 미결합된 상태에서 한개 내지 두개의 결합수소를 가진 지방족 탄소원자를 포합하는 기본골격을 가지며 가수분해를 받지 않는 이온화된 기를 가지는 그라프트 중합체를 수성매체중에서 충분히 현탁시킬 수 있을 정도로 가하여 만든 분산물과
- (나) 에틸렌 같은 불포화성을 가진 첨가중합성의 단위체 및
- (다) 중합반응 개시제를 혼합하여
- (라) 분산된 형태의 분산물중에서 단위체를 원상 중합시킴을 특징으로 하는 수성분산물을 이용한 중합체 조성물 제조방법.
- 필름형성능력이 있고 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지의 에폭시 수지 기본골격에 결합된 첨가중합체의 측쇄로서된 이온화 중합체를 사용함을 특징으로 하는 청구범위 제1항에 기재된 방법.
- 에틸렌 같은 불포화성을 가지면 첨가중합성이 있는 단위체로서 비닐단위체를 사용합을 특징으로 하는 청구범위 제1항 및 2항에 기재된 방법.
- 비닐단위체로서 스티렌으로 된것을 사용함을 특징으로하는 청구범위 제3항에 기재된 방법.
- 단위체로서 아크릴산을 사용함을 특징으로 하는 청구범위 제1-4항에 기재된 방법.
- 아크릴산으로는 메타아크릴산을 사용한 청구범위 제5항에 기재된 방법.
- 아크릴산으로는 아크릴산을 사용하는 청구범위 청구범위 제5항에 기재된 방법.
- 이온화된 그라프트 중합체로서는 측쇄가 결합된 에폭시수지를 사용하는 청구범위 제1-7항에 기재된 방법.
- 에폭시수지로서는 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드수지를 사용하는 청구범위 제8항에 기재된 방법.
- 에폭시수지는 미결합된 상태에서 분자량이 최소한 1000정도 인것을 사용하는 청구범위 제9항에 기재된 방법.
- 에폭시수지로는 미결합된 상태에서 분자량이 최소한 4000정도인 것을 사용하는 청구범위 제10항에 기재된 방법.
- 이완화된 그라프트중합체 중의 이완화된 기로서는 카르복시산기를 사용하는 청구범위 제1-11항에 기재된 방법.
- 카르복시산기로서는 아크릴산의 단위를 이용함을 특징으로 하는 청구범위 제12항에 기재된 방법.
- 아크릴산의 단위로는 메타아크릴산의 단위를 이용하는 청구범위 제13항에 기재된 방법.
- 이온화된 그라프트 중합체로서는 측쇄중에 있는 에틸렌 같이 불포화성을 가지는 비이온성 단위체로 구성함을 특징으로 하는 청구범위 제1-14항에 기재된 방법.
- 비이온성 단위체의 단위로는 스티렌단위를 이용하는 청구범위 제15항에 기재된 방법.
- 첨가중합체의 사슬이 그라프트 중합체의 지방족 기본골격탄소원자에 겨합된 그라프트중주합체를 이온화된 중합체로 사용함을 특징으로하는 청구범위 제1-11항에 기재된 방법.
- 수성매체중에서 이온화되는 단위체단위로서 첨가 중합체 사슬을 구성함을 특징으로하는 청구범위 제17항에 기재된 방법.
- 이온화된 단위를 양이온성의 것을 사용하는 청구범위 제17항에 기재된 방법.
- 이온화된 기로서는 그라프트 중합체 분자중의 측쇄에 있는 이온화된 아민기를 사용하는 청구범위 제19항에 기재된 방법.
- 이온화된 단위를 음이온성의 것을 사용하는 특허청구의 범위 제17항에 기재된 방법.
- 음이온단위로는 이온화된 카르복시기를 사용하는 청구범위 제21항에 기재된 방법.
- 단위체중의 최소한 일부가 이온화성 관능기를 가지며 이온화된 중합체중의 이온화된기를 형성하는 것과 동일한 것을 사용하는 청구범위 제1-22항에 기재된 방법.
- 물과 혼화되며 분산된 수지상 고형분중 최소한 일부에 대한 용매로서 작용하는 유기액체로된 분산형태의 수지상 물질을 200wt%까지 함유시킴을 특징으로하는 청구범위 제1-23항에 기재된 방법.
- 이온화된 그라프트 공중합체에 대한 에틸렌 같은 불포화성을 가진 단위체와의 중량비를 0.3. 20:1로 함을 특징으로하는 청구범위 제1-24항에 기재된 방법.
- 이온성의 특질을 뚜렷이 가지지 않는 최소한 한가지의 기타 중합체를 첨가함을 특징으로 하는 청구범위 제1-25항에 기재된 방법.
