KR20220137858A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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세이지 나카노
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

기판을 검사하는 검사 모듈을 구비한 기판 처리 장치에 있어서, 높은 스루풋이 얻어지는 기술을 제공하는 것이다. 좌우에 마련된 제 1 로드 포트(2A, 2B) 및 제 2 로드 포트(2C, 2D)와, 처리부(D2)와, 좌우에 있어서의 제 1 로드 포트(2A, 2B)와 제 2 로드 포트(2C, 2D)의 사이에 마련되는 검사 모듈(4)과, 검사 모듈(4)의 좌우의 일방에 마련되고, 처리부(D2)와 제 1 로드 포트(2A, 2B)에 배치된 반송 용기(C)에 기판(W)를 각각 전달하기 위한 제 1 기판 반송 기구(5A)와, 검사 모듈(4)의 좌우의 타방에 마련되고, 검사 모듈(4)과 제 2 로드 포트(2C, 2D)에 배치된 반송 용기(C)에 기판(W)를 각각 전달하기 위한 제 2 기판 반송 기구(5B)와, 제 1 기판 반송 기구(5A)와 제 2 기판 반송 기구(5B)의 사이에서 기판(W)를 전달하는 전달부(51)를 구비하는 장치로 한다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은, 기판을 검사하는 검사 모듈을 구비한 기판 처리 장치에 있어서의 기술에 관한 것이다.
반도체 장치의 제조 프로세스에 있어서의 포토리소그래피에서는, 기판인 반도체 웨이퍼(이하, 웨이퍼라고 기재함)의 표면에 레지스트가 도포됨으로써 레지스트막이 형성되고, 당해 레지스트막이 노광된 후에 현상 처리가 행해져 레지스트 패턴이 형성된다. 그와 같은 레지스트막의 형성 및 현상 처리를 행하는 도포, 현상 장치에 있어서, 당해 도포, 현상 장치에 있어서의 각 처리를 행하기 전 혹은 각 처리를 행한 후의 웨이퍼의 표면 상태의 검사를 행하기 위한 검사 모듈이 마련되는 경우가 있다.
그러나 이 검사 모듈을 마련함으로써, 장치에 있어서 웨이퍼를 처리하는 모듈을 설치 가능한 스페이스가 삭감되어 버릴 우려가 있다. 즉, 스페이스의 문제로, 도포, 현상 장치 내에 있어서 검사 모듈을 설치하는 것 또는 증설하는 것이 어려운 경우가 있다. 또한 이 검사 모듈에 대해서는, 정밀도 높은 검사를 행하기 위하여 예를 들면 정기적인 메인터넌스를 행하게 되는 경우가 있어, 이 메인터넌스를 용이하게 행할 수 있도록 검사 모듈을 설치하는 것이 요구되는 경우가 있다. 따라서, 이러한 문제가 해결되도록 검사 모듈을 장치 내에 설치할 수 있는 기술이 요구되고 있다.
또한, 특허 문헌 1에 있어서는, 웨이퍼를 저장하는 캐리어가 배치되는 로드 포트를 구비하는 캐리어 블록과, 웨이퍼를 처리하는 처리 모듈을 다수 구비하는 처리 블록과, 처리 블록과 노광 장치를 접속하는 인터페이스 모듈을 구비한 도포, 현상 장치에 대하여 기재되어 있고, 상기의 캐리어 블록에 대하여 가로로 나열하여 검사 모듈이 마련되어 있다. 그러나, 이 장치의 구성에 따르면, 검사 모듈에 의해 장치의 풋프린트가 커져 버리고, 캐리어 블록에 마련되는 웨이퍼의 반송 기구는 처리 블록과 검사 모듈의 각각에 웨이퍼를 반송하기 때문에, 당해 반송 기구의 부하가 커서, 장치의 스루풋이 낮아져 버릴 우려가 있다. 따라서, 상기의 검사 모듈을 마련하는 것에 의한 장치의 스루풋의 저하 및 장치의 풋프린트의 증대를 방지하는 것에 대해서도 요구되고 있다.
일본특허공개공보 2003-151878호
본 발명은 이와 같은 사정 하에 이루어진 것으로서, 그 목적은, 기판을 검사하는 검사 모듈을 구비한 기판 처리 장치에 있어서, 높은 스루풋이 얻어지는 기술을 제공하는 것이다.
본 발명의 기판 처리 장치는, 기판이 저장되는 반송 용기가 각각 배치되도록 좌우의 일방, 타방에 각각 마련된 제 1 로드 포트, 제 2 로드 포트와,
상기 기판에 대하여 처리를 행하는 처리부와,
좌우에 있어서의 상기 제 1 로드 포트와 상기 제 2 로드 포트의 사이에 마련되고, 상기 처리부에 의한 처리 전 혹은 처리 후의 상기 기판을 검사하는 검사 모듈과,
상기 검사 모듈의 좌우의 일방에 마련되고, 상기 처리부와 상기 제 1 로드 포트에 배치된 반송 용기에 상기 기판을 각각 전달하기 위한 제 1 기판 반송 기구와,
상기 검사 모듈의 좌우의 타방에 마련되고, 상기 검사 모듈과 상기 제 2 로드 포트에 배치된 반송 용기에 기판을 각각 전달하기 위한 제 2 기판 반송 기구와,
상기 제 1 기판 반송 기구와 상기 제 2 기판 반송 기구의 사이에서 상기 기판을 전달하기 위한 전달부
를 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 기판 처리 방법은, 좌우의 일방, 타방에 각각 마련된 제 1 로드 포트, 제 2 로드 포트에 기판이 저장되는 반송 용기를 각각 배치하는 공정과,
처리부에 의해 상기 기판에 대하여 처리를 행하는 공정과,
좌우에 있어서의 상기 제 1 로드 포트와 상기 제 2 로드 포트의 사이에 마련되는 검사 모듈에 의해, 상기 처리부에 의한 처리 전 혹은 처리 후에 상기 기판을 검사하는 공정과,
상기 검사 모듈의 좌우의 일방에 마련되는 제 1 기판 반송 기구에 의해, 상기 처리부와 상기 제 1 로드 포트에 배치된 반송 용기에 기판을 각각 전달하는 공정과,
상기 검사 모듈의 좌우의 타방에 마련되는 제 2 기판 반송 기구에 의해, 상기 검사 모듈과 상기 제 2 로드 포트에 배치된 반송 용기에 기판을 각각 전달하는 공정과,
전달부를 통하여 상기 제 1 기판 반송 기구와 상기 제 2 기판 반송 기구의 사이에서 상기 기판을 전달하는 공정
을 구비한 것을 특징으로 한다.
기판 처리 장치에 이용되는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체로서,
상기 프로그램은 본 발명의 기판 처리 방법을 실행하기 위한 단계가 포함되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서는, 좌우에 마련된 제 1 로드 포트와 제 2 로드 포트의 사이에 검사 모듈이 마련된다. 그리고, 검사 모듈의 좌우의 일방에 기판의 처리부와 제 1 로드 포트의 반송 용기에 기판을 각각 전달하는 제 1 기판 반송 기구가, 검사 모듈의 좌우의 타방에 검사 모듈과 제 2 로드 포트에 배치된 반송 용기에 기판을 각각 전달하는 제 2 기판 반송 기구가 각각 마련되어 있고, 전달부를 통하여 각 기판 반송 기구의 사이에서 기판이 전달된다. 이와 같은 구성에 따르면, 하나의 기판 반송 기구의 부하가 커지는 것을 방지할 수 있기 때문에, 장치의 스루풋의 저하를 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 기판 처리 장치의 일실시 형태인 도포, 현상 장치의 횡단 평면도이다.
도 2는 상기 도포, 현상 장치의 종단 측면도이다.
도 3은 상기 도포, 현상 장치를 구성하는 캐리어 블록의 정면도이다.
도 4는 상기 캐리어 블록의 사시도이다.
도 5는 상기 캐리어 블록에 마련되는 로드 포트의 도어의 개략 사시도이다.
도 6은 상기 캐리어 블록에 마련되는 검사 모듈의 종단 측면도이다.
도 7은 상기 검사 모듈의 개략 평면도이다.
도 8은 상기 캐리어 블록의 종단 정면도이다.
도 9는 상기 캐리어 블록에 있어서의 웨이퍼의 반송 경로를 나타내는 설명도이다.
도 10은 상기 캐리어 블록에 있어서의 웨이퍼의 반송 경로를 나타내는 설명도이다.
도 11은 상기 캐리어 블록에 있어서의 웨이퍼의 반송 경로를 나타내는 설명도이다.
도 12는 상기 캐리어 블록에 있어서의 웨이퍼의 반송 경로를 나타내는 설명도이다.
도 13은 캐리어 블록의 다른 구성을 나타내는 정면도이다.
도 14는 캐리어 블록의 다른 구성을 나타내는 정면도이다.
도 15는 캐리어 블록의 다른 구성을 나타내는 정면도이다.
