TW202214432A - 積層體、圖像顯示裝置及製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種積層體，依次包括：第一光學構件、第一黏著劑層、第二光學構件、第二黏著劑層、及第三光學構件，其中第一黏著劑層及第二黏著劑層的黏性值均為0.8 gf以上。

Description

積層體、圖像顯示裝置及製造方法
本發明是有關於一種積層體，進而有關於一種包括積層體的圖像顯示裝置及積層體的製造方法。
專利文獻1中記載了一種依次包括視窗膜、第二黏著劑膜、觸控功能部以及第一黏著劑膜的光學構件，提出了使與第一黏著劑膜及第二黏著劑膜的溫度對應的儲存彈性係數的分佈在特定的範圍內。
專利文獻2中記載了一種用於能夠彎曲的顯示器的黏著劑組成物，提出了關於黏著劑組成物硬化後的儲存彈性係數，將變形後的最終應力相對於變形開始時的初始應力的比率設為特定的範圍內。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]韓國公開專利第10-2016-0053788號公報 [專利文獻2]韓國公開專利第10-2019-0069334號公報
[發明所欲解決之課題]
用於圖像顯示裝置的光學積層體通常是藉由黏著劑層貼合多個光學構件而製造。黏著劑層為了在下一步驟中發揮本來的性能，有時需要在塗佈後使黏著劑層熟化的步驟（老化）。近年來，在製造光學積層體後，到在下一步驟中使用為止的前置時間縮短。因此，有時未勻出充分的時間進行老化，而在彎曲時在黏著劑層與光學構件之間或黏著劑層內產生氣泡。
本發明的目的在於提供一種積層體，其依次包括：第一光學構件、第一黏著劑層、第二光學構件、第二黏著劑層、及第三光學構件，在以第一光學構件為內側彎曲時，即使在未勻出充分的時間進行老化的情況下，亦維持黏著劑層與光學構件的接著性，且在黏著劑層與光學構件之間或黏著劑層內氣泡的產生得到了抑制。 [解決課題之手段]
本發明提供以下的積層體、圖像顯示裝置及積層體的製造方法。 [1]一種積層體，依次包括：第一光學構件、第一黏著劑層、第二光學構件、第二黏著劑層、及第三光學構件，其中， 所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值均為0.8 gf以上。 [2]如[1]所述的積層體，其滿足式（1）： 第一黏著劑層的溫度25℃下的黏性值≧第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值   （1）。 [3]如[1]或[2]所述的積層體，其中所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值均為10.0 gf以下。 [4]如[1]至[3]中任一項所述的積層體，其中所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的溫度25℃下的剪切彈性係數均為0.5 MPa以下。 [5]如[1]至[4]中任一項所述的積層體，其中第一光學構件為前面板。 [6]如[1]至[5]中任一項所述的積層體，其中第二光學構件為偏光板。 [7]如[1]至[6]中任一項所述的積層體，其中第三光學構件為觸控感測器面板。 [8]一種圖像顯示裝置，包括如[1]至[7]中任一項所述的積層體。 [9]一種積層體的製造方法，是如[1]所述的積層體的製造方法，其包括： 使用溫度25℃下的黏性值為0.8 gf以上的黏著劑層貼合光學構件的步驟。 [發明的效果]
根據本發明，提供一種積層體，其依次包括：第一光學構件、第一黏著劑層、第二光學構件、第二黏著劑層、及第三光學構件，在以第一光學構件為內側彎曲時，即使在未勻出充分的時間進行老化的情況下，亦維持黏著劑層與光學構件的接著性，且在黏著劑層與光學構件之間或黏著劑層內氣泡的產生得到了抑制。
以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但本發明並不限定於以下的實施方式。在以下的所有圖式中，為了使各構成要素容易理解而適當調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各構成要素的比例尺與實際的構成要素的比例尺未必一致。
＜積層體＞ 圖1中示出積層體的概略剖面圖。積層體100依序包括：第一光學構件110、第一黏著劑層120、第二光學構件130、第二黏著劑層140、及第三光學構件150。積層體100較佳為第一光學構件110側為視認側。視認側是指將積層體100用於圖像顯示裝置時圖像顯示裝置的被視認的一側。以下，有時將第一光學構件、第二光學構件及第三光學構件統稱為光學構件。另外，有時將第一黏著劑層及第二黏著劑層統稱為黏著劑層。
