TW202132825A - 光學積層體及具備其的顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明的目的在於獲得即便於用於彎曲軸未固定在光學積層體的中央的圖像顯示裝置的情況下亦可抑制於端部產生的排斥力的光學積層體、及具備其的圖像顯示裝置。根據本發明，可提供如下的光學積層體，所述光學積層體包含前表面板、偏光板、背面板、及至少一層貼合層，於將光學積層體的彎曲剛性設為K〔格利單位〕時，滿足下述關係式（1）：400≦K≦2000     （1）。

Description

光學積層體及具備其的顯示裝置

本發明是有關於一種光學積層體及具備其的顯示裝置。

於專利文獻1中提出可判斷作為可撓性觸控螢幕面板（touch screen panel）用基材的可利用性的評價方法，並且記載滿足可撓性觸控螢幕面板用基材的彎曲疲勞物性般的韌性與彎曲應力的關係。專利文獻2是有關於一種確保結構的柔軟性的可撓性顯示元件。專利文獻2中記載的可撓性顯示元件除包括基底膜及形成於基底膜的上部的顯示片以外亦包括結構化圖案，將彎曲應力為0（Zero）的中性面移至破壞點低的層，藉此可防止於顯示面板產生的裂紋、剝離等損傷。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]韓國公開專利第10-2016-0071796號公報 [專利文獻2]韓國公開專利第10-2014-0108914號公報

[發明所欲解決之課題]

若使光學積層體彎曲，則會產生作用於光學積層體的端部翹曲的方向上的排斥力。因此，於將光學積層體組入至可撓性圖像顯示裝置的情況下，需要構成為減小光學積層體的翹曲。然而，於光學積層體的所述排斥力大的情況下，有時會產生光學積層體產生裂紋、光學積層體於圖像顯示裝置內剝離等問題。

本發明者等人獲得如下見解：自彎曲軸至端部的距離越短，則作用於光學積層體的端部翹曲的方向上的排斥力越大。於將光學積層體應用於彎曲軸並非光學積層體的中央的圖像顯示裝置、光學積層體的彎曲軸發生變化的圖像顯示裝置等的情況下，與彎曲軸位於光學積層體的中央附近的情況相比，端部的排斥力可能變大，因此容易產生所述問題。

本發明的目的在於獲得即便於用於彎曲軸未固定在光學積層體的中央的圖像顯示裝置的情況下，於端部產生的排斥力亦小的光學積層體、及具備其的圖像顯示裝置。 [解決課題之手段]

本發明提供以下例示的光學積層體及圖像顯示裝置。 [1] 一種光學積層體，包含前表面板、偏光板、背面板、及至少一層貼合層，所述光學積層體中， 於將所述光學積層體的彎曲剛性設為K〔格利（gurley）單位〕時，滿足下述關係式（1）： 400≦K≦2000  （1）。 [2] 如[1]所述的光學積層體，其中所述前表面板的厚度與所有貼合層的厚度的合計為50 μm以上且200 μm以下。 [3] 如[1]或[2]所述的光學積層體，其中所述前表面板的厚度為60 μm以下。 [4] 如[1]至[3]中任一項所述的光學積層體，其中所有貼合層的厚度的合計為3 μm以上且130 μm以下。 [5] 如[1]至[4]中任一項所述的光學積層體，進而包括耐衝擊層， 所述耐衝擊層的厚度為100 μm以下。 [6] 一種圖像顯示裝置，包括如[1]至[5]中任一項所述的光學積層體。 [7] 如[6]所述的圖像顯示裝置，其中能夠使所述前表面板側為外側進行彎曲。 [發明的效果]

根據本發明，目的在於提供一種即便於用於彎曲軸未固定在光學積層體的中央的圖像顯示裝置的情況下，於端部產生的排斥力亦小的光學積層體、及具備其的圖像顯示裝置。

以下，參照圖式對本發明的實施方式進行說明，但本發明並不限定於以下的實施方式。於以下的所有圖式中，為了使各結構要素容易理解而適宜調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各結構要素的比例尺與實際的結構要素的比例尺未必一致。

＜光學積層體＞ 本發明的光學積層體包含前表面板、偏光板、背面板、及至少一層貼合層。將本發明的光學積層體的層結構的一例示於圖1及圖2。

圖1是本發明的光學積層體的一例的概略剖面圖。圖1所示的光學積層體100依序具有前表面板10、貼合層40、偏光板20、貼合層41、及背面板30。 圖2是本發明的光學積層體的另一例的概略剖面圖。圖2所示的光學積層體200依序具有前表面板10、貼合層40、耐衝擊層50、貼合層42、偏光板20、貼合層41、及背面板30。

光學積層體100、光學積層體200的厚度根據光學積層體所要求的功能及光學積層體的用途等而不同，因此並無特別限定，例如為30 μm以上且2000 μm以下，可為50 μm以上且1500 μm以下，可為70 μm以上且1000 μm以下，可為500 μm以下，可為300 μm以下。

光學積層體100、光學積層體200的俯視形狀例如可為方形形狀，較佳為具有長邊與短邊的方形形狀，更佳為長方形。於光學積層體100、光學積層體200的面方向的形狀為長方形的情況下，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。對於構成光學積層體100、光學積層體200的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。

光學積層體100、光學積層體200例如可用於圖像顯示裝置等。圖像顯示裝置並無特別限定，例如可列舉：有機電致發光（有機EL）顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等。光學積層體100、光學積層體200特別適合於彎曲軸未固定在光學積層體的中央的圖像顯示裝置。

[光學積層體的彎曲剛性] 於將光學積層體的彎曲剛性設為K〔格利單位〕時，光學積層體滿足下述關係式（1）： 400≦K≦2000  （1）。 彎曲剛性藉由按照TAPPI T543om-00並使用格利型試驗機進行測定。再者，1 mN=9.807×10^-3 格利單位。