도 16은 캐리어 블록의 다른 구성을 나타내는 횡단 평면도이다.
도 17은 캐리어 블록의 다른 구성을 나타내는 정면도이다.
[제 1 실시 형태]
본 발명의 기판 처리 장치의 제 1 실시 형태에 따른 도포, 현상 장치(1)에 대하여, 도 1의 횡단 평면도, 도 2의 종단 측면도를 각각 참조하여 설명한다. 도포, 현상 장치(1)는, 캐리어 블록(D1)과 처리 블록(D2)과 인터페이스 블록(D3)이, 이 순서로 가로 방향으로 직선 형상으로 접속되어 구성되어 있다. 인터페이스 블록(D3)에는 노광 장치(D4)가 접속되어 있다.
각 블록(D1 ∼D3)에 대하여 간단하게 설명하면, 캐리어 블록(D1)에는, 직경이 예를 들면 300mm의 원형의 기판인 웨이퍼(W)를 저장한 캐리어(C)가 반송되고, 당해 캐리어 블록(D1)은, 캐리어(C) 내의 웨이퍼(W)를 장치 내로 반송한다. 캐리어(C)는, 예를 들면 FOUP(Front Opening Unified Pod)라고 불리는 웨이퍼(W)의 반송 용기이며, 용기 본체와, 당해 용기 본체의 전면(前面)에 마련된 덮개에 의해 구성되어 있다. 또한, 상기의 처리 블록(D2)은 웨이퍼(W)에 각종 약액을 공급하여, 반사 방지막의 형성과, 레지스트막의 형성과, 레지스트막을 현상하는 것에 의한 레지스트 패턴의 형성을 행한다. 노광 장치(D4)는, 상기의 현상으로 레지스트 패턴이 형성되도록 웨이퍼(W)를 노광하고, 인터페이스 블록(D3)은, 처리 블록(D2)과 노광 장치(D4)의 사이에서 웨이퍼(W)를 전달한다.
웨이퍼(W)는, 캐리어(C)→캐리어 블록(D1)→처리 블록(D2)→인터페이스 블록(D3)→노광 장치(D4)→인터페이스 블록(D3)→처리 블록(D2)→캐리어 블록(D1)→캐리어(C)의 순서로 반송되어 처리를 받는다. 이 반송 중, 웨이퍼(W)는 처리 블록(D2)에 반입 전 혹은 처리 블록(D2)으로부터 반출 후에, 캐리어 블록(D1)에 마련되는 검사 모듈(4)에 반송되어, 그 표면의 상태가 검사된다. 구체적으로는, 예를 들면 이물질의 유무 또는 패턴의 크기의 이상의 유무가 검사된다. 이후, 처리 블록(D2)으로의 반입 전에 행해지는 검사를 처리 전 검사, 처리 블록(D2)으로부터의 반출 후에 행해지는 검사를 처리 후 검사라고 기재한다.
계속해서, 캐리어 블록(D1)에 대하여 도 3의 정면도, 도 4의 사시도도 참조하면서 설명한다. 또한, 도 4에서는 캐리어 블록(D1)의 정면의 각 부를 나타내기 위하여, 캐리어 블록(D1)을 상하로 2 분할하여 나타내고 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 캐리어 블록(D1)측을 전방측, 인터페이스 블록(D3)측을 후방측으로 하여 설명하고, 설명 중의 좌측, 우측이란, 특별히 설명이 없는 한, 전방으로부터 후방을 향해 봤을 때의 좌측, 우측이다.
캐리어 블록(D1)은 각형의 하우징(11)을 구비하고 있고, 하우징(11)의 각 측벽은 수직으로 형성되어 있다. 측벽의 하나인 정면벽(12)으로부터는, 상하 방향으로 서로 이간한 3 개소가 전방측으로 돌출하여 3 단의 선반을 형성하고 있다. 이 3 단의 선반 중 하단의 선반을 지지대(13), 중단의 선반을 지지대(14), 상단의 선반을 지지대(15)라고 한다. 또한, 지지대(13)의 하단부(下端部)는 추가로 전방으로 돌출하여, 지지대(16)를 형성하고 있다. 이러한 지지대(13 ∼16)는, 대(臺) 상에 캐리어(C)를 지지할 수 있도록 수평으로 형성되어 있다.
하우징(11)의 정면벽(12)에 있어서, 지지대(13)와 지지대(14)의 사이에는, 웨이퍼(W)의 반송구(21), 웨이퍼(W)의 반송구(21), 검사 모듈 설치용의 개구부(22), 웨이퍼(W)의 반송구(21)가, 왼쪽으로부터 우측을 향해 이 순서로 일렬로, 서로 이간하여 마련되어 있다. 상기의 개구부(22)는 편평한 각형이며, 수직 방향으로 2 개, 서로 이간하여 마련되어 있다. 지지대(13)에 있어서 각 반송구(21)의 전방에는, 캐리어(C)가 배치되는 이동 스테이지(23)가 마련되어 있다. 이동 스테이지(23)는, 당해 이동 스테이지(23)에 대하여 캐리어(C)의 전달이 행해지는 전방 위치와, 반송구(21)를 통하여 캐리어(C)와 하우징(11) 내의 사이에서 웨이퍼(W)를 전달하기 위한 후방 위치의 사이에서 진퇴한다.
상기의 각 반송구(21)에는 승강 도어(24)가 마련되어 있다. 이 승강 도어(24)의 전면에는 도시하지 않은, 캐리어(C)의 덮개를 유지하는 유지 기구가 마련되어 있고, 후방 위치에 있어서의 이동 스테이지(23) 상의 캐리어(C)를 구성하는 용기 본체에 대하여, 당해 덮개의 전달을 행할 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 승강 도어(24)는 반송구(21)를 막는 폐쇄 위치와, 당해 폐쇄 위치로부터 후퇴 및 하강한, 반송구(21)를 개방하는 개방 위치의 사이에서 이동한다. 따라서 승강 도어(24)는, 반송구(21)의 개폐와 캐리어(C)의 덮개의 개폐를 행한다. 또한, 상기의 개방 위치는, 도 2, 도 3 중에 일점 쇄선으로 표시하고 있다. 따라서, 웨이퍼(W)를 저장하는 반송 용기가 배치되는 스테이지, 당해 스테이지에 배치된 반송 용기에 대하여 웨이퍼(W)를 반입반출하는 반송구, 및 당해 반송구의 개폐 및 반송 용기의 덮개의 개폐를 행하는 도어를 구비하는 기기를 로드 포트라고 하면, 지지대(13) 상에는 3 개의 로드 포트가 마련되어 있다. 각 도에서, 이 3 개의 로드 포트를 서로 구별하기 위하여, 왼쪽으로부터 우측을 향해 순서대로 2A, 2B, 2C로 나타낸다.
정면벽(12)에 있어서 지지대(14)와 지지대(15)의 사이에는, 웨이퍼(W)의 반송구(21)가 1 개, 상기의 로드 포트(2C)의 반송구(21)의 수직 상방에 개구하고 있다. 지지대(14)에 있어서, 그와 같이 지지대(14, 15) 사이에 마련된 반송구(21)의 전방에는, 기술(旣述)한 이동 스테이지(23)가 마련되어 있고, 또한 당해 반송구(21)에는 회전 도어(25)가 마련되어 있다. 도 5는 회전 도어(25)의 사시도이며, 도 5 중 26은, 회전 도어(25)의 가장자리부에 일단이 접속된 암이다. 도 5 중 27은, 암(26)의 타단이 접속된 회전 기구이다. 전후로 봤을 때에 회전 기구(27)는, 회전 도어(25)를, 반송구(21)의 하방에 위치하고 또한 전후 방향을 따른 수평한 회전축(R1)의 둘레로 회전시킨다. 또한, 도 5 중 28은 전후 이동 기구이며, 회전 기구(27) 및 암(26)과 함께 회전 도어(25)를 전후로 이동시킨다.
회전 도어(25)는, 전후 이동 기구(28) 및 회전 기구(27)에 의해, 반송구(21)를 막는 폐쇄 위치와, 당해 폐쇄 위치에 대하여 후퇴 또한 90° 회전한 위치인 반송구(21)를 개방하는 개방 위치의 사이에서 이동한다. 이 개방 위치는 도 2, 도 3에 일점 쇄선으로 나타내고 있으며, 도 3에 나타내는 바와 같이 전후로 보아 개방 위치에 있어서의 회전 도어(25)는, 반송구(21)에 대하여 가로 방향으로 어긋나고, 또한 개구부(22)의 상방에 위치한다. 또한, 회전 도어(25)의 전면에도 승강 도어(24)의 전면과 동일하게, 캐리어(C)의 덮개를 유지하는 도시하지 않은 유지 기구가 마련되어 있고, 지지대(14)의 후방 위치에 있어서의 이동 스테이지(23)에 배치된 용기 본체에 대하여, 당해 덮개의 전달이 행해진다. 즉, 회전 도어(25)도 반송구(21)의 개폐와 캐리어(C)의 덮개의 개폐를 행한다. 따라서, 회전 도어(25), 당해 회전 도어(25)에 의해 개폐되는 반송구(21) 및 지지대(14) 상의 이동 스테이지(23)도 로드 포트로서 구성되어 있고, 도 중에 2D로 나타내고 있다.
