KR20210144755A - 적층체 및 표시 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 코팅층에 있어서, 굴곡에 의한 크랙의 발생이 억제된 적층체 및 그것을 구비한 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 제1 보호층과, 제1 점착제층과, 개재 코팅층과, 제2 점착제층과, 제2 보호층을 이 순으로 구비하는 적층체로서, 각 층은 서로 접해 있고, 상기 제1 점착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'1〔㎪〕로 하고, 상기 제2 점착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'2〔㎪〕로 하고, 상기 제1 점착제층의 두께를 a1〔㎛〕로 하고, 상기 제2 점착제층의 두께를 a2〔㎛〕로 했을 때에, 하기 식(1) 및 식(2): A1＝G'1／a1 (1) A2＝G'2／a2 (2)으로 표시되는 평가 파라미터 A1 및 A2는, 하기 식(3) 및 식(4): A1＋A2≤230 (3) A2-A1≥0 (4)을 충족시키는, 적층체를 제공한다.

Description

적층체 및 표시 장치

본 발명은, 적층체 및 표시 장치에 관한 것이다.

일본 특허공개공보 2018-101117호(특허문헌 1)에는, 편광판 상에 제1 점착 시트를 개재하여 투명 필름 기재가 첩합되고, 투명 필름 기재 상에 제2 점착 시트를 개재하여 전면 투명 부재가 첩합된 화상 표시 장치가 개시되어 있다. 일본 특허공개공보 2018-028573호(특허문헌 2)에는, 복수의 점착제층과, 편광막을 포함하는 광학 필름을 포함하는 화상 표시 장치용 적층체가 개시되어 있다.

일본 특허공개공보 2018-101117호 일본 특허공개공보 2018-028573호

적층체에 있어서는, 박형화 및 경량화를 실현하기 위해, 박막 코팅에 의해 적층체를 구성하는 층을 형성하는 방법이 채용되고 있다. 그러나, 코팅층을 포함하는 적층체를 굴곡했을 때에, 코팅층에 크랙이 발생하기 쉽다는 문제가 있었다.

본 발명은, 코팅층에 있어서, 굴곡에 의한 크랙의 발생이 억제된 적층체 및 그것을 구비한 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 이하에 나타내는 적층체 및 표시 장치를 제공한다.

[1] 제1 보호층과, 제1 점착제층과, 개재 코팅층과, 제2 점착제층과, 제2 보호층을 이 순으로 구비하는 적층체로서,

각 층은 서로 접해 있고,

상기 제1 점착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'1〔㎪〕로 하고, 상기 제2 점착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'2〔㎪〕로 하고, 상기 제1 점착제층의 두께를 a1〔㎛〕로 하고, 상기 제2 점착제층의 두께를 a2〔㎛〕로 했을 때에, 하기 식(1) 및 식(2):

A1＝G'1／a1 (1)

A2＝G'2／a2 (2)

으로 표시되는 평가 파라미터 A1 및 A2는, 하기 식(3) 및 식(4):

A1＋A2≤230 (3)

A2-A1≥0 (4)

을 충족시키는, 적층체.

[2] 상기 제1 보호층은, 인장 탄성률이 4.0㎬ 이상인 윈도우 필름을 포함하는, [1]에 기재된 적층체.

[3] 상기 제2 보호층은, 인장 탄성률이 4.0㎬ 이상인 배면판을 포함하는, [1] 또는 [2]에 기재된 적층체.

[4] 상기 개재 코팅층은 1층 이상으로 이루어지고, 각 층의 두께는 5㎛ 이하인, [1] 내지 [3] 중 어느 것에 기재된 적층체.

[5] 상기 개재 코팅층은, 편광자층, 위상차층 또는 터치 센서 패널을 포함하는, [1] 내지 [4] 중 어느 것에 기재된 적층체.

[6] 상기 G'1 및 상기 G'2는, 각각 10000㎪ 이하인, [1] 내지 [5] 중 어느 것에 기재된 적층체.

[7] [1] 내지 [6] 중 어느 것에 기재된 적층체를 구비하는 표시 장치.

본 발명에 의하면, 코팅층에 있어서, 굴곡에 의한 크랙의 발생이 억제된 적층체 및 그것을 구비한 표시 장치를 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 적층체의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 실시예 1-1의 적층체를 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 실시예 2-1의 적층체를 나타내는 개략 단면도이다.
도 4는 실시예 3-1의 적층체를 나타내는 개략 단면도이다.
도 5는 실시예 4-1의 적층체를 나타내는 개략 단면도이다.
도 6은 굴곡성 시험의 방법을 설명하는 개략도이다.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서, 도면을 참조하여 설명한다.

<적층체>

도 1에 본 발명의 일 태양에 따른 적층체(광학 적층체)의 개략 단면도를 나타낸다. 적층체(100)는, 제1 보호층(10)과, 제1 점착제층(11)과, 개재 코팅층(12)과, 제2 점착제층(13)과, 제2 보호층(14)을 이 순으로 포함한다. 각 층은 서로 접해 있다. 이하, 제1 점착제층(11) 및 제2 점착제층(13)을 총칭하여 점착제층이라고 하는 경우가 있다.

적층체(100)의 두께는, 적층체에 요구되는 기능 및 적층체의 용도 등에 따라 다르기 때문에 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 30㎛ 이상 1000㎛ 이하이며, 바람직하게는 40㎛ 이상 500㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 50㎛ 이상 300㎛ 이하이다.

적층체(100)의 평면시(平面視) 형상은, 예를 들면 사각형 형상이어도 되고, 바람직하게는 장변과 단변을 가지는 사각형 형상이며, 보다 바람직하게는 장방형이다. 적층체(100)의 면방향의 형상이 장방형인 경우, 장변의 길이는, 예를 들면 10㎜ 이상 1400㎜ 이하여도 되고, 바람직하게는 50㎜ 이상 600㎜ 이하이다. 단변의 길이는, 예를 들면 5㎜ 이상 800㎜ 이하이며, 바람직하게는 30㎜ 이상 500㎜ 이하이며, 보다 바람직하게는 50㎜ 이상 300㎜ 이하이다. 적층체를 구성하는 각 층은, 각부(角部)가 R 가공되거나, 단부(端部)가 노치 가공되거나, 펀칭 가공되어 있어도 된다.

적층체(100)는, 예를 들면 표시 장치 등에 이용할 수 있다. 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등을 들 수 있다. 표시 장치는 터치 패널 기능을 가지고 있어도 된다.

[점착제층의 평가 파라미터]

적층체(100)에 있어서, 제1 점착제층(11)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'1〔㎪〕로 하고, 제2 점착제층(13)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'2〔㎪〕로 하고, 제1 점착제층(11)의 두께를 a1〔㎛〕로 하고, 제2 점착제층(13)의 두께를 a2〔㎛〕로 했을 때에, 하기 식(1) 및 식(2):

A1＝G'1／a1 (1)

A2＝G'2／a2 (2)

으로 표시되는 평가 파라미터 A1 및 A2는, 하기 식(3) 및 식(4):

A1＋A2≤230 (3)

A2-A1≥0 (4)

을 충족시킨다. 점착제층의 저장 탄성률, 및 층의 두께는 후술하는 실시예의 란에 기재된 측정 방법에 따라서 측정된다.

적층체(100)는, 바람직하게는 하기 식(3'):

A1＋A2≤130 (3')

을 충족시킨다.

적층체(100)는, 바람직하게는 하기 식(4'):

A2-A1≥100 (4')

을 충족시킨다.

이러한 적층체(100)는, 제1 보호층(10)을 내측으로 하여 굴곡시켜도 개재 코팅층(12)에 크랙이 발생하기 어렵고, 즉 굴곡성이 우수하다. 코팅층을 포함하는 적층체는, 반복 굴곡하면, 코팅층 중에 크랙이 발생할 경우가 있다. 적층체(100)에 있어서, 제1 점착제층(11) 및 제2 점착제층(13)의 평가 파라미터 A1 및 A2는 각각, 저장 탄성률이 높아질수록 커지고, 층의 두께가 얇아질수록 커진다. 즉, A1 및 A2는 클수록 점착제층은 단단해지는 경향이 있고, A1 및 A2는 작을수록 점착제층이 유연해지는 경향이 있다. 본 발명자 등은, 적층체를 굴곡시켰을 때에, 굴곡축을 기준으로 하여, 상대적으로 단단한 점착제층의 외측에 코팅층이 인접해 있으면, 코팅층의 인장 응력이 증가해, 크랙이 발생하기 쉬워지는 것을 발견했다. 반대로, 적층체를 굴곡시켰을 때에, 굴곡축을 기준으로 하여, 상대적으로 단단한 점착제층의 내측에 코팅층이 인접해 있으면, 코팅층의 인장 응력이 저하해, 크랙이 발생하기 어려워지는 것을 발견했다. 따라서, 제1 점착제층(11) 및 제2 점착제층(13)이 상기 식(3) 및 식(4)을 충족시킬 경우, 그 사이에 끼워진 개재 코팅층(12)은, 인장 응력이 오르기 어려워, 제1 보호층을 내측으로 반복 굴곡해도, 크랙의 발생이 억제되는 것을 알 수 있었다.

본 명세서에 있어서, 굴곡에는, 굽힘 부분에 곡면이 형성되는 접어 굽힘의 형태가 포함된다. 접어 굽힘의 형태에 있어서, 접어 굽힌 내면의 굴곡 반경은 특별히 한정되지 않는다. 또한, 굴곡에는, 내면의 굴절각이 0도보다 크고 180도 미만인 굴절의 형태, 및 내면의 굴곡 반경이 제로에 근사, 또는 내면의 굴절각이 0도인 폴딩(folding)의 형태도 포함한다.

본 발명에 따른 적층체에 의하면, 후술하는 실시예의 란에 기재된 시험 방법에 따라서 굴곡 반경 1㎜로 20만회 이상 반복 굴곡해도 크랙이 발생하지 않을 정도까지, 코팅층의 내크랙성을 향상시킬 수 있다. 본 발명에 있어서, 코팅층에 발생하는 크랙에는, 코팅층에 생기는 균열 및 코팅층과 점착제층 사이에 있어서의 박리 등이 포함된다.