於光學積層體的彎曲剛性K〔格利單位〕為2000以下時，可獲得彎曲時端部的排斥力得到減少的光學積層體。

若使光學積層體彎曲，則如圖3的（a）所示，光學積層體的端部有時會翹曲。於作用於該端部翹曲的方向上的排斥力大的情況下，若以抑制端部的翹曲的方式將光學積層體收納於圖像顯示裝置中，則有時光學積層體會產生裂紋，或者與圖像顯示元件之間會產生剝離。本發明者等人獲得如下見解：自彎曲軸至端部的距離越短，則作用於光學積層體的端部翹曲的方向上的排斥力越大。因此於將光學積層體應用於彎曲軸並非光學積層體的中央的圖像顯示裝置、光學積層體的彎曲軸的位置發生變化的圖像顯示裝置等的情況下，與彎曲軸位於光學積層體的中央附近的情況相比，端部的排斥力有時會變大。

本發明者等人發現，於光學積層體的彎曲剛性與端部的排斥力之間具有相關性，若光學積層體的彎曲剛性大，則排斥力亦變大。於光學積層體的彎曲剛性K〔格利單位〕為2000以下時，排斥力會減少，本發明的光學積層體即便於應用於彎曲軸未於光學積層體的中央附近固定的圖像顯示裝置、彎曲軸的位置可變的圖像顯示裝置的情況下，亦可抑制裂紋或剝離的產生等問題。彎曲時端部的翹曲少的光學積層體的例子示於圖3的（b）及圖3的（c）。於圖3的（a）～圖3的（c）中，光學積層體使前表面板為外側而進行彎曲。於圖3的（b）及圖3的（c）中，端部的排斥力亦小，例如利用後述的實施例中所記載的方法測定的彎曲排斥力為7.0 gf以下。

另一方面，可知若光學積層體的彎曲剛性過小，則光學積層體的耐衝擊性會降低。若光學積層體的耐衝擊性降低，則有可能於設置於光學積層體的與前表面板相反之側的背面板上產生由衝擊引起的不良情況（例如，觸控感測器的運作不良），或者包括光學積層體的圖像顯示裝置的耐久性降低。於光學積層體的彎曲剛性K〔格利單位〕為400以上時，光學積層體可具有充分的耐衝擊性。光學積層體的耐衝擊性例如可作為針對落筆試驗的耐久性來評價。針對落筆試驗的耐久性可利用後述的實施例中所記載的方法來評價。

本說明書中，彎曲包含於彎曲部分形成曲面的彎折的形態，彎折的內表面的彎曲半徑並無特別限定。另外，彎曲亦包含內表面的曲折角大於0度且未滿180度的曲折、及內表面的彎曲半徑近似為零、或者內表面的曲折角為0度的折疊。

就減小光學積層體的排斥力的觀點而言，彎曲剛性K〔格利單位〕較佳為1800以下，更佳為1500以下。就提高光學積層體的耐衝擊性的觀點而言，彎曲剛性K〔格利單位〕較佳為600以上，更佳為800以上，進而佳為1000以上。

光學積層體的彎曲剛性可藉由變更前表面板的種類及厚度、貼合層的種類及厚度、耐衝擊層的有無及其厚度、光學積層體的厚度等來調整為所期望的值。

[前表面板] 前表面板10只要為能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無限定。前表面板可僅包括一層，亦可包括兩層以上。作為前表面板10，可列舉：樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體。前表面板10可構成圖像顯示裝置的最表面。

前表面板10的厚度例如可為10 μm以上且500 μm以下。就減小彎曲排斥力的觀點而言，前表面板10的厚度較佳為100 μm以下，更佳為80 μm以下，進而佳為60 μm以下。就提高耐衝擊性的觀點而言，前表面板10的厚度較佳為20 μm以上，更佳為30 μm以上。於本發明中，構成光學積層體的各層的厚度可按照後述的實施例中說明的厚度測定方法進行測定。

於前表面板10為樹脂製的板狀體的情況下，樹脂製的板狀體只要能夠透過光，則並無限定。作為構成樹脂製的板狀體的樹脂，例如可列舉：三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等高分子。該些高分子可單獨使用或將兩種以上混合而使用。就強度及透明性提高的觀點而言，樹脂製的板狀體較佳為由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的樹脂膜。

就硬度的觀點而言，前表面板10可為包括硬塗層的樹脂膜。硬塗層可形成於樹脂膜的其中一面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可提高硬度及耐刮傷性。硬塗層例如為紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高強度，硬塗層可包含添加劑。添加劑並無特別限定，可列舉：無機系微粒子、有機系微粒子、或者該些的混合物。於樹脂膜的兩面具有硬塗層的情況下，各硬塗層的組成或厚度可相互相同，亦可相互不同。

於前表面板10為玻璃板的情況下，玻璃板可較佳地使用顯示用強化玻璃。玻璃板的厚度例如可為10 μm以上且1000 μm以下，亦可為10 μm以上且100 μm以下。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的前表面板10。

於將光學積層體用於圖像顯示裝置的情況下，前表面板10不僅具有保護顯示裝置的前表面（畫面）的功能（作為窗貼膜的功能），亦可具有作為觸控感測器的功能、藍光隔斷功能、視角調整功能等。

[偏光板] 偏光板20例如可為直線偏光板、圓偏光板、橢圓偏光板等。以下，有時將圓偏光板與橢圓偏光板統稱而簡稱為圓偏光板。圓偏光板包括直線偏光板及相位差層。圓偏光板可吸收於圖像顯示裝置中經反射的外部光，因此可對光學積層體賦予作為防反射膜的功能。

