TW202134706A - 光學積層體及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種即使彎曲亦抑制氣泡產生的光學積層體及顯示裝置。本發明體供一種光學積層體，其依序包括前面板、使用第一黏著劑組成物形成的第一黏著劑層、偏光板、使用第二黏著劑組成物形成的第二黏著劑層、及背面板，當在使用第一黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第一基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R1A[%]及R1B[%]，在使用第二黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第二基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R2A[%]及R2B[%]時，滿足下述的關係式（1）～關係式（3）： ΔR1={（R1A）-（R1B）}/200≦0.2   （1） ΔR2={（R2A）-（R2B）}/200≦0.2   （2） R1A＞R2A    （3）。

Description

光學積層體及顯示裝置
本發明是有關於一種光學積層體，進而亦有關於一種包括光學積層體的顯示裝置。
專利文獻1中記載了一種當彎折具有多個黏著劑層的積層體時，凸側的最外表面的黏著劑層的儲存彈性係數大致等於或小於其他黏著劑層的儲存彈性係數的積層體。
專利文獻2中揭示了一種能夠變形的顯示器用的黏著劑組成物，其維持常溫及高溫下的接著特性，並且即使在-20℃的超低溫下亦不會產生浮起或斷裂。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2018-28573號公報 [專利文獻2]韓國公開專利第10-2019-0069334號公報
[發明所欲解決之課題]
在使包括具有多個黏著劑層的光學積層體的顯示裝置彎曲的情況下，光學積層體中的黏著劑層有時會產生氣泡。
本發明的目的在於提供一種即使彎曲亦抑制氣泡的產生的光學積層體及包括其的顯示裝置。 [解決課題之手段]
本發明提供以下所例示的光學積層體及顯示裝置。 〔1〕一種光學積層體，依序包括：前面板、使用第一黏著劑組成物形成的第一黏著劑層、偏光板、使用第二黏著劑組成物形成的第二黏著劑層、以及背面板， 當在使用所述第一黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第一基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R1A[%]及R1B[%]，在使用所述第二黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第二基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R2A[%]及R2B[%]時，滿足下述的關係式（1）～關係式（3）： ΔR1={（R1A）-（R1B）}/200≦0.2   （1） ΔR2={（R2A）-（R2B）}/200≦0.2   （2） R1A＞R2A    （3）。 〔2〕如[1]所述的光學積層體，其更滿足下述關係式（4）： ΔR1≧ΔR2  （4）。 〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的光學積層體，其中R2A[%]為20%以上。 〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項所述的光學積層體，其中所述背面板為觸控感測器面板。 〔5〕一種顯示裝置，包括如〔1〕至〔4〕中任一項所述的光學積層體。 〔6〕如〔5〕所述的顯示裝置，其能夠使所述前面板側為外側進行彎曲。 [發明的效果]
根據本發明，能夠提供一種即使彎曲亦抑制氣泡產生的光學積層體及顯示裝置。
以下，參照圖式說明本發明的光學積層體的實施方式，但本發明並不限定於以下的實施方式。在以下的所有圖式中，為了使各構成要素容易理解而適當調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各構成要素的比例尺與實際的構成要素的比例尺未必一致。
＜光學積層體＞ 圖1表示本發明的一實施方式的光學積層體的概略剖面圖。光學積層體100依序包括：前面板101、第一黏著劑層102、偏光板103、第二黏著劑層104及背面板105。第一黏著劑層102由第一黏著劑組成物形成，第二黏著劑層104由第二黏著劑組成物形成。以下，第一黏著劑層102及第二黏著劑層104有時統稱為黏著劑層。
光學積層體100的厚度根據光學積層體所要求的功能及光學積層體的用途等而不同，因此並無特別限定，例如為30 μm以上且1500 μm以下，較佳為40 μm以上且1000 μm以下，更佳為50 μm以上且500 μm以下。
光學積層體100的俯視形狀例如可以是方形形狀，較佳為具有長邊和短邊的方形形狀，更佳為長方形。於光學積層體100的面方向的形狀為長方形的情況下，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。對於構成光學積層體100的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。
光學積層體100例如可用於顯示裝置等。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉：有機電致發光（有機（electroluminescence，EL））顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電場發光顯示裝置等。光學積層體100適於能夠彎曲的顯示裝置。
[剪切恢復率及基於應變循環載荷試驗的剪切恢復率的下降率] 當在使用第一黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第一基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R1A[%]及R1B[%]，在使用第二黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第二基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R2A[%]及R2B[%]時，光學積層體100滿足下述的關係式（1）及關係式（2）： ΔR1={（R1A）-（R1B）}/200≦0.2   （1） ΔR2={（R2A）-（R2B）}/200≦0.2   （2）。