제1 점착제층(11)은 제1 점착제 조성물로 형성되어 있고, 제2 점착제층(13)은 제2 점착제 조성물로 형성되어 있다. 제1 점착제층(11) 및 제2 점착제층(13)의 평가 파라미터 A1 및 A2가, 식(3) 및 식(4)을 충족시키도록 제1 점착제 조성물 및 제2 점착제 조성물을 조제하는 방법으로서, 예를 들면 점착제층을 후술하는 점착제 조성물로 구성하거나, 후술하는 (메타)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머의 종류를 변경하거나, (메타)아크릴계 폴리머의 분자량을 조절하거나, 점착제층의 두께를 조제하는 방법, 및 이들 조합 방법 등을 들 수 있다.

[제1 점착제층]

점착제층과, 코팅층과, 점착제층이 이 순이며, 또한, 서로 접해 있는 구조를 적층체가 가지고 있을 때, 그 중 일방의 점착제층을 제1 점착제층(11)으로 한다. 제1 점착제층(11)은, 하기의 점착제층이어도 된다.

제1 점착제층(11)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'1은, 통상 10㎪ 이상이며, 바람직하게는 30㎪ 이상이다. 제1 점착제층(11)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'1은, 통상 10000㎪ 이하이며, 보다 바람직하게는 5000㎪ 이하이며, 더 바람직하게는 1000㎪ 이하이다. 점착제층의 저장 탄성률은, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 측정된다. 저장 탄성률 G'1이 너무 작으면 적층체의 가공성이 저하하는 경향이 있고, 예를 들면 절삭 가공할 때에 적층체로부터 점착제의 단부가 탈락해(풀빠짐), 박리 필름을 박리하기 어려워지거나, 적층체의 오염이 생기기 쉬워진다. 저장 탄성률 G'1이 너무 크면 적층체의 굴곡성이 저하하는 경향이 있다.

제1 점착제층(11)의 두께 a1은, 1㎛ 이상이어도 되고, 바람직하게는 3㎛ 이상이다. 제1 점착제층(11)의 두께 a1은, 100㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 50㎛ 이하이다.

[제2 점착제층]

점착제층과, 코팅층과, 점착제층이 이 순이며, 또한, 서로 접해 있는 구조를 적층체가 가지고 있을 때, 일방의 점착제층을 제1 점착제층(11)으로 간주했을 때에 제1 점착제층(11)과는 다른 점착제층을 제2 점착제층(13)으로 한다. 제2 점착제층(13)은, 하기의 점착제층이어도 된다.

제2 점착제층(13)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'2는, 통상 10㎪ 이상이며, 바람직하게는 30㎪ 이상이다. 제2 점착제층(13)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'2는, 통상 10000㎪ 이하이며, 보다 바람직하게는 5000㎪ 이하이며, 더 바람직하게는 1000㎪ 이하이다. 점착제층의 저장 탄성률은, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 측정된다. 저장 탄성률 G'2가 너무 작으면 적층체의 가공성이 저하하는 경향이 있고, 예를 들면 절삭 가공할 때에 적층체로부터 점착제의 단부가 탈락해(풀빠짐), 박리 필름을 박리하기 어려워지거나, 적층체의 오염이 생기기 쉬워진다. 저장 탄성률 G'2가 너무 크면 적층체의 굴곡성이 저하하는 경향이 있다.

제2 점착제층(13)의 두께 a2는, 1㎛ 이상이어도 되고, 바람직하게는 3㎛ 이상이다. 제2 점착제층(13)의 두께 a2는, 100㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 50㎛ 이하이다.

[개재 코팅층]

점착제층과, 코팅층과, 점착제층이 이 순이며, 또한, 서로 접해 있는 구조를 적층체가 가지고 있을 때, 제1 점착제층(11)과 제2 점착제층(13) 사이에 개재하고 있으며, 또한, 제1 점착제층(11)과 제2 점착제층(13)에 접하는 코팅층을 개재 코팅층(12)으로 한다. 코팅층은, 도포액을 도포하는 공정을 포함하여 형성되는, 점착제층 이외의 층이다. 개재 코팅층(12)은, 편광자층, 위상차층, 터치 센서 패널, 접착제층, 또는 착색층을 포함할 수 있고, 바람직하게는 하기의 편광자층, 위상차층 또는 터치 센서 패널을 포함한다. 착색층은, 화상 표시 장치의 비표시 영역에 배치되는 배선 등을 차폐하는 층일 수 있다. 착색층이 적층체의 주연부(周緣部)에 배치됨으로써, 광 누출을 억제할 수 있고, 또한 착색층이 프레임처럼 시인되므로 의장성(意匠性)을 향상시킬 수 있다.

도포 방법에는, 코팅법, 인쇄법, 증착법 등이 포함된다. 코팅법으로서는, 바 코팅법, 나이프 코팅법, 블레이드 코팅법, 다이 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, CAP 코팅법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 스크린 코팅법, 슬릿 코팅법, 딥 코팅법 등을 들 수 있다. 인쇄법으로서는, 오프셋 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 잉크젯 인쇄법 등을 들 수 있다. 증착법으로서는, 스퍼터링법, 물리 증착법(PVD), 화학 증착법(CVD), 플라스마 CVD(PECVD) 등을 들 수 있다.

개재 코팅층(12)은, 1층 이상으로 이루어진다. 각 층의 두께는, 통상 5㎛ 이하이다. 각 층의 두께는, 통상 0.01㎛ 이상이다. 개재 코팅층(12)의 두께는, 바람직하게는 1㎛ 이상 20㎛ 이하이며, 10㎛ 이하일 수 있다. 개재 코팅층(12)이 편광자층을 포함할 때, 개재 코팅층(12)의 두께는, 예를 들면 1㎛ 이상 15㎛ 이하이다. 개재 코팅층(12)이 위상차층을 포함할 때, 개재 코팅층(12)의 두께는, 예를 들면 1㎛ 이상 8㎛ 이하이다. 개재 코팅층(12)이 터치 센서 패널을 포함할 때, 개재 코팅층(12)의 두께는, 예를 들면 15㎛ 이하이다.

[제1 보호층]

적층체의 일부로서, 제1 점착제층(11)에 접하고, 개재 코팅층(12)측과는 반대측에 존재하는 구조 부분 전체를 제1 보호층(10)으로 한다. 제1 점착제층(11)을 사이에 두고, 개재 코팅층(12)측과는 반대측에 복수의 층이 있는 경우는, 그 전체를 제1 보호층(10)으로 한다. 제1 보호층(10)은, 하기의 전면판, 기재 필름, 점착제층, 편광자층, 위상차층, 터치 센서 패널, 첩합층, 배면판 등 중 1개 이상을 포함해도 된다. 제1 보호층(10)은, 바람직하게는 전면판을 포함한다.

[제2 보호층]

적층체의 일부로서, 제2 점착제층(13)에 접하고, 개재 코팅층(12)측과는 반대측에 존재하는 구조 부분 전체를 제2 보호층(14)으로 한다. 제2 점착제층(13)을 사이에 두고, 개재 코팅층(12)측과는 반대측에 복수의 층이 있는 경우는, 그 전체를 제2 보호층(14)으로 한다. 제2 보호층(14)은, 하기의 기재 필름, 점착제층, 편광자층, 위상차층, 터치 센서 패널, 첩합층, 배면판 등 중 1개 이상을 포함해도 된다. 제2 보호층(14)은, 바람직하게는 배면판을 포함한다.

적층체에 있어서, 점착제층과, 코팅층과, 점착제층이 이 순이며, 또한, 서로 접해 있는 구조가 복수 존재할 때, 제1 보호층(10)과, 제1 점착제층(11)과, 개재 코팅층(12)과, 제2 점착제층(13)과, 제2 보호층(14)은, 복수의 패턴으로 인정될 수 있다. 예를 들면 적층체(100)가, 전면판／점착제층 Ⅰ／코팅층 Ⅰ／점착제층 Ⅱ／코팅층 Ⅱ／점착제층 Ⅲ／배면판으로 이루어질 때(「／」는 서로 이웃하는 층이 접해 있는 것을 의미한다. 이하 동일), 제1 보호층(10), 제1 점착제층(11), 개재 코팅층(12), 제2 점착제층(13) 및 제2 보호층(14)은, 두 가지 패턴으로 인정할 수 있다. 즉, 제1 보호층(10)은 전면판이며, 제1 점착제층(11)은 점착제층 Ⅰ이며, 개재 코팅층(12)은 코팅층 Ⅰ이며, 제2 점착제층(13)은 점착제층 Ⅱ이며, 제2 보호층(14)은 코팅층 Ⅱ／점착제층 Ⅲ／배면판이라고 인정할 수 있다. 한편, 제1 보호층(10)은 전면판／점착제층 Ⅰ／코팅층 Ⅰ이며, 제1 점착제층(11)은 점착제층 Ⅱ이며, 개재 코팅층(12)은 코팅층 Ⅱ이며, 제2 점착제층(13)은 점착제층 Ⅲ이며, 제2 보호층(14)은 배면판이라고도 인정할 수 있다. 이러한 경우, 양방의 인정 패턴에 있어서, 평가 파라미터 A1 및 A2에 따른 식(3) 및 식(4)을 충족시키는 적층체는, 제1 보호층을 내측으로 하여 굴곡했을 때에, 코팅층에 있어서의 크랙의 발생이 억제된다.

이하, 적층체(100)를 구성할 수 있는 층에 대해서 설명한다.

(전면판)

전면판은, 광을 투과 가능한 판상체이면, 재료 및 두께는 한정되지 않고, 또한 1층만으로 구성되어도 되고, 2층 이상으로 구성되어도 된다. 그 예로서는, 수지제의 판상체(예를 들면 수지판, 수지 시트, 수지 필름 등), 유리제의 판상체(예를 들면 유리판, 유리 필름 등), 후술하는 터치 센서 패널을 들 수 있다. 전면판은, 표시 장치의 최표면을 구성하는 것일 수 있다.

전면판의 두께는, 예를 들면 10㎛ 이상 1000㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 20㎛ 이상 500㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 30㎛ 이상 300㎛ 이하이다. 본 발명에 있어서, 각 층의 두께는, 후술하는 실시예에 있어서 설명하는 두께 측정 방법에 따라서 측정할 수 있다.

전면판이 수지제의 판상체인 경우, 수지제의 판상체는, 광을 투과 가능한 것이면 한정되지 않는다. 수지 필름 등의 수지제의 판상체를 구성하는 수지로서는, 예를 들면 트리아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부틸레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리(메타)아크릴, 폴리이미드, 폴리에테르설폰, 폴리설폰, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아미드이미드 등의 고분자로 형성된 필름을 들 수 있다. 이들 고분자는, 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다. 강도 및 투명성 향상의 관점에서 바람직하게는 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리아미드이미드 등의 고분자로 형성된 수지 필름이다.