또한, 지지대(14)에 있어서는 상기의 로드 포트(2D)의 좌측에, 캐리어(C)가 각각 배치되는 3 개의 대기용 스테이지(29)가 좌우로 간격을 두고 일렬로 마련되어 있다. 전후 방향으로 보아, 이 지지대(14)의 대기용 스테이지(29)는, 개구부(22)의 수직 상방, 로드 포트(2A)의 이동 스테이지(23)의 수직 상방, 로드 포트(2B)의 이동 스테이지(23)의 수직 상방에 각각 마련되어 있다. 계속해서, 지지대(15, 16)에 대하여 설명하면, 지지대(15)에는, 캐리어(C)가 각각 배치되는, 반입용 스테이지(31), 대기용 스테이지(29), 대기용 스테이지(29), 반출용 스테이지(32)가 왼쪽으로부터 오른쪽을 향해 이 순서로, 간격을 두고 일렬로 마련되어 있다. 전후 방향으로 보아, 반입용 스테이지(31) 및 지지대(15)에 마련되는 각 대기용 스테이지(29)는 상기의 지지대(14)의 각 대기용 스테이지(29)의 수직 상방에, 반출용 스테이지(32)는 지지대(14)의 이동 스테이지(23)의 수직 상방에 각각 위치하고 있다. 지지대(16)에는, 예를 들면, 당해 지지대(16)의 좌우의 중앙보다 우측에, 좌우에 일렬로 2 개의 대기용 스테이지(29)가 마련되어 있다. 단, 좌우의 중앙보다 좌측에 대기용 스테이지(29)를 마련해도 된다.
후술하는 캐리어 반송 기구(3)에 의해, 캐리어(C)는 반입용 스테이지(31)와 반출용 스테이지(32)와 대기용 스테이지(29)의 사이에서 반송된다. 반입용 스테이지(31)는, 도시하지 않은 외부 반송 기구가 캐리어 블록(D1)에 캐리어(C)를 반입하기 위하여 당해 캐리어(C)를 배치하는 스테이지이다. 이 외부 반송 기구는, 반출용 스테이지(32)에 배치된 캐리어(C)를 수취하여, 캐리어 블록(D1)으로부터 반출한다. 또한, 각 대기용 스테이지(29)는, 장치 내에 웨이퍼(W)를 반입하기 전의 캐리어(C) 및 장치 내에 웨이퍼(W)를 반입한 후의 빈 캐리어(C)를 대기시키기 위한 스테이지이다. 따라서 캐리어(C)는, 반입용 스테이지(31)→대기용 스테이지(29)→로드 포트(2A ∼2D) 중 어느 하나의 이동 스테이지(23)의 순서로 반송되어, 당해 이동 스테이지(23) 상에서 웨이퍼(W)를 내보낸 후, 대기용 스테이지(29)→로드 포트(2A ∼2D) 중 어느 하나의 이동 스테이지(23)의 순서로 반송되어 당해 이동 스테이지(23) 상에서 웨이퍼(W)를 수취한다. 그 후, 캐리어(C)는 대기용 스테이지(29)→반출용 스테이지(32)의 순서로 반송된다.
그런데 대기용 스테이지(29)에 대하여 보충하면, 상기한 바와 같이 지지대(14)의 우측 단부에는 로드 포트(2D)가 마련되어 있기 때문에, 지지대(14)에 설치할 수 있는 대기용 스테이지(29)의 수는 한정된다. 그러나, 지지대(14, 15) 외에, 로드 포트(2A ∼2D)의 하방의 지지대(16)에도 대기용 스테이지(29)가 마련되어 있기 때문에, 캐리어 블록(D1)에는 충분한 수의 캐리어(C)를 반입할 수 있다. 따라서, 높은 스루풋을 확보할 수 있다.
상기의 캐리어 반송 기구(3)에 대하여 설명한다. 캐리어 반송 기구(3)는, 캐리어 블록(D1)의 정면벽(12)의 전방측에 마련되고, 캐리어(C)의 상부에 마련된 피유지부를 유지할 수 있는 다관절 암(33)과, 다관절 암(33)을 승강시키는 승강 기구(34)와, 승강 기구(34)를 좌우로 이동시키는 좌우 이동 기구(35)를 구비하고 있으며, 상기의 경로로 캐리어(C)를 반송한다.
캐리어 블록(D1)에는, 웨이퍼(W)의 검사를 행하기 위한 검사 모듈(4)이 2 개 마련되어 있다. 이 검사 모듈(4)에 대하여, 도 6의 종단 측면도도 참조하면서 설명한다. 검사 모듈(4)은 예를 들면 각형이고 전후로 긴 편평한 하우징(41)을 구비하고 있고, 하우징(41)은 상기의 개구부(22)를 개재하여 하우징(11)의 외부로부터 하우징(11) 내로 끼워짐으로써, 캐리어 블록(D1)에 마련되어 있다. 개구부(22)는 상하로 수직으로 배열되어 있기 때문에, 검사 모듈(4)도 상하로 수직으로 배열되어 있다. 하우징(41)의 후방부의 좌우의 측벽에는 웨이퍼(W)의 반송구(42)가 각각 형성되어 있고, 하우징(11) 내에 개구하고 있다. 하우징(41)의 전방측은 하우징(11)의 정면벽(12)으로부터 돌출하고 있다.
하우징(41) 내에는, 웨이퍼(W)의 이면측 중앙부를 흡착하여, 웨이퍼(W)를 수평으로 유지하는 배치부(43)가 마련되어 있다. 하우징(41) 내에 있어서 배치부(43)는, 후방측의 대기 위치와 전방측의 촬상 완료 위치의 사이에서 이동할 수 있다. 도 6 중, 대기 위치를 실선으로, 촬상 완료 위치를 일점 쇄선으로 각각 나타내고 있다. 또한, 도 1에서는 대기 위치에 있어서의 배치부(43)를 나타내고 있다. 대기 위치는 상기의 반송구(42)에 면하는 위치이고, 반송구(42)를 통하여 하우징(41) 내에 진입한 후술하는 반송 기구(5A, 5B)의 포크(56)가 승강함으로써, 당해 반송 기구(5A, 5B)와 배치부(43)의 사이에서 웨이퍼(W)의 전달이 행해진다. 또한, 포크(56)가 승강하는 대신에 하우징(41) 내에 승강 가능한 핀을 마련하여, 당해 핀에 의해 반송 기구(5A, 5B)와 대기 위치에 있어서의 배치부(43)의 사이에서 웨이퍼(W)의 전달이 행해지도록 해도 된다. 도 중 44는, 배치부(43)를 전후로 이동시키기 위한 이동 기구이다.
하우징(41) 내에 있어서 배치부(43)에 의한 웨이퍼(W)의 이동로의 상방에는, 하우징(41) 내를 좌우로 연장하는 가로로 긴 하프 미러(45)가 마련되어 있고, 이 하프 미러(45)는 웨이퍼(W)의 이동 방향에 대하여 측면으로 볼 때 비스듬하게 마련되어 있다. 또한, 하프 미러(45)의 상방에는 당해 하프 미러(45)를 통하여 하방에 광을 조사하는 조명(46)이 마련되어 있다. 하프 미러(45)의 내측에는 카메라(47)가 마련되어 있다. 조명(46)으로부터의 조사광이 하프 미러(45)를 통과하여, 하프 미러(45)의 하방의 조사 영역에 닿게 된다. 그리고, 이 조사 영역에 있어서의 물체의 반사광이 하프 미러(45)에서 반사되어, 카메라(47)에 들어간다. 즉 카메라(47)는, 하프 미러(45)의 하방의 촬상 영역에 위치하는 물체를 촬상할 수 있다.
대기 위치에서 반송 기구(5A 또는 5B)로부터 웨이퍼(W)가 전달된 배치부(43)가 촬상 완료 위치를 향해 이동하고 있는 동안에 카메라(47)가 간헐적으로 촬상을 행함으로써, 웨이퍼(W)의 표면 전체가 촬상되어 화상 데이터가 취득된다. 이 화상 데이터는 카메라(47)로부터 후술하는 제어부(10)에 송신되고, 제어부(10)에 의해 이 화상 데이터에 기초하여 웨이퍼(W)의 표면의 검사가 행해진다. 또한, 촬상 완료 위치로 이동한 배치부(43)는, 반송 기구(5A 또는 5B)에 웨이퍼(W)를 전달하기 위하여 대기 위치로 되돌아간다.