積層體100能夠使第一光學構件110側為內側進行彎曲。能夠彎曲是指可在黏著劑層與光學構件之間以及黏著劑層內不產生氣泡地使積層體彎曲。彎曲包括在彎曲部分形成曲面的折彎的形態。在折彎的形態中，折彎的內表面的彎曲半徑並無特別限定，例如，折彎的部分的彎曲半徑可為15 mm以下，亦可為10 mm以下，亦可為5 mm以下。彎曲半徑例如為0.5 mm～5.0 mm的範圍內。另外，只要並無特別說明，則「彎曲」包括折彎的內表面的角度大於0度且小於180度的彎折的形態，且包括內表面的彎曲半徑近似為零、或者內表面的角度為0度的形態。在折彎部分為曲線的情況下，將夾著該折彎部分的直線所成的角度作為內表面的角度。
積層體100在俯視下，例如可為方形形狀，較佳為具有長邊及短邊的方形形狀，更佳為長方形。對於構成積層體100的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。
積層體100例如可在圖像顯示裝置等中使用。圖像顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機電致發光（有機EL（electroluminescence））顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、場致發光顯示裝置等。積層體100能夠彎曲，因此適合於撓性顯示器。
[靜態彎曲耐久性] 在對積層體100進行了以第一光學構件110側為內側、保持彎曲半徑為2.5 mm的彎曲狀態的靜態彎曲耐久性試驗的情況下，在彎曲部，在黏著劑層與光學構件之間以及黏著劑層內有不易產生氣泡的傾向。積層體100在進行靜態彎曲耐久性試驗的情況下，至在彎曲部，在黏著劑層與光學構件之間以及黏著劑層內最初產生氣泡為止的時間較佳為超過48小時，更佳為超過72小時。靜態彎曲耐久性試驗可藉由在後述的實施例中說明的方法來進行。
[黏著劑層的溫度25℃下的黏性值] 第一黏著劑層及第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值均為0.8 gf以上。可認為黏性值與貼合黏著劑層與光學構件後的初期的密接力有關。因此，若黏性值包含在所述範圍內，則推測即使在未勻出充分的時間進行老化的情況下，亦可獲得靜態彎曲耐久性優異的積層體。 在第一黏著劑層及第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值的任一方或雙方小於0.8 gf的情況下，由於密接力不足，存在彎曲後容易發生界面剝離的傾向。黏著劑層的溫度25℃下的黏性值按照後述的實施例中說明的方法測定。
就靜態彎曲耐久性優異的觀點而言，第一黏著劑層及第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值均較佳為1.0 gf以上，更佳為1.1 gf以上，進而佳為1.2 gf以上，特佳為1.3 gf以上，進而特佳為1.4 gf以上，進一步特佳為1.5 gf以上，尤佳為2.0 gf以上，極佳為3.0 gf以上。第一黏著劑層及第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值均可為例如10.0 gf以下，較佳為9.0 gf以下，更佳為8.0 gf以下，進而佳為7.0 gf以下，特佳為6.0 gf以下，進而特佳為5.0 gf以下。 在第一黏著劑層及第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值超過10.0 gf的情況下，黏著劑層內部的凝聚力有容易降低的傾向。
積層體100較佳為滿足以下的式（1）。 第一黏著劑層的溫度25℃下的黏性值≧第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值   （1） 發現在以第一光學構件側為內側彎曲積層體的情況下，第一黏著劑層的溫度25℃下的黏性值較第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值更大，則有容易獲得更良好的靜態彎曲耐久性的傾向。在以第一光學構件側為內側使積層體彎曲的情況下，由於第一黏著劑層位於接近第一光學構件的位置，彎曲半徑變小，因此存在施加的應力變大的傾向。因此，推測藉由配置黏性值大於第二黏著劑層的黏著劑層作為第一黏著劑層，容易保持密接狀態。
就靜態彎曲耐久性優異的觀點而言，積層體100更佳為滿足以下的式（1'）。 第一黏著劑層的溫度25℃下的黏性值＞第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值   （1'）
黏著劑層的溫度25℃下的黏性值具有黏著劑層越柔軟越容易變高的傾向。黏著劑層的溫度25℃下的黏性值可藉由選定構成原料聚合物的單體、或黏著劑中添加的添加劑（例如丙烯酸單體）的種類及添加量來調節。 黏著劑層的溫度25℃下的黏性值亦可藉由添加黏著賦予劑（增黏劑）來調整。
[光學構件] 光學構件可為用於通常的圖像顯示裝置中的構成要素。在將積層體100用於圖像顯示裝置的情況下，能夠以第一光學構件110成為視認側的方式貼合於圖像顯示裝置，較佳為以第一光學構件110成為構成圖像顯示裝置的視認側的最外表面的層的方式貼合於圖像顯示裝置。