전면판은, 경도의 관점에서 바람직하게는 기재 필름의 적어도 일방의 면에 하드 코팅층이 마련된 필름이다. 기재 필름으로서는, 상기 수지로 된 필름을 이용할 수 있다. 하드 코팅층은, 기재 필름의 일방의 면에 형성되어 있어도 되고, 양방의 면에 형성되어 있어도 된다. 하드 코팅층을 마련함으로써, 경도 및 스크래치성을 향상시킨 수지 필름으로 할 수 있다. 하드 코팅층은, 예를 들면 자외선 경화형 수지의 경화층이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예를 들면 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 하드 코팅층은, 경도를 향상시키기 위해, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제는 한정되지 않고, 무기계 미립자, 유기계 미립자, 또는 이들 혼합물을 들 수 있다.

전면판이 유리판인 경우, 유리판은, 디스플레이용 강화 유리가 바람직하게 이용된다. 유리판의 두께는, 예를 들면 10㎛ 이상 1000㎛ 이하이며, 50㎛ 이상 500㎛ 이하여도 된다. 유리판을 이용함으로써, 우수한 기계적 강도 및 표면 경도를 가지는 전면판을 구성할 수 있다.

적층체(100)가 표시 장치에 이용될 경우, 전면판은, 표시 장치의 전면(화면)을 보호하는 기능(윈도우 필름으로서의 기능)을 가질 뿐만 아니고, 터치 센서로서의 기능, 블루 라이트 컷 기능, 시야각 조정 기능 등을 가지는 것이어도 된다.

전면판은, 우수한 굴곡성을 가지는 적층체(100)를 구성하기 쉬운 관점에서, 온도 23℃에서의 인장 탄성률이, 4.0㎬ 이상인 것이 바람직하고, 5.0㎬ 이상인 것이 더 바람직하다. 전면판은, 우수한 굴곡성을 가지는 적층체(100)를 구성하기 쉬운 관점에서, 온도 23℃에서의 인장 탄성률이 20㎬ 이하인 것이 바람직하고, 15㎬ 이하인 것이 더 바람직하다. 인장 탄성률은, 하기의 실시예의 란에 기재된 시험 방법에 따라 측정할 수 있다.

(기재 필름)

기재 필름은, 예를 들면 수지 필름으로 구성되어도 되고, 바람직하게는 투명 수지 필름으로 구성되어도 된다. 수지 필름은, 장척(長尺)의 롤상 수지 필름이어도 되고, 매엽상(枚葉狀) 수지 필름이어도 된다. 연속적으로 제조할 수 있는 점에서 장척의 롤상 수지 필름이 바람직하다.

수지 필름을 구성하는 수지로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머, 환상 올레핀계 수지 등의 폴리올레핀; 폴리비닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리설폰; 폴리에테르설폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌설파이드; 폴리페닐렌옥사이드; 폴리아미드; 폴리이미드; 폴리아미드이미드 등의 플라스틱을 들 수 있다. 그 중에서도 환상 올레핀계 수지, 셀룰로오스에스테르 및 폴리이미드가 바람직하다.

수지 필름의 두께는, 적층체(100)의 박막화의 관점에서는 얇은 것이 바람직하지만, 너무 얇으면 내충격성이 확보되기 어려워지는 경향이 있다. 수지 필름의 두께는, 예를 들면 10㎛ 이상 200㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 15㎛ 이상 150㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20㎛ 이상 100㎛ 이하이다.

기재 필름 상에는, 코팅층이 형성될 수 있다. 기재 필름은, 적어도 일방의 표면에 하드 코팅층, 반사 방지층, 또는 대전 방지층을 가지고 있어도 된다. 기재 필름은, 코팅층이 형성되지 않는 측의 표면에만, 하드 코팅층, 반사 방지층, 대전 방지층 등이 형성되어 있어도 된다. 기재 필름은, 코팅층이 형성되어 있는 측의 표면에만, 하드 코팅층, 반사 방지층, 대전 방지층 등이 형성되어 있어도 된다.

(점착제층)

점착제층은, 2개의 층 사이에 개재하여, 이들을 첩합하는 층이며, 예를 들면 점착제나 접착제로 구성되는 층 또는 당해 층에 대하여 어떠한 처리를 실시해서 이루어지는 층이어도 된다. 점착제란, 감압식 접착제라고도 불리는 것이다. 본 명세서에 있어서 「접착제」란, 점착제(감압식 접착제) 이외의 접착제를 말하며, 점착제와는 명확하게 구별된다. 점착제층은, 1층이어도 되고, 2층 이상으로 이루어지는 것이어도 되지만, 바람직하게는 1층이다. 점착제층은, 점착제 조성물로 형성할 수 있다.

점착제층은, (메타)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메타)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 호적(好適)하다. 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 된다.

점착제 조성물에 이용되는 (메타)아크릴계 수지(베이스 폴리머)로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실과 같은 (메타)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 호적하게 이용된다. 베이스 폴리머에는, 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산히드록시에틸, (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트와 같은, 카르복시기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 가지는 모노머를 들 수 있다.

점착제 조성물은, 상기 베이스 폴리머만을 포함하는 것이어도 되지만, 통상은 가교제를 더 함유한다. 가교제로서는, 2가 이상의 금속 이온으로서, 카르복시기와의 사이에서 카르복시산 금속염을 형성하는 것; 폴리아민 화합물로서, 카르복시기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것; 폴리에폭시 화합물이나 폴리올로서, 카르복시기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 것; 폴리이소시아네이트 화합물로서, 카르복시기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것이 예시된다. 그 중에서도, 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하다.

활성 에너지선 경화형 점착제 조성물이란, 자외선이나 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사를 받아 경화하는 성질을 가지고 있으며, 활성 에너지선 조사 전에 있어서도 점착성을 가져 필름 등의 피착체에 밀착시킬 수 있고, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하여 밀착력의 조정을 할 수 있는 성질을 가지는 점착제 조성물이다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 자외선 경화형인 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 베이스 폴리머, 가교제에 더하여, 활성 에너지선 중합성 화합물을 더 함유한다. 필요에 따라, 광중합개시제나 광증감제 등을 더 함유시키는 경우도 있다.

점착제 조성물은, 광산란성을 부여하기 위한 미립자, 비드(수지 비드, 유리 비드 등), 유리 섬유, 베이스 폴리머 이외의 수지, 점착성 부여제, 충전제(금속분이나 그 외의 무기 분말 등), 산화 방지제, 자외선 흡수제, 염료, 안료, 착색제, 소포제, 부식 방지제, 광중합개시제 등의 첨가제를 포함할 수 있다.

점착제층은, 상기 점착제 조성물의 유기 용제 희석액을 기재 상에 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 이용했을 경우는, 형성된 점착제층에, 활성 에너지선을 조사함으로써 원하는 경화도를 가지는 경화물로 할 수 있다.

점착제층의 두께는, 예를 들면 1㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 3㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 20㎛ 이상이어도 된다.

(편광자층)

편광자층으로서는, 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층, 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 층 등을 들 수 있다. 이색성 색소로서, 구체적으로는, 요오드나 이색성의 유기 염료가 이용된다. 이색성 유기 염료에는, C.I.DIRECT RED 39 등의 디스아조 화합물로 이루어지는 이색성 직접 염료, 트리스아조, 테트라키스아조 등의 화합물로 이루어지는 이색성 직접 염료가 포함된다.

이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층으로서는, 액정성을 가지는 이색성 색소를 포함하는 조성물 또는 이색성 색소와 중합성 액정을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 얻어지는 층 등의 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 편광자층을 들 수 있다.

이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층은, 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층에 비해, 굴곡 방향으로 제한이 없기 때문에 바람직하다.

((연신 필름 또는 연신층인 편광자층))

이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름인 편광자층은, 통상, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.

편광자층의 두께는, 예를 들면 2㎛ 이상 40㎛ 이하이다. 편광자층의 두께는 5㎛ 이상이어도 되고, 20㎛ 이하, 더욱이는 15㎛ 이하, 더 나아가서는 10㎛ 이하여도 된다.

폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외, 아세트산비닐과 그것에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체가 이용된다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예를 들면, 불포화 카르복시산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 설폰산류, 암모늄기를 가지는 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.

폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85몰％ 이상 100몰％ 이하 정도이며, 바람직하게는 98몰％ 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 되고, 예를 들면, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈도 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1000 이상 10000 이하이며, 바람직하게는 1500 이상 5000 이하이다.

이색성 색소를 흡착시킨 연신층인 편광자층은, 통상, 상기 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포하는 공정, 얻어진 적층 필름을 일축 연신하는 공정, 일축 연신된 적층 필름의 폴리비닐알코올계 수지층을 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시켜 편광자층으로 하는 공정, 이색성 색소가 흡착된 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.

필요에 따라, 기재 필름을 편광자층으로부터 박리 제거해도 된다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 후술하는 열가소성 수지 필름의 재료 및 두께와 마찬가지여도 된다.

연신 필름 또는 연신층인 편광자층은, 그 편면 또는 양면에 열가소성 수지 필름이 첩합되어 있는 형태로 적층체에 편성되어도 된다. 이 열가소성 수지 필름은, 편광자층용의 보호 필름, 또는 위상차 필름으로서 기능할 수 있다. 열가소성 수지 필름은, 예를 들면, 쇄상 폴리올레핀계 수지(폴리프로필렌계 수지 등), 환상 폴리올레핀계 수지(노르보르넨계 수지 등) 등의 폴리올레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; (메타)아크릴계 수지; 또는 이들 혼합물 등으로 이루어지는 필름일 수 있다.

열가소성 수지 필름의 두께는, 박형화의 관점에서, 통상 300㎛ 이하이며, 바람직하게는 200㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 100㎛ 이하이며, 더 바람직하게는 80㎛ 이하이며, 더욱 더 바람직하게는 60㎛ 이하이며, 또한, 통상 5㎛ 이상이며, 바람직하게는 20㎛ 이상이다.

열가소성 수지 필름은 위상차를 가지고 있어도, 가지고 있지 않아도 된다.

열가소성 수지 필름은, 예를 들면, 접착제층을 이용하여 편광자층에 첩합할 수 있다.

((이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층))

이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층으로서는, 액정성을 가지는 중합성의 이색성 색소를 포함하는 조성물 또는 이색성 색소와 중합성 액정을 포함하는 조성물을 기재 필름에 도포해 경화시켜 얻어지는 층 등의 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 편광자층을 들 수 있다.