그런데, 검사 모듈(4)은, 캐리어 블록(D1)에 대하여 착탈 가능하게 구성되어 있다. 예를 들면, 도 7에 나타내는 바와 같이, 캐리어 블록(D1)의 개구부(22)의 가장자리부에는, 하우징(11) 내를 향해 개구부(22)의 개구 방향을 따라 연장되는 가이드 레일(48)이 계합부(係合部)로서 마련되어 있다. 그 반면에, 검사 모듈(4)의 하우징(41)에는, 당해 하우징(41)의 후단(後端)으로부터 전방을 향해 연장되는 홈(49)이 피계합부로서 마련되어 있다. 상기한 바와 같이 검사 모듈(4)의 하우징(41)의 후방부가 캐리어 블록(D1)의 하우징(11) 내에 끼워져, 검사 모듈(4)이 캐리어 블록(D1)에 장착되어 있을 때에는, 도 7의 상단에 나타내는 바와 같이 홈(49)과 가이드 레일(48)이 계합하고 있다.
예를 들면 작업자가 개구부(22)로부터 돌출한 검사 모듈(4)의 전방부를 전방으로 당김으로써, 가이드 레일(48)을 따라 하우징(41)의 후방부를, 하우징(11)의 외측으로 인출하고, 도 7의 하단에 나타내는 바와 같이 홈(49)은 가이드 레일(48)로부터 빠져, 검사 모듈(4)이 캐리어 블록(D1)으로부터 분리된다. 검사 모듈(4)을 하우징(11)에 장착할 때에는, 이 분리 시와 반대의 작업을 행한다. 이와 같이 검사 모듈(4)이 캐리어 블록(D1)에 대하여 착탈 가능함으로써, 예를 들면 조명(46)의 교환 등의 검사 모듈(4)의 메인터넌스를 용이하게 행할 수 있다. 또한, 가이드 레일(48) 및 홈(49)의 표시는, 도 7 이외의 도에서는 생략하고 있다.
계속해서, 도 8의 캐리어 블록(D1)의 종단 정면도도 참조하면서, 하우징(11) 내의 구성에 대하여 설명한다. 하우징(11) 내에 있어서는, 버퍼 모듈(51)이 마련되어 있다. 이 버퍼 모듈(51)은, 복수매의 웨이퍼(W)를 상하 방향으로 간격을 두고 배치하도록 구성되어 있고, 예를 들면, 웨이퍼(W)의 이면을 지지하는 3 개의 핀의 세트가, 상하 방향으로 복수 마련됨으로써 구성되어 있다. 또한, 버퍼 모듈(51)로서는 그와 같은 핀을 구비하는 구성에 한정되지는 않고, 예를 들면 웨이퍼(W)의 주연부를 가이드하여 정해진 위치에 웨이퍼(W)를 떨어뜨리도록, 그릇 형상으로 당해 주연부를 지지하도록 구성되어 있어도 된다. 이 버퍼 모듈(51)은 검사 모듈(4)의 상방에, 평면에서 보아 당해 검사 모듈(4)의 배치부(43)의 대기 위치에 겹치도록 마련되어 있다. 당해 버퍼 모듈(51)은 검사 모듈(4)이 비어(즉, 검사 모듈(4)에서 먼저 검사가 행해진 웨이퍼(W)가 반출되어), 당해 검사 모듈(4)에 후속의 웨이퍼(W)를 반입 가능하게 될 때까지, 이 후속의 웨이퍼(W)를 배치하여 대기시키는 대기부를 이룬다.
버퍼 모듈(51) 및 검사 모듈(4)의 좌측에는 반송 기구(5A)가, 우측에는 반송 기구(5B)가 각각 마련되어 있다. 반송 기구(5A)는, 기립한 프레임(52)과, 프레임(52)을 좌우로 이동시키는 좌우 이동 기구(53)와, 프레임(52)에 수직으로 승강 가능하게 마련되는 승강대(54)와, 승강대(54) 상을 연직축 둘레로 회전 가능한 기대(基臺)(55)와, 기대(55) 상을 진퇴 가능하고 웨이퍼(W)의 이면을 지지하는 포크(56)에 의해 구성되어 있다. 또한, 좌우 이동 기구(53)에 의해 상기의 프레임(52)이 이동하는 영역은, 버퍼 모듈(51) 및 검사 모듈(4)의 좌측에 한정된다.
제 1 기판 반송 기구인 반송 기구(5A)는, 당해 반송 기구(5A)를 구성하는 상기의 각 부의 협동에 의해, 제 1 로드 포트인 로드 포트(2A, 2B)에 배치된 각 캐리어(C)와, 검사 모듈(4)의 대기 위치에 있어서의 배치부(43)와, 버퍼 모듈(51)과, 후술하는 타워(T1)의 전달 모듈의 사이에서 웨이퍼(W)를 전달할 수 있다. 또한, 도 1 중 57은, 그와 같이 타워(T1)에 웨이퍼(W)를 전달하기 위하여, 하우징(11)의 후방측에 마련된 웨이퍼(W)의 반송로이다. 제 2 기판 반송 기구인 반송 기구(5B)는, 좌우 이동 기구(53)가 마련되어 있지 않은 것을 제외하고 반송 기구(5A)와 동일하게 구성되어 있다. 반송 기구(5B)는, 당해 반송 기구(5B)를 구성하는 각 부의 협동에 의해, 제 2 로드 포트인 로드 포트(2C, 2D)에 배치된 각 캐리어(C)와, 검사 모듈(4)의 대기 위치에 있어서의 배치부(43)와, 버퍼 모듈(51)의 사이에서 웨이퍼(W)를 전달할 수 있다. 이와 같이 버퍼 모듈(51) 및 검사 모듈(4)의 배치부(43)에는, 반송 기구(5A, 5B)의 양방이 웨이퍼(W)를 전달할 수 있어, 당해 버퍼 모듈(51) 및 배치부(43)는, 이들 반송 기구(5A, 5B) 사이에서 웨이퍼(W)를 전달하기 위하여 당해 웨이퍼(W)가 배치되는 전달부로서 겸용된다.
계속해서, 도 1, 도 2를 이용하여 처리 블록(D2)에 대하여 설명한다. 처리 블록(D2)은, 웨이퍼(W)에 액 처리를 행하는 제 1 ∼제 6 단위 블록(E1 ∼E6)이 아래로부터 순서대로 적층되어 구성되어 있다. E1과 E2가 서로 동일한 단위 블록이고, E3과 E4가 서로 동일한 단위 블록이며, E5와 E6이 서로 동일한 단위 블록이다. 2 개의 동일한 단위 블록 중, 웨이퍼(W)는 일방의 단위 블록에 반송된다. 여기서는 단위 블록 중 대표로 도 1에 나타내는 단위 블록(E3)을 설명한다. 전후로 연장되도록 웨이퍼(W)의 반송 영역(61)이 형성되어 있고, 반송 영역(61)의 우측에는, 웨이퍼(W)의 표면에 약액으로서 레지스트를 도포하여 레지스트막을 형성하는 레지스트막 형성 모듈(62)이 2 개, 전후 방향으로 배치되어 있다. 반송 영역(61)의 좌측에는, 웨이퍼(W)를 가열하는 가열 모듈(63)이, 반송 영역(61)을 따라 전후로 복수 마련되어 있다. 또한, 상기의 반송 영역(61)에는, 단위 블록(E3) 내에서 웨이퍼(W)를 반송하는 반송 기구(F3)가 마련되어 있다.
단위 블록(E1, E2, E5, E6)에 대하여 단위 블록(E3, E4)과의 차이점을 설명하면, 단위 블록(E1, E2)은, 레지스트막 형성 모듈(62) 대신에 반사 방지막 형성 모듈을 구비하고 있다. 반사 방지막 형성 모듈은, 웨이퍼(W)에 반사 방지막을 형성하기 위하여, 레지스트 대신에 반사 방지막 형성용의 약액을 도포하여 반사 방지막을 형성한다. 단위 블록(E5, E6)은, 레지스트막 형성 모듈(62) 대신에 현상 모듈을 구비하고 있다. 현상 모듈은, 약액으로서 웨이퍼(W)에 현상액을 공급한다. 이와 같이 약액의 공급을 행하는 모듈에 대하여, 당해 약액의 종류가 상이한 것을 제외하고, 단위 블록(E1 ∼E6)은 서로 동일하게 구성되어 있다. 또한, 도 2에서는, 반송 기구(F3)에 상당하는 각 단위 블록(E1, E2, E4 ∼E6)의 반송 기구에 대하여, F1, F2, F4 ∼F6으로 나타내고 있다.
처리 블록(D2)에 있어서의 캐리어 블록(D1)측에는, 각 단위 블록(E1 ∼E6)에 걸쳐 상하로 연장되고, 서로 적층된 다수의 전달 모듈로 이루어지는 타워(T1)와, 타워(T1)를 구성하는 각 모듈 사이에서 웨이퍼(W)의 전달을 행하기 위한 반송 기구(64)가 마련되어 있다. 타워(T1)에 있어서, 예를 들면 단위 블록(E1 ∼E6)이 마련되는 각 높이에는, 웨이퍼(W)가 배치되는 전달 모듈(TRS1 ∼TRS6)이 마련되어 있다. 또한, 타워(T1)에는 상기한 바와 같이 반송 기구(5A)와의 사이에서 웨이퍼(W)를 전달하기 위하여, 웨이퍼(W)가 배치되는 전달 모듈이 마련되어 있고, 당해 전달 모듈을 TRS0, TRS10이라고 한다.
