KR20220143603A - 용기 가공 기계 내의 처리 시스템 - Google Patents

Abstract

용기 가공 기계 내 처리 시스템은, 폐쇄 경로 내에서 순환하는 복수의 지지 플레이트(1)를 포함하고, 지지 플레이트(1)는 하나 이상의 하우징을 포함하고, 각 하우징(18)은 예를 들어 병 타입의 용기(8)를 고정할 수 있으며, 지지 플레이트를 이동시키는 제1 부재(2)를 갖고 일반적으로 수평 위치에서 지지 플레이트를 순환시키는 작업부(TC1)를 포함하고, 각 지지 플레이트(1)는 제1 위치(P61) 및 제2 위치(P62) 사이를 180도로 피봇하도록 구성된 회전 플레이트(6)를 갖고, 용기는 제1 위치에서 용기의 넥이 아래쪽을 향하고, 제2 위치에서 용기의 넥이 위쪽을 향하는 것을 특징으로 한다.

Description

용기 가공 기계 내의 처리 시스템 {Handling apparatuses in a machine processing containers}

본 발명은 식품을 위한 용기 가공 기계 내의 처리 기구 및 시스템에 관한 것이다. 이 기계는 생산 장비 또는 라인으로 지칭될 수 있다.

이 기계 (또는 "장비" 또는 "라인")는 예를 들어 하나 이상의 식품들 담는 냄비나 병, 식물이나 식재료를 담는 용기를 채우는 데에 사용될 수 있고, 이러한 용기를 밀봉하고, 선택적으로 마킹, 라벨링, 사전 소독 또는 다른 작업을 하는 데에 사용될 수 있다.

이러한 기계/장비는 기계 내에서 수행되는 작업들 동안 용기를 지지하도록 예를 들어 플레이트와 같은 지지체를 사용한다.

이러한 지지체는 처리된 용기가 지지체로부터 언로드된 후 다시 비어 있는 상태로 리턴하도록 폐쇄된 루프를 통해 이동한다.

이러한 유형의 지지 플레이트는 또한 비-식품을 담는 용기를 가공하는 기계 또는 설비에 사용될수 있으며, 본 발명 또한 이에 적용될 수 있다.

이러한 종류의 설비 사용자는 최종 소비자가 컨테이너 형식, 즉 형상 및 부피에 있어 훨씬 더 다양한 다양성을 요구하기 때문에, 점점 더 유연성을 요구하고 있다. 특정한 생산 캠페인의 크기도 감소하는 경향이 있다.

냄비와 병을 가공할 수 있는 설비의 필요성이 점점 더 중요해지고 있다. 또한, 병 타입의 경우 용기가 거꾸로 된 위치, 즉 입구가 아래쪽을 향하게 한 상태에서 준비 (소독/오염 제거)를 수행하는 것이 일반적이다. 물론, 병은 이후에 채워지기 위해 뒤집어야 한다.

이러한 맥락에서, 본 발명자는 처리 시스템에서 어떠한 부하의 전달 없이 병 타입의 용기를 가공하는 것이 가능하도록 지지 플레이트에 대한 해결 방안을 제공하고자 노력하였다.

이를 위해 식품을 보유하도록 안내되는 용기를 가공하기 위한 기계 내의 처리 시스템은:

- 폐쇄 회로에서 순환하는 복수의 지지 플레이트(1)로서, 각각의 지지 플레이트는 하나 이상의 하우징을 포함하고, 각각의 하우징(18)은 예를 들어 병 타입의 용기(8)를 보유할 수 있으며,

- 제1 축방향을 따라 지지 플레이트를 이동시키기 위한 제1 부재를 갖고, 지지 플레이트를 제1 축방향(X1A)을 따라 일반적으로 수평 위치에서 순환시키는, 작업부에 해당하는 제1 부분(TC1)을 포함하며,

각각의 지지 플레이트는 제1 위치와 제2 위치 사이에서 180°로 피봇되도록 구성된 회전 플레이트(6)를 갖는 것을 특징으로 하고,

제1 위치에서, 용기는 아래쪽을 향하는 넥부를 갖고, 제2 위치에서, 용기는 위쪽을 향하는 넥부를 갖는다.

그에 따라, 기존의 냄비를 가공할 수 있는 생산 라인에서도 병 타입의 용기를 가공할 수 있다. 구체적으로, 회전 플레이트는 제1 작업부 내에서 피봇되고, 지지 플레이트는 수평 위치에 남는다.

이는 일반적으로 지지 플레이트의 가이드 및 구동이 돌출된 배치에 의해 가능하다는 점을 알아야 한다.

병을 거꾸로 로딩하여 오염을 제거한 후, 플레이트를 돌려 병을 올바른 방향으로 채우고 밀봉하여 언로딩할 수 있다.

본 발명의 다양한 실시예에서, 개별적으로 또는 조합하여 취해진 다음의 특징들을 사용하는 것이 또한 가능할 수 있다.

일 양태에 따르면, 지지 플레이트는 바디 및 2개의 암과 함께 C형 보강재 (강력 부재라고도 함)를 포함하고, 회전 플레이트(6)는 2개의 암에 대하여 길이방향 축(X)에 평행한 회전축(X6)을 중심으로 피봇하도록 장착된다.

이는 간단하고 견고한 기계적 장착에 해당한다. 지지 플레이트는 회전 플레이트가 지지 플레이트의 2개의 암 내에서 피봇되는 동안, 일반적으로 수평인 평면에서 자신과 평행하게 전방으로 계속 이동할 수 있다.

일 양태에 따르면, 회전 플레이트의 에지 면에 개방된 복수의 하우징이 제공되고, 각각의 하우징은 그 쓰로트(throat)로 병을 보유할 수 있다. 이렇게 하면, 위에서 삽입할 수 없기 때문에 용기의 바디보다 작은 입구가 있는 쓰로트를 가진 용기를 설치할 수 있다.

일 양태에 따르면, 지지 플레이트는 플레이트가 안내되고 움직이도록 설정되는 메인 길이방향 에지(11)를 포함하고, 반대 측면에서 지지 플레이트는 적어도 부분적으로 돌출되어 회전 플레이트가 병과 함께 회전할 수 있도록 한다.