필요에 따라, 기재 필름을 편광자층으로부터 박리 제거해도 된다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 상술한 열가소성 수지 필름의 재료 및 두께와 마찬가지여도 된다.

이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층은, 그 편면 또는 양면에 열가소성 수지 필름이 첩합되어 있는 형태로 광학 적층체에 편성되어도 된다. 열가소성 수지 필름으로서는, 연신 필름 또는 연신층인 편광자층에 이용할 수 있는 열가소성 수지 필름과 마찬가지인 것을 이용할 수 있다. 열가소성 수지 필름은, 예를 들면, 접착제층을 이용하여 편광자층에 첩합할 수 있다.

이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층의 두께는, 통상 10㎛ 이하이며, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 8㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 5㎛ 이하이다.

개재 코팅층(12)은, 예를 들면 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층을 포함할 수 있다. 개재 코팅층(12)이 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층을 포함할 때, 기재 필름은 제거되어 있다. 개재 코팅층(12)이 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층을 포함할 때, 편광자층에 열가소성 수지 필름은 첩합되어 있지 않다. 개재 코팅층(12)이 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포해 경화시켜 이루어지는 편광자층을 포함할 때, 개재 코팅층(12)은, 코팅층의 일종인 배향막, 보호층(구체적으로는 하드 코팅(OC)층이나 오버 코팅(HC)층을 들 수 있음) 등을 더 포함해도 된다.

(위상차층)

적층체(100)는, 1층 또는 2층 이상의 위상차층을 포함할 수 있다. 위상차층은 통상, 편광자층과 배면판 사이에 배치된다. 위상차층은, 제1 점착제층(11), 제2 점착제층(13), 또는 이들 층 이외의 점착제 혹은 접착제로 구성되는 층(이하, 첩합층이라고도 함)을 개재하여 다른 층(다른 위상차층을 포함함) 상에 적층시킬 수 있다.

위상차층은, λ／4판, λ／2판 등의 포지티브 A 플레이트, 및 포지티브 C 플레이트일 수 있다. 위상차층은, 상술한 보호 필름의 재료로서 예시를 한 수지 필름이어도 되고, 중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 층이어도 된다. 위상차층은, 배향막이나 기재 필름을 더 포함하고 있어도 된다. 위상차층의 두께는, 예를 들면 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하이며, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 8㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 6㎛ 이하이다.

중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 위상차층은, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기재 필름에 도포해 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 기재 필름과 코팅층 사이에 배향층이 형성되어 있어도 된다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 상술한 열가소성 수지 필름의 재료 및 두께와 마찬가지여도 된다.

중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 위상차층은, 배향층 및／또는 기재 필름을 가지는 형태로 적층체(100)에 편성되어도 된다.

개재 코팅층(12)은, 예를 들면 중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 위상차층을 포함할 수 있다. 개재 코팅층(12)이 중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 위상차층을 포함할 때, 기재 필름은 제거되어 있다. 개재 코팅층(12)이 중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 위상차층을 포함할 때, 개재 코팅층(12)은, 코팅층의 일종인 배향막, 보호층(구체적으로는 하드 코팅층이나 오버 코팅층을 들 수 있음) 등을 더 포함해도 된다.

(터치 센서 패널)

터치 센서 패널은, 터치된 위치를 검출 가능한 센서이면, 검출 방식은 한정되지 않고, 저항막 방식, 정전 용량 방식, 광센서 방식, 초음파 방식, 전자 유도 결합 방식, 표면 탄성파 방식 등의 터치 센서 패널이 예시된다. 그 중에서도, 저비용, 빠른 반응 속도, 박막화의 면에서, 정전 용량 방식의 터치 센서 패널이 호적하게 이용된다. 터치 센서 패널은, 투명 도전층과 이것을 지지하는 기재 필름 사이에, 접착층, 분리층, 보호층 등을 구비해도 된다. 접착층으로서는, 접착제층, 점착제층을 들 수 있다.

투명 도전층을 지지하는 기재 필름으로서, 일방의 표면에 투명 도전층이 증착 형성되어 있는 기재 필름, 접착층을 개재하여 투명 도전층이 전사된 기재 필름 등을 들 수 있다.

정전 용량 방식의 터치 센서 패널의 일례는, 기재 필름과, 기재 필름의 표면에 마련된 위치 검출용의 투명 도전층과, 터치 위치 검지 회로에 의해 구성되어 있다. 정전 용량 방식의 터치 센서 패널을 가지는 광학 적층체를 마련한 표시 장치에 있어서는, 전면판의 표면이 터치되면, 터치된 점에서 인체의 정전 용량을 통해 투명 도전층이 접지된다. 터치 위치 검지 회로가, 투명 도전층의 접지를 검지해, 터치된 위치가 검출된다. 서로 이간(離間)한 복수의 투명 도전층을 가짐으로써, 보다 상세한 위치의 검출이 가능해진다.

투명 도전층은, ITO 등의 금속 산화물로 이루어지는 투명 도전층이어도 되고, 알루미늄이나 구리, 은, 금, 또는 이들 합금 등의 금속으로 이루어지는 금속층이어도 된다. 투명 전극층은, 스퍼터링법, 인쇄법, 증착법 등의 도포법에 의해 형성된다. 투명 전극층 상에 감광성 레지스트를 형성하고, 그 후, 포토리소그래피에 의해 전극 패턴층이 형성된다. 감광성 레지스트는 네가티브 타입 감광성 레지스트 또는 포지티브 타입 감광성 레지스트가 사용되고, 패터닝 후에는 감광성 레지스트는 잔존해 있어도 되고, 제거되어 있어도 된다. 스퍼터링법에 의해 제막할 경우에는, 전극 패턴 형상을 가지는 마스크를 배치하여, 스퍼터링을 행해, 전극 패턴층을 형성할 수도 있다.

분리층은, 유리 등의 기판 상에 형성되어, 분리층 상에 형성된 투명 도전층을 분리층과 함께, 기판으로부터 분리하기 위한 층일 수 있다. 분리층은, 무기물층 또는 유기물층인 것이 바람직하다. 무기물층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면 실리콘 산화물을 들 수 있다. 유기물층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면 (메타)아크릴계 수지 조성물, 에폭시계 수지 조성물, 폴리이미드계 수지 조성물 등을 이용할 수 있다. 분리층은, 공지의 코팅법으로 도포하고, 열경화 혹은 UV 경화 또는 이들 조합 방법에 의해 경화시켜 형성할 수 있다.

보호층은, 투명 도전층에 접하여 도전층을 보호하기 위해 마련할 수 있다. 보호층은 유기 절연막 및 무기 절연막 중 적어도 하나를 포함하고, 이들 막은, 스핀 코팅법, 스퍼터링법, 증착법 등의 도포법에 따라 형성할 수 있다.

절연층은, 예를 들면 실리콘 산화물 등의 무기 절연 물질, 아크릴계 수지 등의 투명 유기 물질로 형성할 수 있다. 절연층은, 공지의 코팅법으로 도포한 후, 열경화, UV 경화, 열건조, 진공 건조 등에 의해 형성할 수 있다.

터치 센서 패널의 기재 필름으로서는, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 시클로올레핀폴리머, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리카보네이트, 폴리에테르설폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리노르보르넨 등의 수지 필름을 들 수 있다. 원하는 터프니스를 가지는 기재 필름을 구성하기 쉬운 관점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트가 바람직하게 이용된다.

터치 센서 패널의 기재 필름은, 우수한 내굴곡성을 가지는 광학 적층체를 구성하기 쉬운 관점에서, 두께가 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 30㎛ 이하인 것이 더 바람직하다. 터치 센서 패널의 기재 필름은, 두께가, 예를 들면 5㎛ 이상이다.

터치 센서 패널은, 예를 들면 이하와 같이 하여 제조할 수 있다. 제1 방법으로는, 우선 기판에 접착층을 개재하여 기재 필름을 적층한다. 기재 필름 상에, 포토리소그래피에 의해 패턴화된 투명 도전층을 형성한다. 열을 가함으로써, 기판과 기재 필름을 분리하여, 투명 도전층과 기재 필름으로 이루어지는 터치 센서 패널이 얻어진다. 기판은, 평탄성을 유지하고, 내열성을 가지는 기판이면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 유리 기판이다.

제2 방법으로는, 우선 기판 상에 분리층을 형성하는 재료를 도포하고, 분리층을 형성한다. 필요에 따라, 분리층 상에 보호층을 도포에 의해 형성한다. 패드 패턴층이 형성되는 부분에는 보호층이 형성되지 않도록 보호층을 형성해도 된다. 분리층(또는 보호층) 상에, 포토리소그래피에 의해 패턴화된 투명 도전층을 형성한다. 투명 도전층 상에, 전극 패턴층을 메우도록 절연층을 형성한다. 절연층 상에 박리 가능한 점착제에 의해 보호 필름을 적층하고, 절연층으로부터 분리층까지를 전사하여, 기판을 분리한다. 박리 가능한 보호 필름을 박리함으로써, 절연층／투명 도전층／(보호층)／분리층을 이 순으로 가지는 터치 센서 패널이 얻어진다.

기재 필름을 포함할 때, 터치 센서 패널의 두께는, 예를 들면 5㎛ 이상 2000㎛ 이하여도 되고, 5㎛ 이상 100㎛ 이하여도 된다.

기재 필름을 포함하지 않을 때, 터치 센서 패널의 두께는, 예를 들면 0.5㎛ 이상 10㎛ 이하이며, 바람직하게는 5㎛ 이하이다.

개재 코팅층(12)은, 예를 들면 제2 방법에 따라 제작한 터치 센서 패널을 포함할 수 있다.

(첩합층)

첩합층은, 점착제 또는 접착제로 구성되는 층이다. 첩합층은, 예를 들면 전면판과 터치 센서 패널을 첩합하는 층, 전면판과 편광판을 첩합하는 층, 편광판과 터치 센서 패널을 첩합하는 층일 수 있다. 첩합층을 구성하는 점착제는, 점착제층을 구성하는 점착제 조성물에 대해서 예시한 것과 같은 제여도 되고, 다른 점착제, 예를 들면 (메타)아크릴계 점착제, 스티렌계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제, 우레탄계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 에폭시계 공중합체 점착제 등이어도 된다.

적층체(100)는, 첩합층을 1개 구비해도 되고, 2개 이상 구비해도 된다. 적층체(100)가 첩합층을 복수 구비할 경우, 복수의 첩합층은, 서로 동일해도 되고, 달라도 된다.