인터페이스 블록(D3)은, 단위 블록(E1 ∼E6)에 걸쳐 상하로 연장되는 타워(T2, T3, T4)를 구비하고 있고, 타워(T2)와 타워(T3)에 대하여 웨이퍼(W)의 전달을 행하기 위한 반송 기구(65)와, 타워(T2)와 타워(T4)에 대하여 웨이퍼(W)의 전달을 행하기 위한 반송 기구(66)와, 타워(T3)와 노광 장치(D4)의 사이에서 웨이퍼(W)의 전달을 행하기 위한 반송 기구(67)가 마련되어 있다. 타워(T2)는, 각 단위 블록에 대하여 웨이퍼(W)를 전달하기 위한 전달 모듈(TRS)이 적층되어 마련되어 있다. 타워(T3, T4)에도 모듈이 마련되어 있지만, 이 모듈에 대해서는 설명을 생략한다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 도포, 현상 장치(1)에는 컴퓨터로 이루어지는 제어부(10)가 마련되어 있다. 제어부(10)는, 프로그램을 구비한 미도시의 프로그램 저장부를 가지고 있다. 제어부(10)가 도포, 현상 장치(1)의 각 부에 제어 신호를 출력하고, 각 반송 기구에 의한 웨이퍼(W)의 반송, 캐리어 반송 기구(3)에 의한 캐리어(C)의 반송, 및 각 모듈에 있어서의 웨이퍼의 처리가 제어되어, 후술한 바와 같이 웨이퍼(W)에 대하여 레지스트 패턴의 형성 및 검사가 행해지도록, 상기의 프로그램에 대해서는 명령이 포함되어 있다. 이 프로그램은, 예를 들면 하드 디스크, 컴팩트 디스크, DVD 또는 메모리 카드 등의 기억 매체에 수납된 상태로 프로그램 저장부에 저장된다.
다음에 도 9, 도 10을 참조하면서, 상기의 레지스트 패턴의 형성과 처리 전 검사를 행할 때의 캐리어 블록(D1)에 있어서의 웨이퍼(W)의 반송 경로를 설명한다. 이 도 9, 도 10 및 후술하는 도 11, 도 12에서는, 도시의 편의상, 로드 포트(2C, 2D)를 가로로 나열하여 나타내고, 또한 검사 모듈(4)과 버퍼 모듈(51)을 서로 어긋나게 하여 나타내고 있다.
처리 전 검사를 행하는 경우, 예를 들면 로드 포트(2C, 2D)가 장치 내로 웨이퍼(W)를 반입하기 위한 반입용 로드 포트로서 이용되고, 로드 포트(2A, 2B)가 장치 내로부터 웨이퍼(W)를 반출하기 위한 반출용 로드 포트로서 이용된다. 먼저, 로드 포트(2C, 2D)에 각각 배치된 캐리어(C)로부터, 반송 기구(5B)에 의해 웨이퍼(W)가 버퍼 모듈(51)에 반송된다(도 9 중, 화살표 A1).
계속해서, 검사 모듈(4)에 웨이퍼(W)가 반송 가능해지면, 반송 기구(5B)에 의해 검사 모듈(4)에 웨이퍼(W)가 반입되어(도 9 중, 화살표 A2), 웨이퍼(W)의 표면의 화상 데이터가 취득되어 검사가 행해진다. 그리고 나서, 반송 기구(5A)에 의해 검사 모듈(4)로부터 웨이퍼(W)가 반출되어, 타워(T1)의 전달 모듈(TRS0)에 반송된다(도 9 중, 화살표 A3). 전달 모듈(TRS0)에 반송된 웨이퍼(W)는, 기술한 바와 같이 처리 블록(D2), 인터페이스 블록(D3), 노광 장치(D4)에 반송되어 레지스트 패턴이 형성된 후, 타워(T1)의 전달 모듈(TRS10)에 반송된다. 그리고, 반송 기구(5A)에 의해 당해 웨이퍼(W)는, 로드 포트(2A 또는 2B)의 캐리어(C)에 반송된다(도 10 중, 화살표 A4).
다음에, 도 11, 도 12를 참조하면서, 상기의 레지스트 패턴의 형성과 처리 후 검사를 행할 때의 캐리어 블록(D1)에 있어서의 웨이퍼(W)의 반송 경로를 설명한다. 처리 후 검사를 행하는 경우, 예를 들면 로드 포트(2A, 2B)가 반입용 로드 포트로서 이용되고, 로드 포트(2C, 2D)가 반출용 로드 포트로서 이용된다. 먼저, 로드 포트(2A, 2B)에 각각 배치된 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)가, 반송 기구(5A)에 의해 타워(T1)의 전달 모듈(TRS0)에 반송된다(도 11 중, 화살표 B1). 이 웨이퍼(W)가, 기술한 바와 같이 처리 블록(D2), 인터페이스 블록(D3), 노광 장치(D4)에 반송되어 레지스트 패턴이 형성된 후, 타워(T1)의 전달 모듈(TRS10)에 반송된다.
계속해서, 반송 기구(5A)에 의해 웨이퍼(W)는, 전달 모듈(TRS10)로부터 버퍼 모듈(51)에 반송되고(도 12 중, 화살표 B2), 검사 모듈(4)에 웨이퍼(W)가 반송 가능해지면 반송 기구(5B)에 의해 검사 모듈(4)에 웨이퍼(W)가 반입되어(도 12 중, 화살표 B3), 웨이퍼(W)의 표면의 화상 데이터가 취득되어 검사가 행해진다. 그리고, 반송 기구(5B)에 의해 검사 모듈(4)로부터 웨이퍼(W)가 반출되어, 로드 포트(2C 또는 2D)의 캐리어(C)에 반송된다(도 12 중, 화살표 B4).
상기의 웨이퍼(W)의 각 반송에서, 전달 모듈(TRS0)부터 전달 모듈(TRS10)까지의 웨이퍼(W)의 반송 경로에 대하여 설명한다. 전달 모듈(TRS0)에 반송된 웨이퍼(W)는, 반송 기구(64)에 의해, 단위 블록(E1, E2)에 분배되어 반송된다. 예를 들면 웨이퍼(W)를 단위 블록(E1)에 전달하는 경우에는, 타워(T1)의 전달 모듈(TRS) 중, 단위 블록(E1)에 대응하는 전달 모듈(TRS1)(반송 기구(F1)에 의해 웨이퍼(W)의 전달이 가능한 전달 모듈)에 대하여 웨이퍼(W)가 전달된다. 또한, 웨이퍼(W)를 단위 블록(E2)에 전달하는 경우에는, 타워(T1)의 전달 모듈(TRS) 중, 단위 블록(E2)에 대응하는 전달 모듈(TRS2)에 대하여, 웨이퍼(W)가 전달된다.
이와 같이 분배된 웨이퍼(W)는 반송 기구(F1(F2))에 의해, 전달 모듈(TRS1(TRS2))→반사 방지막 형성 모듈→가열 모듈(63)→전달 모듈(TRS1(TRS2))의 순서로 반송되고, 반송 기구(64)에 의해 단위 블록(E3)에 대응하는 전달 모듈(TRS3)과, 단위 블록(E4)에 대응하는 전달 모듈(TRS4)에 분배된다. 이와 같이 전달 모듈(TRS3, TRS4)에 분배된 웨이퍼(W)는 반송 기구(F3(F4))에 의해, 전달 모듈(TRS3(TRS4))→레지스트막 형성 모듈(62)→가열 모듈(63)→타워(T2)의 전달 모듈(TRS31(TRS41))의 순서로 반송된다. 그리고 나서, 이 웨이퍼(W)는, 반송 기구(65, 67)에 의해 노광 장치(D4)로 반송되어, 웨이퍼(W)의 표면에 형성된 레지스트막이 정해진 패턴을 따라 노광된다.
노광 후의 웨이퍼(W)는, 반송 기구(66, 67)에 의해 타워(T2, T4) 사이를 반송되어, 단위 블록(E5, E6)에 대응하는 타워(T2)의 전달 모듈(TRS51, TRS61)에 각각 반송된다. 그리고 나서, 웨이퍼(W)는 반송 기구(F5, F6)에 의해 가열 모듈(63)→현상 모듈의 순서로 반송되고, 노광 장치(D4)에서 노광된 패턴을 따라 레지스트막이 용해되어 레지스트 패턴이 형성된 후, 전달 모듈(TRS10)에 반송된다.