作為光學構件，例如可列舉：前面板、偏光板、觸控感測器面板、及圖像顯示元件等。第一光學構件110可為前面板。第二光學構件130可為偏光板。第三光學構件150可為觸控感測器面板或圖像顯示元件，並且較佳為觸控感測器面板。
[前面板] 前面板只要是能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無特別限定，且可為單層結構亦可為多層結構，可例示玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體。前面板可為構成圖像顯示裝置的視認側的最表面的層。
作為玻璃板，較佳地使用顯示用強化玻璃。玻璃板的厚度例如為10 μm以上且1000 μm以下，較佳為20 μm以上且500 μm以下。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的光學構件。
作為樹脂膜，只要是能夠透過光的樹脂膜，則不進行限定。例如可列舉包含如下高分子的膜：三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等。所述高分子可單獨使用或混合兩種以上使用。當將積層體用於撓性顯示器時，較佳地使用由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的樹脂膜，其可構成為具有優異的可撓性，並且具有高強度及高透明性。再者，本說明書中，「(甲基)丙烯酸」是指可為丙烯酸或甲基丙烯酸的任意一種。(甲基)丙烯酸酯等「(甲基)」亦是同樣的含義。
前面板是樹脂膜的情況下，樹脂膜可為在基材膜的至少一面設置硬塗層而進一步提高了硬度的膜。硬塗層可形成於基材膜的其中一面，亦可形成於兩面。當後述的圖像顯示裝置是觸控面板方式的圖像顯示裝置時，由於前面板的表面成為觸控面，故較佳地使用具有硬塗層的樹脂膜。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃傷性的樹脂膜。硬塗層例如是紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可舉出(甲基)丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高硬度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無限定，可舉出無機系微粒、有機系微粒、或者該些的混合物。樹脂膜的厚度例如為10 μm以上且500 μm以下，較佳為20 μm以上且100 μm以下。
前面板不僅具有保護圖像顯示裝置的前表面的功能，亦可具有作為觸控感測器的功能、藍光隔斷功能、視角調整功能等。
[偏光板] 偏光板130可為直線偏光板亦可為圓偏光板。直線偏光板可為在偏光片的一個面積層保護層而成者。直線偏光板具有在入射了無偏光的光時，使具有與吸收軸正交的振動面的直線偏光透過的性質。直線偏光板可包括聚乙烯醇（以下，有時亦簡稱為「PVA（poly vinyl alcohol）」）系樹脂膜作為偏光片，亦可為使包含二色性色素及聚合性化合物的組成物配向而使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜。與包括拉伸步驟的PVA系樹脂膜的偏光片相比，塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片的彎曲方向並無限制，因此較佳。
直線偏光板可只包括偏光片及保護層，亦可除了偏光片及保護層之外，更包括基材、熱塑性樹脂膜、外塗層及配向膜中的任意一個以上。直線偏光板的厚度例如為2 μm以上且100 μm以下，較佳為5 μm以上且60 μm以下。
[偏光片] 作為偏光片，例如可列舉對聚乙烯醇（以下，有時亦簡稱為「PVA」）系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施了利用碘或二色性染料等二色性物質的染色處理、及拉伸處理而得者等。就光學特性優異的方面而言，較佳使用利用碘染色PVA系樹脂膜並進行單軸拉伸而得到的偏光片。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可為乙酸乙烯酯與能夠和乙酸乙烯酯共聚合的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其他單量體，例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳～100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改質，例如亦可使用經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1,000～10,000左右，較佳為1,500～5,000左右。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可根據日本工業標準（Japanese Industrial Standard，JIS）K 6726（1994）求出。平均聚合度不足1000時，難以獲得較佳的偏光性能，超過10000時，膜加工性有時會差。