첩합층을 구성하는 접착제로서는, 예를 들면, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제 등 중 1 또는 2종 이상을 조합하여 형성할 수 있다. 수계 접착제로서는, 예를 들면 폴리비닐알코올계 수지 수용액, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제 등을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제로서는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제이며, 예를 들면 중합성 화합물 및 광중합성 개시제를 포함하는 것, 광반응성 수지를 포함하는 것, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 것 등을 들 수 있다. 상기 중합성 화합물로서는, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 아크릴계 모노머, 광경화성 우레탄계 모노머 등의 광중합성 모노머나, 이들 모노머에 유래하는 올리고머 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제로서는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 중성 라디칼, 음이온 라디칼, 양이온 라디칼과 같은 활성종을 발생시키는 물질을 포함하는 것을 들 수 있다.

첩합층의 두께는, 예를 들면 1㎛ 이상이어도 되고, 바람직하게는 1㎛ 이상 25㎛ 이하, 보다 바람직하게는 2㎛ 이상 15㎛ 이하, 더 바람직하게는 2.5㎛ 이상 5㎛ 이하이다.

(배면판)

배면판으로서는, 광을 투과 가능한 판상체나 통상의 표시 장치에 이용되는 구성 요소 등을 이용할 수 있다.

배면판의 두께는, 예를 들면 5㎛ 이상 2000㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 10㎛ 이상 1000㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상 500㎛ 이하이다.

배면판에 이용하는 판상체로서는, 1층만으로 구성되어도 되고, 2층 이상으로 구성된 것이어도 되고, 상기의 전면판에 있어서 기술한 판상체에 대해서 예시한 것을 이용할 수 있다.

배면판에 이용하는 통상의 표시 장치에 이용되는 구성 요소로서는, 예를 들면 터치 센서 패널, 유기 EL 표시 소자 등을 들 수 있다. 표시 장치에 있어서의 구성 요소의 적층순으로서는, 예를 들면 윈도우 필름／원편광판／터치 센서 패널／유기 EL 표시 소자, 윈도우 필름／터치 센서 패널／원편광판／유기 EL 표시 소자 등을 들 수 있다.

배면판은, 우수한 굴곡성을 가지는 적층체(100)를 구성하기 쉬운 관점에서, 온도 23℃에서의 인장 탄성률이, 4.0㎬ 이상인 것이 바람직하고, 4.5㎬ 이상인 것이 더 바람직하다. 배면판은, 우수한 굴곡성을 가지는 적층체(100)를 구성하기 쉬운 관점에서, 온도 23℃에서의 인장 탄성률이 20㎬ 이하인 것이 바람직하고, 15㎬ 이하인 것이 더 바람직하다. 인장 탄성률은, 하기의 실시예의 란에 기재된 시험 방법에 따라 측정할 수 있다.

[적층체의 제조 방법]

적층체(100)는, 점착제층, 혹은 접착제층을 개재하여 적층체(100)를 구성하는 층끼리를 첩합하는 공정을 더 포함하는 방법에 따라 제조할 수 있다. 점착제층이나 접착제층을 개재하여 층끼리를 첩합할 경우에는, 밀착성을 높이기 위해, 첩합면의 일방 또는 양방에 대하여, 예를 들면 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.

<표시 장치>

본 발명에 따른 표시 장치는, 상기 본 발명에 따른 적층체(100)를 포함한다. 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 들 수 있다. 표시 장치는 터치 패널 기능을 가지고 있어도 된다. 광학 적층체는, 굴곡 또는 접어 굽힘 등이 가능한 가요성을 가지는 표시 장치에 호적하다.

표시 장치에 있어서, 광학 적층체는, 전면판을 외측(표시 소자측과는 반대측, 즉 시인측)을 향하여 표시 장치가 가지는 표시 소자의 시인측에 배치된다.

본 발명에 따른 표시 장치는, 스마트폰, 태블릿 등의 모바일 기기, 텔레비전, 디지털 포토 프레임, 전자 간판, 측정기나 계기류, 사무용 기기, 의료 기기, 전산 기기 등으로서 이용할 수 있다.

(실시예)

이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니다.

<「기재 필름／편광자층」으로 이루어지는 적층체>

(기재 필름)

기재 필름으로서, 시클로올레핀폴리머(COP) 필름(ZF-14, 니혼제온 가부시키가이샤제, 두께 23㎛)을 준비했다.

(편광자층)

두께 30㎛인 장척의 폴리비닐알코올(PVA) 원반 필름〔가부시키가이샤 쿠라레제의 상품명 「클라레포버 필름 VF-PE#3000」, 평균 중합도 2400, 비누화도 99.9몰％ 이상〕을 롤로부터 권출(卷出)하면서 연속적으로 반송하고, 20℃의 순수(純水)로 이루어지는 팽윤욕에 체류 시간 31초로 침지시켰다(팽윤 공정). 그 후, 팽윤욕으로부터 꺼낸 필름을, 요오드화칼륨／물이, 2／100(중량비)인 요오드를 포함하는 30℃의 염색욕에 체류 시간 122초로 침지시켰다(염색 공정). 그 다음에, 염색욕으로부터 꺼낸 필름을, 요오드화칼륨／붕산／물이 12／4.1／100(중량비)인 56℃의 가교욕에 체류 시간 70초로 침지시키고, 계속해서, 요오드화칼륨／붕산／물이 9／2.9／100(중량비)인 40℃의 가교욕에 체류 시간 13초로 침지시켰다(가교 공정). 염색 공정 및 가교 공정에 있어서, 욕 중에서의 롤간 연신에 의해 종일축(縱一軸) 연신을 행했다. 원반 필름을 기준으로 하는 총 연신 배율은 5.4배로 했다. 다음으로, 가교욕으로부터 꺼낸 필름을 5℃의 순수로 이루어지는 세정욕에 체류 시간 3초로 침지시킨 후(세정 공정), 이어서, 습도 조절이 가능한 제1 가열로에 도입함으로써 체류 시간 190초로 고온 고습 처리를 행하여(고온 고습 처리 공정), 두께 12.1㎛의 편광자층(PVA)을 얻었다.

(접착제 조성물)

물: 100 중량부, 폴리비닐알코올 수지 분말(가부시키가이샤 쿠라레제, 평균 중합도 18000, 상품명: KL-318): 3중량부, 폴리아미드에폭시 수지(가교제, 스미카켐텍스 가부시키가이샤제, 상품명: SR650(30)): 1.5중량부를 혼합하고, 접착제 조성물을 얻었다.

(「기재 필름／편광자층」으로 이루어지는 적층체의 제작)

편광자층과 기재 필름에, 코로나 처리를 실시했다. 코로나 처리의 조건은, 출력 0.3kW, 처리 속도 3m／분으로 했다. 그 후, 접착제 조성물을 개재하여 이들을 첩합하여, 60℃에서 2분간 건조함으로써, 「기재 필름／편광자층」으로 이루어지는 적층체를 얻었다.

<「기재 필름／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체>

(기재 필름)

기재 필름으로서, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(코니카미놀타 가부시키가이샤제, 두께 25㎛)을 준비했다.

(배향막 형성용 조성물)

폴리머 1은, 이하의 구조 단위로 이루어지는 광반응성기를 가지는 폴리머이다.

GPC 측정으로부터, 얻어진 폴리머 1의 분자량은 수평균 분자량 28200, Mw／Mn1.82를 나타내고, 모노머 함유량은 0.5％였다.

폴리머 1을 농도 5질량％로, 시클로펜탄온에 용해한 용액을 배향막 형성용 조성물로서 이용했다.

(중합성 액정 화합물)

중합성 액정 화합물은, 식(1-6)으로 표시되는 중합성 액정 화합물[이하, 화합물(1-6)이라고도 함]과 식(1-7)으로 표시되는 중합성 액정 화합물[이하, 화합물(1-7)이라고도 함]을 이용했다.

화합물(1-6) 및 화합물(1-7)은, Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328(1996)에 기재된 방법에 의해 합성했다.

(이색성 색소)

이색성 색소에는, 하기 식 (2-1a), (2-1b), (2-3a)으로 나타나는 일본 특허공개공보 2013-101328호의 실시예에 기재된 아조 색소를 이용했다.

(편광자층 형성용 조성물)

편광자층 형성용 조성물은, 화합물(1-6) 75질량부, 화합물(1-7) 25질량부, 이색성 염료로서의 상기 식 (2-1a), (2-1b), (2-3a)으로 나타나는 아조 색소 각 2.5질량부, 중합개시제로서의 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(Irgacure369, BASF 쟈판사제) 6질량부, 및 레벨링제로서의 폴리아크릴레이트 화합물(BYK-361N, BYK-Chemie사제) 1.2질량부를, 용제의 톨루엔 400질량부에 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반함으로써 조제했다.

(보호층(OC층)용 조성물)

보호층용 조성물은, 물 100질량부에 대하여, 폴리비닐알코올 수지 분말(가부시키가이샤 쿠라레제, 평균 중합도 18000, 상품명: KL-318) 3질량부와, 폴리아미드에폭시 수지(가교제, 스미카켐텍스 가부시키가이샤제, 상품명: SR650(30)) 1.5질량부를 혼합하여 조제했다.

(「기재 필름／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체의 제작)

기재 필름에 코로나 처리를 실시했다. 코로나 처리의 조건은, 출력 0.3kW, 처리 속도 3m／분으로 했다. 그 후, 기재 필름 상에, 배향막 형성용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 80℃의 건조 오븐 중에서 1분간 가열 건조했다. 얻어진 건조 피막에 편광 UV 조사 처리를 실시하여 제1 배향막을 형성했다. 편광 UV 처리는, UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7; 우시오덴키 가부시키가이샤제)로부터 조사되는 광을, 와이어 그리드(UIS-27132##, 우시오덴키 가부시키가이샤제)를 투과시켜, 파장 365㎚로 측정한 적산 광량이 100mJ／㎠인 조건으로 행했다. 제1 배향막의 두께는 100㎚였다.

형성한 제1 배향막 상에, 편광자층 형성용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 120℃의 건조 오븐에서 1분간 가열 건조한 후, 실온까지 냉각했다. 상기 UV 조사 장치를 이용하여, 적산 광량 1200mJ／㎠(365㎚ 기준)로 자외선을, 건조 피막에 조사함으로써, 편광자층을 형성했다. 얻어진 편광자층의 두께를 레이저 현미경(올림푸스 가부시키가이샤제 OLS3000)에 의해 측정한 바, 1.8㎛였다. 이와 같이 하여, 「기재 필름／제1 배향막／편광자층」으로 이루어지는 적층체를 얻었다.