처리 시스템의 가이드 및 구동 수단과 지지 플레이트 사이의 기계적 인터페이스는 회전 플레이트가 장착되어 있는지 여부에 관계없이 시스템의 불변의 기능이다. 돌출 부분은 크기에 관계없이 병의 바디가 통과할 수 있도록 해야 한다.

일 양태에 따르면, 회전플레이트(6)는 제1 길이방향 에지(81) 및 제2 길이방향 에지(82)를 갖고, 제1 및 제2 길이방향 에지 각각은 병의 스로트의 삽입을 위한 개구를 포함한다. 따라서, 회전 플레이트의 에지 면에서 개방된 복수의 하우징이 있다. 이는 병을 거꾸로 된 위치에서 쓰로트로 가로로 삽입하는 것을 가능하게 한다.

일 양태에 따르면, 회전 플레이트에서 2개의 길이방향 에지 중 하나만 병의 쓰로트를 삽입하기 위한 개구를 포함한다. 병을 꺼낸 후 플레이트가 반대 방향으로 뒤로 피봇된다면, 한쪽 에지 면에 하우징이 있는 단순화된 회전 플레이트를 사용할 수 있다. 이것은 또한 청소를 단순화한다.

일 양태에 따르면, 병은 회전축(X6)과 지지 플레이트의 메인 길이방향 에지 사이에 위치하는 길이방향 에지의 측면에서만 거꾸로 위치에 있는 것이 제공된다.

일 양태에 따르면, 회전 플레이트는 일반적으로 회전축(X6)에 대해 대칭이다. 이와 같이 회전 플레이트는 작업 주기 동안 제1 부분에서 180도만 회전할 수 있다.

일 양태에 따르면, 각각의 지지 플레이트 및/또는 각각의 회전 플레이트는 바람직하게는 편평하다. 이 플레이트는 절단 블랭크에서 쉽게 제조할 수 있다. 이는 또한 재가공 작업을 최소화하는 경제적인 솔루션이다.

일 양태에 따르면, 각각의 지지 플레이트 및/또는 각각의 회전 플레이트는 스테인리스 스틸 또는 식품 적합성을 갖는 금속 합금으로 제조된다. 이는 가볍고 튼튼한 플레이트를 보장한다.

일 양태에 따르면, 지지 플레이트(회전 플레이트 포함)의 상부면이 정의되고, 필요하다면 하우징의 주변에 배열된 센터링 스터드로부터 떨어져서 상부면 너머로 돌출되는 것이 없다. 작업 부분에 있는 플레이트의 윗면은 PW로 표시된 작업 평면과 같은 높이이다.

일 양태에 따르면, 2개의 단부 위치에서 회전 플레이트의 회전을 정지시키기 위해 하나 이상의 정지부가 제공된다. 중력의 영향과 다른 위치의 불안정성을 사용하여 사용 가능한 각 이동의 끝에서 2개의 안정적인 기계적 위치가 제공된다.

일 양태에 따르면, 2개의 각도 단부 위치의 인덱싱, 예를 들어 볼 인덱싱이 제공된다. 회전 플레이트의 회전을 허용하는 액슬 베어링에는 2개의 단부 위치를 인덱싱하기 위한 시스템이 장착될 수 있다 (예: 압입 및 스프링에 의해 밀리는 볼).

일 양태에 따르면, 지지 플레이트 외부에 로드 또는 캠 형태의 회전 수단이 제공된다. 이러한 회전 수단은 푸시 로드에 의해 고정된 스테이션에서 적용되거나 캠 효과를 통해 전진 이동에 따라 이동 중에 적용될 수 있다.

일 양태에 따르면, 플레이트는 8개의 하우징, 또는 4개 또는 6개 또는 임의의 다른 값을 갖는다. 본 발명은 플레이트에 제공된 하우징의 수에 관계없이 작동한다.

일 양태에 따르면, 플레이트는 250mm와 880mm 사이, 바람직하게는 360mm와 520mm 사이, 보다 바람직하게는 400mm와 480mm 사이의 길이방향 길이(PX)를 갖는다.

일 양태에 따르면, 플레이트는 3mm 내지 10mm의 두께를 갖는다. 하나의 특정 예에 따르면, 6mm와 8mm 사이의 두께가 선택될 수 있다.

본 발명은 또한 전술한 바와 같은 처리 시스템을 포함하는 식품용 냄비 또는 병을 가공하기 위한 기계에 관한 것이다.

따라서 프로세스 모듈은 플레이트 지지대에 의해 손상되지 않고 위와 아래를 통과할 수 있다.

본 명세서에 포함되어 있음.

본 발명의 목적 및 이점은 비제한적인 예로서 주어진 본 발명의 실시 양태의 다음 설명을 통하여 명백해질 것이다. 본 발명은 또한 다음과 같은 첨부된 도면을 통하여 잘 이해될 것이다:
- 도 1은 본 발명에 따른 플레이트 시스템을 포함하는 기계 또는 설비의 단면도를 도시한다.
- 도 2는 도 1의 기계의 사시도를 도시한다.
- 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 시스템의 사시도를 도시한다.
- 도 4는 시스템의 제1 단부에 배치된 제1 회전 스테이션의 영역의 사시도를 도시한다.
- 도 5는 시스템의 제2 단부에 배치된 제2 회전 스테이션의 영역의 사시도를 도시한다.
- 도 6은 작업부에 해당하는 제1 부분의 처리 시스템을 통한 단면을 도시한다.
- 도 7은 도 6과 유사하며, 제1 이동부를 도시한다.
- 도 8은 리턴부에 해당하는 제2 부분의 처리 시스템을 통한 단면을 도시한다.
- 도 9는 보조 지지 가이드가 있는 처리 시스템의 단면을 도시한다.
- 도 10은 기계의 정면도를 도시한다.
- 도 11은 플레이트를 평면도(A), 측면도(B) 및 정면도(C)로 도시한다.
- 도 12는 플레이트 변형의 정면도를 도시한다.
- 도 13은 도 9와 유사하며, 길이방향 축에서 일 변형에 따른 처리 시스템을 통한 단면을 보다 상세히 도시한다.
- 도 14는 도 9와 유사하며, 길이방향 축에서 다른 변형에 따른 처리 시스템을 통한 단면을 보다 상세히 도시한다.
- 도 15 및 16은 제2 리턴 컨베이어로서, 이 경우 벨트를 갖는 예시 및 그 구동을 도시하며, 전체가 제2 부분을 따라 수직 리턴 플레이트를 구동하는 기능을 갖는다.
- 도 17은 도 1과 유사하며, 기계에 대한 처리 시스템의 일반적인 배열의 변형을 도시한다.
- 도 18은 병이 뒤집힌 위치에서 지지 플레이트와 그 회전 플레이트의 횡단면도를 도시한다.
- 도 19는 병이 올바른 방향으로 올라간 위치에서 도 18과 유사하다.
- 도 20은 도 18 및 도 19와 유사하며, 피봇 작업 중 중간 위치를 나타낸다.
- 도 21은 회전 플레이트가 있는 지지 플레이트를 각각 평면도(A), 측면도(B) 및 종단면도(C)로 도시한다.
- 도 22는 회전 플레이트가 있는 지지 플레이트의 사시도로서, 단일 병이 도시되어 있고, 시작 위치는 가상도로 표시되고 끝 위치는 실선으로 표시된다.
- 도 23은 회전 플레이트가 도시되지 않은 지지 플레이트의 사시도를 도시한다.