偏光板20的厚度通常為5 μm以上，可為20 μm以上，亦可為25 μm以上，抑或可為30 μm以上。偏光板20的厚度較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下。

（直線偏光板） 直線偏光板具有從自然光等非偏光的光線選擇性地透過某一方向上的直線偏光的功能。直線偏光板可包括吸附了二色性色素的延伸膜或延伸層、包含聚合性液晶化合物的硬化物及二色性色素並將二色性色素分散於聚合性液晶化合物的硬化物中進行配向的液晶層等作為偏光片層。若使色素分散於具有各向異性的介質中進行配向，則有時自某方向看起來著色，自與其垂直的方向看起來幾乎無色。將顯示此種現象的色素稱為二色性色素。與吸附了二色性色素的延伸膜或延伸層相比，將液晶層用作偏光片層的直線偏光板的彎曲方向並無限制，因此較佳。

（1）作為吸附了二色性色素的延伸膜或延伸層的偏光片層 作為吸附了二色性色素的延伸膜的偏光片層通常可經過如下步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸的步驟；藉由利用碘等二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；利用硼酸水溶液對吸附了二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後水洗的步驟。

偏光片層的厚度通常為30 μm以下，較佳為18 μm以下，更佳為15 μm以下。減薄偏光片層的厚度時對於偏光板20的薄膜化而言有利。偏光片層的厚度通常為1 μm以上，例如可為5 μm以上。

聚乙烯醇系樹脂是藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了使用作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，可使用乙酸乙烯酯和能夠與其共聚的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚的其他單量體，例如可列舉：不飽和羧酸系化合物、烯烴系化合物、乙烯醚系化合物、不飽和碸系化合物、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺系化合物。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上且100莫耳%以下左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，亦可使用經醛類改質的聚乙烯縮甲醛、聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。

作為吸附了二色性色素的延伸層的偏光片層通常可經過如下步驟來製造：將包含所述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材膜上的步驟；將所獲得的積層膜單軸延伸的步驟；藉由利用二色性色素對經單軸延伸的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色，吸附該二色性色素而製成偏光片層的步驟；利用硼酸水溶液對吸附了二色性色素的膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後水洗的步驟。用於形成偏光片層的基材膜可用作偏光片層的保護層。視需要可自偏光片層剝離去除基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。

作為吸附了二色性色素的延伸膜或延伸層的偏光片層可直接用作直線偏光板，亦可於其單面或兩面形成保護層而用作直線偏光板。作為保護層，可使用後述的熱塑性樹脂膜。所獲得的直線偏光板的厚度較佳為2 μm以上且40 μm以下。

熱塑性樹脂膜例如可列舉：環聚烯烴系樹脂膜；包含三乙醯纖維素、二乙醯纖維素等樹脂的乙酸纖維素系樹脂膜；包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂的聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；(甲基)丙烯酸系樹脂膜；聚丙烯系樹脂膜等本領域中公知的膜。偏光片層與保護層可經由後述的貼合層來積層。

就薄型化的觀點而言，熱塑性樹脂膜的厚度通常為100 μm以下，較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下，進而佳為40 μm以下，再者進而佳為30 μm以下，另外通常為5 μm以上，較佳為10 μm以上。

可於熱塑性樹脂膜上形成硬塗層。硬塗層可形成於熱塑性樹脂膜的其中一面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐刮傷性的熱塑性樹脂膜。硬塗層可與形成於所述樹脂膜上的硬塗層同樣地形成。

（2）作為液晶硬化層的偏光片層 用於形成液晶層的聚合性液晶化合物是具有聚合性反應基且顯示液晶性的化合物。聚合性反應基是參與聚合反應的基，較佳為光聚合性反應基。光聚合性反應基是指藉由自光聚合起始劑產生的活性自由基或酸等而可參與聚合反應的基。作為光聚合性官能基，可列舉：乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、氧雜環丙基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、乙烯基氧基、氧雜環丙基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯基氧基。聚合性液晶化合物的種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及該些的混合物。聚合性液晶化合物的液晶性可為液晶性為熱致（thermotropic）性液晶亦可為溶致（lyotropic）性液晶，作為相序結構，可為向列液晶亦可為層列液晶。

關於作為液晶層的偏光片層中所使用的二色性色素，較佳為於300 nm～700 nm的範圍具有吸收極大波長（λMAX）者。作為此種二色性色素，例如可列舉：吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、及蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉：單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、及二苯乙烯偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素、及三偶氮色素。二色性色素可為單獨，亦可組合兩種以上，較佳為組合三種以上。特別是更佳為組合三種以上的偶氮化合物。二色性色素的一部分可具有反應性基，另外亦可具有液晶性。

作為液晶層的偏光片層例如可藉由在形成於基材膜上的配向膜上塗佈包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物，並將聚合性液晶化合物聚合使其硬化而形成。亦可於基材膜上塗佈偏光片層形成用組成物而形成塗膜，並將該塗膜與基材膜一起延伸，藉此形成偏光片層。用於形成偏光片層的基材膜可用作偏光片層的保護層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。

作為包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物、及使用該組成物的偏光片層的製造方法，可例示日本專利特開2013-37353號公報、日本專利特開2013-33249號公報、日本專利特開2017-83843號公報等中記載者。偏光片層形成用組成物除了包含聚合性液晶化合物及二色性色素以外，亦可進而包含溶媒、聚合起始劑、交聯劑、調平劑、抗氧化劑、塑化劑、增感劑等添加劑。該些成分分別可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。