형성한 편광자층 상에, 보호층(OC층)용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 건조 후의 두께가 1.0㎛가 되도록 도공하여, 온도 80℃에서 3분간 건조했다. 이와 같이 하여, 「기재 필름／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체를 얻었다.

<「기재 필름／보호층(HC층)／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체>

(기재 필름)

기재 필름으로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 100㎛)을 준비했다.

(보호층(HC층)용 조성물)

18관능의 아크릴기를 가지는 덴드리머 아크릴레이트(Miramer SP1106, Miwon) 2.8 질량부와, 6관능의 아크릴기를 가지는 우레탄 아크릴레이트(Miramer PU-620D, Miwon) 6.6질량부와, 광중합개시제(Irgacure-184, BASF) 0.5질량부와, 레벨링제(BYK-3530, BYK) 0.1 질량부와, 메틸에틸케톤(MEK) 90질량부와 혼합하여, 보호층(HC층)용 조성물을 조제했다.

배향막 형성용 조성물, 편광자층 형성용 조성물 및 보호층(OC층)용 조성물은, 상기 <「기재 필름／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체>의 항에 기재된 조성물을 각각 이용했다.

(「기재 필름／보호층(HC층)／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체의 제작)

기재 필름에, 보호층(HC층)용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 80℃의 건조 오븐 중에서 3분간 가열 건조했다. 얻어진 건조 피막에 UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7, 우시오덴키 가부시키가이샤제)를 이용하여, 노광량 500mJ／㎠(365㎚ 기준)의 UV광을 조사하여 보호층(HC층)을 형성했다. 보호층(HC층)의 두께를 레이저 현미경(올림푸스 가부시키가이샤제 OLS3000)에 의해 측정한 바, 2.0㎛였다. 이와 같이 하여, 「기재 필름／보호층(HC층)」으로 이루어지는 적층체를 얻었다.

「기재 필름／보호층(HC층)」으로 이루어지는 적층체의 보호층(HC층)측에 코로나 처리를 1회 실시했다. 코로나 처리의 조건은, 출력 0.3kW, 처리 속도 3m／분으로 했다. 그 후, 보호층(HC층) 상에, 배향막 형성용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 80℃의 건조 오븐 중에서 1분간 가열 건조했다. 얻어진 건조 피막에 편광 UV 조사 처리를 실시하여 제1 배향막을 형성했다. 편광 UV 처리는, UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7; 우시오덴키 가부시키가이샤제)로부터 조사되는 광을, 와이어 그리드(UIS-27132##, 우시오덴키 가부시키가이샤제)를 투과시켜, 파장 365㎚로 측정한 적산 광량이 100mJ／㎠인 조건으로 행했다. 제1 배향막의 두께는 100㎚였다.

형성한 제1 배향막 상에, 편광자층 형성용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 120℃의 건조 오븐에서 1분간 가열 건조한 후, 실온까지 냉각했다. 상기 UV 조사 장치를 이용하여, 적산 광량 1200mJ／㎠(365㎚ 기준)로 자외선을, 건조 피막에 조사함으로써, 편광자층을 형성했다. 얻어진 편광자층의 두께를 레이저 현미경(올림푸스 가부시키가이샤제 OLS3000)에 의해 측정한 바, 1.8㎛였다. 이와 같이 하여, 「기재 필름／보호층(HC층)／제1 배향막／편광자층」으로 이루어지는 적층체를 얻었다.

형성한 편광층 상에, 보호층(OC층)용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 건조 후의 두께가 1.0㎛가 되도록 도공하여, 온도 80℃에서 3분간 건조했다. 이와 같이 하여, 「기재 필름／보호층(HC층)／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체를 얻었다.

<「기재 필름／제2 배향막／위상차층」으로 이루어지는 적층체>

(기재 필름)

기재 필름으로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 100㎛)을 준비했다.

배향막 형성용 조성물로서는, 상기 <「기재 필름／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체>의 항에 기재된 배향막 형성용 조성물을 이용했다.

(위상차층 형성용 조성물)

하기에 나타내는 각 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반함으로써, 위상차층 형성용 조성물을 얻었다.

하기 식으로 나타나는 화합물 b-1: 80질량부

하기 식으로 나타나는 화합물 b-2: 20질량부

중합개시제(Irgacure369, 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, BASF 쟈판사제): 6질량부

레벨링제(BYK-361N, 폴리아크릴레이트 화합물, BYK-Chemie사제): 0.1 질량부

용제(시클로펜탄온): 400질량부

(「기재 필름／제2 배향막／위상차층」으로 이루어지는 적층체의 제작)

기재 필름 상에 배향막 형성용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 80℃의 건조 오븐 중에서 1분간 가열 건조했다. 얻어진 건조 피막에 편광 UV 조사 처리를 실시하여 제2 배향막을 형성했다. 편광 UV 처리는, 상기 UV 조사 장치를 이용하여, 파장 365㎚로 측정한 적산 광량이 100mJ／㎠인 조건으로 행했다. 또한, 편광 UV의 편광 방향은 편광층의 흡수축에 대하여 45°가 되도록 행했다. 이와 같이 하여, 「기재 필름／제2 배향막」으로 이루어지는 적층체를 얻었다. 제2 배향막의 두께는 100㎚였다.

「기재 필름／제2 배향막」으로 이루어지는 적층체의 제2 배향막 상에, 위상차층 형성용 조성물을 바 코팅법에 의해 도포하고, 120℃의 건조 오븐에서 1분간 가열 건조한 후, 실온까지 냉각했다. 얻어진 건조 피막에, 상기 UV 조사 장치를 이용하여, 적산 광량 1000mJ／㎠(365㎚ 기준)의 자외선을 조사함으로써, 위상차층을 형성했다. 얻어진 위상차층의 두께를 레이저 현미경(올림푸스 가부시키가이샤제 OLS3000)에 의해 측정한 바, 2.0㎛였다. 위상차층은, 면 내 방향으로 λ／4의 위상차치를 나타내는 λ／4판이었다. 이와 같이 하여, 「기재 필름／제2 배향막／위상차층」으로 이루어지는 적층체를 얻었다.

<터치 센서 패널>

기판 상에 유기 고분자막을 도포하고, 분리층을 형성했다. 분리층 상에 유기 절연막을 도포하고, 보호층을 형성했다. 보호층 상에 투명 전극층으로서 ITO 투명 전극층을 형성하고, 그 위에 감광성 레지스트를 형성했다. 그 위에, 포토리소그래피에 의해 선택적으로 패터닝하고, 전극 패턴층을 형성했다. 감광성 레지스트를 전극 패턴층으로부터 제거했다. 그 위에, 절연층을 도포에 의해 형성하고, 터치 센서 패널을 얻었다. 터치 센서 패널의 절연층의 상부에 보호 필름을 가착(假着)하고, 분리층을 기판으로부터 박리하여, 「터치 센서 패널／보호 필름」으로 이루어지는 적층체를 얻었다. 터치 센서 패널의 두께는 4.6㎛였다.

<점착 시트>

(점착제 조성물 A)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응기에, 아세톤 81.8질량부, 아크릴산부틸 98.6질량부, 아크릴산 0.4질량부, 및 아크릴산2-히드록시에틸 1.0질량부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않으면서, 내온을 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합개시제) 0.14질량부를 아세톤 10질량부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 중합개시제 첨가 1시간 후에, 단량체를 제외한 아크릴 수지의 농도가 35％가 되도록, 첨가 속도 17.3질량부／hr로 아세톤을 연속적으로 반응기에 첨가하면서, 내온 54∼56℃에서 12시간 보온하고, 마지막에 아세트산에틸을 첨가하여, 아크릴 수지의 농도가 20％가 되도록 아크릴 수지 용액 A를 조절했다.

아크릴 수지 용액 A의 불휘발분량 아크릴 수지: 100질량부

이소시아네이트계 화합물: 0.4질량부

실란계 화합물: 0.5질량부

를 혼합했다. 전체 고형분 농도가 10％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물 A를 얻었다.

상기 이소시아네이트계 화합물은, 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액(고형분 농도 75％)(도소 가부시키가이샤제, 「콜로네이트 L」)을 이용했다. 실란계 화합물은, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠고교 가부시키가이샤제, 「KBM403」)을 이용했다.

(점착 시트 「A40」, 「A25」, 「A15」)

얻어진 점착제 조성물 A를 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(경박리 필름 B, 두께 38㎛)의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 40㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조하여, 점착제층을 구비하는 필름을 얻었다. 그 후, 점착제층 상에, 이형 처리된 다른 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(중박리 필름 A, 두께 38㎛)을 첩합했다. 그 후, 온도 23℃, 상대습도 50％RH의 조건으로 7일간 양생시켜, 점착 시트 「A40」을 제작했다.

건조 후의 두께가 25㎛가 되도록 도포한 것 이외는, 「A40」과 마찬가지로 하여 점착 시트 「A25」를 제작했다.

건조 후의 두께가 15㎛가 되도록 도포한 것 이외는, 「A40」과 마찬가지로 하여 점착 시트 「A15」를 제작했다.

(점착제 조성물 B)

단량체 조성을, 아크릴산부틸 78.6부, 메타크릴산메틸 20부, 아크릴산 0.4부, 및 아크릴산2-히드록시에틸 1.0부로 변경한 것 이외는, 아크릴 수지 용액 A와 마찬가지로 하여 아크릴 수지 용액 B를 얻었다.

아크릴 수지 용액 B의 불휘발분량 아크릴 수지: 100질량부

이소시아네이트계 화합물: 0.5질량부

실란계 화합물: 0.5질량부

를 혼합했다. 전체 고형분 농도가 10％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물 B를 얻었다. 이소시아네이트계 화합물 및 실란계 화합물은, 점착제 조성물 A에서 사용한 것과 같은 것을 사용했다.

(점착 시트 「B40」, 「B25」, 「B15」)

점착제 조성물 B를 사용한 것 이외는 상기 점착 시트 「A40」과 마찬가지로 하여, 건조 후의 점착제층의 두께가 40㎛, 25㎛, 15㎛가 되는 점착 시트 「B40」, 「B25」, 「B15」를 제작했다.

(점착제 조성물 C)

단량체 조성을, 아크릴산부틸 61.0부, 메타크릴산메틸 37부, 아크릴산 1.0부, 및 아크릴산2-히드록시에틸 1.0부로 변경한 것 이외는, 아크릴 수지 용액 A와 마찬가지로 하여 아크릴 수지 용액 C를 얻었다.