作為其他含有PVA系樹脂膜的偏光片的製造方法，可列舉包括如下步驟的方法：首先準備基材膜，在基材膜上塗佈聚乙烯醇系樹脂等樹脂的溶液，進行除去溶媒的乾燥等而在基材膜上形成樹脂層。再者，可在基材膜的形成樹脂層的面上預先形成底塗層。作為基材膜，可使用PET等樹脂膜、或利用可用於後述的保護層的熱塑性樹脂的膜。作為底塗層的材料，可列舉將用於偏光片的親水性樹脂交聯而成的樹脂等。
接著，根據需要調整樹脂層的水分等溶媒量，然後將基材膜及樹脂層單軸拉伸，繼而，利用碘等二色性色素對樹脂層進行染色，使二色性色素吸附配向於樹脂層。繼而，根據需要，利用硼酸水溶液處理二色性色素吸附配向的樹脂層，並進行洗掉硼酸水溶液的清洗步驟。藉此，製造吸附配向有二色性色素的樹脂層、即，偏光片。各步驟可採用公知的方法。
基材膜及樹脂層的單軸拉伸可在染色之前進行，亦可在染色中進行，亦可在染色後的硼酸處理中進行，亦可在所述多個階段分別進行單軸拉伸。基材膜及樹脂層可沿MD方向（膜輸送方向）單軸拉伸，此種情況下，可在圓周速度不同的輥之間單軸拉伸，亦可使用熱輥單軸拉伸。另外，基材膜及樹脂層可沿TD方向（與膜輸送方向垂直的方向）單軸拉伸，此種情況下，可使用所謂的拉幅機法。另外，基材膜及樹脂層的拉伸既可為乾式拉伸，亦可為濕式拉伸，其中，乾式拉伸在大氣中進行拉伸，濕式拉伸在利用溶劑使樹脂層溶脹的狀態下進行拉伸。為了體現偏光片的性能，拉伸倍率為4倍以上，較佳為5倍以上，特佳為5.5倍以上。拉伸倍率並無特別上限，但就抑制斷裂等的觀點而言，較佳為8倍以下。
包括PVA系樹脂膜的偏光片的厚度例如為2 μm以上且40 μm以下。偏光片的厚度可為5 μm以上，亦可為20 μm以下，15 μm以下，進而亦可為10 μm以下。
就作為使包含二色性色素及聚合性化合物的組成物配向、使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜的偏光片的製造方法而言，可列舉在基材膜上經由配向膜塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片形成用組成物而形成偏光片的方法；或者在形成在基材膜上的保護層上，經由配向膜塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片形成用組成物，使聚合性液晶化合物在保持液晶狀態的狀態下聚合並硬化而形成偏光片的方法。如此獲得的偏光片處於積層在基材膜的保護層上的狀態，亦可作為帶基材膜的直線偏光板使用。作為基材膜，可使用熱塑性樹脂膜，例如聚對苯二甲酸乙二酯膜等。
作為二色性色素，可使用具有分子的長軸方向上的吸光度與短軸方向上的吸光度不同的性質的色素，例如較佳為在300 nm～700 nm範圍內具有吸收極大波長（λmax）的色素。作為此種二色性色素，例如可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素等，更佳為雙偶氮色素、三偶氮色素。
偏光片形成用組成物可含有溶劑、光聚合起始等聚合起始、光增感劑、阻聚劑等。關於偏光片形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶劑、聚合起始劑、光增感劑、阻聚劑等，可使用公知者，例如可使用日本專利特開2017-102479號公報、日本專利特開2017-83843號公報中例示者。關於使用偏光片形成用組成物形成偏光片的方法，亦可採用所述公報中例示的方法。
塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
亦可在直線偏光板的偏光片側的面上設置外塗層（以下亦稱為OC（overcoat）層）。作為構成OC層的材料，例如可列舉光硬化性樹脂或水溶性聚合物等。作為光硬化性樹脂，例如可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、環氧系樹脂、矽酮系樹脂等。作為水溶性聚合物，例如可列舉聚(甲基)丙烯醯胺系聚合物；聚乙烯醇、及乙烯-乙烯醇共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、(甲基)丙烯酸或其酸酐-乙烯醇共聚物等乙烯醇系聚合物；羧基乙烯基系聚合物；聚乙烯吡咯啶酮；澱粉類；海藻酸鈉；聚環氧乙烷系聚合物等。OC層的厚度較佳為20 μm以下，更佳為15 μm以下，進而佳為10 μm以下，亦可為5 μm以下，另外，為0.05 μm以上，亦可為0.5 μm以上。
藉由所述方法製作的偏光片可剝離基材膜，或者與基材膜一起作為直線偏光板使用。根據所述方法，可剝離基材膜，因此可實現偏光片的進一步的薄膜化。
[保護層] 保護層具有保護偏光片的表面的功能。在積層體100中，直線偏光板通常可配置成保護層較偏光片更靠近第一光學構件110側。