明確了依序積層前面板、第一黏著劑層、偏光板、第二黏著劑層、及背面板而成的光學積層體在彎曲時容易在黏著劑層中產生氣泡，特別是在內徑側的黏著劑層中容易產生氣泡。滿足所述式（1）及式（2）的光學積層體100即使彎曲亦抑制氣泡的產生，特別是即使在使光學積層體100彎曲且維持該狀態一定時間時，亦抑制氣泡的產生。本說明書中，所謂抑制氣泡的產生是指例如即使在將光學積層體100沿著作為直徑為10 mm以下的圓筒狀夾具的心棒（心軸（mandrel））彎折且放置24小時的情況下，在黏著劑層中、以及黏著劑層和與黏著劑層相接的層之間亦不產生氣泡。以下，亦將此種性能稱為彎曲耐久性優異。氣泡的產生可藉由光學顯微鏡下的觀察來判斷。
於本說明書中，「彎曲」包括在彎曲部分形成曲面的彎折形態，彎折的內表面的彎曲半徑並無特別限定。另外，「彎曲」包括內表面的折彎角大於0度小於180度的折彎形態、且包括內表面的彎曲半徑近似為零或內表面的折彎角為0度的折疊形態。
ΔR1及ΔR2是將執行應變循環載荷試驗前後的剪切恢復率的減少量除以第一基準黏著劑層或第二基準黏著劑層的厚度（200 μm）而得到的值。藉此，求出使用第一黏著劑組成物或第二黏著劑組成物形成的黏著劑層的每1 μm厚度的基於應變循環載荷試驗的剪切恢復率的減少量。當ΔR1及ΔR2小時，意味著即使進行應變循環載荷試驗（加速試驗），黏著劑層的剪切恢復率亦不易降低。即，可認為當ΔR1及ΔR2小時，即使循環彎曲，黏著劑的凝聚力亦不易降低，而容易維持黏著劑的性能。
光學積層體100較佳為滿足下述的關係式（1'）及關係式（2'）。 ΔR1={（R1A）-（R1B）}/200≦0.1  （1'） ΔR2={（R2A）-（R2B）}/200≦0.1  （2'）。 當光學積層體100滿足式（1'）及式（2'）時，可進一步提高彎曲耐久性。ΔR1及ΔR2例如可為0.001以上，亦可為0.003以上。
光學積層體100較佳為進而滿足下述的關係式（4）。 ΔR1≧ΔR2   （4） 光學積層體100更佳為滿足下述的關係式（4'）。 ΔR1＞ΔR2   （4'） 當使光學積層體100以前面板101為外側彎曲時，在內徑側的黏著劑層、即，第二黏著劑層104上產生較第一黏著劑層102大的應力。藉由在應力更大的內徑側配置執行應變循環載荷試驗前後的剪切恢復率的變化量小的黏著劑層，可進一步提高光學積層體100的彎曲耐久性。
光學積層體100滿足下述關係式（3）。 R1A＞R2A   （3） 當黏著劑層的剪切恢復率大時，當去除應變時，黏著劑層容易恢復到原來的形狀，當黏著劑層的剪切恢復率小時，當去除應變時，黏著劑層不易恢復到原來的形狀。為了容易緩和應變，位於外徑側的黏著劑層的剪切恢復率較佳為較內徑側的黏著劑層的剪切恢復率高。滿足式（3）的光學積層體100即使在以前面板101為外側而彎曲時，亦容易抑制氣泡的產生。黏著劑層的剪切恢復率可按照後述的實施例一欄中記載的方法求出。
就提高光學積層體100的表面硬度的觀點而言，應變循環載荷試驗前的剪切恢復率R1A及R2A較佳為20%以上，更佳為30%以上，更佳為40%以上。應變循環載荷試驗後的剪切恢復率R1B及R2B較佳為15%以上，更佳為30%以上。上限值並無特別限定，但應變循環載荷試驗前的剪切恢復率R1A及R2A例如為100%以下，可為65%以下，亦可為60%以下，亦可小於60%。只要滿足式（1）及式（2），則上限值並無特別限定，但應變循環載荷試驗後的剪切恢復率R1B及R2B例如為50%以下，亦可為40%以下。
應變循環載荷試驗前的剪切恢復率R1A及R2A、以及應變循環載荷試驗後的剪切恢復率R1B及R2B可藉由調整構成黏著劑組成物中所含的原料聚合物的單體的種類及調配量、聚合起始劑的種類及調配量、活性能量線的種類及照射量等而設為所期望的數值範圍。
[前面板] 前面板101只要是能夠透射光的板狀體，並不限定材料及厚度。前面板101可僅包含一層，亦可包含兩層以上。作為前面板101，可列舉樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體。前面板101可構成顯示裝置的最表面。
前面板101的厚度可為例如10 μm以上且300 μm以下，較佳為20 μm以上且200 μm以下，更佳為30 μm以上且100 μm以下。於本發明中，構成光學積層體100的各層的厚度可依照後述實施例中說明的厚度測定方法進行測定。
作為構成樹脂製的板狀體的樹脂，例如可列舉：三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等高分子。該些高分子可單獨使用或兩種以上混合使用。就提高強度及透明性的觀點而言，樹脂製的板狀體較佳為由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的樹脂膜。
就硬度的觀點而言，前面板101可為包括硬塗層的樹脂膜。硬塗層可形成於樹脂膜的其中一面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可提高硬度及耐劃痕性。硬塗層例如為紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高強度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無特別限定，可列舉無機系微粒、有機系微粒、或者該些的混合物。在樹脂膜的兩面具有硬塗層的情況下，各硬塗層的組成及厚度可彼此相同，亦可彼此不同。
於前面板101為玻璃板的情況下，玻璃板較佳為使用顯示器用強化玻璃。玻璃板的厚度例如可為10 μm以上且1000 μm以下，亦可為10 μm以上且100 μm以下。藉由使用玻璃板，能夠構成具有優良的機械強度及表面硬度的前面板101。
於光學積層體100用於顯示裝置的情況下，前面板101可為不僅具有保護顯示裝置的前表面（畫面）的功能（作為視窗膜的功能），亦具有作為觸控感測器的功能、藍光截止功能、視角調整功能等者。
[第一黏著劑層] 第一黏著劑層102介於前面板101與偏光板103之間而將該些貼合。第一黏著劑層102可包含一層，亦可包含兩層以上，較佳為包含一層。
第一黏著劑層102可包含以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酯系樹脂、矽酮系樹脂、聚乙烯醚系樹脂為主要成分（原料聚合物）的黏著劑組成物。作為構成第一黏著劑層102的黏著劑組成物，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂，可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。原料聚合物中較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體，可列舉(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有受到紫外線或電子線之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有在活性能量線照射前仍具有黏著性而可與膜等被黏物密著，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密著力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外，更含有活性能量線聚合性化合物。根據需要，亦可含有光聚合起始劑、光增感劑等。