기본 특징 및 배치

도 1 및 도 2는 식품용 기계 가공 용기를 나타낸다. 이는 유제품, 시럽, 모든 종류의 음료 용기일수 있고, 아이스크림과 동물 사료 등의 페이스트나 분말 제품일 수 있으며, 본 발명은 사실상 모든 식품에 적용된다.

특히 이러한 기계에 사용되는 처리 시스템에 주목한다. 그러나 아래에 설명된 처리 시스템은 식품류가 아니더라도 모든 생산 라인에 적용할 수 있다.

식품류로 돌아와, 이러한 기계/설비/라인은 용기, 예를 들어 하나 이상의 식품을 담는 냄비 또는 병, 유제품이나 식재료를 채우는 용기에 사용될 수 있으며, 이러한 용기를 밀봉하는 데 사용될 수 있다. 마킹, 라벨링 또는 사전 소독 작업이 제공될 수도 있으며, 다른 작업도 배제되지 않는다. 도 1 및 도 2는 기계의 축 방향으로 병치되고 각각 도면번호 71, 72, 7i로 참조되는 처리 모듈을 도시한다. 다른 처리 모듈 또는 프로세스 모듈은 집합적으로 도면번호 7을 포함한다.

지지 플레이트 또는 간단히 플레이트라고도 하는 지지대는, 기계에서 수행되는 작업 중에 용기를 지지하는 데 사용된다.

일반적으로 도면번호 1을 포함하는 이러한 지지대는 기계에서 루프, 즉 폐쇄된 경로를 통해 이동하며, 가공된 용기는 용기에서 언로드된 후 비어 있는 상태로 반환된다.

일반적인 구성에 따르면, 처리 시스템은 작업부에 해당하는 제1 부분(TC1)을 포함한다. 또한, 처리 시스템은 빠른 리턴부에 해당하는 제2 부분(TC2)을 포함한다.

여기서 제1 부분(TC1)과 제2 부분(TC2)의 조합은 후술하는 회전 스테이션과 함께 폐쇄 경로, 즉 정상 작동 시 루프 경로를 공동으로 형성한다.

하나의 위치에서 각 지지 플레이트(1)에는 빈 용기가 적재되고 다른 하류 위치에서는 채워진 용기가 지지 플레이트(1)로부터 제거된다.

각각의 지지 플레이트(1)는 하나 이상의 하우징(18)을 포함하고, 각각의 하우징(18)은 용기를 보유할 수 있다.

첫 번째 가능성에 따르면, 용기는 상부에서 유지되며, 이 경우 용기의 상부 에지(58)는 중력의 영향 하에 하우징의 에지에 지지된다. 하우징은 오리피스 형태일 수 있다. 이러한 첫 번째 가능성에 따르면, 용기는 일반적으로 본체보다 넓은 칼라(58)를 갖는 냄비(5)이다.

다른 가능성에 따르면, 용기는 측면 방향 삽입에 의해 수용될 수 있으며, 용기의 목 부분은 입구 및 협착부를 갖는 하우징에 수용된다. 용기의 목 부분이 좁아진 부분을 통과한 후, 용기는 목 부분의 크기에 해당하는 크기의 구멍에 고정된 상태로 유지된다. 이러한 가능성에 따르면 용기는 일반적으로 쓰로트와 넥이 있는 병(8)이다.

본 발명은 입구부를 갖는 병의 타입과 관련한 발명이다.

하우징의 수는 4개 또는 8개일 수 있다. 그러나 2에서 16까지의 하우징이 있을 수 있다. 가로 축(Y)를 따라 행의 수는 1, 2 또는 4개의 행이 될 수 있다. 각 행에는 1-4개의 하우징이 있을 수 있다.

일반적인 배치에 따르면, 처리 시스템은 제1 단부(E1) 및 제2 단부(E2)를 포함한다.

도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 시스템의 일반적인 배치에 따르면, 제1 단부(E1)에 배치되고 지지 플레이트를 제1 부분(TC1)에 맞물리기 위해 지지 플레이트를 수평 위치로 피봇시키도록 구성된 제1 회전 스테이션(PR1)이 제공된다. 또한, 제2 단부(E2)에 배열되고 지지 플레이트를 제2 부분(TC2)에 결합시키기 위해 지지 플레이트를 리턴 방향으로 피봇시키도록 구성된 제2 회전 스테이션(PR2)이 제공된다.

작업 세로 축(즉, 기계의)은 X로 표시된다. X1으로 표시된 처리 시스템의 기준 세로 축이 정의된다. 기계의 가로축은 Y로 표시되고 로컬 세로축은 Z로 표시된다.

전체 처리 시스템은 참조 번호 6 (도 1, 2 및 17에 일반적으로만 표시됨)으로 표시된 일반 지지 프레임에 의해 지원된다.

두 가지 구성이 가능하다. 도 1 및 도 2에서, 축(X1)은 기계의 외부에 위치하는데, 이는 제1 부분(TC1)의 플레이트(1)가 축(X1)과 공정 모듈(7) 사이에 위치한다는 것을 의미한다. 도 17에서는 반대의 경우이며, 따라서 축(X1)은 기계 내부에 위치하며, 이는 축(X1)이 제1 부분(TC1)의 플레이트(1)와 프로세스 모듈(7) 사이에 위치한다는 것을 의미한다.