상기의 도포, 현상 장치(1)에 따르면, 캐리어 블록(D1)의 좌측에 배치된 로드 포트(2A, 2B)와, 캐리어 블록(D1)의 우측에 배치된 로드 포트(2C, 2D)의 사이에 검사 모듈(4)이 마련되어 있다. 그리고, 검사 모듈(4)의 좌측에 배치된 반송 기구(5A)가 로드 포트(2A, 2B)에 각각 배치된 캐리어(C) 및 처리 블록(D2)에 대한 전달을 행하고, 검사 모듈(4)의 우측에 배치된 반송 기구(5B)가 로드 포트(2C, 2D)에 각각 배치된 캐리어(C)에 대하여 전달을 행하며, 검사 모듈(4) 또는 버퍼 모듈(51)을 통하여 반송 기구(5A, 5B) 사이에서 웨이퍼(W)가 전달된다. 이와 같은 구성에 따르면, 검사 모듈(4)을 로드 포트(2A ∼ 2D)의 근방에 배치할 수 있으므로, 도포, 현상 장치(1)에 반입된 직후의 웨이퍼(W), 도포, 현상 장치(1)로부터 반출되기 직전의 웨이퍼(W)를 각각 검사할 수 있다. 그러므로, 도포, 현상 장치(1)로의 반입 전에 웨이퍼(W)에 이상이 일어난 경우에는 도포, 현상 장치(1)의 외부에서 발생한 이상인 것을 정밀도 높게 특정할 수 있고, 도포, 현상 장치(1) 내의 처리 및 반송에서 이상이 발생한 경우에는, 당해 이상을 확실하게 검출할 수 있다.
그와 같은 검사를 행하는 것이 가능해지는 것에 더하여, 상기의 캐리어 블록(D1)의 구성에 따르면, 반송 기구(5A, 5B)의 각각이 액세스하는 로드 포트의 수가 억제되고, 또한 처리 블록(D2)에 대한 웨이퍼(W)의 반송을 반송 기구(5A)에 의해 행하는 반면, 검사 모듈(4)로의 웨이퍼(W)의 반송에 대해서는 처리 블록(D2)에 대하여 반송을 행하지 않는 반송 기구(5B)를 이용하여 행할 수 있다. 즉, 반송 기구(5A, 5B)로 역할이 분담되므로, 캐리어(C)와 처리 블록(D2)의 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하고 또한 이 반송 중에 검사를 행하기 위하여, 반송 기구(5A, 5B)의 각각이 웨이퍼(W)의 전달을 행하는 횟수를 억제할 수 있다. 즉, 반송 기구(5A, 5B)의 각각의 부하가 커지는 것이 억제되기 때문에, 장치의 스루풋을 높일 수 있다.
그리고, 상기한 바와 같이 좌우의 로드 포트 사이에 마련하는 검사 모듈(4)에 대해서는, 로드 포트(2A ∼2C)의 반송구(21)와 동일한 높이에 마련되어 있다. 즉, 검사 모듈(4)과 로드 포트(2A ∼2C)가 좌우로 열을 이루도록 마련되어 있다. 그에 의해, 로드 포트(2A ∼2C)의 캐리어(C)와 검사 모듈(4)의 사이의 거리를 비교적 짧게 할 수 있어, 이러한 로드 포트(2A ∼2C)의 캐리어(C)와 검사 모듈(4)의 사이에서 신속히 웨이퍼(W)를 반송할 수 있기 때문에, 보다 확실히 장치의 스루풋을 높일 수 있다. 또한, 상기한 바와 같이 버퍼 모듈(51)을 통하여 캐리어(C)와 검사 모듈(4)의 사이에서 반송을 행하는 경우라도, 검사 모듈(4)과 로드 포트(2A ∼2C)를 일렬로 배치하고 있으면, 검사 모듈(4)의 근방에 버퍼 모듈(51)을 배치함으로써, 반송 기구(5A, 5B)의 이동 거리가 길어지는 것을 억제할 수 있으므로, 신속한 웨이퍼(W)의 반송을 행할 수 있다.
또한, 상기한 바와 같이 로드 포트(2A ∼2C)를 마련하면서 로드 포트(2D)를 마련함으로써, 로드 포트의 수가 부족한 것에 의한 스루풋의 저하가 일어나지 않도록 하고 있지만, 이 로드 포트(2D)에 대해서는 로드 포트(2C)의 상방에 배치함으로써, 상기의 위치에 검사 모듈(4)을 마련하고 또한 4 개의 로드 포트를 마련하는 것에 의한, 캐리어 블록(D1)의 풋프린트의 증대를 방지하고 있다. 또한, 로드 포트(2A ∼2C)에 대해서는, 승강 도어(24)에 의해 반송구(21)가 각각 개폐됨으로써, 반송구(21)를 개폐하기 위하여 필요한 좌우의 스페이스를 억제하여, 검사 모듈(4)과 로드 포트의 간격이 커지는 것을 방지하여, 캐리어 블록(D1)의 좌우의 폭의 증대가 방지되고 있다. 그 반면에, 로드 포트(2D)에 대해서는, 회전 도어(25)에 의해 반송구(21)가 개폐됨으로써, 반송구(21)를 개폐하기 위하여 필요한 상하의 스페이스가 억제되어 있고, 그에 의해 로드 포트(2C, 2D) 사이의 거리가 짧아지도록 구성되어 있다. 즉, 로드 포트(2C, 2D)가 상하로 배치되어 있어도, 반송 기구(5B)가 각 로드 포트(2C, 2D)에 각각 액세스하기 위하여 승강하는 길이가 억제되기 때문에, 스루풋을 보다 확실하게 높일 수 있도록 구성되어 있다.
또한 검사 모듈(4)은, 스루풋의 저하를 방지하기 위하여 2 개 마련되어 있지만, 1 개만 마련해도 된다. 또한, 3 개 이상의 검사 모듈(4)을 마련해도 되며, 그 경우에도 장치의 풋프린트를 억제하면서, 반송 기구(5A, 5B)의 각각이 웨이퍼(W)를 전달할 수 있도록 하기 위하여, 각 검사 모듈(4)은 서로 적층하여 마련하는 것이 바람직하다.
또한, 검사 모듈(4)은 로드 포트(2A ∼2C)의 반송구(21)와 동일한 높이에 마련되는 것에 한정되지는 않고, 예를 들면 버퍼 모듈(51)을 로드 포트(2A ∼2C)의 반송구(21)와 동일한 높이에 배치하고, 이 버퍼 모듈(51)보다 높은 위치에 검사 모듈(4)을 마련해도 된다. 단, 로드 포트(2D)의 회전 도어(25)와 검사 모듈(4)의 간섭을 피하기 위하여, 로드 포트(2C)에 대한 로드 포트(2D)의 높이가 보다 커짐으로써, 상기의 반송 기구(5B)가 로드 포트(2C, 2D)에 각각 액세스하기 위하여 승강하는 길이가 커져 버릴 우려가 있어, 상기한 바와 같이 로드 포트(2A ∼2C)의 캐리어(C)와 검사 모듈(4)의 사이의 반송을 신속히 행하는 관점으로부터도, 검사 모듈(4)은 로드 포트(2A ∼2C)의 반송구(21)와 동일한 높이에 마련하는 것이 바람직하다.
또한, 평면에서 보아 버퍼 모듈(51)은, 검사 모듈(4)의 대기 위치에 있어서의 배치부(43)와 겹치도록 마련되어 있으므로, 반송 기구(5A, 5B)에 있어서 포크(56)가 마련되는 기대(55)는 좌우로 이동하지 않고, 승강 동작만으로 버퍼 모듈(51)에서 대기시킨 웨이퍼(W)를 검사 모듈(4)에 반송할 수 있다. 따라서, 버퍼 모듈(51)과 검사 모듈(4)의 사이의 웨이퍼(W)의 반송에 필요로 하는 시간이 억제되어, 스루풋을 보다 확실하게 높일 수 있다. 또한, 캐리어 블록(D1)에 버퍼 모듈(51)을 마련하지 않고, 반송 기구(5A, 5B) 사이에서의 웨이퍼(W)의 반송은 검사 모듈(4)만을 통하여 행하도록 하고, 예를 들면 웨이퍼(W)를 검사 모듈(4)에 반입할 때에는, 검사 모듈(4)이 빌 때까지 반송 기구(5A, 5B)가 웨이퍼(W)를 유지하여 대기하도록 해도 된다. 그러나, 그와 같이 웨이퍼(W)를 유지하고 있는 동안, 반송 기구(5A, 5B)는 다른 웨이퍼(W)의 반송을 행할 수 없으므로, 스루풋의 저하를 방지하기 위하여 버퍼 모듈(51)을 마련하는 것이 유효하다.