作為活性能量線聚合性化合物，例如可列舉：分子內具有至少一個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯單體；使兩種以上含官能基的化合物反應而得且分子內具有至少兩個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯寡聚物等含(甲基)丙烯醯氧基的化合物等(甲基)丙烯酸系化合物。作為活性能量線聚合性化合物，若使用具有環己基的(甲基)丙烯酸系化合物或具有乙氧基的(甲基)丙烯酸系化合物，則黏著劑層內的凝聚力提高，容易滿足式（1）及式（2）。作為具有環己基的(甲基)丙烯酸系化合物，例如可列舉美源特種化學（Miwon Specialty Chemical）公司的美瑞莫（Miramer）M1130、美瑞莫（Miramer）M1150等。作為具有乙氧基的(甲基)丙烯酸系化合物，例如可列舉美源特種化學（Miwon Specialty Chemical）公司的美瑞莫（Miramer）M140、美瑞莫（Miramer）M142、美瑞莫（Miramer）M144等。相對於黏著劑組成物的固體成分100質量份，黏著劑組成物可包含0.1質量份以上或5質量份以下、且可包含30質量份以下、10質量份以下、5質量份以下或2質量份以下的活性能量線聚合性化合物。
作為光聚合起始劑，例如可列舉二苯甲酮、苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基苯基酮等。光聚合起始劑可含有一種或兩種以上。於黏著劑組成物含有光聚合起始劑時，其總含量例如相對於黏著劑組成物的固體成分100質量份可為0.01質量份以上且3.0質量份以下。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、增黏劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
第一黏著劑層102可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈在基材上並使其乾燥而形成。第一黏著劑層102亦可使用利用黏著劑組成物形成的黏著片來形成。在使用活性能量線硬化型黏著劑組成物的情況下，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的黏著劑層。
第一黏著劑層102的厚度並無特別限定，例如較佳為1 μm以上且100 μm以下，更佳為3 μm以上且50 μm以下，亦可為20 μm以上。
[偏光板] 偏光板103例如可為直線偏光板、圓偏光板、橢圓偏光板等。圓偏光板包括直線偏光板及相位差層。圓偏光板可吸收圖像顯示裝置中反射的外部光，因此，可對光學積層體100賦予作為防反射膜的功能。
偏光板103的厚度通常為5 μm以上，亦可為20 μm以上，亦可為25 μm以上，亦可為30 μm以上。另外，偏光板103的厚度較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下。
（直線偏光板） 直線偏光板具有從自然光等非偏光的光線選擇性地透射一個方向上的直線偏光的功能。直線偏光板可包括吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層、液晶層等作為偏光片層，所述液晶層包含聚合性液晶化合物的硬化物及二色性色素且二色性色素在聚合性液晶化合物的硬化物中分散並配向。使色素分散在具有異方形的介質中進行配向時，存在如下情況：自某一方向看起來著色，自與其垂直的方向看起來幾乎無色。將顯示此種現象的色素稱為二色性色素。使用液晶層作為偏光片層的直線偏光板與吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層相比，彎曲方向並無限制，因此較佳。
（1）作為吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層的偏光片層 作為吸附有二色性色素的拉伸膜的偏光片層通常可經由如下步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸拉伸的步驟；藉由利用碘等二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及在利用硼酸水溶液進行處理後進行水洗的步驟。
偏光片層的厚度通常為30 μm以下，較佳為18 μm以下，更佳為15 μm以下。減薄偏光片層的厚度有利於偏光板103的薄膜化。偏光片層的厚度通常為1 μm以上，例如可為5 μm以上。
聚乙烯醇系樹脂是藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可使用乙酸乙烯酯和能夠與其共聚合的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其他單量體，例如可列舉不飽和羧酸系化合物、烯烴系化合物、乙烯基醚系化合物、不飽和磺酸系化合物、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺系化合物。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上且100莫耳%以下左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改質，亦可使用經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。
作為吸附有二色性色素的拉伸層的偏光片層通常可經由如下步驟來製造：將含有所述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈在基材膜上的步驟、將得到的積層膜單軸拉伸的步驟、藉由用二色性色素對經單軸拉伸後的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色，吸附該二色性色素而製成偏光片層的步驟、用硼酸水溶液處理吸附有二色性色素的膜的步驟、以及用硼酸水溶液處理後進行水洗的步驟。用於形成偏光片層的基材膜可用作偏光片層的保護層。根據需要，可自偏光片層剝離除去基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層的偏光片層可直接用作直線偏光板，亦可在其單面或兩面形成保護層來用作直線偏光板。作為保護層，可使用後述的熱塑性樹脂膜。所獲得的直線偏光板的厚度較佳為2 μm以上且40 μm以下。