作為保護層，例如可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、等方形、拉伸性等優異的熱塑性樹脂膜。作為此種熱塑性樹脂的具體例，可列舉：三乙醯纖維素等纖維素樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚碳酸酯樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴樹脂；具有環系及降冰片烯結構的環狀聚烯烴樹脂（亦稱為降冰片烯系樹脂）；(甲基)丙烯酸樹脂；聚芳酯樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂、及該些的混合物。於在偏光片的兩面積層有保護層的情況下，兩個保護層可為同種，亦可為異種。熱塑性樹脂膜的厚度例如可為3 μm以上且50 μm以下，較佳為5 μm以上且30 μm以下。
保護層例如亦可為有機物層或無機物層。有機物層或無機物層可為藉由塗層形成的層。有機物層可使用保護層形成用組成物、例如(甲基)丙烯酸系樹脂組成物、環氧系樹脂組成物、聚醯亞胺系樹脂組成物等形成。保護層形成用組成物可為活性能量線硬化型，亦可為熱硬化型。無機物層例如可由矽氧化物等形成。於保護層是有機物層的情況下，保護層可為被稱為硬塗層的層。
於保護層為有機物層的情況下，例如可藉由將活性能量線硬化型的保護層形成用組成物塗佈在基材膜上，照射活性能量使其硬化來製作保護層。基材膜適用所述基材膜的說明。基材膜通常被剝離除去。作為塗佈保護層形成用組成物的方法，例如可列舉旋塗法等。在保護層為無機物層的情況下，例如可藉由濺射法、蒸鍍法等形成保護層。在保護層為有機物層或無機物層的情況下，保護層的厚度例如可為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且5 μm以下。
[相位差板] 偏光板藉由包括直線偏光板及相位差板，可發揮作為圓偏光板的功能。以直線偏光板的吸收軸與相位差板的遲相軸成為規定角度的方式配置直線偏光板及相位差板的圓偏光板能夠發揮防反射功能。 相位差板可包括一層或兩層以上的相位差層。在相位差板包括兩層相位差層的情況下，自偏光片側開始有時依次稱為第一相位差層及第二相位差層。相位差層可為一層，亦可為兩層以上。相位差層可具有保護其表面的外塗層、及支撐相位差層的基材膜等。作為相位差層，例如可列舉賦予λ/4相位差的相位差層（λ/4層）、賦予λ/2相位差的相位差層（λ/2層）及正C層等。相位差板較佳為包括λ/4層，進而佳為包括λ/4層與λ/2層或正C層的至少任一者。在相位差板包括λ/2層的情況下，自直線偏光板側起依次積層λ/2層及λ/4層。在相位差板包括正C層的情況下，可自直線偏光板側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光板側起依次積層正C層及λ/4層。相位差板的厚度例如為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且6 μm以下。
相位差層可包含作為所述熱塑性樹脂膜的材料而例示的樹脂膜，亦可包含聚合性液晶化合物硬化而成的層。相位差層可更包含配向膜及基材膜，λ/4層與λ/2層及正C層可藉由後述的層間貼合層來接合。
相位差層包含使聚合性液晶化合物硬化而成的層時，可藉由將含有聚合性液晶化合物的組成物塗佈於基材膜並使其硬化而形成。亦可在基材膜與塗佈層之間形成配向膜。聚合性液晶化合物可使用所述偏光片的說明中的聚合性液晶化合物。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。相位差層包含使聚合性液晶化合物硬化而成的層時，可以具有配向膜及基材膜的形態組入積層體。
以直線偏光板的吸收軸與相位差層的遲相軸成為規定角度的方式配置有直線偏光板與相位差板的偏光板具有防反射功能，即，可作為圓偏光板發揮功能。相位差板包括λ/4層時，直線偏光板的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度可為45°±10°。相位差層可具有正波長分散性，亦可具有逆波長分散性。λ/4層較佳為具有逆波長分散性。 直線偏光板與相位差板可藉由後述的貼合層而接合。
[層間貼合層] 層間貼合層配置在相位差層彼此之間，例如第一相位差層與第二相位差層之間，具有貼合第一相位差層與第二相位差層的功能。層間貼合層可包括接著劑或黏著劑。層間貼合層較佳為接著劑層。
層間貼合層的厚度並無特別限定，於作為層間貼合層使用黏著劑層的情況下，較佳為1 μm以上，可為5 μm以上，通常為50 μm以下，亦可為25 μm以下。於作為層間貼合層使用接著劑層的情況下，層間貼合層的厚度較佳為0.1 μm以上，可為0.5 μm以上，較佳為10 μm以下，亦可為5 μm以下。
用於層間貼合層的黏著劑可使用所述的黏著劑組成物，亦可使用其他黏著劑，例如與黏著劑層的材料不同的(甲基)丙烯酸系黏著劑、苯乙烯系黏著劑、矽酮系黏著劑、橡膠系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、聚酯系黏著劑、環氧系共聚物黏著劑等。