- 기타 중합체로서는 이온화성 관능기가 없는 것을 사용함을 특징으로 하는 청구범위 제26항에 기재된 방법.
- 기타 중합체서는 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지를 사용하는 청구범위 제26항 및 27항에 기재된 방법.
- 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지의 분자량이 최소한 1000정도인 것을 사용하는 청구범위 제 28항에 기재된 방법.
- 기타 중합체의 첨가량을 에틸렌 같은 불포화성 단위체량의 20배까지 사용함을 특징으로하는 청구범위 제26-29항에 기재된 방법.
- 기타 중합체의 첨가랑을 에틸렌 같은 불포화성 단위체량의 6배까지 사용함을 특징으로하는 청구범위 제30항에 기재된 방법.
- 최소한 한가지의 에틸렌 같은 불포화성 단위체를 첨가 중합시켜 첨가중합체로 만든것을 분산물중에 함유시킴을 특징으로 하는 청구범위 제1-31항에 기재된 방법.
- 분산물중에 참가되는 것과 동일한 단위체의 단위를 사용하여 첨가중합체를 구성함을 특징으로 하는 청구범위 제32항에 기재된 방법.
- 이온화된 그라프트 공중합체로는 이온화된 아민기가 없는 것을 사용하고 에틸렌 같은 불포화성 단위체를 함유하는 최소한 한 가지의 카르복시기를 첨가 중합시켜 만든 첨가중합체를 분산물중에 첨가함을 특징으로하는 청구범위 제1-33항에 기재된 방법.
- 첨가중합체로서는 아크릴산의 단위를 사용함을 특징으로하는 청구범위 제34항에 기재된 방법.
- 아크릴산으로는 메타아크릴산을 사용하는 청구범위 제35항에 기재된 방법.
- 첨가중합체로서는 스티렌의 단위를 사용하는 청구범위 제30-34항에 기재된 방법.
- 이온화성 성분을 가지는 에틸렌 같은 불포화성 단위체와 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드수지와의 그라프트중합반응으로 제조한 반응 생성물로 되었으며 위의 반응생성물의 이온화제를 첨가한 수성분산물을 사용함을 특징으로하는 청구범위 제1-37항에 기재된 방법.
- 반응생성물의 제조에 사용하는 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지의 분자량이 최소한 1000정도인 것을 사용함을 특징으로 하는 청구범위 제38항에 기재된 방법.
- 수지상 반응생성물을 제조하는 초기반응물 중의 고형분 함량을 최소한 30%정도가 되게한 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지를 사용함을 특징으로하는 청구범위 제38항에 기재된 방법.
- 분자량이 최소한 4000정도이고 수지상 반응생성물을 제조하는 초기반응물중의 고형분함량을 최소한 50%가 되게한 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지를 사용함을 특징으로하는 청구범위 제39및 40항에 기재된 방법.
- 출발물질로 사용하는 반응생물의 신가가 30-200이 되게함을 특징으로하는 청구범위 제36-39항에 기재된 방법.
- 산가가 40-150인 것을 특징으로하는 청구범위 제40항에 기재된 방법.
- 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지로서는 비스페놀 A와 에피클로로히드린의 반응생성물을 사용함을 특징으로하는 청구범위 제38-43항에 기재된 방법.
- 단위체에는 카르복시기가 있으며 이온화제로서는 소살성 염기를 사용하는 청구범위 제38-44항에 기재된 방법.
- 소살성 염기로는 알카놀아민을 사용함을 특징으로하는 청구범위 제45항에 기재된 방법.
- 반응생성물의 산가를 80-90으로 함을 특징으로하는 청구범위 제38-44항에 기재된 방법.
- 에틸렌 같은 불포화성 단위체의 중합도중 반응혼합물의 수분함량을 반응혼합물의 고형분함량이 60wt%를 초과하지 못할 정도의 수준으로 유지함을 특징으로하는 청구범위 제1-47항에 기재된 방법.
- 중합반응을 통하여 에틸렌 같은 불포화성 단위체를 수성분산물에 점진적으로 첨가함을 특징으로 하는 청구범위 제1-48항에 기재된 방법.
- 실온 또는 실온 이상의 온도에서 중합시킴을 특징으로 하는 청구 범위 제1-49항에 기재된 방법.
- 30~100℃의 온도범위에서 중합시킴을 특징으로 하는 청구 범위 제50항에 기재된 방법.
- 과산화 벤조일을 사용하여 중합반응을 개시함을 특징으로 하는 청구범위 제50및 51항에 기재된 방법.
- 산화 환원촉매를 사용함을 특징으로하는 청구범위 제50 및 51항에 기재된 방법.
- 알칼리금속의 아황산염, 중아황산염, 메타아황산염 또는 히드로 아황산염과 슬폭실산나트륨포름알데히드중에서 한가지를 환원제로 사용하고 이것과 과산화물을 혼합하여 촉매로 사용함을 특징으로하는 청구범위 제53항에 기재된 방법.