熱塑性樹脂膜例如可列舉：環聚烯烴系樹脂膜、包含三乙醯纖維素、二乙醯纖維素等樹脂的乙酸纖維素系樹脂膜、包含聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂的聚酯系樹脂膜、聚碳酸酯系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜、聚丙烯系樹脂膜等本領域中公知的膜。偏光片層與保護層可藉由後述的貼合層而積層。
就薄型化的觀點而言，熱塑性樹脂膜的厚度通常為100 μm以下，較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下，進而佳為40 μm以下，進一步較佳為30 μm以下，另外通常為5 μm以上，較佳為10 μm以上。
可在熱塑性樹脂膜上形成硬塗層。硬塗層可形成於熱塑性樹脂膜的其中一面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃傷性的熱塑性樹脂膜。硬塗層可與形成在所述樹脂膜上的硬塗層同樣地形成。
（2）作為液晶層的偏光片層 用於形成液晶層的聚合性液晶化合物是具有聚合性反應基且顯示液晶性的化合物。聚合性反應基是參與聚合反應的基，較佳為光聚合性反應基。光聚合性反應基是指藉由自光聚合起始劑產生的活性自由基或酸等而能夠參與聚合反應的基。作為光聚合性官能基，可列舉乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、氧雜環丙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。聚合性液晶化合物的種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及該些的混合物。聚合性液晶化合物的液晶性可為熱致（thermotropic）性液晶亦可為溶致（lyotropic）性液晶，作為相序結構可為向列液晶亦可為層列液晶。
就用於作為液晶層的偏光片層的二色性色素而言，較佳為在300 nm～700 nm的範圍具有吸收極大波長（λMAX）者。作為此種二色性色素，例如可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、及蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及二苯乙烯偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素。二色性色素可為單獨，亦可組合兩種以上，較佳為組合三種以上。尤其更佳為組合三種以上的偶氮化合物。二色性色素的一部分可具有反應性基，另外亦可具有液晶性。
作為液晶層的偏光片層例如可藉由在形成於基材膜上的配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物，並將聚合性液晶化合物聚合使其硬化而形成。亦可在基材膜上塗佈偏光片層形成用組成物而形成塗膜，並將該塗膜與基材膜一起拉伸，藉此形成偏光片層。用於形成偏光片層的基材膜可用作偏光片層的保護層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物、及使用該組成物的偏光片層的製造方法，可例示日本專利特開2013-37353號公報、日本專利特開2013-33249號公報、日本專利特開2017-83843號公報等中記載者。除了聚合性液晶化合物及二色性色素以外，偏光片層形成用組成物可更含有溶媒、聚合起始劑、交聯劑、調平劑、抗氧化劑、塑化劑、增感劑等添加劑。該些成分分別可僅使用一種，亦可組合使用兩種以上。
偏光片層形成用組成物可含有的聚合起始劑是可起始聚合性液晶化合物的聚合反應的化合物，就可在更低溫條件下起始聚合反應的方面而言，較佳為光聚合性起始劑。具體而言，可列舉藉由光的作用而可產生活性自由基或酸的光聚合起始劑，其中，較佳為藉由光的作用而產生自由基的光聚合起始劑。相對於聚合性化合物的總量100質量份，聚合起始劑的含量較佳為1質量份以上且10質量份以下，更佳為3質量份以上且8質量份以下。若為該範圍內，則聚合性基的反應充分進行，且容易使液晶化合物的配向狀態穩定化。
作為液晶層的偏光片層的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
作為液晶層的偏光片層可不剝離除去基材膜而作為直線偏光板使用，亦可將基材膜自偏光片層剝離除去而作為直線偏光板。作為液晶層的偏光片層可具有配向膜，亦可不具有配向膜。作為液晶層的偏光片層亦可在其一面或兩面形成保護層而作為直線偏光板使用。作為保護層，可使用所述的熱塑性樹脂膜。
關於作為液晶層的偏光片層，為了保護偏光片層等，可在偏光片層的一面或兩面具有外塗層。外塗層例如可藉由在偏光片層上塗佈用於形成外塗層的材料（組成物）而形成。作為構成外塗層的材料，例如可列舉光硬化性樹脂、水溶性聚合物等。作為構成外塗層的材料，可使用(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。
（相位差層） 相位差層可為一層，亦可為兩層以上。相位差層可具有保護其表面的外塗層、支撐相位差層的基材膜等。相位差層包括λ/4層，並且更可包括λ/2層或正C層的至少任一者。在相位差層包括λ/2層的情況下，自直線偏光板側起依次積層λ/2層及λ/4層。在相位差層包括正C層的情況下，可自直線偏光板側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光板側起依次積層正C層及λ/4層。相位差層的厚度例如為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且6 μm以下。
相位差層可包含作為保護層的材料例示的樹脂膜，亦可包含聚合性液晶化合物硬化而成的層。相位差層可更含有配向膜。相位差層可具有用於貼合λ/4層與λ/2層及正C層的貼合層。
在使聚合性液晶化合物硬化而形成相位差層的情況下，相位差層可藉由將含有聚合性液晶化合物的組成物塗佈於基材膜並使其硬化而形成。可在基材膜與塗佈層之間形成配向層。基材膜的材料及厚度可與所述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。在由使聚合性液晶化合物硬化而成的層形成相位差層的情況下，相位差層可以具有配向層及/或基材膜的形態組裝入光學積層體中。相位差層可經由後述的貼合層貼合在直線偏光板的與視覺辨認側相反一側的面上。
[第二黏著劑層] 第二黏著劑層104介於偏光板103與背面板105之間而將該些貼合。第二黏著劑層104可為一層，亦可為包含兩層以上者，較佳為一層。
關於構成第二黏著劑層104的黏著劑組成物的組成及調配成分、黏著劑組成物的類型（是否為活性能量線硬化型或熱硬化型等）、黏著劑組成物中可調配的添加劑、第二黏著劑層的製作方法、第二黏著劑層的厚度等，與所述第一黏著劑層102的說明中所示者相同。 第二黏著劑層104在黏著劑組成物的組成及調配成分、厚度等方面，可與第一黏著劑層102相同，亦可不同。