지지 플레이트 및 순환

지지 플레이트(1)는 도 3 내지 도 16과 관련하여 설명된 바와 같이 단순한 유형일 수 있고, 또한지지 플레이트(1)는 도 18 내지 도 23과 관련하여 아래에서 설명되는 바와 같이 회전 플레이트가 있는 관절형일 수도 있다.

도 3 내지 도 9 및 도 11A, 11B, 11C, 12에서 알 수 있는 바와 같이, 각각의 지지 플레이트(1)는 일반적으로 직사각형 전체 형상을 갖는 기준 평면(PR)에서 연장된다. 각 지지 플레이트는 기계의 Y 방향에 평행한 2개의 짧은 면(각각 도 13 및 14 참조)을 포함한다. 각각의 지지 플레이트는 기계의 길이 방향 X에 평행한 두 개의 긴 측면, 즉 안내 및 구동 에지를 형성하는 제1 긴 측면(11) 및 자유 모서리를 형성하는 다른 긴 측면(12)을 갖는다. PX로 표시된 세로 길이는 이 경우 400mm에서 480mm 사이이다. 그러나, 보다 일반적으로 길이(PX)는 250mm와 880mm 사이, 또는 360mm와 520mm 사이일 수 있다.

LW로 표시된 판의 너비는 이 경우 250mm에서 350mm 사이이다. 그러나, 보다 일반적으로 폭(LW)은 200mm와 500mm 사이일 수 있다.

플레이트 사이에 작은 세로 간격이 제공될 수 있다.

각 지지 플레이트는 한 조각으로 만들어진다. 각 지지 플레이트는 평평하다. 판 EPP의 두께는 전형적으로 3 내지 10 mm일 수 있다. 일반적으로 시작점은 일정한 두께의 블랭크이며 그 안에 노치와 홈이 만들어진다. 이에 대해서는 아래에서 설명한다. 일 예에 따르면, 두께(EPP)는 8mm일 수 있다. 다른 예에 따르면, 두께(EPP)는 6mm와 8mm 사이일 수 있다.

각각의 지지 플레이트(1)는 상부면(1A) 및 하부면(1B)을 포함한다.

각각의 지지 플레이트(1)는 스테인리스 스틸 또는 식품 적합성의 금속 합금으로 제조될 수 있다. 또한, 폴리프로필렌 또는 폴리카보네이트와 같이 식품에 적합한 경질 플라스틱 유형의 재료도 적합할 수 있다.

제1 부분(TC1)에서 지지 플레이트는 제1 축 방향(X1A)으로 수평 위치에서 순환한다. 다양한 예시에서 플레이트는 첫 번째 부분에서 서로 인접하다. 그러나, 이들은 서로 약간 이격되어 있을 수 있다.

리턴부(TC2)에서, 지지 플레이트는 제1 축 방향과 반대인 제2 축 방향(X1B)으로 전방으로 이동한다. 이 제2 부분(TC2)에서, 지지 플레이트는 수평 위치와 다른 위치 또는 방향으로 순환한다. 이 위치/자세에 대해 "리턴 방향"이라는 용어가 사용된다. 상기 리턴 방향은 도시된 예에서 수직이다. 도시되지 않은 변형에서, 리턴 방향은 수직으로부터 30°보다 작은 각도로, 즉 수직 위치로부터 멀지 않을 수 있다.

제1 긴 측면(11)은 안내 및 구동 에지를 형성한다. 안내 및 구동 기능은 제1 긴 측면 부근에 있다. 제1 긴 측면에 대응하는 에지는 후술하는 바와 같이 가이드 및 회전 베이스를 안내 및 수용하기 위한 하나 이상의 홈(들)에 수용된다.

반대쪽 에지(12)은 안내만 되지만 구동되지는 않는다. 따라서 구동은 상대적으로 간단하고 처리 시스템의 세로축(X1) 부근에 위치한다.

다른 특징에 따르면, 반대쪽 긴 측면(12)은 보조 가이드(44)에 의해 지지될 수 있다. 이 보조 가이드는 연속적이거나 불연속적일 수 있고, 도 9에 도시된 바와 같이 이 보조 가이드(44)는 전술한 프로세스 모듈(7i) 중 하나에 고정된 암(70)에 의해 지지될 수 있다. 이 보조 가이드(44)는 바람직하게는 제거 가능하다.

도 11 및 도 12를 참조하면, 지지 플레이트에 구비된 하우징은 가공될 냄비의 형상에 따라 원형 또는 사각형일 수 있음을 알 수 있다.

각각의 지지 플레이트는 제1 이동부의 핑거를 수용하기 위한 적어도 하나의 노치(16)를 포함한다. 노치(들)(16)는 바람직하게는 플레이트의 두께를 통과함을 주목한다. 이는 청소하기 쉽고 오염 물질이 막힌 구멍에 갇히는 것을 방지한다.

예시된 예에서 각 지지 플레이트는 두 개의 노치를 포함한다.

또한 하나의 옵션에 따르면, 평면 밖으로 돌출부를 형성하는 돌출부(15)가 제공되며, 이는 특히 플레이트를 수직 방향으로 유지하는 역할을 한다.

하나의 구성에 따르면, 돌출부보다는 19로 표시된 길이 방향 홈이 플레이트를 유지하는 데 사용되며, 플레이트 안내 수단에 제공된 길이 방향 리브(28, 29)는 상기 홈에 수용된다.

도시되지 않은 변형예에서, 플레이트의 전방 이동을 위한 노치(16)의 위치와 유지 및 안내를 위한 길이방향 홈(19)의 위치가 일치할 수 있다.

또한, 10으로 참조되는 보조 노치가 제공될 수 있으며, 이는 처리 스테이션에서 인덱싱의 목적으로 사용될 수 있다.

플레이트의 전체 모양이 직사각형이 아니라 정사각형일 수도 있다.

또한, 짧은 변은 반드시 직선일 필요는 없고 볼록하거나 오목한 단차를 포함할 수 있다.

구동부

제1 부분에는 지지 플레이트를 제1 축 방향(X1A)을 따라 이동시키기 위한 제1 부재(2)가 제공된다. 예시된 구성에서 제1 부재는 스테핑 타입이다. 그러나, 본 발명의 범위 내에서 임의의 다른 이동 메커니즘이 고려될 수 있다.