또한, 상기의 캐리어 블록(D1)에 있어서는 검사 모듈(4)의 배치부(43) 및 버퍼 모듈(51)이, 반송 기구(5A, 5B) 사이에서 웨이퍼(W)의 전달을 행하기 위하여 웨이퍼(W)를 배치하는 전달부로서 구성되어 있지만, 검사 모듈(4) 및 버퍼 모듈(51)과는 별개로 전달부를 마련해도 된다. 그러나, 검사 모듈(4)이 전달부를 겸용함으로써, 도 9에 나타낸 바와 같이 검사가 끝난 웨이퍼(W)를 반송 기구(5A)가 직접 수취하여, 타워(T1)에 반송할 수 있다. 또한, 버퍼 모듈(51)이 전달부를 겸용함으로써, 도 12에 나타낸 바와 같이 타워(T1)의 웨이퍼(W)를 직접 버퍼 모듈(51)에 반송하여 대기시킬 수 있다. 즉, 검사 모듈(4) 및 버퍼 모듈(51)이 각각 전달부로서 겸용됨으로써, 반송 기구(5A, 5B)의 부하를 억제하여, 스루풋의 향상을 도모할 수 있다.
또한, 캐리어(C)로부터 반출된 웨이퍼(W)가 다시 캐리어(C)에 저장될 때까지, 상기의 처리 전 검사 및 처리 후 검사 중의 일방이 행해는 것에 한정되지는 않는다. 처리 전 검사 및 처리 후 검사를 행하는 반송의 일례를 나타내면, 먼저, 도 9의 화살표 A1 ∼A3으로 나타내는 바와 같이, 로드 포트(2C, 2D)로부터 반출된 웨이퍼(W)에 대하여, 버퍼 모듈(51), 검사 모듈(4), 전달 모듈(TRS0)의 순서로 반송함으로써, 당해 웨이퍼(W)에 처리 전 검사를 행하고, 처리 블록(D2)에 반송한다. 그리고, 레지스트 패턴이 형성되어, 전달 모듈(TRS10)에 반송된 당해 웨이퍼(W)를, 도 12의 화살표 B2 ∼B3으로 나타내는 바와 같이 버퍼 모듈(51), 검사 모듈(4)의 순서로 반송하여, 처리 후 검사를 행한 후, 로드 포트(2A, 2B)의 캐리어(C)에 반송한다. 이와 같이 처리 전 검사 및 처리 후 검사를 행함으로써, 웨이퍼(W)에 이상이 검출된 경우, 당해 이상이 도포, 현상 장치(1)에 기인하는 것인지, 도포, 현상 장치(1)의 외부에 기인하는 것인지를 보다 확실하게 특정할 수 있다.
처리 전 검사를 행하는 다른 반송예에 대하여 설명한다. 도 9의 화살표 A1 ∼A3으로 나타낸 바와 같이 로드 포트(2C, 2D)의 캐리어(C)로부터 반출한 웨이퍼(W)를 버퍼 모듈(51), 검사 모듈(4), 전달 모듈(TRS0)의 순서로 반송한다. 그리고, 레지스트 패턴이 형성되어 전달 모듈(TRS10)에 반송된 웨이퍼(W)를 반송 기구(5A)에 의해 버퍼 모듈(51)에 반송하고, 계속해서 반송 기구(5B)에 의해 로드 포트(2C, 2D)의 캐리어(C)에 반송한다. 즉, 이 일련의 반송을 제 1 반입반출 반송이라고 하면, 제 1 반입반출 반송에서는 로드 포트(2C, 2D)가 반입용 로드 포트 및 반출용 로드 포트를 이룬다.
처리 후 검사를 행하는 다른 반송예에 대하여 설명한다. 도 11에서 설명한 바와 같이 로드 포트(2A, 2B)의 캐리어(C)로부터 전달 모듈(TRS0)에 반송되고, 그리고 나서, 레지스트 패턴이 형성되어 전달 모듈(TRS10)에 반송된 웨이퍼(W)에 대하여, 도 12의 화살표(B2, B3)로 나타내는 바와 같이 버퍼 모듈(51), 검사 모듈(4)의 순서로 반송한다. 그리고 나서, 당해 웨이퍼(W)를 반송 기구(5A)에 의해 검사 모듈(4)로부터 로드 포트(2A, 2B)의 캐리어(C)에 반송한다. 즉, 이 일련의 반송을 제 2 반입반출 반송이라고 하면, 제 2 반입반출 반송에서는 로드 포트(2A, 2B)가 반입용 로드 포트 및 반출용 로드 포트를 이룬다.
예를 들면, 통상은 도 9 ∼도 12에서 설명한 바와 같이 웨이퍼(W)의 반송을 행하고, 로드 포트(2A, 2B)의 양방이 사용 불가가 되었을 때에는 제 1 반입반출 반송을 행하며, 로드 포트(2C, 2D)의 양방이 사용 불가가 되었을 때에는 제 2 반입반출 반송을 행하도록 반송을 제어해도 된다. 또한, 예를 들면 2 개의 검사 모듈(4) 중의 일방을 제 1 반입반출 반송에 전용으로 이용되는 모듈, 타방을 제 2 반입반출 반송에 전용으로 이용되는 모듈로 하여, 제 1 반입반출 반송과 제 2 반입반출 반송을 병행하여 행해도 된다. 즉, 도 9 ∼도 12에 나타낸 예와 같이, 반송 기구(5A, 5B) 중의 일방이 캐리어(C)로부터의 웨이퍼(W)의 수취만을 행하고, 반송 기구(5A, 5B) 중의 타방이 캐리어(C)로의 웨이퍼(W)의 반송만을 행하도록 각 반송 기구(5A, 5B)의 동작을 제어하는 것에 한정되지는 않는다.
[제 1 실시 형태의 제 1 변형예]
계속하여, 제 1 실시 형태의 제 1 변형예에 따른 캐리어 블록(D11)에 대하여, 도 13을 참조하면서 캐리어 블록(D1)과의 차이점을 중심으로 설명한다. 이 캐리어 블록(D11)에서는, 로드 포트(2A)가, 로드 포트(2D)와 동일한 높이에, 또한 로드 포트(2B)와 좌우의 위치가 일치하도록 마련되어 있다. 이 로드 포트(2A)의 반송구(21)를 개폐하는 도어로서는, 로드 포트(2B)에 간섭하지 않도록, 로드 포트(2D)와 동일하게 회전 도어(25)가 마련되어 있다. 또한, 이 캐리어 블록(D11)에 있어서, 로드 포트(2B)의 좌측에는, 우측과 동일하게 2 개의 검사 모듈(4)이 상하로 마련되어 있다. 설명의 편의상, 로드 포트(2B)의 우측의 2 개의 검사 모듈을 4A, 좌측의 2 개의 검사 모듈을 4B라고 한다. 검사 모듈(4B) 및 로드 포트(2A)에 대해서는, 검사 모듈(4A)의 좌측에 위치하고 있음으로써, 반송 기구(5A)가 웨이퍼(W)의 전달을 행한다.
캐리어 블록(D11)에 있어서의 반송의 일례를 나타내 두면, 예를 들면, 도 9에서 서술한 바와 같이 로드 포트(2C, 2D)의 캐리어(C)로부터 취출되어 버퍼 모듈(51)에 반송된 웨이퍼(W)는, 반송 기구(5B)에 의해 검사 모듈(4A)에 반송되거나, 혹은 반송 기구(5A)에 의해 검사 모듈(4B)에 반송되어 처리 전 검사를 받는다. 검사 후의 각 웨이퍼(W)는, 반송 기구(5A)에 의해 타워(T1)의 전달 모듈(TRS0)에 반송된다. 또한, 다른 반송예로서, 전달 모듈(TRS10)로부터 버퍼 모듈(51)에 반송된 웨이퍼(W)를, 처리 후 검사를 행하기 위하여 검사 모듈(4A, 4B)에 반송하고, 그리고 나서, 정해진 로드 포트의 캐리어(C)에 되돌리도록 해도 된다. 이 캐리어 블록(D11)에 따르면 제 1 실시 형태에 비하여 검사 모듈(4)의 수가 많기 때문에, 버퍼 모듈(51)에 있어서 웨이퍼(W)가 대기하는 시간을 억제할 수 있다. 단, 캐리어 블록(D1)보다 많은 수의 검사 모듈(4)에 액세스함으로써, 반송 기구(5A, 5B)의 부하가 커지기 때문에, 보다 높은 스루풋을 얻기 위해서는 캐리어 블록(D1)의 구성으로 하는 것이 보다 바람직하다.
[제 1 실시 형태에 있어서의 제 2 변형예]
다음에, 제 2 변형예에 따른 캐리어 블록(D12)에 대하여, 도 14를 참조하면서 캐리어 블록(D1)과의 차이점을 중심으로 설명한다. 이 캐리어 블록(D12)에서는, 로드 포트(2A ∼2D)에 추가로 로드 포트(2E)가 마련되어 있다. 이 로드 포트(2E)는, 로드 포트(2D)와 동일한 높이에, 또한 로드 포트(2A)와 좌우의 위치가 일치하도록 마련되어 있다. 로드 포트(2E)는, 로드 포트(2A)에 간섭하지 않도록 로드 포트(2D)와 동일하게 회전 도어(25)가 마련되어 있다. 단, 캐리어 블록(D1)의 하우징(11)의 측벽과 간섭하지 않도록, 이 로드 포트(2E)의 회전 도어(25)는, 로드 포트(2D)의 회전 도어(25)와는 반대로, 폐쇄 위치로부터 시계 방향으로 회전한다. 로드 포트(2E)는 검사 모듈(4)의 좌측에 위치하므로, 당해 로드 포트(2E)에 배치된 캐리어(C)에 대해서는, 반송 기구(5A)가 웨이퍼(W)를 전달한다.