偏光片層形成用組成物可含有的聚合起始劑為可使聚合性液晶化合物的聚合反應起始的化合物，就可於更低溫條件下使聚合反應起始的方面而言，較佳為光聚合性起始劑。具體而言，可列舉可藉由光的作用產生活性自由基或酸的光聚合起始劑，其中較佳為藉由光的作用產生自由基的光聚合起始劑。相對於聚合性液晶化合物的總量100質量份，聚合起始劑的含量較佳為1質量份以上且10質量份以下，更佳為3質量份以上且8質量份以下。若為該範圍內，則聚合性基的反應充分進行，且容易使液晶化合物的配向狀態穩定化。

作為液晶層的偏光片層的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。

作為液晶層的偏光片層可不剝離去除基材膜而用作直線偏光板，亦可將基材膜自偏光片層剝離去除而作為直線偏光板。作為液晶層的偏光片層亦可於其單面或兩面形成保護層而用作直線偏光板。作為保護層，可使用所述熱塑性樹脂膜。

作為液晶層的偏光片層可以保護偏光片層等為目的，於偏光片層的單面或兩面具有外塗層。外塗層例如可藉由在偏光片層上塗佈用以形成外塗層的材料（組成物）來形成。作為構成外塗層的材料，例如可列舉光硬化性樹脂、水溶性聚合物等。作為構成外塗層的材料，可使用(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。

偏光板20可經由後述的貼合層於直線偏光板的與視認側為相反側的面上包括相位差層。

（相位差層） 相位差層可為一層亦可為兩層以上。相位差層可具有保護其表面的外塗層、支撐相位差層的基材膜等。相位差層包含λ/4層，可進而包含λ/2層或正C層的至少任一者。於相位差層包含λ/2層的情況下，自直線偏光板側起依次積層λ/2層及λ/4層。於相位差層包含正C層的情況下，可自直線偏光板側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光板側起依次積層正C層及λ/4層。相位差層的厚度例如為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且6 μm以下。

相位差層可由作為保護層的材料而例示的樹脂膜形成，亦可由聚合性液晶化合物硬化而成的層形成。相位差層可進而包含配向膜。相位差層可具有用以貼合λ/4層與λ/2層及正C層的貼合層。

於使聚合性液晶化合物硬化而形成相位差層的情況下，相位差層可藉由將包含聚合性液晶化合物的組成物塗佈於基材膜上並使其硬化來形成。亦可於基材膜與塗佈層之間形成配向層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。於由使聚合性液晶化合物硬化而成的層形成相位差層的情況下，相位差層可以具有配向層及基材膜的形態組入至光學積層體。相位差層可經由貼合層而與直線偏光板貼合。

[耐衝擊層] 光學積層體可包括耐衝擊層50以提高光學積層體的耐衝擊性。耐衝擊層50可與前表面板10直接接觸，亦可於與前表面板10之間經由貼合層40或其他層而設置。

耐衝擊層50的厚度例如為10 μm以上且100 μm以下。耐衝擊層50的厚度較佳為80 μm以下，更佳為50 μm以下，且較佳為30 μm以上，更佳為40 μm以上。若耐衝擊層50的厚度小，則有耐衝擊性降低的傾向，若耐衝擊層50的厚度大，則有彎曲排斥力上升的傾向。

於光學積層體包括耐衝擊層50的情況下，前表面板10的厚度與耐衝擊層50的厚度的合計例如為20 μm以上且200 μm以下。前表面板10的厚度與耐衝擊層50的厚度的合計較佳為50 μm以上，且較佳為100 μm以下。

耐衝擊層50只要為能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無限定，例如可列舉作為前表面板10而列舉的板狀體。就彈性物性及通用性的觀點而言，構成耐衝擊層50的樹脂製的板狀體較佳為由聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯等高分子形成的樹脂膜。

[貼合層] 光學積層體具有至少一層貼合層。光學積層體具有的貼合層的數量較佳為2以上，較佳為3以上，且可為10以下，可為8以下。貼合層是介隔存在於兩個層之間並將該些貼合的層，例如可為包含黏著劑或接著劑的層或者對該層實施某種處理而成的層。所謂黏著劑，亦被稱為感壓式接著劑。本說明書中所謂「接著劑」是指黏著劑（感壓式接著劑）以外的接著劑，與黏著劑明確區分。

構成光學積層體的貼合層的各個的厚度例如為3 μm以上且50 μm以下，就容易將彎曲排斥力控制在規定的範圍的觀點而言，較佳為3 μm以上且30 μm以上。若貼合層的厚度小，則有耐衝擊性降低的傾向，若貼合層的厚度大，則有彎曲排斥力上升的傾向。構成光學積層體的所有貼合層的厚度的合計例如為3 μm以上且130 μm以下，較佳為5 μm以上且120 μm以下，更佳為10 μm以上且100 μm以下。

前表面板10與和前表面板相接的貼合層40的厚度的合計例如可為25 μm以上且500 μm以下。就減小彎曲排斥力的觀點而言，前表面板10與和前表面板相接的貼合層的厚度的合計較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，進而佳為80 μm以下。

就提高耐衝擊性的觀點而言，前表面板的厚度與所有貼合層的厚度的合計較佳為50 μm以上，更佳為60 μm以上。就減小彎曲排斥力的觀點而言，前表面板的厚度與所有貼合層的厚度的合計較佳為200 μm以下，更佳為150 μm以下。就提高耐衝擊性的觀點而言，光學積層體較佳為滿足（1）前表面板的厚度為30 μm以上、及（2）貼合層的合計厚度為20 μm以上中的至少一個。

黏著劑層可包含一層，亦可包含兩層以上，但較佳為一層。黏著劑層可由黏著劑組成物形成。黏著劑層可包括將(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、矽酮系、聚乙烯醚系之類的樹脂作為主要成分的黏著劑組成物。其中，適合的是以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂作為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。