제1 이동부(2)는 도시된 예에서 일반적으로 축 방향을 따라 연장되고 축(X1)을 중심으로 회전하도록 장착되는 이송 바(21)를 포함한다.

제1 이동부(2)의 이송 바(21)는 축(X1)으로부터 거리를 두고 플레이트의 노치(16)에 수용되도록 구성된 핑거(26)를 포함하고, 핑거(26)는 맞물리지 않을 때 핑거 및 이송 바는 적재되지 않는다.

도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 제1 이동부(2)의 이송 바(21)는 2개의 자유도, 즉 X1에 대한 회전 및 축 방향을 따른 전방 이동으로 작동한다. 회전은 노치(16) 내에서 그리고 노치(16)로부터 핑거(26)의 결합 및 분리를 허용한다.

병진 운동의 축방향 이동은 하나 이상의 플레이트를 제1 부분에서 미리 결정된 거리만큼 앞으로 이동시키는 것을 가능하게 한다. 도 10에 도시된 예에서, 미리 결정된 거리는 플레이트의 축방향 길이, 즉 피치(PX)와 일치한다. 다른 가능성에 따르면, 예를 들어 플레이트당 두 개의 노치가 있는 경우, 이송 바의 각 이동에 대한 전진 이동 거리는 PX/2일 수 있다. 다른 가능성에 따르면, 예를 들어 플레이트당 4개의 노치가 있는 경우, 이송 바의 각 이동에 대한 전진 이동 거리는 PX/4일 수 있다.

병진 운동의 축방향 이동은 나사 너트 또는 랙 메커니즘에 의해 실현되며, 일반적으로 자체적으로 알려진 축방향 병진운동 메커니즘을 사용하는 것이 가능하다. 이송 바 자체에 고정되거나 고정될 수 있는 22로 표시된 축 샤프트가 제공된다. 이는 또한 M2로 표시된 모터 또는 차축 근처에 배치된 기어 모터를 포함한다. 출력 피니언은 길이 방향(X1)을 따라 이송 바(21)를 이동시키기 위해 랙 또는 나선형 치형부와 맞물리며, 가능한 구성에 따라 차축 샤프트(22)가 회전하거나 회전하지 않는다.

핑거의 맞물림 및 풀림 동작이 관련된 경우, 이송 바에는 이송 바의 본체에 단단히 연결된 25 참조된 후면 레버가 장착되어 있다. 또한, 후방 레버(25)는 슬라이딩 연결부(27)에 수용된다. 후방 레버(25)는 슬라이드(27)에서 X1을 따라 길이 방향으로 미끄러질 수 있다. 이 경우, 도 13에 도시된 바와 같이, 싱글-작동 컨트롤 실린더가 M1으로 도시되며, 리턴 스프링이 45로 제공된다. 리턴 스프링의 효과는 컨트롤 핑거(26)의 분리된 위치로 축(X1)을 중심으로 이송 바를 기울이는 반면, 실린더(M1)의 작동은 반대 방향으로 이송 바를 기울이고 노치(16)에 컨트롤 핑거를 맞물리게 한다.

도 14는 더블-작동 실린더의 경우를 도시한다. 이 경우, 실린더는 컨트롤 핑거를 해제하도록 한 방향으로 명령되고, 플레이트를 전방으로 이동시키도록 컨트롤 핑거(26)와 결합하도록 반대 방향으로 명령된다.

따라서, 제1 이동부(2)는 "이송 셔틀"로 지칭될 수 있다. 적어도 하나의 플레이트가 미리 결정된 거리만큼 앞으로 이동하게 하기 위한 임의의 다른 솔루션이 또한 구상될 수 있다.

핑거(26)의 수와 관련하여, 제1 작업 부분에서 지지 플레이트를 위한 공간이 있는 만큼 많은 핑거가 제공될 수 있고, 이러한 조건에서 이송 셔틀은 작업 부분(TC1)에 위치한 모든 플레이트와 동시에 맞물린다. 따라서, 이송 바(21) 및 축 샤프트(22)는 가능하면 단부를 제외하고 처리 시스템의 전체 길이를 따라 이동한다. 따라서, 플레이트는 서로를 밀지 않고 반드시 인접하지 않아도 된다. 이는 또한 몇 개의 플레이트만으로도 테스트된 기계를 작동하는 것을 가능하게 한다.

다른 변형에서, 이송 셔틀은 제1 부분의 시작 부분에 위치한 제1 플레이트에만 맞물리고, 플레이트들은 제1 부분의 끝 부분까지 서로를 밀어낸다. 따라서 축 샤프트와 이송 바는 훨씬 더 짧으며, 이는 플레이트 PX의 길이에 해당하거나 약간 더 큰 크기의 차수일 수 있다.

대안적으로, 이송 셔틀은 도 14 및 도 15에 예시된 바와 같이, 아래에서 작동할 수 있으며, 이 경우는 아래에 예시되어 있다. 이송 바(21)가 작업 부분에서 플레이트의 상부면(1A) 아래에 위치할 때, PW로 참조된 작업 평면 위에 위치된 영역은 손상 또는 오염 위험 요소가 없다.

실린더(M1)가 위쪽으로 밀면 컨트롤 바가 약 X1로 기울어지고, 컨트롤 핑거(26)가 노치(16)에서 분리된다. 대조적으로 M1이 아래쪽으로 밀릴 때 컨트롤 바는 X1과 컨트롤 핑거(26)에 대해 반대 방향으로 기울어져 노치(16)에 맞물린다.

처리 시스템은 제2 부분(TC2)에서 지지 플레이트를 제2 축 방향(X1B)으로 이동시키도록 구성된 제2 이동부(3)를 포함한다. 제2 이동부는 연속 또는 불연속 유형일 수 있다.

도 9, 도 15 및 도 16에서 알 수 있는 바와 같이, 제2 이동부는 참조번호 34로 표시된 무단 벨트를 포함한다. 이 벨트는 2개의 벨트 풀리에 의해 안내 및 구동되며, 그 중 하나는 모터(M3)에 의해 구동되는 구동 풀리(32)이고, 다른 하나는 벨트의 다른 쪽 단부에 있는 팔로워 풀리(33)이다. 벨트는 제2 단부(E2)로부터 제1 단부(E1)로 플레이트를 구동하기 위해 리턴 방향 위치, 즉 수직 위치에서 플레이트의 하부면(1B)에 대해 이동된다.