[貼合層] 光學積層體100可包括用於接合兩個層的貼合層。貼合層是包含黏著劑或接著劑的層。作為貼合層材料的黏著劑可使用與構成所述第一黏著劑層102的黏著劑組成物相同的黏著劑組成物。貼合層亦可使用其他黏著劑，例如與構成第一黏著劑層102的黏著劑不同的(甲基)丙烯酸系黏著劑、苯乙烯系黏著劑、矽酮系黏著劑、橡膠系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、聚酯系黏著劑、環氧系共聚物黏著劑等。
就作為貼合層的材料的接著劑而言，例如可將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等中的一種或兩種以上組合來形成。作為水系接著劑，例如可舉出聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑是藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉含有聚合性化合物及光聚合性起始劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有黏著劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。作為所述聚合性化合物，可列舉光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、及源自該些單體的寡聚物等。作為所述光聚合起始劑，可列舉含有藉由照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質的化合物。
貼合層的厚度例如可為1 μm以上，較佳為1 μm以上且25 μm以下，更佳為2 μm以上且15 μm以下，進而佳為2.5 μm以上且5 μm以下。
經由貼合層而貼合的相向的兩個表面可預先進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，亦可具有底塗層等。
[背面板] 作為背面板105，可使用能夠透過光的板狀體或通常的顯示裝置中所使用的構成要素等。
背面板105的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為10 μm以上且1000 μm以下，更佳為15 μm以上且500 μm以下。
作為用於背面板105的板狀體，可僅包含一層，亦可包含兩層以上。作為背面板105，可使用前面板101中例示的板狀體。
作為用於通常的顯示裝置的構成要素，例如可列舉觸控感測器面板、有機EL顯示元件等。作為顯示裝置中的構成要素的積層順序，例如可列舉：前面板/圓偏光板/觸控感測器面板/有機EL顯示元件、前面板/觸控感測器面板/圓偏光板/有機EL顯示元件等。背面板105較佳為觸控感測器面板。
（觸控感測器面板） 觸控感測器面板只要是具有能夠檢測出被觸控的位置的感測器（即，觸控感測器）的面板，則不受限定。觸控感測器的檢測方式不受限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光學感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。自低成本方面而言，較佳使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。
作為電阻膜方式的觸控感測器的一個例子，可列舉包括彼此相向配置的一對基板、夾持於所述一對基板之間的絕緣性間隔物、在各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路的構件。在設置有電阻膜方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，當觸控前面板的表面時，相向的電阻膜短路，在電阻膜中流動電流。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化，從而檢測被觸控的位置。
作為靜電電容耦合方式的觸控感測器的一例，可列舉包括基板、設置在基板的整個面上的位置檢測用透明電極、觸控位置檢測電路的構件。在設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，當觸控前面板的表面時，在被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測所觸控的位置。
觸控感測器面板的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為5 μm以上且100 μm以下，進而佳為5 μm以上且50 μm以下，亦可為5 μm以上且20 μm以下。
觸控感測器面板可為在基材膜上形成有觸控感測器的圖案的構件。基材膜的例示可與所述的熱塑性樹脂膜的說明中的例示相同。另外，觸控感測器面板亦可經由黏著劑層自基材膜轉印到被黏物上。即，觸控感測器面板可不具有基材膜。觸控感測器圖案的厚度例如可為1 μm以上且20 μm以下。
[光學積層體的製造方法] 光學積層體100可藉由包含如下步驟的方法來製造，即，經由黏著劑層將構成光學積層體100的層彼此貼合的步驟。於經由黏著劑層或貼合層將層彼此貼合的情況下，為了調整密接力，較佳為對貼合面的其中一面或兩面實施電暈處理等表面活性化處理。電暈處理的條件可適當設定，貼合面的其中一面與另一面中條件亦可以不同。
[顯示裝置] 本發明的顯示裝置包括所述光學積層體100。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等圖像顯示裝置。光學積層體上可進一步積層觸控感測器，並且顯示裝置可具有觸控面板功能。包括本發明的光學積層體100的顯示裝置的彎曲耐久性優異，可用作能夠彎曲或捲繞等的可撓性顯示器。
於顯示裝置中，光學積層體100使前面板101朝向外側（與顯示元件側相反的一側，即，視覺辨認側），配置於顯示裝置所具有的顯示元件的視覺辨認側。顯示裝置能夠使前面板101側為外側進行彎曲。
作為圖像顯示裝置所具有的圖像顯示元件，例如可列舉有機EL顯示元件、無機EL顯示元件、液晶顯示元件、電漿顯示元件、電場放射型顯示元件等。
本發明的顯示裝置可用作智慧型電話、輸入板等行動設備、電視機、數位相框（digital photo frame）、電子看板、測定器或儀表類、辦公用設備、醫療設備、電腦設備等。 [實施例]
以下，列舉實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於該些實施例。
[測定方法] 本實施例中使用的各物性值（層的厚度、黏著劑層的性質等）的測定方法及算出方法如下所述。
＜層的厚度＞ 使用接觸式膜厚測定裝置（尼康（Nikon）股份有限公司製造的「MS-5C」）進行測定。使用雷射顯微鏡（奧林巴斯（Olympus）股份有限公司製造的「OLS3000」）測定偏光片層及配向膜。