作為黏著劑組成物中所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（原料聚合物），可適合使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合體或共聚物。較佳為於原料聚合物中使極性單體共聚。作為極性單體，可列舉：(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。

黏著劑組成物可僅包含所述原料聚合物，但通常進而含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：於與羧基之間形成羧酸金屬鹽的二價以上的金屬離子；於與羧基之間形成醯胺鍵的多胺化合物；於與羧基之間形成酯鍵的聚環氧化合物或多元醇；於與羧基之間形成醯胺鍵的聚異氰酸酯化合物。其中較佳為聚異氰酸酯化合物。

活性能量線硬化型黏著劑組成物是如下黏著劑組成物：即具有受到紫外線或電子束之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有於活性能量線照射前亦具有黏著性而可與膜等被黏物密接，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密接力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除含有原料聚合物、交聯劑以外，進而含有活性能量線聚合性化合物。進而視需要亦有時含有光聚合起始劑或光增感劑等。

黏著劑組成物可包含用以賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。

黏著劑層可藉由使黏著劑組成物溶解或分散於甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑中而製備黏著劑液，將其直接塗敷於積層膜的對象面來形成黏著劑層的方式、或於實施了脫模處理的分離膜上以片狀形成黏著劑層並將其轉移至偏光板的對象面的方式等來進行。於使用活性能量線硬化型黏著劑組成物的情況下，可藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，來製成具有所期望的硬化度的硬化物。

黏著劑層的厚度例如可為1 μm以上且100 μm以下。黏著劑層的厚度較佳為3 μm以上，且較佳為50 μm以下，更佳為30 μm以下。若黏著劑層的厚度小，則有耐衝擊性降低的傾向，若黏著劑層的厚度大，則有彎曲排斥力上升的傾向。

溫度25℃下的黏著劑層的儲存彈性係數例如為0.01 MPa以上且0.2 MPa以下，較佳為0.1 MPa以下。認為於儲存彈性係數高時，耐衝擊性會提高。另一方面，於儲存彈性係數高時，有彎曲排斥力上升的傾向。儲存彈性係數可使用黏彈性測定裝置（安東帕（Anton Paar）公司製造的「MCR-301」（商品名））進行測定。將黏著劑層裁剪成寬20 mm×長20 mm，以厚度為150 μm的方式積層多片。將經積層的黏著劑層與玻璃板接合。於將黏著劑層與測定晶片接著的狀態下，在-20℃至100℃的溫度區域，於頻率1.0 Hz、變形量1%、升溫速度5℃/min的條件下進行測定，測定25℃下的儲存彈性係數值。

接著劑層包括使硬化性樹脂成分溶解或分散於水中而成的公知的水系組成物（包含水系接著劑）及含有活性能量線硬化性化合物的公知的活性能量線硬化性組成物（包含活性能量線硬化性接著劑）等。

作為水系組成物中含有的樹脂成分，可列舉聚乙烯醇系樹脂、胺基甲酸酯樹脂等。為了提高密接性或接著性，包含聚乙烯醇系樹脂的水系組成物可進而含有多元醛、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物、乙二醛、乙二醛衍生物、水溶性環氧樹脂等硬化性成分或交聯劑。作為包含胺基甲酸酯樹脂的水系組成物，可列舉包含聚酯系離聚物型胺基甲酸酯樹脂與具有縮水甘油氧基的化合物的水系組成物。所謂聚酯系離聚物型胺基甲酸酯樹脂是具有聚酯骨架的胺基甲酸酯樹脂，且是於其中導入少量離子性成分（親水成分）的樹脂。

活性能量線硬化性組成物是藉由紫外線、可見光、電子束、X射線等活性能量線的照射而硬化的組成物。

活性能量線硬化性組成物可為含有藉由陽離子聚合而硬化的環氧系化合物作為硬化性成分的組成物，較佳為含有該環氧系化合物作為硬化性成分的紫外線硬化性組成物。所謂環氧系化合物是指分子內具有平均一個以上、較佳為兩個以上的環氧基的化合物。環氧系化合物可使用僅一種，亦可併用兩種以上。

作為環氧系化合物，可列舉：藉由使表氯醇與對芳香族多元醇的芳香環進行氫化反應而獲得的脂環式多元醇反應而獲得的氫化環氧系化合物（具有脂環式環的多元醇的縮水甘油醚）；脂肪族多元醇或其環氧烷加成物的聚縮水甘油醚等脂肪族環氧系化合物；作為於分子內具有一個以上的鍵結於脂環式環上的環氧基的環氧系化合物即脂環式環氧系化合物等。

活性能量線硬化性組成物中可代替所述環氧系化合物、或者與其一起含有作為自由基聚合性的(甲基)丙烯酸系化合物作為硬化性成分。作為(甲基)丙烯酸系化合物，可列舉於分子內具有一個以上(甲基)丙烯醯基氧基的(甲基)丙烯酸酯單體；使兩種以上的含官能基的化合物反應而獲得的於分子內具有至少兩個(甲基)丙烯醯基氧基的(甲基)丙烯酸酯寡聚物等含(甲基)丙烯醯基氧基的化合物。

活性能量線硬化性組成物包含藉由陽離子聚合而硬化的環氧系化合物作為硬化性成分的情況下，較佳為含有光陽離子聚合起始劑。作為光陽離子聚合起始劑，可列舉：芳香族重氮鎓鹽；芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽等鎓鹽；鐵-芳烴錯合物等。 活性能量線硬化性組成物包含(甲基)丙烯酸系化合物等自由基聚合性成分的情況下，較佳為含有光自由基聚合起始劑。作為光自由基聚合起始劑，可列舉：苯乙酮系起始劑、二苯甲酮系起始劑、安息香醚系起始劑、硫雜蒽酮系起始劑、氧雜蒽酮、芴酮、樟腦醌、苯甲醛、蒽醌等。