벨트는 모터 구동 풀리에 의해 구동되는 내부에 톱니 세트를 갖고, 벨트에 의해 구동되는 플레이트에 대해 외부에 톱니 세트를 가질 수 있다.

제2 이동부는 벨트 대신, 단부에 있는 두 개의 스프로킷에 루프에 장착된 관절 링크 체인으로 형성될 수 있다. 첫 번째 스프라켓은 구동 스프라켓이고 다른 하나는 체인의 충분한 장력을 영구적으로 유지하기 위해 스프링에 의해 탄성적으로 리턴되는 지지대에 장착된다. 루프 체인의 특정 링크 외부에 고정된 슈(shoe)가 리턴부(TC2) 내 수직 위치에서 플레이트를 지지하기 위해 제공될 수 있다.

보다 구체적으로, 작업 스트랜드(34a)는 제2 부분에 위치된 플레이트와 접촉하여 배열되는 반면, 리턴 스트랜드(34b)는 플레이트로부터 거리를 두고 있고 적재되지 않은 상태를 위한 역할을 한다. 벨트의 작업 스트랜드는 앞으로 이동하는 속도가 비교적 빠르다. 실제로는 적어도 반대 방향으로 이송 바의 전진 이동 속도와 동일하다. 예를 들어, 벨트(34)의 전방 이동 속도는 초당 500mm 이상일 수 있다.

제2 부분에서 플레이트의 구동은 예시된 것과 다를 수도 있으며, 예를 들어 펄스, 중력에 의한 리턴 또는 다른 수단이 참여할 수 있으며, 이러한 리턴에서는 플레이트에 대한 작업 동작이 없다.

도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 회전 스테이션(PR1)은 제1 단부(E1) 측에 제1 회전 베이스(41)를 포함한다. 제1 회전 베이스는 지지 플레이트를 제1 부분(TC1)에 결합시키기 위해 지지 플레이트를 수평 위치로 피봇시킨다. 제1 회전 베이스는 X1과 일치하거나 X1에 근접한 축을 중심으로 회전하도록 장착된 요소의 형태일 수 있으며, 이 요소는 2개의 이동 끝 센서 또는 이동 종료 센서가 있는 스테핑 모터일 수 있다.

따라서, 제1 회전 베이스(41)는 리턴 방향으로 제2 부분에 도달하는 지지 플레이트를 수용하기에 적합한 제1 위치와 제1 부분의 입구에서 수평 위치에 지지 플레이트를 배치하기에 적합한 제2 위치 사이에서 이동 가능하다.

철회 가능한 정지부(49)가 제공될 수 있으며, 이는 리턴 수직 플레이트의 입구를 이 회전 베이스의 수직 수용 위치에 의존하는 회전 베이스(41)로 만든다. 철회 가능한 정지부(49)는 소형 액추에이터(M4)에 의해 선택적으로 제어될 수 있다. 변형에서, 철회 가능한 정지부는 회전 베이스(41)의 회전 이외의 특정 제어를 요구하지 않고 회전 베이스(41)의 측면에 통합된 형태일 수 있다.

제2 단부(E2)의 측면에서, 제2 회전 스테이션(PR2)은 제2 회전 베이스(42)를 포함한다. 제2 회전 베이스는 지지 플레이트를 제2 부분(TC2)에 결합시키기 위해 리턴 방향으로 지지 플레이트를 피봇시킨다.

제2 회전 베이스는 X1과 일치하거나 X1에 근접한 축을 중심으로 회전하도록 장착된 요소의 형태일 수 있으며, 이 요소는 2개의 이동 끝 센서 또는 이동 종료 센서가 있는 스테핑 모터일 수 있다. 경로가 자유로우면 제2 회전 베이스는 플레이트를 수직 위치로 회전시키고 즉시 제2 리턴 부분(TC2)에 삽입한다.

각각의 회전 베이스는 종방향 에지, 즉 안내 및 구동 에지를 형성하는 긴 측면(11)을 수용하기 위한 홈을 포함한다.

제1 회전 베이스와 제2 회전 베이스는 모두 플레이트 고정 수단을 포함한다. 플레이트가 평면(15) 밖으로 돌출부를 포함하는 경우, 회전 베이스는 평면 외부로 돌출부를 수용하기 위한 슬라이드를 형성하는 하우징을 포함한다 (도 11 참조).

변형예에서, 회전 베이스는 플레이트에 형성된 홈(19)의 내부를 지지하는 돌출 리브(29)를 포함한다.

또한, 제1 축 방향(X1A)을 따라 연속적으로 배치된 고정된 메인 안내 지지대(40)가 제1 및 제2 회전 베이스(41, 42) 사이에 제공된다. 따라서 지지대는 제1 단부(E1)에서 제2 단부(E2)까지 플레이트에 대해 연속적이다.

메인 안내 지지대는 플레이트의 길이방향 가이드를 허용하는 리브(28)를 포함하고, 리브(28)는 홈(19)에 수용된다.

도 13에 도시된 바와 같이, 메인 안내 지지대는 X1을 따라 일반적으로 일정한 단면을 갖는 프로파일 요소의 형태이다. 이 프로파일 요소는 제1 부분(TC1)을 통과하는 수평 위치에서 플레이트를 안내하는 것을 가능하게 하고, 또한 플레이트가 리턴하는 제2 부분(TC2)에서 수직 위치에서 플레이트를 안내하는 것을 가능하게 한다.

이러한 지지 플레이트를 갖는 시스템은 또한 본 발명이 적용될 수 있는 비식품용 용기를 가공하는 기계 또는 설비에 사용될 수 있다.

작동

제1 작업부에서 플레이트는 상술한 제1 이동부(2)에 의해 한 스테이션에서 다른 스테이션으로 순차적으로 이동된다. 플레이트는 도 15 및 도 16에서 1H로 참조된 수평 위치에 있다. 기계의 구성에 따라 고정된 스테이션에서 이송 바의 외부 이동 사이의 시간 동안 다양한 작업이 수행된다. 도 15에 도시된 매우 단순화된 예에 따르면, 77로 참조된 계량 노즐이 플레이트의 위치 중 하나의 위치에 제공된다.