아크릴 수지 용액 C의 불휘발분량 아크릴 수지: 100질량부

이소시아네이트계 화합물: 3.0질량부

실란계 화합물: 0.5질량부

를 혼합했다. 전체 고형분 농도가 10％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물 C를 얻었다. 이소시아네이트계 화합물 및 실란계 화합물은, 점착제 조성물 A에서 사용한 것과 같은 것을 사용했다.

(점착 시트 「C25」, 「C15」, 「C05」)

점착제 조성물 C를 사용한 것 이외는 상기 점착 시트 「A40」과 마찬가지로 하여, 건조 후의 점착제층의 두께가 25㎛, 15㎛, 5㎛가 되는 점착 시트 「C25」, 「C15」, 「C05」를 제작했다.

제작한 점착제층에 대해서, 저장 탄성률 및 층의 두께를 하기에 따라서 측정하고, 평가 파라미터 A(저장 탄성률／층의 두께)를 구했다. 평가 파라미터 A란, A1 및 A2의 총칭이다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[표 1]

[층의 두께]

점착제층의 두께는, 접촉식 막두께 측정 장치(가부시키가이샤 니콘제 「MS-5C」)를 이용하여 측정했다. 단, 편광자층 및 배향막에 대해서는, 레이저 현미경(올림푸스 가부시키가이샤제 「OLS3000」)을 이용하여 측정했다.

[저장 탄성률 측정 방법]

점착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률은, 점탄성 측정 장치(MCR-301, Anton Paar사)를 사용하여 측정했다. 두께 25㎛인 각 점착 시트를 폭 30㎜×길이 30㎜로 재단했다. 박리 필름을 벗겨, 두께가 150㎛가 되도록 복수매 적층하여 유리판에 접합 후, 측정 칩과 접착한 상태로 -20℃ 내지 100℃의 온도 영역에서 주파수 1.0㎐, 변형량 1％, 승온 속도 5℃／분의 조건 하에서 측정을 행해, 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 확인했다.

<전면판>

전면판인 윈도우 필름으로서, 편면에 하드 코팅층을 가지는 폴리이미드 필름(HC-PI 필름, 전체의 두께: 70㎛, 인장 탄성률 5.6㎬)을 준비했다.

<배면판>

배면판으로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 기판(두께 38㎛, 인장 탄성률 4.5㎬)을 준비했다.

[인장 탄성률 측정 방법]

전면판 및 배면판의 인장 탄성률은 다음과 같이 측정했다. 전면판 또는 배면판으로부터 장변 110㎜×단변 10㎜인 장방형의 소편(小片)을 수퍼 커터를 이용하여 잘라냈다. 그 다음에, 인장 시험기(가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼제, 오토 그래프 AG-Xplus 시험기)의 상하 척으로, 척의 간격이 5㎝가 되도록 상기 측정용 샘플의 장변 방향 양단을 사이에 두고, 23℃, 상대습도 55％의 환경 하, 인장 속도 4㎜／분으로 측정용 샘플을 측정용 샘플의 길이 방향으로 인장하여, 얻어지는 응력-변형 곡선에 있어서의 20∼40㎫간의 직선의 기울기로부터, 23℃, 상대습도 55％에서의 인장 탄성률을 산출했다. 이때, 응력을 산출하기 위한 두께는, 상기에 기재된 방법에 따라 측정했다.

<실시예 1-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 「기재 필름／편광자층」으로 이루어지는 적층체의 편광자층측에 첩합하여, 적층체 A1을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 A1로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 「기재 필름／제2 배향막／위상차층」으로 이루어지는 적층체의 위상차층측에 첩합하여, 적층체 A2를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「B15」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 적층체 A2로부터 위상차층의 형성에 이용한 기재 필름과 제2 배향막을 박리한 면에 첩합하여, 적층체 A3을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「A25」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 전면판의 하드 코팅층을 갖지 않는 측에 첩합하여, 적층체 A4를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 A4로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 적층체 A3에 있어서의 편광자층의 형성에 이용한 기재 필름측에 첩합하여, 적층체 A5를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 A5로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 배면판에 첩합하여, 도 2에 나타내는 실시예 1-1의 적층체를 얻었다. 도 2 중, 전면판으로부터 편광자층까지가 제1 보호층(10), 편광자층 하의 점착제층이 제1 점착제층(11), 위상차층이 개재 코팅층(12), 위상차층 하의 점착제층이 제2 점착제층(13), 배면판이 제2 보호층(14)이다.

<실시예 1-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」 대신에 「B25」를, 「B15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 1-1과 마찬가지로 하여, 실시예 1-2의 적층체를 얻었다.

<비교예 1-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」 대신에 「C05」를, 「B15」 대신에 「B25」를 이용한 것 이외는 실시예 1-1과 마찬가지로 하여, 비교예 1-1의 적층체를 얻었다.

<비교예 1-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」 대신에 「C15」를, 「B15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 1-1과 마찬가지로 하여, 비교예 1-2의 적층체를 얻었다.

실시예 1-1, 1-2, 비교예 1-1, 1-2의 적층체에 이용된 점착제층을 표 2에 정리한다. 「A1＋A2」, 「A2-A1」의 값은 표 2에 기재된 바와 같다. 적층체에 대해서, 굴곡성 시험을 행한 결과를 표 2에 나타낸다.

[굴곡성 시험]

적층체에 대해서, 굴곡 평가 설비(Science Town사제, STS-VRT-500)를 이용하여, 굴곡성을 확인하는 평가 시험을 행했다. 도 6은, 본 평가 시험의 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 개별적으로 이동 가능한 두 개의 재치대(501, 502)를, 간극 C가 2㎜(굴곡 반경 1㎜)가 되도록 배치하고, 간극 C의 중심에 폭방향의 중심이 위치하도록 하며, 또한, 제1 보호층이 상측에 위치하도록 하여 적층체를 고정해서 배치했다(도 6의 (a)). 그리고, 두 개의 재치대(501, 502)를 위치 P1 및 위치 P2를 회전축의 중심으로 하여 상방으로 90도 회전시켜, 재치대의 간극 C에 대응하는 적층체의 영역에 굽힘력을 부가했다(도 6의 (b)). 그 후, 두 개의 재치대(501, 502)를 원래의 위치로 되돌렸다(도 6의 (a)). 이상의 일련의 조작을 완료하여, 굽힘력의 부가 횟수를 1회로 카운트했다. 이것을, 온도 25℃에서 반복 행한 후, 적층체의 재치대(501, 502)의 간극 C에 대응하는 영역에 있어서의 코팅층 중의 크랙의 발생의 유무를 확인했다.

재치대(501, 502)의 이동 속도, 굽힘력의 부가의 페이스는, 어느 적층체에 대한 평가 시험에 있어서도 동일한 조건으로 했다.

A: 굽힘력의 부가 횟수가 30만에 도달해도 크랙이 발생하지 않았다.

B: 굽힘력의 부가 횟수가 20만 이상 30만 미만에서 크랙이 발생했다.

C: 굽힘력의 부가 횟수가 10만 이상 20만 미만에서 크랙이 발생했다.

D: 굽힘력의 부가 횟수가 10만 미만에서 크랙이 발생했다.

[표 2]

표 2중, 「A1＋A2」에 대해서, 「A1＋A2≤130」을 「A」, 「130＜A1＋A2≤230」을 「B」, 「230＜A1＋A2≤260」을 「C」, 「260＜A1＋A2」를 「D」로 했다. 「A2-A1」에 대해서, 「100≤A2-A1」을 「A」, 「0≤A2-A1＜100」을 「B」, 「-100≤A2-A1＜0」을 「C」, 「A2-A1＜-100」을 「D」로 했다. 이하의 표에 대해서도 마찬가지이다.

실시예 1-1 및 1-2의 적층체는, 「A1＋A2」가 230 이하이며, 「A2-A1」이 0 이상이었다. 이들 적층체에서는, 코팅층의 크랙의 발생이 억제되어 있었다. 또한, 「A1＋A2」가 130 이하인 실시예 1-1의 적층체에서는, 크랙의 발생이 보다 억제되어 있었다. 한편, 같은 코팅층을 이용하고 있음에도 불구하고, 「A2-A1」이 0보다 작은 비교예 1-1의 적층체나, 「A1＋A2」가 230보다 큰 비교예 1-2의 적층체에서는, 크랙의 발생이 억제되어 있지 않았다.

<실시예 2-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「C25」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 「기재 필름／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체의 보호층(OC층)측에 첩합하여, 적층체 B1을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 B1로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 「기재 필름／제2 배향막／위상차층」으로 이루어지는 적층체의 위상차층측에 첩합하여, 적층체 B2를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「C15」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 적층체 B2로부터 위상차층의 형성에 이용한 기재 필름과 제2 배향막을 박리한 면에 첩합하여, 적층체 B3을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「A25」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 전면판의 하드 코팅층을 갖지 않는 측에 첩합하여, 적층체 B4를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 B4로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 적층체 B3에 있어서의 편광자층의 형성에 이용한 기재 필름측에 첩합하여, 적층체 B5를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 B5로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 배면판에 첩합하여, 도 3에 나타내는 실시예 2-1의 적층체를 얻었다. 도 3 중, 전면판으로부터 보호층(OC층)까지가 제1 보호층(10), 보호층(OC층) 하의 점착제층이 제1 점착제층(11), 위상차층이 개재 코팅층(12), 위상차층 하의 점착제층이 제2 점착제층(13), 배면판이 제2 보호층(14)이다.

<실시예 2-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「C15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 2-1과 마찬가지로 하여, 실시예 2-2의 적층체를 얻었다.

<비교예 2-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「A25」 대신에 「C05」를, 「C25」 대신에 「C15」를, 「C15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 2-1과 마찬가지로 하여, 비교예 2-1의 적층체를 얻었다.

<비교예 2-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「A25」 대신에 「C15」를, 「C25」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 2-1과 마찬가지로 하여, 비교예 2-2의 적층체를 얻었다.

실시예 2-1, 2-2, 비교예 2-1, 2-2의 적층체에 이용된 점착제층을 표 3에 정리한다. 「A1＋A2」, 「A2-A1」의 값은 표 3에 기재된 바와 같다. 적층체에 대해서, 굴곡성 시험을 행한 결과를 표 3에 나타낸다.