- 과산물로는 t-부틸 히드로과산화물을 사용함을 특징으로 하는 청구범위 제54항에 기재된 방법.
- 50-100℃의 온도에서 실시함을 특징으로하는 청구범위 제53-55항에 기재된 방법.
- 70-90℃의 온도에서 실시함을 특징으로하는 청구범위 제56항에 기재된 방법.
- 에틸렌 같은 불포화성 단위체의 사용량을 분산물의 전체고형분함량에 대해 40wt%까지 사용함을 특징으로 하는 청구범위 제1-57항에 기재된 방법.
- 청구범위 제1-58항에 기재된 방법으로 제조한 중합반응 생성물.
- 기본골격 탄소중 한가지에 결합되는 탄소-탄소에 의해 결합된 최소한 한개의 측쇄 및 미결합된 상태에서 한개 내지 두 개의 결합수소를 가진 지방족 탄소원자를 포함하는 기본골격을 가진 그라프트중합체로서 측쇄에 이온화된 중합체로서 분산된 형태의 조성물중의 고형분 함량을 충분히 유지할 수 있을 정도의 이온화된 위치를 가진 중합체를 최소한 한가지를 사용하여 만든 수성분산물중에서 원상 중합시킨 에틸렌 같은 불포화성 단위체로된 분산물을 특징으로 하는 조성물.
- 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지의 기본골격을 가지는 그라프중합체를 이온화된 중합체의 최소한 일부로서 사용함을 특징으로 하는 청구범위 제60항에 기재된 분산물.
- 수성매체중에서 이온화되는 단위체 단위를 첨가중합체의 측쇄로 구성함을 특징으로하는 청구범위 제61항에 기재된 분산물.
- 이온화된 단위로서는 양이온성의 것을 사용한 청구범위 제62항에 기재된 분산물.
- 이온화된 단위로서는 음이온성의 것을 사용한 청구범위 제62항에 기재된 분산물.
- 첨가중합체의 측쇄중에 이온화된 산단위를 가지는 아크릴산의 단위체단위를 포함시켜서 된 청구범위 제62항에 기재된 분산물.
- 첨가중합체의 측쇄중에 이온화된 아미노질소단위를 가지는 불포화아민의 단위를 포함시켜서 된 청구범위 제62항에 기재된 분산물.
- 교차 결합성 이온화된 중합체를 사용한 청구범위 제60-67항에 기재된 분산물.
- 특질상 이온성이 없는 2차중합체의 첨가량을 에틸렌 같은 불포화성 단위체의 원상 중합물의 중량에대해 20배까지 사용하여서 된 청구범위 제60-67항에 기재된 분산물.
- 2차중합체의 에틸렌 같은 불포화성 단위체의 원상 중합물로의 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드 수지 또는 반응이 종결된 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드수지의 량에 대해 20정도까지 첨가하여서 된 청구범위 제68항에 기재된 분산물.
- 각각 동일종류의 이온화된 기를 가지는 그라프트중합체와 미결합 첨가중합체를 사용하여 이온화된 중합체를 구성한 청구범위 제60-68항에 기재된 분산물.
- 에폭시수지의 반응을 완결시켜 거의 모든 에폭시기를 제거한 청구범위 제68항에 기재된 분산물.
- 고형분을 분산시킴에 있어서 분산된 고형분을 불연속상으로 하여 만든 연속상의 수성매체로 분산물을 만들며 물과 혼화되는 유기용매와 물로 수성매체를 구성시킨 청구범위 제60-71항에 기재된 분산물.
- 첨가중합체중에서 이온화성 카르복시 단위를 부여하는 아크릴산의 중합단위로 된 첨가중합체를 함유하는 이온화된 중합체를 만들고 불연속상으로 고형분을 분산시킨 연속상의 수성매체를 사용하며 가용성고형분을 함유하는 일차 유기용매와 물과 혼화되며 첨가중합체를 용해하며 그라프트중합체의 측쇄를 용매화하는 이차 유기용매 및 물로서 매체를 구성함에 있어서 위의 두 유기용매는 모두 물과 혼화되는 것을 사용한 청구범위 제72항에 기재된 분산물.
- 에틸렌 같은 불포화성 단위체 원상 중합물의 첨가량을 분산물중의 전 고형분에 대해 40wt%까지 사용하여서 된 청구범위 제60-73항에 기재된 분산물.
- 에틸렌 같은 불포화성 단위체 원상중합물을 미립자로 된 분산물 형태로 첨가함에 있어서 수성매체중에서 분산된 형태의 중합체를 충분히 유지할 수 있을 정도로 이온화시킨 중합물을 첨가하여서 된 청구범위 제60-74항에 기재된 분산물.