작동부(TC1)의 끝단에서, 제2 회전 베이스(42)는 기준 세로축(X1)을 중심으로 각도 θ일반적인 경우 90°)를 통해 각 지지판(1)을 회전시킨다. 그 후, 각 플레이트는 실질적으로 이 방향을 유지하면서 리턴 부분을 따라 이동한다. 플레이트는 도 15 및 도 16에서 1V로 참조된 수직 위치에 있다. 플레이트는 전술한 제2 이동부(3)에 의해 제2 부분(TC2)을 따라 이동된다.

그 후, 제1 회전 베이스(41)는 길이 방향 축(X1)을 중심으로 반대 방향의 각도 -θ즉 제2 회전 베이스에 의해 가해지는 각도와 반대 방향으로 회전하면서 지지 플레이트를 회전시킨다.

루프의 전체 작동과 관련하여 도 16에서 볼 수 있듯이 제1 부분(TC1)은 플레이트로 완전히 채워진 반면, 제2 부분(TC2)은 몇 개의 플레이트로만 구성된다.

따라서, 제1 부분의 플레이트의 수는 기계의 구성에 따라 약 10개 내지 약 30개일 수 있다. 대조적으로, 리턴부(TC2)에는 1 내지 4개의 플레이트만이 있다. 이점적으로, 처리 시스템 및 설치 프로세스에 필요한 플레이트 수가 최소화된다.

회전 플레이트가 있는 지지 플레이트

이제 설명될 회전 플레이트(6)가 있는 지지 플레이트의 시스템은 평평한 상태에서 또는 완전한 회전(180°) 후에 플레이트를 복귀시키는 기존의 자재 취급 장치(즉, 취급 시스템)의 맥락에서 사용될 수 있다.

다만, 도 18 내지 도 23과 관련하여 설명된 바와 같이 회전 플레이트가 있는 지지 플레이트(1)의 시스템과 관련하여 특별히 설명되지 않은 것은 도 3 내지 16과 관련한 일체형 플레이트의 설명과 동일하거나 유사한 것으로 간주될 것이다.

이 경우, 지지 플레이트는 특히 도 21에서 볼 수 있는 바와 같이 바디(60)와 2개의 암(61g, 61d)을 갖는 C형 보강/강도 부재를 포함한다. 바디(60)는 작업부(TC1)에서 제1 축방향을 따라 지지 플레이트를 이동시키는 제1 부재(2)와 함께 메인 인터페이스를 형성한다. 바디(60)는 판 길이(PX)를 따라 길이 방향을 따라 연장된다. 바디(60)는 일반적으로 플레이트에 대한 가이드 및 조작 에지를 형성하는 제1 긴 측면(11)에 대응한다.

각각 13 및 14로 표시된 2개의 짧은 측면은 기계의 Y 방향에 평행하며 C형 보강재의 우측 암(61d) 및 좌측 암(61g)에 각각 대응한다.

바디(60)는 제1 이동부(2)의 핑거를 수용하기 위한 적어도 하나의 노치(16)를 포함한다. 가이드를 위해, 상술한 바와 유사하게 19로 참조된 길이 방향 홈 및/또는 평면 밖으로 돌출부를 형성하는 돌출부(15)가 제공된다.

주된 차이는 회전 플레이트(6)의 존재에 있다. 회전 플레이트(6)는 바람직하게는 C형 보강재와 동일한 두께를 갖는 플레이트이다. 그러나 플레이트 바디와 회전 플레이트는 두께가 다를 수 있다.

회전 플레이트(6)는 81, 82로 표시된 2개의 길이방향 에지를 갖는다. 보다 구체적으로, 제1 길이방향 에지(81) 및 제2 길이방향 에지(82)가 제공된다.

제1 길이방향 에지(81)는 병의 스로트의 삽입을 허용하는 개구(180)를 포함한다. 각각의 개구(180)(이 경우, 4)에는 쓰로트(8c)보다 약간 넓은 입구가 있고, 쓰로트(8c)보다 약간 작은 크기를 갖는 좁아지는 부분(181)과, 병이 삽입된 후 쓰로트을 수용하기 위해 막힌 단부가 있다. 병 입구부의 칼라(8b)는 하우징에 놓인다.

다시 말해서, 회전 플레이트의 에지 면에서 개방된 복수의 하우징이 존재한다.

선택적으로, 제2 길이방향 에지(82)에는 병의 스로트의 삽입을 허용하는 개구(180)가 또한 제공될 수 있다. 이 경우 회전 플레이트는 일반적으로 회전축에 대해 대칭이다.

그러나 변형에서, 하우징은 회전 플레이트의 모서리 면 중 하나에만 제공될 수 있다.

회전 플레이트(6)는 축(X6)의 회전 관절에 의해 C형 보강재에 장착된다. 보다 구체적으로, 회전 플레이트(6)는 기계의 종축(X)에 평행한 회전축(X6)을 중심으로 2개의 암(61g, 61d)에 대해 피봇하도록 장착된다.

따라서 회전 플레이트(6)는 이러한 회전에 의해 여러 위치 사이에서 이동할 수 있다.

보다 구체적으로, 회전 플레이트(6)는 P61로 표시된 제1 위치와 P62로 표시된 제2 위치 사이에서 180도 회전될 수 있다.

제1 위치(P61)에서 용기/병은 넥이 아래쪽을 향한다. 이 위치에서 빈 병이 쓰로트를 통해 회전 플레이트에 삽입된다. 이 위치에서 빈 병(들)은 아래에서 오는 오염 제거, 유체 분사에 의한 소독 및/또는 오염 등이 제거된다.

병을 하우징에 삽입하기 전에 병의 넥을 낮추기 위해 회전 플레이트와 플레이트 바디(60) 사이에 충분한 공간이 제공되며, 이것은 도 21A에서 점선으로 표시된다.

제2 위치(P62)에서 용기/병은 넥이 위쪽을 향한다. 이 위치에서 병(들)이 채워지고 마개가 씌워진 다음 언로드된다.