[표 3]

실시예 2-1 및 2-2의 적층체는, 「A1＋A2」가 230 이하이며, 「A2-A1」이 0 이상이었다. 이들 적층체에서는, 코팅층의 크랙의 발생이 억제되어 있었다. 한편, 같은 코팅층을 이용하고 있음에도 불구하고, 「A1＋A2」가 230보다 큰 비교예 2-1의 적층체나, 「A1＋A2」가 230보다 크고, 「A2-A1」이 0보다 작은 비교예 2-2의 적층체에서는, 크랙의 발생이 억제되어 있지 않았다.

<실시예 3-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」의 경박리 필름 B를 박리하고, 「기재 필름／보호층(HC층)／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체의 보호층(OC층)측에 첩합하여, 적층체 C1을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 C1로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 「기재 필름／제2 배향막／위상차층」으로 이루어지는 적층체의 위상차층측에 첩합하여, 적층체 C2를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「B15」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 적층체 C2로부터 위상차층의 형성에 이용한 기재 필름과 제2 배향막을 박리한 면에 첩합하여, 적층체 C3을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「A25」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 전면판의 하드 코팅층을 갖지 않는 측에 첩합하여, 적층체 C4를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 C4로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 적층체 C3으로부터 편광자층의 형성에 이용한 기재 필름을 박리한 면에 첩합하여, 적층체 C5를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 C5로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 배면판에 첩합하여, 도 4에 나타내는 실시예 3-1의 적층체를 얻었다. 도 4 중, 패턴 (a)로서는, 전면판이 제1 보호층(10), 전면판 하의 점착제층이 제1 점착제층(11), 보호층(HC층)으로부터 보호층(OC층)이 개재 코팅층(12), 보호층(OC층) 하의 점착제층이 제2 점착제층(13), 위상차층으로부터 배면판까지가 제2 보호층(14)으로 인정된다. 패턴 (b)로서는, 전면판으로부터 보호층(OC층)까지가 제1 보호층(10), 보호층(OC층) 하의 점착제층이 제1 점착제층(11), 위상차층이 개재 코팅층(12), 위상차층 하의 점착제층이 제2 점착제층(13), 배면판이 제2 보호층(14)으로 인정된다.

<실시예 3-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」 대신에 「B25」를, 「B15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 3-1과 마찬가지로 하여, 실시예 3-2의 적층체를 얻었다.

<비교예 3-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「A25」 대신에 「C05」를, 「A15」 대신에 「B25」를, 「B15」 대신에 「A25」를 이용한 것 이외는 실시예 3-1과 마찬가지로 하여, 비교예 3-1의 적층체를 얻었다.

<비교예 3-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「A25」 대신에 「C25」를, 「A15」 대신에 「C15」를, 「B15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 3-1과 마찬가지로 하여, 비교예 3-2의 적층체를 얻었다.

실시예 3-1, 3-2, 비교예 3-1, 3-2의 적층체에 이용된 점착제층을 표 4에 정리한다. 「A1＋A2」, 「A2-A1」의 값은 표 4에 기재된 바와 같다. 적층체에 대해서, 굴곡성 시험을 행한 결과를 표 4에 나타낸다.

[표 4]

실시예 3-1 및 3-2의 적층체는, 적층체를 패턴 (a) 및 (b) 중 어느 것으로 인식했을 때에도, 「A1＋A2」가 230 이하이며, 「A2-A1」이 0 이상이었다. 이들 적층체에서는, 크랙의 발생이 억제되어 있었다. 한편, 적층체를 패턴 (a) 및 (b) 중 어느 것으로 인식했을 때에도, 「A2-A1」이 0보다 작은 비교예 3-1의 적층체에서는, 크랙의 발생이 억제되어 있지 않았다. 비교예 3-2의 적층체는, 패턴 (a)로 인식했을 때에는, 「A1＋A2」가 230 이하, 「A2-A1」이 0 이상이었지만, 패턴 (b)로 인식했을 때에는, 「A1＋A2」가 230보다 컸다. 비교예 3-2의 적층체에서는, 굴곡에 의한 크랙의 발생은 억제되어 있지 않았다.

<실시예 4-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 「기재 필름／보호층(HC층)／제1 배향막／편광자층／보호층(OC층)」으로 이루어지는 적층체의 보호층(OC층)측에 첩합하여, 적층체 D1을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 D1로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 「기재 필름／제2 배향막／위상차층」으로 이루어지는 적층체의 위상차층측에 첩합하여, 적층체 D2를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「B25」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 적층체 D2로부터 위상차층의 형성에 이용한 기재 필름과 제2 배향막을 박리한 면에 첩합하여, 적층체 D3을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「A25」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 전면판의 하드 코팅층을 갖지 않는 측에 첩합하여, 적층체 D4를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 D4로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 적층체 D3으로부터 편광자층의 형성에 이용한 기재 필름을 박리한 면에 첩합하여, 적층체 D5를 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 D5로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 터치 센서 패널의 분리층측에 첩합하여, 적층체 D6을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

점착 시트 「B15」로부터 경박리 필름 B를 박리하고, 적층체 D6으로부터 터치 센서 패널의 보호 필름을 박리하고 다른 면에 첩합하여, 적층체 D7을 얻었다. 첩합면에는 미리 양면 코로나 처리(출력 0.3kW, 속도 3m／분)를 행했다.

적층체 D7로부터 중박리 필름 A를 박리하고, 배면판에 첩합하여, 도 5에 나타내는 실시예 4-1의 적층체를 얻었다. 도 5 중, 패턴 (a)로서는, 전면판이 제1 보호층(10), 전면판 하의 점착제층이 제1 점착제층(11), 보호층(HC층)으로부터 보호층(OC)이 개재 코팅층(12), 보호층(OC) 하의 점착제층이 제2 점착제층(13), 위상차층으로부터 배면판까지가 제2 보호층(14)으로 인정된다. 패턴 (b)로서는, 전면판으로부터 보호층(OC층)까지가 제1 보호층(10), 보호층(OC층) 하의 점착제층이 제1 점착제층(11), 위상차층이 개재 코팅층(12), 위상차층 하의 점착제층이 제2 점착제층(13), 터치 센서 패널로부터 배면판이 제2 보호층(14)으로 인정된다. 패턴 (c)로서는, 전면판으로부터 위상차층까지가 제1 보호층(10), 위상차층 하의 점착제층이 제1 점착제층(11), 터치 센서 패널이 개재 코팅층(12), 터치 센서 패널 하의 점착제층이 제2 점착제층(13), 배면판이 제2 보호층(14)으로 인정된다.

<실시예 4-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「A15」 대신에 「B25」를, 「B25」 대신에 「C25」를, 「B15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 4-1과 마찬가지로 하여, 실시예 4-2의 적층체를 얻었다.

<비교예 4-1의 적층체의 제조>

점착 시트 「A25」 대신에 「C05」를, 「A15」 대신에 「C25」를, 「B15」 대신에 「A25」를 이용한 것 이외는 실시예 4-1과 마찬가지로 하여, 비교예 4-1의 적층체를 얻었다.

<비교예 4-2의 적층체의 제조>

점착 시트 「A25」 대신에 「B25」를, 「A15」 대신에 「C25」를, 「B25」 대신에 「C15」를, 「B15」 대신에 「C05」를 이용한 것 이외는 실시예 4-1과 마찬가지로 하여, 비교예 4-2의 적층체를 얻었다.

실시예 4-1, 4-2, 비교예 4-1, 4-2의 적층체에 이용된 점착제층을 표 5에 정리한다. 「A1＋A2」, 「A2-A1」의 값은 표 5에 기재된 바와 같다. 적층체에 대해서, 굴곡성 시험을 행한 결과를 표 5에 나타낸다.

[표 5]

실시예 4-1 및 4-2의 적층체는, 적층체를 패턴 (a)∼(c) 중 어느 것으로 인식했을 때에도, 「A1＋A2」가 230 이하이며, 「A2-A1」이 0 이상이었다.

이들 적층체에서는, 크랙의 발생이 억제되어 있었다. 또한, 어느 패턴에서도 「A1＋A2」가 130 이하인 실시예 4-1의 적층체에서는, 크랙의 발생이 보다 억제되어 있었다. 한편, 적층체를 패턴 (a)∼(c) 중 어느 것으로 인식했을 때에도, 「A2-A1」이 0보다 작은 비교예 4-1의 적층체에서는, 크랙의 발생이 억제되어 있지 않았다. 비교예 4-2의 적층체는, 패턴 (a) 및 (b)로 인식했을 때에는, 「A1＋A2」가 230 이하, 「A2-A1」이 0 이상이었지만, 패턴 (c)로 인식했을 때에는, 「A1＋A2」가 230보다 컸다. 비교예 4-2의 적층체에서는, 굴곡에 의한 크랙의 발생은 억제되어 있지 않았다.

100: 적층체 10: 제1 보호층
11: 제1 점착제층 12: 개재 코팅층
13: 제2 점착제층 14: 제2 보호층
501, 502: 스테이지 1: 전면판
2: 점착제층 3: 기재 필름
4: 편광자층 5: 위상차층
6: 배면판 7: 제1 배향막
8: 보호층(OC층) 9: 보호층(HC층)
0: 터치 센서 패널

Claims (7)

1. 제1 보호층과, 제1 점착제층과, 개재 코팅층과, 제2 점착제층과, 제2 보호층을 이 순으로 구비하는 적층체로서,
   각 층은 서로 접해 있고,
   상기 제1 점착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'1〔㎪〕로 하고, 상기 제2 점착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률을 G'2〔㎪〕로 하고, 상기 제1 점착제층의 두께를 a1〔㎛〕로 하고, 상기 제2 점착제층의 두께를 a2〔㎛〕로 했을 때에, 하기 식(1) 및 식(2):
   A1＝G'1／a1 (1)
   A2＝G'2／a2 (2)
   으로 표시되는 평가 파라미터 A1 및 A2는, 하기 식(3) 및 식(4):
   A1＋A2≤230 (3)
   A2-A1≥0 (4)
   을 충족시키는, 적층체.
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 보호층은, 인장 탄성률이 4.0㎬ 이상인 윈도우 필름을 포함하는, 적층체.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 제2 보호층은, 인장 탄성률이 4.0㎬ 이상인 배면판을 포함하는, 적층체.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 개재 코팅층은 1층 이상으로 이루어지고, 각 층의 두께는 5㎛ 이하인, 적층체.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 개재 코팅층은, 편광자층, 위상차층 또는 터치 센서 패널을 포함하는, 적층체.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 G'1 및 상기 G'2는, 각각 10000㎪ 이하인, 적층체.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 구비하는 표시 장치.

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