＜剪切恢復率＞ 剪切恢復率使用黏彈性測定裝置（MCR-301，安東帕（Anton Paar）公司）進行測定。將黏著片裁斷為寬20 mm×長20 mm，剝去剝離膜，積層8片厚度25 μm的黏著劑層而形成厚度200 μm的基準黏著劑層，並接合於玻璃板。在與測定晶片接著的狀態下，在25℃的溫度下，正向力（Normal force）1N、扭矩（Torque）1200 μNm的條件下進行測定，測定1200秒時的剪切變形量後，變更成扭矩（Torque）0 μNm的條件，持續測定，測定1206秒時的剪切變形量。基於該些測定值，由下式算出剪切恢復率R。 R={（1200秒的剪切變形量-1206秒的剪切變形量）/1200秒的剪切變形量}×100[%]
＜應變循環載荷試驗＞ 作為加速試驗的應變循環載荷試驗使用黏彈性測定裝置（MCR-301，安東帕（Anton Paar）公司）來進行。將黏著片裁斷為寬20 mm×長20 mm，剝去剝離膜，積層8片厚度25 μm的黏著劑層而形成厚度200 μm的基準黏著劑層，並接合於玻璃板。對於玻璃板上的基準黏著劑層，在與所述裝置中的測定晶片接著的狀態下，在溫度25℃、正向力（Normal force）自由（Free）、頻率2 Hz的條件下，重覆施加0%與1000%的Strain（應變）的載荷持續100秒。
[包括黏著劑層的黏著片的製作] 將2-乙基己基丙烯酸酯（2-ethyl hexyl acrylate，2-EHA）、丙烯酸丁酯（butyl acrylate，BA）、β-羧乙基丙烯酸酯（β-carboxy ethyl acrylate，β-CEA）、丙烯酸（Acrylic acid，AA）、甲基丙烯酸縮水甘油酯（glycidyl methacrylate，GMA）、2-羥乙基甲基丙烯酸酯（2-Hydroxyethyl Methacrylate，2-HEMA）的單體混合溶液按表1所示的調配量投入包括冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌器的1L的反應容器中。使氮氣環流1小時以除去容器內的氧，將內溫維持在60℃。將所述單體混合溶液均勻混合後，按照表1所示的調配量投入光聚合起始劑苄基二甲基縮酮（I-651）及1-羥基環己基苯基酮（I-184）。一邊攪拌一邊照射UV燈（10 mW），製造(甲基)丙烯酸系聚合物A1～A6。
[表1]
(甲基)丙烯酸系聚合物 丙烯酸系單體（質量份） 光聚合起始劑（質量份）
2-EHA BA β-CEA AA GMA 2-HEMA 1-651 1-184
A1 95 1 1 - 0.5 2.5 0.05 0.05
A2 82.6 16 1 0.1 0.1 0.2 0.05 0.05
A3 98 1.8 - - 0.1 0.1 0.02 -
A4 80 18 0.5 0.5 0.8 0.2 0.05 0.05
A5 84 1 1 12 1 1 0.05 0.05
A6 86 3.5 0.1 10 0.2 0.2 0.05 0.05
將所獲得的(甲基)丙烯酸系聚合物A1～A6、丙烯酸3,3,5-三甲基環己酯（美瑞莫（Miramer）M1130）、丙烯酸月桂基酯（美瑞莫（Miramer）M120）、丙烯酸2-苯氧基乙酯（美瑞莫（Miramer）M140）及1-羥基環己基苯基酮（I-184）按照表2所示的調配量混合，以製造黏著劑組成物B1～黏著劑組成物B8。
[表2]
黏著劑組成物 (甲基)丙烯酸系聚合物 活性能量線聚合性化合物 光聚合起始劑 載荷試驗前的剪切恢復率R 載荷試驗後的剪切恢復率R
種類 調配量 （質量份） 種類 調配量 （質量份） m種類 調配量 （質量份）
B1 A1 100 Miramer M1130 10 1-184 0.05 58 36
B2 A2 100 Miramer M120 10 1-184 0.05 47 16
B3 A3 100 Miramer M140 10 1-184 0.05 20 17
B4 A4 100 - - - - 46 32
B5 A3 100 Miramer M120 24 1-184 0.05 12 11
B6 A3 100 Miramer M120 18 1-184 0.05 15 13.4
B7 A5 100 Miramer M1130 2 1-184 0.05 70 20
B8 A6 100 Miramer M1130 2 1-184 0.05 60 16
以厚度為25 μm的方式將黏著劑組成物B1～黏著劑組成物B8塗佈於塗佈有矽脫模劑的剝離膜A（聚對苯二甲酸乙二醇酯膜，厚度38 μm）上。在其上接合剝離膜B（聚對苯二甲酸乙二醇酯膜，厚度38 μm），進行UV照射，製作包括剝離膜A/黏著劑層/剝離膜B的黏著片。UV照射的條件為累計光量400 mJ/cm2 、照度1.8 mW/cm2 （UVV基準）。
表1及表2中的化合物的來源如下。 2-EHA：東京化成工業股份有限公司、日本 BA：東京化成工業股份有限公司、日本 β-CEA：西格瑪奧德里奇（Sigma-Aldrich）、美國 AA：東京化成工業股份有限公司、日本 GMA：西格瑪奧德里奇（Sigma-Aldrich）、美國 2-HEMA：東京化成工業股份有限公司、日本 I-651：巴斯夫（BASF）、德國 I-184：巴斯夫（BASF）、德國 美瑞莫（Miramer） M1130：美源特種化學（Miwon specialty chemical）、韓國 美瑞莫（Miramer） M120：美源特種化學（Miwon specialty chemical）、韓國 美瑞莫（Miramer） M140：美源特種化學（Miwon specialty chemical）、韓國
[前面板] 作為前面板101，準備了在樹脂膜的其中一面形成有硬塗層的膜（50 μm）。樹脂膜是厚度40 μm的聚醯亞胺膜。硬塗層是厚度10 μm、包括包含末端具有多官能丙烯酸基的樹枝狀聚合物化合物的組成物的層。
[偏光片層] 1）作為基材膜，準備三乙醯纖維素（Triacetyl Cellulose，TAC）膜（KC2UA、柯尼卡美能達（Konica Minolta）股份有限公司製、厚度25 μm）。
2）準備使下述所示的聚合物1以濃度5質量%溶解於環戊酮中而得的溶液作為配向膜形成用組成物。聚合物1包含以下結構單元、且具有光反應性基。
Figure 02_image001
3）準備偏光片層形成用組成物 首先，作為聚合性液晶化合物，準備式（1-1）所表示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物（1-1）]及式（1-2）所表示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物（1-2）]。
Figure 02_image003
Figure 02_image005
化合物（1-1）及化合物（1-2）藉由路伯等人（Lub et al.）的「荷蘭化學工程簡編（Recl. Trav. Chim. Pays-Bas）」、115、321-328（1996）中記載的方法進行合成。
作為二色性色素，準備下述式（2-1a）、式（2-1b）、式（2-3a）所表示的日本專利特開2013-101328號公報的實施例中記載的偶氮色素。
Figure 02_image007