한 가지 가능성에 따르면, 도면에 도시된 바와 같이 2개의 각진 이동 종료 정지부가 제공되어, 회전 플레이트의 가능한 회전을 반 바퀴로 제한한다. 제1 정지부(63)는 세로 길이를 따라 중간에 배치되고 바디에서 축(X6)을 향해 돌출되고, 도 19에 도시된 바와 같이 플레이트의 상부 평면 바로 위로 연장된다. 제1 정지부(63)는 제2 위치(P62)를 고정하여, 중력 및 병의 존재에 의해 안정된다.

다른 정지부(64)는 바디와 각 암의 각도에서 에지에 배열된다. 다른 정지부(64)는 도 18에 도시된 바와 같이 플레이트의 하부 평면 바로 아래로 연장된다. 다른 정지부(64)는 중력 및 병의 존재에 의해 안정하게 되도록 제1 위치(P61)를 고정한다.

즉, 정지부(63, 64)는 제1 및 제2 위치(P61, P62)에서 회전판의 회전을 정지시키기 위해 제공된다.

도 21에서 볼 수 있는 바와 같이, 180도를 통한 완전한 이동을 허용하기 위해 정지부(63)보다 약간 더 넓은 오목부(65)가 제공되어 제1 위치(P61)까지 회전을 허용한다. 유사하게, 코너 정지부(64)에 대응하는 코너 오목부(66)가 제공되어, 제2 위치(P62)까지 완전한 이동을 위한 방해가 없다.

다른 가능성에 따르면 제1 및 제2 위치(P61, P62)는 회전 축에 의해 인덱싱되고 시스템에는 정지부가 없을 수 있다.

또 다른 가능성에 따르면, 인덱싱과 상술한 정지부가 결합될 수 있다.

가이드 에지(11)의 반대쪽에서, 플레이트는 일반적으로 회전 플레이트가 병과 함께 회전할 수 있도록 적어도 부분적으로 돌출된 방식으로 위치된다. 구체적으로, 병 바디(8a)는 일정한 반경의 호를 그린다 (도 20 및 도 22 참조).

2개의 암에는 회전을 지원하는 베어링(68)이 제공되며, 회전 플레이트는 회전 플레이트가 고정되는 허브(67)에 의해 이 베어링에서 회전한다. 각 베어링(68)은 도 23에 도시된 바와 같이 암에 고정된 단부 피팅(69)의 일부이다.

회전 플레이트를 회전시키기 위해 지지 플레이트 외부에 막대 또는 캠 형태의 회전 수단이 제공되어 회전 플레이트를 밀어낸다. 푸시 운동은 도 22에 표시된 점선을 따라 직선 또는 원형일 수 있다.

일 예에 따르면, 이러한 회전 수단은 푸시 로드에 의해 고정 스테이션에 적용될 수 있다.

다른 방안에 따르면, 캠 효과에 의해 전진 이동에 따라 이동에 작용하는 연속 수단을 사용할 수도 있다.

유리하게는, 기계의 한 위치에 병이 로딩된 후 각 회전 플레이트를 제1 위치(P61)에서 제2 위치(P62)로 통과시키기 위한 제1 회전 수단이 제공된다.

하류 위치, 언로딩 후 또는 빈 병을 싣기 전 매우 먼 상류에, 제2 위치(P62)에서 제1 위치(P61)로 각각의 빈 회전 플레이트를 회전시키기 위한 제2 회전 수단이 제공될 수 있다.

암(61g, 61d)의 길이는 판의 전체 폭(LW)보다 짧을 수 있다.

Claims (10)

1. 식품을 보유하는 용기를 가공하는 기계 내 처리 시스템으로서,
   상기 처리 시스템은:
   - 폐쇄 경로 내에서 순환하는 복수의 지지 플레이트(1); 및
   - 제1 축방향을 따라 지지 플레이트를 이동시키는 제1 부재(2)를 갖고, 제1 축방향(X1A)으로 수평 위치에서 지지 플레이트를 순환시키는, 작업부에 해당하는 제1 부분(TC1); 을 포함하고,
   상기 지지 플레이트(1)는 하나 이상의 하우징을 포함하고, 각 하우징(18)은 예를 들어 병 타입의 용기(8)를 고정할 수 있으며,
   각 지지 플레이트(1)는 제1 위치(P61) 및 제2 위치(P62) 사이를 180도로 피봇하도록 구성된 회전 플레이트(6)를 갖고,
   용기는 제1 위치에서 용기의 넥이 아래쪽을 향하고, 제2 위치에서 용기의 넥이 위쪽을 향하는, 처리 시스템.
2. 제 1 항에 있어서,
   지지 플레이트는 바디(60) 및 2개의 암(61g, 61d)를 갖는 C형 보강재를 포함하고, 회전 플레이트(6)는 2개의 암에 대하여 기계의 길이방향 축(X)에 평행한 회전축(X6)에 대하여 피봇하도록 설치되는, 처리 시스템.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   회전판의 에지 면에서 개방된 복수의 하우징이 제공되며, 각각의 하우징은 쓰로트에 의해 병을 고정할 수 있는, 처리 시스템.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   지지 플레이트는, 플레이트가 안내되고 이동하는 메인 길이방향 에지(11)를 포함하고, 반대편 길이방향 에지(12)는 회전 플레이트가 병과 함께 피봇되도록 적어도 부분적으로 돌출되어 있는, 처리 시스템.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   회전 플레이트(6)는 제1 길이방향 에지(81) 및 제2 길이방향 에지(82)를 갖고, 제1 및 제2 길이방향 에지 각각은 병의 쓰로트의 삽입을 위한 개구(18)를 포함하는, 처리 시스템.
6. 제 5 항에 있어서,
   병은 회전축(X6)과 지지 플레이트의 메인 길이방향 에지 사이에 위치하는 길이방향 에지(81, 82) 중 하나의 측면에서만 거꾸로 위치되는, 처리 시스템.
7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
   회전 플레이트는 회전축(X6)에 대해 일반적으로 대칭인, 처리 시스템.
8. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
   2개의 단부 위치에서, 회전 플레이트의 회전을 정지시키기 위한 하나 이상의 정지부(63, 64)가 제공되는, 처리 시스템.
9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
   2개의 각진 단부 위치에 볼 인덱싱이 제공되는, 처리 시스템.
10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    지지 플레이트의 외부에 로드 또는 캠 형태의 회전 수단이 제공되는, 처리 시스템.

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