- 그라프트 중합체의 분자량이 최소한 4000정도인 것을 사용한 청구범위 제60-75항에 기재된 분산물.
- 그라프트 중합체의 측쇄가 메타아크릴산, 스티렌 및 저급아크릴산 알킬의 단위로 된 공중합체로 구성시킨 것을 사용하여서 된 청구범위 제60-76항에 기재된 분산물.
- 미결합된 상태에서 에폭시당량이 최소한 500정도이며 그라프트 중합체의 기본골격을 구성하는 지방족 기본골격 탄소를 가지는 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드수지로 그라프트 중합체를 구성하고 그라프트 중합체중의 이온화 위치를 부여하는 아미노질소를 함유하는 에틸렌 같은 불포화성 단위체로 된 중합 단위체단위로 측쇄를 구성하여서 된 청구범위 제60항에 기재된 조성물.
- 측쇄 결합위치에서 가수분해를 받아도 파괴되지 않는 그라프트 중합체로 된 청구범위 제60-78항에 기재된 조성물.
- 수성매체중에서 분산된 형태로 중합체를 유지할 수 있을 정도로 충분히 이온화되는 수성매체중의 소실성 염기를 사용하여 pH범위를 7-9로 하고 청구범위 제59-79항중의 한가지에 따라 제조된 생성물을 사용한 코오팅 또는 페인트용 감수성 조성물.
- 소실성염기로는 알카놀아민을 사용한 청구범위 제80항에 기재된 조성물.
- 수지상 반응생성물의 비휘발분에 대한 산가를 80-90정도의 범위로하고 그라프트중합체중의 에폭시수지 성분과 미결합 에폭시수지로 부터 고형분 함량이 최소한 50%정도인 수지상반응 생성물을 제조하여 이것을 위생용 코오팅배합으로 사용하기 적합하도록 만든 청구범위 제59-81항에 기재된 분무용 감수성 조성물.
- 청구범위 제80-82항에 기재된 것에 의하여 전체를 100wt%로 할때
- 가. 불연속상을 형성하는 약 10-30%정도의 미세입자로 된 고형분과
- 나. 나머지는 수성매체를 사용하며
- 다. 비휘발 고형분 100%를 기준으로 할때 미세입자로 된 고형분을 구성함에 있어서
- (다-1) 에틸렌 같은 불포화성 단위체의 원상중합물 5-40wt%정도와
- (다-2) 나머지는 수지상 반응생성물을 사용하고 이 수지상 반응생성물은
- (다-2-1) 에폭시 당량이 2000이상이며 한개 내지 두 개의 결합수소를 가진 지방족 기본골격 탄소원자를 함유하는 기본골격 사슬로 된 방향족 1,2-에폭시 디에폭시드수지와
- (다-2-2) 첨가중합체의 이온화 위치를 부여하는 에틸렌 같은 불포화성 단위체의 첨가중합반응으로 생성된 첨가 중합체 및
- (다-2-3) 미결합된 상태에서 한개 내지 두개의 결합수소를 가진 디에폭시드수지중의 몇개의 분자에 있는 지방족 기본골격 탄소중 최소한 얼마정도에 대해 탄소-탄소결합을 하며, 에폭시수지 및 단위체에 대해 최소한 3wt%정도의 과산화 벤조일 존재하에서나 또는 자유라디칼 반응개시 조건하에 에틸렌 같은 불포화성 단위체를 자유라디칼 개시에 의한 첨가중합반응으로 결합된 첨가중합체의 측쇄로 구성된 그라프트중합로 조성물을 제조함에 있어서 이온화 위치를 가지는 첨가중합체와 그라프트중합체 중에서 그라프트중합체의 이온화 위치가 측쇄중에 있는 것을 사용하고 수성매체로는 물과 혼화성이 있는 유기용매, 소실성 이온화제 및 물을 사용하며, 수성매체중에서 미립자 형태로 고형분이 분산되어 유지될 수 있을 정도로 충분히 이온화 시킬 수 있는 이온화제를 사용하여 매체중에서 중합체를 이온화시켜서 된 조성물.
- 조성물에 대하여 용매를 25wt%이하로 사용하여서 된 청구범위 제83항에 기재된 조성물.
- 이온화 위치로는 카르복시단위를 사용하고 이온화제로서는 소실성 염기성 물질을 사용한 청구범위 제83항에 기재된 조성물.
- 이온화 위치로는 아미노질소를 사용하고 이온화제를 반응시켜 이온화된 아미노질소 또는 사차 질소를 생성시켜서 된 청구범위 제83항에 기재된 조성물.
- 실시예에서 나온 바에 따라 제조한 중합체를 함유하는 조성물.
- ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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