Figure 02_image008
Figure 02_image009
偏光片層形成用組成物是藉由以下方式製備：將化合物（1-1）75質量份、化合物（1-2）25質量份、作為二色性染料的所述式（2-1a）、式（2-1b）、式（2-3a）所表示的偶氮色素各2.5質量份、作為聚合起始劑的2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮（豔佳固（Irgacure）369，日本巴斯夫（BASF Japan）公司製造）6質量份、及作為調平劑的聚丙烯酸酯化合物（BYK-361N，畢克化學（BYK-Chemie）公司製造）1.2質量份混合至作為溶劑的甲苯400質量份中，將所得的混合物在80℃下攪拌1小時。
4）保護層形成用組成物 保護層形成用組成物是藉由將100質量份水、3質量份聚乙烯醇樹脂粉末（可樂麗（Kuraray）股份有限公司製造，平均聚合度18000，商品名：KL-318）、及1.5質量份聚醯胺環氧樹脂（交聯劑，住化化科（Sumika Chemtex）股份有限公司製造，商品名：SR650（30））混合而製備。
5）按照以下所示的順序來製作偏光片層。 首先，對基材膜的TAC膜側實施一次電暈處理。電暈處理的條件設為輸出0.3 kW、處理速度3 m/分鐘。然後，藉由棒塗法在該TAC膜上塗佈配向膜形成用組成物，在80℃的乾燥烘箱中加熱乾燥1分鐘。對所得的乾燥被膜實施偏光UV照射處理，形成第一配向膜（AL1）。偏光UV處理是在使自UV照射裝置（SPOT CURE SP-7；牛尾（Usio）電機股份有限公司製造）照射的光透過線柵（UIS-27132##，牛尾（Ushio）電機股份有限公司製造）且在波長365 nm下測定的累計光量為100 mJ/cm2 的條件下進行。第一配向膜的厚度為100 nm。
繼而，在第一配向膜上，藉由棒塗法塗佈偏光片層形成用組成物，在120℃的乾燥烘箱中加熱乾燥1分鐘後，冷卻至室溫。使用所述UV照射裝置，以累計光量1200 mJ/cm2 （365 nm基準）對乾燥被膜照射紫外線，藉此形成偏光片層。得到的偏光片層的厚度為1.8 μm。
6）在偏光片層上，藉由棒塗法以乾燥後的厚度為1.0 μm的方式塗佈保護層形成用組成物，在溫度80℃下乾燥3分鐘。如此，得到包括「基材膜/偏光片層/外塗層」的直線偏光板。
[相位差層] 1）準備厚度100 μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）膜作為基材膜。
2）配向膜形成用組成物使用與所述的配向膜形成用組成物相同的組成物。
3）混合以下所示的各成分，將所得的混合物在80℃下攪拌1小時，藉此獲得相位差層形成用組成物。
由下述式所表示的化合物（b-1）：80質量份
Figure 02_image011
由下述式所表示的化合物（b-2）：20質量份
Figure 02_image013
聚合起始劑（豔佳固（Irgacure）369，2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮，日本巴斯夫（BASF Japan）公司製造）：6質量份 調平劑（BYK-361N，聚丙烯酸酯化合物，畢克化學（BYK-Chemie）公司製造）：0.1質量份 溶劑（環戊酮）：400質量份。
4）藉由以下所示的順序來製作相位差層。 首先，藉由棒塗法在基材膜上塗佈配向膜形成用組成物，在80℃的乾燥烘箱中加熱乾燥1分鐘。對得到的乾燥被膜實施偏光UV照射處理，形成第二配向膜。偏光UV處理使用所述UV照射裝置，在波長365 nm下測定的累計光量為100 mJ/cm2 的條件下進行。以偏光UV的偏光方向相對於偏光片層的吸收軸為45°的方式進行。
5）繼而，在第二配向膜上，藉由棒塗法塗佈相位差層形成用組成物，利用120℃的乾燥烘箱加熱乾燥1分鐘後，冷卻至室溫。使用所述UV照射裝置對所得的乾燥被膜照射累計光量1000 mJ/cm2 （365 nm基準）的紫外線，藉此形成相位差層。得到的相位差層的厚度為2.0 μm。相位差層是在面內方向顯示λ/4相位差值的λ/4板。如此，獲得包括「基材膜/λ/4相位差層」的相位差層。
[貼合片] 一邊在氮氛圍下攪拌下述成分一邊使其在55℃下反應，藉此獲得丙烯酸樹脂。 丙烯酸丁酯：70質量份 丙烯酸甲酯：20質量份 丙烯酸：2.0質量份 自由基聚合起始劑（2,2'-偶氮雙異丁腈）：0.2質量份。
繼而，混合下述成分，獲得貼合層用組成物。 丙烯酸樹脂：100質量份 交聯劑（東曹股份有限公司製造的「克羅耐德（Coronate）L」）：1.0質量份 矽烷偶合劑（信越化學工業股份有限公司製造的「X-12-981」）：0.5質量份。
以總固體成分濃度為10質量%的方式添加乙酸乙酯，藉此調液出所得的貼合層用組成物。
利用塗敷器，以乾燥後的厚度為5 μm的方式將調液出的貼合層用組成物塗佈於經脫模處理的剝離膜A（聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、厚度38 μm）上，藉此獲得塗佈層。將該塗佈層在100℃下乾燥1分鐘，獲得包括貼合層的膜。其後，在貼合層的露出面上，接合經脫模處理的剝離膜B（聚對苯二甲酸乙二醇酯膜，厚度38 μm）。在溫度23℃、相對濕度50%RH的條件下養護7天，獲得具有剝離膜A/貼合層/剝離膜B的層結構的貼合片。
[背面板] 作為背面板105，準備了依次積層有透明導電層、分離層、接著劑層以及基材層的觸控感測器面板。透明導電層含有ITO層，分離層含有丙烯酸系樹脂組成物的硬化層，兩者的厚度合計為7 μm。接著劑層的厚度為2 μm。基材層為環烯烴（環烯烴聚合物（Cycloolefin Polymer，COP））膜（ZF-14、日本瑞翁（Zeon）股份有限公司製、厚度23 μm）。
[光學積層體的製作] 按照圖2的（a）～（e）所示的順序製造實施例1～實施例3及比較例1～比較例3的光學積層體。包含表2所示的黏著劑組成物的黏著片如表3所示，用作第一黏著劑層或第二黏著劑層。
首先，準備包括偏光片層的直線偏光板410[基材膜301/偏光片層302/外塗層303]、及所述的貼合片420（剝離膜A 304/貼合層305/剝離膜B306）（圖2的（a））。對包括偏光片層的直線偏光板410的外塗層303側及貼合片420的剝離了剝離膜A 304的面實施電暈處理（輸出0.3 KW、速度3 m/分鐘），然後進行貼合，獲得積層體A 430。另外，準備相位差層440[基材膜308/λ/4相位差層307]。（圖2的（b））。
對相位差層440的λ/4相位差層307側及積層體A 430的剝離了剝離膜B 306的面實施電暈處理（輸出0.3 KW、速度3 m/分鐘），然後進行貼合，獲得圓偏光板450。另外，準備以上所製作的黏著片作為黏著片460（剝離膜A 309/黏著劑層310/剝離膜B 311）（圖2的（c））。黏著片460的黏著劑層310相當於第二黏著劑層。