接著劑層的厚度例如可為1 μm以上且25 μm以下。接著劑層的厚度較佳為2 μm以上，且較佳為15 μm以下，更佳為5 μm以下。若接著劑層的厚度小，則有耐衝擊性降低的傾向，若接著劑層的厚度大，則有彎曲排斥力上升的傾向。

溫度25℃下的接著劑層的儲存彈性係數例如為1000 MPa以上。認為於儲存彈性係數高時，耐衝擊性會提高。

經由貼合層而貼合的相向的兩個表面可預先進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，亦可具有底塗層等。

[背面板] 作為背面板30，可使用能夠透過光的板狀體、或通常的顯示裝置中所使用的結構要素等。作為背面板30中使用的通常的顯示裝置中所使用的結構要素，例如可列舉：隔板、觸控感測器面板、有機EL顯示元件等。作為顯示裝置中的結構要素的積層順序，例如可列舉：前表面板/圓偏光板/隔板、前表面板/圓偏光板/有機EL顯示元件、前表面板/圓偏光板/觸控感測器面板/有機EL顯示元件、前表面板/觸控感測器面板/圓偏光板/有機EL顯示元件等。背面板30較佳為觸控感測器面板。

[觸控感測器面板] 觸控感測器面板只要為具有能夠檢測出被觸控的位置的感測器（即觸控感測器）的面板，則並無限定。觸控感測器的檢測方式並無限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。就低成本而言，可適合使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。

作為電阻膜方式的觸控感測器的一例，可列舉如下構件，所述構件包括相互相向配置的一對基板、夾持於該些一對基板之間的絕緣性間隔物、於各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路。於設置有電阻膜方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，前表面板的表面被觸控時，相向的電阻膜短路，於電阻膜中流動電流。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓的變化，從而檢測被觸控的位置。

作為靜電電容耦合方式的觸控感測器的一例，可列舉如下構件，所述構件包括基板、設置於基板的整個面上的位置檢測用透明電極、以及觸控位置檢測電路。於設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，前表面板的表面被觸控時，於被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測被觸控的位置。

觸控感測器面板的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為5 μm以上且100 μm以下，進而佳為5 μm以上且50 μm以下。

觸控感測器面板可為於基材膜上形成有觸控感測器的圖案的構件。基材膜的例示可與所述熱塑性樹脂膜的說明中的例示相同。另外，觸控感測器面板亦可自基材膜經由黏著劑層轉印至被黏物。即，觸控感測器面板可為不具有基材膜者。觸控感測器圖案的厚度例如可為1 μm以上且20 μm以下。

[光學積層體的製造方法] 光學積層體可藉由包括如下步驟的方法來製造，即，經由貼合層將構成光學積層體的層彼此貼合的步驟。於經由貼合層將層彼此貼合的情況下，出於調整密接力的目的，較佳為對貼合面的其中一者或兩者實施電暈處理等表面活性化處理。電暈處理的條件可適宜設定，於貼合面的其中一面與另一面條件可不同。

＜圖像顯示裝置＞ 光學積層體100、光學積層體200配置於圖像顯示元件的前表面（視認側），可用作圖像顯示裝置的結構要素。作為圓偏光板的光學積層體於圖像顯示裝置中亦可用作賦予防反射功能的防反射用偏光板。

包含本發明的光學積層體的圖像顯示裝置可用作能夠彎曲或捲繞等的可撓性顯示器。作為可撓性顯示器的圖像顯示裝置可構成為能夠使前表面板10的表面（視認側）為外側進行彎曲，亦可構成為能夠使前表面板10的表面（視認側）為外側進行捲繞。

作為圖像顯示裝置具有的圖像顯示元件，例如可列舉：有機EL顯示元件、無機EL顯示元件、液晶顯示元件、電漿顯示元件、電場放射型顯示元件等。

圖像顯示裝置可用作智慧型手機、輸入板等移動設備、電視機、數位相框、電子廣告牌、測定器、計量儀器類、辦公用設備、醫療設備、電算設備等。 [實施例]

以下，列舉實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於該些實施例。實施例及比較例中的「%」及「份」只要無特別記載，則為「質量%」及「質量份」。

＜實施例1＞ [前表面板的準備] 作為前表面板10，準備了於基材膜的單面形成有硬塗層的厚度50 μm的樹脂膜。基材膜是厚度40 μm的聚醯亞胺系樹脂膜。硬塗層是厚度為10 μm、由包含末端具有多官能丙烯酸基的樹枝狀聚合物化合物的組成物所形成的層。

[耐衝擊層的準備] 作為耐衝擊層50，使用厚度45 μm的雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯（PET）膜（「魯米拉（Lumirror）」，東麗股份有限公司製造）。

[偏光板的準備] 於厚度25 μm的TAC膜（柯尼卡美能達（Konica Minolta）股份有限公司製造）的單面塗佈配向膜組成物，進行乾燥及偏光UV照射，形成光配向膜。於光配向膜上塗佈包含二色性色素與聚合性液晶化合物的組成物並乾燥後，藉由紫外線照射使聚合性液晶化合物硬化，形成偏光片（厚度2.5 μm）。於偏光片的與TAC膜側相反側的面上塗敷包含聚乙烯醇與水的保護層組成物及進行乾燥，從而形成保護層（厚度1 μm，圖中省略）。如此，獲得直線偏光板。

於所述直線偏光板的保護層上貼合相位差層的λ/4層側而獲得圓偏光板。相位差層的厚度為15 μm，具有依序積層有黏著劑層、λ/4層、黏著劑層及正C層的結構。黏著劑層的厚度均為5 μm。λ/4層具有液晶化合物硬化而成的層及配向膜，厚度為2 μm。正C層具有液晶化合物硬化而成的層及配向膜，厚度為3 μm。如此，準備了具有「TAC膜/光配向膜/偏光片/保護層/相位差層」的層結構的圓偏光板。