作為用於層間貼合層的接著劑，例如可將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等中的一種或兩種以上組合形成。作為水系接著劑，例如可列舉聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑是藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉：含有聚合性化合物及光聚合性起始劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。作為所述聚合性化合物，可列舉：光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體，以及來自該些單體的寡聚物等。作為所述光聚合起始劑，可列舉包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質的化合物。
[觸控感測器面板] 作為觸控感測器面板，只要是能夠檢測出被觸控的位置的感測器，則檢測方式不受限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光學感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。自低成本方面而言，較佳使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。觸控感測器面板可配置在積層體的與視認側相反的一側。
電阻膜方式的觸控感測器面板的一個例子包括彼此相向配置的一對基板、夾持於所述一對基板之間的絕緣性間隔物、在各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路。在設置有電阻膜方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中，當觸控前面板的表面時，相向的電阻膜短路，在電阻膜中流動電流。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化，從而檢測被觸控的位置。
靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的一例包括基板、設置在基板的整個面上的位置檢測用透明電極、觸控位置檢測電路。在設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中，當觸控前面板的表面時，在被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測被觸控的位置。
[圖像顯示元件] 圖像顯示元件例如可列舉：液晶單元、有機電致發光（有機EL）顯示元件、無機電致發光（無機EL）顯示元件、電漿顯示元件、電場發射型顯示元件等。
[黏著劑層] 黏著劑層是介於光學構件彼此之間而將該些貼合的層。在本說明書中，「黏著劑」是指硬化反應後的狀態為高黏度液體或凝膠狀固體，在常溫下只需短時間施加微小的壓力就能夠接著的物質，例如亦稱為感壓式接著劑。另一方面，本說明書中的「接著劑」是指黏著劑（感壓式接著劑）以外的接著劑，是指硬化反應後的狀態為固體狀，且硬化後的25℃下的彈性係數的範圍為100 MPa以上的接著劑。黏著劑層可為包括一層者，或者亦可為包括兩層以上者，較佳為包括一層者。
黏著劑層的溫度25℃下的剪切彈性係數[MPa]例如可為0.5 MPa以下，較佳為0.4 MPa以下，更佳為0.3 MPa以下，進而佳為0.2 MPa以下，特佳為0.1 MPa以下。黏著劑層的溫度25℃下的剪切彈性係數[MPa]通常為0.001 Mpa以上，例如為0.005 MPa以上或0.01 MPa以上。黏著劑層的溫度25℃下的剪切彈性係數[MPa]按照後述的實施例一欄中說明的方法測定。
就確保接著性的觀點而言，黏著劑層的厚度較佳為4 μm以上，更佳為5 μm以上，進而佳為10 μm以上。就提高彎曲性的觀點而言，黏著劑層的厚度較佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下。黏著劑層的厚度設為黏著劑層的最大厚度。
黏著劑層可包含以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酯系樹脂、矽酮系樹脂、聚乙烯醚系樹脂之類的樹脂為主成分的黏著劑組成物。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型，亦可為熱硬化型。