對圓偏光板450的剝離了基材膜308的面及黏著片460的剝離了剝離膜A 309的面實施電暈處理（輸出0.3 KW、速度3 m/分鐘），然後進行貼合，獲得積層體B 470。進而，準備以上所製作的黏著片作為黏著片490（剝離膜A 314/黏著劑層315/剝離膜B 316）。對剝離了剝離膜A 314的面及前面板480（樹脂膜313/硬塗層312）的樹脂膜313側實施電暈處理（輸出0.3 KW、速度3 m/分鐘），然後進行貼合，獲得積層體C 500（圖2的（d））。黏著片490的黏著劑層315相當於第一黏著劑層。
對積層體C 500的剝離了剝離膜B 316的面及積層體B 470的基材膜301側實施電暈處理（輸出0.3 KW、速度3 m/分鐘），然後進行貼合，獲得積層體D 510（圖2的（e））。
對積層有透明導電層317、分離層318、接著劑層319、及基材層320的觸控感測器面板520的透明電極層317側及積層體D 510的剝離了剝離膜B 311的面實施電暈處理（輸出0.3 Kw、速度3 m/分鐘）後，進行貼合，獲得光學積層體。
對於實施例1～實施例3及比較例1～比較例3的光學積層體，執行以下的彎曲性試驗及表面硬度試驗。結果如表3所示。
＜彎曲性評價試驗＞ 將各實施例及各比較例的光學積層體以前面板101側成為外側的方式彎折（彎曲半徑1.5 mm），即，以相向的與前面板相反一側的面彼此之間的距離為3.0 mm的方式彎折，在溫度60℃、濕度90%RH的條件下放置24小時後，取出並在常溫下放置30分鐘（耐久試驗）。 耐久試驗結束後，消除了光學積層體的彎折狀態。以彎曲部成為正中的方式，使用超級切割器自耐久試驗後的光學積層體切出長100 mm及寬10 mm的試驗片。對於該試驗片，使用TP技研股份有限公司製造的耐彎曲性試驗機（圓筒法心軸法），以試驗片的前面板為外側的方式，將試驗片捲繞在圓筒狀的心棒（心軸）的周圍，來進行在溫度25℃下使試驗片沿長度方向彎曲的彎曲性評價試驗（心軸試驗）。 藉此求出在試驗片的黏著劑層不產生氣泡的心棒的最小直徑，基於以下基準進行分級。彎曲性評價試驗中，該最小直徑的值越小，則可評價為黏著劑層的彎曲耐久性越優異。 A：捲繞於直徑（ϕ）10 mm以下的心棒時在黏著劑層產生氣泡。 B：捲繞於超過ϕ10 mm且ϕ15 mm以下的心棒時在黏著劑層產生氣泡。 C：捲繞於超過ϕ15 mm且ϕ20 mm以下的心棒時在黏著劑層產生氣泡。 D：捲繞於超過ϕ20 mm的心棒時在黏著劑層產生氣泡。
＜表面硬度評價試驗＞ 將各實施例及各比較例的光學積層體以前面板101側成為外側的方式彎折（彎曲半徑1.5 mm），即，以相向的與前面板相反一側的面彼此之間的距離為3.0 mm的方式彎折，在溫度60℃、濕度90%RH的條件下放置24小時後，取出並在常溫下放置30分鐘（耐久試驗）。 對耐久試驗後的光學積層體的彎曲部的前面板101側的表面，使用鉛筆硬度試驗機（PHT，韓國索沃科學（SUKBO SCIENCE）公司製造），在溫度25℃下藉由負載100 g的荷重的狀態的鉛筆（三菱鉛筆股份有限公司製造，芯的硬度為6B），在所述表面形成凹部痕跡。其後，測定至凹部痕跡消失為止的時間，基於以下基準進行分級，藉此評價各實施例及各比較例的光學積層體的表面硬度。該表面硬度試驗中，至凹部痕跡消失為止的時間越短，則可評價為表面硬度性越優異。 A：不足30分鐘凹部痕跡消失。 B：30分鐘以上且不足60分鐘凹部痕跡消失。 C：60分鐘以上且不足90分鐘凹部痕跡消失。 D：即便經過90分鐘凹部痕跡亦未消失。
[表3]
  實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2 比較例3
第一黏著劑層 黏著片 B2 B1 B1 B4 B3 B7
應變循環載荷試驗前的 剪切恢復率R1A（%） 47 58 58 46 20 70
應變循環載荷試驗後的 剪切恢復率R1B（%） 16 36 36 32 17 20
ΔRl=（RlA-RlB）/200 0.155 0.11 0.11 0.07 0.015 0.25
第二黏著劑層 黏著片 B3 B3 B4 B4 B1 B8
應變循環載荷試驗前的 剪切恢復率R2A（%） 20 20 46 46 58 60
應變循環載荷試驗後的 剪切恢復率R2B（%） 17 17 32 32 36 16
ΔR2=（R2A-R2B）/200 0.015 0.015 0.07 0.07 0.11 0.22
彎曲性評價試驗 A A A C D D
表面硬度評價試驗 A A A A B A
100:積層體 101:前面板 102:第一黏著劑層 103:偏光板 104:第二黏著劑層 105:背面板 301:基材膜 302:偏光片層 303:外塗層 304:剝離膜A 305:貼合層 306:剝離膜B 307:λ/4相位差層 308:基材膜 309:剝離膜A 310:黏著劑層 311:剝離膜B 312:硬塗層 313:樹脂膜 314:剝離膜A 315:黏著劑層 316:剝離膜B 317:透明導電層 318:分離層 319:接著劑層 320:基材層 410:直線偏光板 420:貼合片 430:積層體A 440:相位差層 450:圓偏光板 460:黏著片 470:積層體B 480:前面板 490:黏著片 500:積層體C 510:積層體D 520:觸控感測器面板
圖1是表示本發明的光學積層體的一例的概略剖面圖。 圖2的（a）～（e）是示意性表示本發明的光學積層體的製造方法的剖面圖。
100:積層體
101:前面板
102:第一黏著劑層
103:偏光板
104:第二黏著劑層
105:背面板

Claims (6)

  1. 一種光學積層體，依序包括：前面板、使用第一黏著劑組成物形成的第一黏著劑層、偏光板、使用第二黏著劑組成物形成的第二黏著劑層、以及背面板，其中， 當在使用所述第一黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第一基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R1A[%]及R1B[%]，在使用所述第二黏著劑組成物形成的厚度200 μm的第二基準黏著劑層中，將應變循環載荷試驗前及應變循環載荷試驗後的溫度25℃下的剪切恢復率分別設為R2A[%]及R2B[%]時，滿足下述的關係式（1）～關係式（3）： ΔR1={（R1A）-（R1B）}/200≦0.2   （1） ΔR2={（R2A）-（R2B）}/200≦0.2   （2） R1A＞R2A    （3）。
  2. 如請求項1所述的光學積層體，其更滿足下述關係式（4）： ΔR1≧ΔR2   （4）。
  3. 如請求項1或請求項2所述的光學積層體，其中，R2A[%]為20%以上。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的光學積層體，其中所述背面板為觸控感測器面板。
  5. 一種顯示裝置，包括如請求項1至請求項4中任一項所述的光學積層體。
  6. 如請求項5所述的顯示裝置，其能夠使所述前面板側為外側進行彎曲。
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