이 캐리어 블록(D12)에서는 예를 들면, 도 9 ∼도 12에서 설명한 바와 같이 웨이퍼(W)의 반송이 행해져, 로드 포트(2A, 2B)가 반입용 로드 포트가 될 때에는, 예를 들면 로드 포트(2E)도 반입용 로드 포트가 되고, 로드 포트(2A, 2B)가 반출용 로드 포트가 될 때에는 예를 들면 로드 포트(2E)도 반출용 로드 포트가 된다.
이상의 제 1 실시 형태 및 각 변형예에 나타내어지는 바와 같이, 본 발명에 따르면, 2 개의 반송 기구(5A, 5B)가 마련되고, 이들 중 어느 하나의 반송 기구에 의해 웨이퍼(W)의 반송을 행할 수 있는 영역에 검사 모듈(4) 및 로드 포트를 설치할 수 있다. 따라서, 이들 검사 모듈(4) 및 로드 포트(2)에 대한 배치의 자유도가 높아, 필요한 스루풋 및 검사 모듈(4)에서 검사에 필요로 하는 시간 등에 따라 장치의 설계를 행하기 쉽다는 이점이 있다.
[제 2 실시 형태]
제 2 실시 형태의 도포, 현상 장치에 대하여, 제 1 실시 형태와의 차이점을 중심으로 설명한다. 도 15, 도 16은 제 2 실시 형태의 도포, 현상 장치에 마련되는 캐리어 블록(D5)의 정면도, 횡단 평면도를 각각 나타내고 있다. 캐리어 블록(D5)에는, 로드 포트(2A ∼2C) 및 2 개의 검사 모듈(4)이 마련되어 있지만, 로드 포트(2A ∼2C)는 각 검사 모듈(4)의 좌측에 위치하고 있다. 또한, 캐리어 블록(D5)에는 지지대(15, 16, 17)가 마련되어 있지 않고, 캐리어 블록(D5)에 대하여 캐리어(C)를 전달하는 외부 반송 기구는, 로드 포트(2A ∼2C)의 이동 스테이지(23)에 캐리어(C)를 전달한다. 그리고, 캐리어(C)의 대기용 스테이지(29)와 반입용 스테이지(31)와 반출용 스테이지(32)의 사이에서의 반송은 행해지지 않는다. 또한, 하우징(11) 내에 있어서는 반송 기구(5A, 5B) 중, 반송 기구(5A)만이 마련되어 있고, 로드 포트(2A ∼2C)에 배치된 각 캐리어(C)에 대하여 웨이퍼(W)의 전달을 행할 수 있도록, 당해 반송 기구(5A)의 프레임(52)은 좌우 방향으로 이동한다.
반송 기구(5A)는 로드 포트(2A ∼2C)의 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)를 취출하여 타워(T1)의 전달 모듈(TRS0)에 반송하고, 타워(T1)의 전달 모듈(TRS10)에 반송된 레지스트 패턴 형성이 끝난 웨이퍼(W)를 로드 포트(2A ∼2C)의 캐리어(C)에 반송한다. 처리 전 검사를 행하는 경우, 웨이퍼(W)는 전달 모듈(TRS0)에 반송되기 전에 검사 모듈(4)에 반송되어 검사된다. 처리 후 검사를 행하는 경우, 웨이퍼(W)는 캐리어(C)에 되돌려지기 전에 검사 모듈(4)에 반송되어 검사된다.
도 17은 상기의 캐리어 블록(D5)의 변형예이며, 전후로 보아 제 1 실시 형태에서 로드 포트(2D)의 반송구(21)가 형성되어 있는 영역에, 2 개의 검사 모듈(4)을 상하로 간격을 두고 마련한 예를 나타내고 있다. 따라서 도 17에 나타내는 캐리어 블록(D5)에서는, 4 개의 검사 모듈(4)이 상하 방향으로 마련되어 있다. 이상, 설명한 제 2 실시 형태에 있어서도 검사 모듈(4)은, 제 1 실시 형태와 동일하게 캐리어 블록(D5)의 하우징(11)에 대하여 착탈 가능하게 구성되어 있으므로, 용이하게 메인터넌스를 행할 수 있다.
또한, 검사 모듈(4)에 대해서는, 이와 같이 하우징(11)의 외측으로부터 당해 하우징(11)의 개구부(22)에 끼워지는 구성이기 때문에, 당해 검사 모듈(4)은, 그 일부가 캐리어 블록의 하우징(11)으로부터 돌출하도록 마련할 수 있다. 즉, 장치 내에 있어서의 검사 모듈(4)의 점유 스페이스가 억제되기 때문에, 장치 내에 다른 모듈을 마련하거나 증설함으로써 당해 검사 모듈(4)을 설치할 수 없게 되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이와 같이 점유 스페이스가 작은 점 및 하우징(11)에 대하여 착탈 가능한 점으로부터, 기판 반송 기구의 동작 및 다른 모듈의 배치를 방해하지 않고 검사 모듈(4)을 증설하는 것이 용이하다는 이점이 있다. 또한, 제 1 실시 형태, 제 2 실시 형태로부터 분명한 바와 같이, 검사 모듈(4)을 하우징(11)에 착탈 가능한 구성으로 함에 있어서, 좌우로 열을 이루는 로드 포트와 검사 모듈(4)에 대하여, 검사 모듈(4)은 열의 단부에 위치해도 되고, 열의 중앙부에 위치해도 된다.
그런데, 캐리어 블록(D1)으로부터 웨이퍼(W)가 반송되어, 당해 웨이퍼(W)에 처리를 행하는 처리 모듈로서는 상기의 예에 한정되지 않는다. 예를 들면, 절연막 형성용의 약액을 웨이퍼(W)에 도포하는 모듈이어도 되고, 웨이퍼(W)에 세정액을 공급하는 세정 모듈이어도 되며, 웨이퍼(W)를 서로 붙이기 위한 접착제를 공급하는 모듈이어도 된다. 또한, 예를 들면 상압 분위기와 진공 분위기를 전환 가능한 로드 록 모듈을 통하여 진공 분위기를 형성하는 처리 모듈을 마련해도 되고, 그 경우, 처리 가스를 웨이퍼(W)에 공급하는 것에 의한 CVD, ALD 또는 에칭 등의 처리를 행할 수 있다. 또한, 본 발명은 기술한 각 예에 한정되지 않고, 각 예는 적절히 변경하거나 서로 조합할 수 있다.
C : 캐리어
D1 : 캐리어 블록
D2 : 처리 블록
1 : 도포, 현상 장치
2A ∼2D : 로드 포트
21 : 반송구
23 : 이동 스테이지
24 : 승강 도어
25 : 회전 도어
4 : 검사 모듈
5A, 5B : 반송 기구
51 : 버퍼 모듈

Claims (5)

  1. 기판이 저장되는 반송 용기가 각각 배치되는 복수의 로드 포트와,
    상기 기판에 대하여 처리를 행하는 처리부와,
    상기 처리부에 대하여 상기 기판을 전달하기 위해 설치되고, 상기 처리부에 의한 처리 전의 기판, 처리 후의 기판의 각각이 재치되는 전달 모듈과,
    상기 기판을 반출입하기 위한 반송구를 가지고,
    상기 처리부에 의한 처리 전 혹은 처리 후의 상기 기판을 검사하는 검사 모듈과,
    상기 복수의 로드 포트에 재치되는 상기 각 반송 용기와, 상기 전달 모듈과, 상기 검사 모듈과의 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 기구와,
    상기 기판 반송 기구에 의한 상기 기판의 반송 영역을 둘러싸는 하우징
    을 구비하고,
    상기 반송구는 상기 반송 영역에 개구하고, 상기 하우징의 외부에 있어서 상기 복수의 로드 포트와 상기 검사 모듈이 좌우 방향으로 나열되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 검사 모듈은, 상기 복수의 로드 포트에 각각 재치되는 상기 반송 용기와 동일한 높이로 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 검사 모듈은 복수 설치되고,
    상기 복수의 검사 모듈은, 상기 복수의 로드 포트의 상기 반송 용기보다 높은 위치에 설치되는 검사 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 검사 모듈의 적어도 일부는 상기 하우징으로부터 돌출하고,
    상기 검사 모듈은, 상기 기판 처리 장치에 대하여 착탈 가능한 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 로드 포트와 상기 검사 모듈이 좌우 방향으로 나열되는 열에 대하여, 상기 검사 모듈이 상기 열의 단부(端部)에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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