[貼合層的準備] 於剝離膜上塗佈丙烯酸系黏著劑組成物，並使其乾燥，藉此形成黏著劑層，以此準備帶剝離膜的黏著劑層。具體而言，如以下般製造。

以表1所示的比例將丙烯酸丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸2-乙基己酯、及丙烯酸混合，使其聚合而獲得丙烯酸系樹脂。相對於丙烯酸系樹脂100質量份，以表1所示的比例添加交聯劑及矽烷偶合劑，從而製備黏著劑組成物1及黏著劑組成物2。

利用敷料器，以乾燥後成為規定厚度的方式將黏著劑組成物1或黏著劑組成物2塗佈於經脫模處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）的脫模處理面。將塗佈層於100℃下乾燥1分鐘，獲得包括黏著劑層的膜。之後，於黏著劑層上貼合經脫模處理的另一聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）。之後，於溫度23℃、相對濕度50%RH的條件下養護7天。

於以下的實施例1～實施例5、及比較例1～比較例2中，使用由黏著劑組成物1所形成的黏著劑層（貼合層）。於比較例3中，使用由黏著劑組成物2所形成的黏著劑層（貼合層）。由黏著劑組成物1所形成的黏著劑層於溫度25℃下的儲存彈性係數為0.08 MPa。由黏著劑組成物2所形成的黏著劑層於溫度25℃下的儲存彈性係數為0.7 MPa。

表1中的單量體欄中的符號表示以下含義。 BA：丙烯酸丁酯 MMA：丙烯酸甲酯 EHA：丙烯酸2-乙基己酯 AA：丙烯酸 表1中的交聯劑及矽烷偶合劑使用以下者。 交聯劑：科羅奈特（Coronate）L（東曹股份有限公司製造） 矽烷偶合劑：KBM-403（信越化學工業股份有限公司製造）

[表1]

	構成(甲基)丙烯酸系樹脂的單量體	交聯劑	矽烷偶合劑
BA	MMA	EHA	AA
黏著劑組成物1	98.4	0	1	0.6	0.5	0.5
黏著劑組成物2	68	30	1	1	3	0.5

[背面板的準備] 作為背面板30，準備聚醯亞胺系樹脂膜（厚度50 μm、可隆（Kolon）公司）。

[光學積層體的製作] 以成為前表面板10、耐衝擊層50、偏光板20、背面板30的順序的方式積層各層。前表面板10與耐衝擊層50經由貼合層A而貼合，耐衝擊層50與偏光板20經由貼合層B而貼合，偏光板20與背面板30經由貼合層C而貼合，獲得實施例1的光學積層體。作為貼合層A、貼合層B及貼合層C，使用表2所示的厚度的黏著劑層。對貼合面進行電暈處理。所獲得的光學積層體為圖2所示的結構。

＜實施例2＞ 使用表2所示的厚度的黏著劑層作為貼合層A、貼合層B及貼合層C，除此以外與實施例1同樣地獲得實施例2的光學積層體。

＜實施例3＞ 使用於單面具有厚度25 μm的聚醯亞胺系樹脂膜與厚度為7 μm的硬塗層的厚度32 μm的樹脂膜作為前表面板10，及使用表2所示的厚度的黏著劑層作為貼合層B及貼合層C，使用接著劑層作為貼合層A，除此以外與實施例1同樣地獲得實施例3的光學積層體。作為貼合層A的接著劑層，使用藉由塗佈活性能量線硬化性組成物並照射紫外線而硬化的厚度2.0 μm的接著劑層。

＜實施例4＞ 使用表2所示的厚度的黏著劑層作為貼合層A，除此以外與實施例3同樣地獲得實施例4的光學積層體。

＜實施例5＞ 使用於單面具有厚度25 μm的聚醯亞胺系樹脂膜與厚度為7 μm的硬塗層的厚度32 μm的樹脂膜作為前表面板10，除此以外與實施例2同樣地獲得實施例5的光學積層體。

＜比較例1＞ 使用於單面具有厚度50 μm的聚醯亞胺系樹脂膜與厚度為12 μm的硬塗層的厚度62 μm的樹脂膜作為前表面板10，及使用表2所示的厚度的黏著劑層作為貼合層A、貼合層B及貼合層C，除此以外與實施例1同樣地獲得比較例1的光學積層體。

＜比較例2＞ 使用於單面具有厚度80 μm的聚醯亞胺系樹脂膜與厚度為10 μm的硬塗層的厚度90 μm的樹脂膜作為前表面板10，除此以外與比較例1同樣地獲得比較例2的光學積層體。

＜比較例3＞ 使用由黏著劑組成物2所形成的黏著劑層作為貼合層A、貼合層B、貼合層C，除此以外與實施例4同樣地獲得比較例3的光學積層體。

[厚度的測定] 各層的厚度是使用橢圓儀（M-220、日本分光股份有限公司製造）、或接觸式膜厚計（尼康（Nikon）股份有限公司製造的MH-15M、計數器TC101、MS-5C）進行測定。

[彎曲剛性的測定] 按照TAPPI T543om-00，利用格利公司的彎曲剛性測試器來測定2.54 cm×8.89 cm的光學積層體的試驗片的彎曲剛性。

[儲存彈性係數的測定] 儲存彈性係數是使用黏彈性測定裝置（安東帕（Anton Paar）公司製造的「MCR-301」）進行測定。將黏著劑層裁剪成寬20 mm×長20 mm，以厚度為150 μm的方式積層多片。將經積層的黏著劑層與玻璃板接合。於將黏著劑層與測定晶片接著的狀態下，在-20℃至100℃的溫度區域，於頻率1.0 Hz、變形量1%、升溫速度5℃/min的條件下進行測定，測定25℃下的儲存彈性係數值。

[彎曲排斥力的測定] 按照圖4所示的方法測定光學積層體的排斥力。首先，將光學積層體切斷成2.54 cm×8.89 cm的試驗片。使試驗片以前表面板位於外側的方式彎曲成捲繞在厚度8 mm的彎折夾具500上，使用膠帶進行固定，並設置於載台501上。彎折夾具500的底表面的膠帶固定的長度504為35 mm，彎折夾具500的上表面的膠帶固定的長度505為30 mm。試驗片的端部向遠離彎折夾具500的方向翹曲了翹曲量503。以使光學積層體200的翹曲部分接近彎折夾具500的方式，使板502自載台501的上方35 mm的高度移動，於距載台501有8 mm的高度保持30秒鐘後，返回至35 mm的高度，使用SurTA系統（system）（彎曲模式、凱米萊博（Chemilab）公司製造）測定該期間的最大排斥力，設為彎曲排斥力。板502的移動速度為5 mm/sec。光學積層體的彎曲半徑為4 mm（4R）。

若測定的彎曲排斥力超過7.0 gf，則於彎曲軸未固定在中央附近的圖像顯示裝置中使用光學積層體時，光學積層體容易產生裂紋及剝離，因此按照以下的基準評價彎曲排斥力，將結果示於表2。 A：彎曲排斥力為7.0 gf以下。 B：彎曲排斥力超過7.0 gf。

[耐衝擊性試驗] 作為耐衝擊性試驗，使用具有觸控感測器面板代替所述實施例及比較例的光學積層體的背面板即聚醯亞胺系樹脂膜的光學積層體。對於由貼合層貼合了前表面板與圓偏光板的積層體，使用超級切割器切出長邊150 mm×短邊70 mm的長方形大小的小片。將小片的圓偏光板側經由黏著劑層而貼合於觸控面板感測器的ITO層側，從而獲得試驗用光學積層體。作為觸控感測器面板，使用僅包含觸控感測器圖案層且不具有基材膜者。觸控感測器圖案層包含作為透明導電層的ITO層、與作為分離層的丙烯酸系樹脂組成物的硬化層，厚度為7 μm。

而且，於23℃、相對濕度55%的環境下，相對於小片，將評價用筆保持為筆尖處於距小片的前表面板的最表面10 cm的距離且筆尖向下，自該位置使評價用筆落下。於小片的前表面板上於觸控感測器面板的存在透明導電層的圖案的位置處寫下標記，使評價用筆以筆尖接觸所述標記的方式落下。作為評價用筆，使用了重量為11 g、筆尖直徑為0.7 mm的筆。對於評價用筆落下後的小片，進行目視觀察以及觸控感測器面板功能的確認，藉由以下的基準進行了評價。表2中示出評價結果。 A：無裂紋。維持觸控感測器面板功能。 B：有裂紋。維持觸控感測器面板功能。 C：有裂紋。無觸控感測器面板功能。

[表2]

	實施例1	實施例2	實施例3	實施例4	實施例5	比較例1	比較例2	比較例3
厚度（μm）	前表面板	50	50	32	32	32	62	90	32
貼合層A	25	5	2	25	5	50	50	25
貼合層B	5	5	25	25	5	50	50	25
貼合層C	5	5	25	25	5	50	50	25
25℃下的儲存彈性係數G'[MPa]	貼合層A	0.08	0.08	2000	0.08	0.08	0.08	0.08	0.7
貼合層B	0.08	0.08	0.08	0.08	0.08	0.08	0.08	0.7
貼合層C	0.08	0.08	0.08	0.08	0.08	0.08	0.08	0.7
彎曲剛性（格利單位）	1500	1300	1100	1300	500	2400	3800	3500
彎曲排斥力	A	A	A	A	A	B	B	B
耐衝擊性	A	A	A	B	C	A	A	C

10:前表面板 20:偏光板 30:背面板 40、41、42:貼合層 50:耐衝擊層 100、200:光學積層體 500:彎折夾具 501:載台 502:板 503:翹曲量 504:底表面的膠帶固定的長度 505:上表面的膠帶固定的長度

圖1是表示本發明的光學積層體的一例的概略剖面圖。 圖2是表示本發明的光學積層體的另一例的概略剖面圖。 圖3的（a）～圖3的（c）是表示彎曲時的光學積層體的端部的翹曲的照片。 圖4是表示光學積層體的彎曲排斥力的測定方法的概略圖。

10:前表面板

20:偏光板

30:背面板

40、41:貼合層

100:光學積層體

Claims (7)

1. 一種光學積層體，包含前表面板、偏光板、背面板、及至少一層貼合層，所述光學積層體中， 於將所述光學積層體的彎曲剛性設為K〔格利單位〕時，滿足下述關係式（1）： 400≦K≦2000  （1）。
2. 如請求項1所述的光學積層體，其中所述前表面板的厚度與所有貼合層的厚度的合計為50 μm以上且200 μm以下。
3. 如請求項1或請求項2所述的光學積層體，其中所述前表面板的厚度為60 μm以下。
4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的光學積層體，其中所述貼合層的厚度的合計為3 μm以上且130 μm以下。
5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的光學積層體，進而包括耐衝擊層， 所述耐衝擊層的厚度為100 μm以下。
6. 一種圖像顯示裝置，包括如請求項1至請求項5中任一項所述的光學積層體。
7. 如請求項6所述的圖像顯示裝置，其中能夠使所述前表面板側為外側進行彎曲。

Images