作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（原料聚合物），例如可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之類的(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。原料聚合物中較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之類的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可僅含有所述原料聚合物，但亦可更含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：為2價以上的金屬離子，且與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；為多胺化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者；為聚環氧化合物或多元醇，且與羧基之間形成酯鍵者；為聚異氰酸酯化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。
黏著劑組成物可含有黏著賦予劑。作為黏著賦予劑，例如可列舉：烴系黏著賦予劑、萜烯系黏著賦予劑、松香系黏著賦予劑、酚系黏著賦予劑、環氧系黏著賦予劑、聚醯胺系黏著賦予劑、彈性體系黏著賦予劑、酮系黏著賦予劑等。
作為烴系黏著賦予劑，例如可列舉：脂肪族系烴樹脂、芳香族系烴樹脂（例如二甲苯樹脂等）、脂肪族系環狀烴樹脂、脂肪族-芳香族系石油樹脂（例如苯乙烯-烯烴系共聚物等）、脂肪族-脂環族系石油樹脂、氫化烴樹脂、香豆酮系樹脂、香豆酮-茚系樹脂等。
作為萜烯系黏著賦予劑，例如可列舉：α-蒎烯聚合物、β-蒎烯聚合物等萜烯系樹脂；將萜烯系樹脂改質（例如酚改質、芳香族改質、氫化改質等）而得的改質萜烯系樹脂（例如萜烯-酚系樹脂、苯乙烯改質萜烯系樹脂、氫化萜烯系樹脂等）；等等。
作為松香系黏著賦予劑，例如可列舉：脂松香（Gum Rosin）、木松香等未改質松香（生松香）；藉由氫化、歧化、聚合等將未改質松香改質而成的改質松香（例如，氫化松香、歧化松香、聚合松香、其他經化學修飾的松香等）；其他各種松香衍生物；等等。
作為酚系黏著賦予劑，例如可列舉甲階酚醛型或酚醛清漆型烷基酚等。
所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物是指如下的黏著劑組成物：具有受到紫外線或電子線之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有在活性能量線照射前仍具有黏著性而可與膜等被黏物密接，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密接力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物更含有原料聚合物、活性能量線聚合性化合物。此外，根據需要，亦含有光聚合起始劑或光增感劑等。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
黏著劑層可藉由將所述黏著劑組成物塗佈於基材上來形成。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，藉由對所形成的黏著劑組成物層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的硬化物。
[其他層] 積層體100可包括用於貼合直線偏光板與相位差板的貼合層作為其他層。
[貼合層] 積層體100可更包括貼合層，以貼合直線偏光板與相位差板。貼合層可由接著劑或黏著劑形成。接著劑及黏著劑可使用在所述的層間黏合層中例示者。
[積層體的製造方法] 積層體的製造方法通常包括使用溫度25℃下的黏性值為0.8 gf以上的黏著劑層來貼合光學構件的步驟。關於黏著劑層的溫度25℃下的黏性值、溫度25℃下的剪切彈性係數及厚度、以及黏著劑組成物，適用所述黏著劑層中的說明。
為了提高密接性，較佳為對貼合面的其中一面或兩面實施例如電暈處理或電漿處理等表面活性化處理。
黏著劑層可作為黏著片準備。黏著片可藉由在實施了脫模處理的剝離膜（以下，亦稱為隔離膜（separator））上將含有黏著劑的層預先形成為片狀，並在該黏著劑層上再貼合另一剝離膜的方式等來製作。可藉由將剝離了其中一個剝離膜的黏著片貼合在其中一層上，接著剝離另一剝離膜，貼合另一層的方法貼合各層。
積層體的製造方法可包括例如以下的（a）～（d）的步驟。參照圖2的（a）～圖2的（d）說明積層體的製造方法。 （a）準備包括剝離膜31、前面板32及剝離膜33的前面板積層體30、包括輕隔離膜41、第一黏著劑層42及重隔離膜43的黏著片40，對自前面板積層體30的一個面剝離了剝離膜33的面、及黏著片40的剝離了輕隔離膜41的面實施電暈處理並進行貼合，從而獲得依次包括剝離膜31、前面板32、第一黏著劑層42及重隔離膜43的積層體200的步驟[圖2的（a）]。
（b）準備包括剝離膜51、圓偏光板52及剝離膜53的圓偏光板積層體50，對自積層體200剝離了重隔離膜43的面及自圓偏光板積層體50剝離了剝離膜51的面實施電暈處理後進行貼合，從而獲得依次包括剝離膜31、前面板32、第一黏著劑層42、圓偏光板52及剝離膜53的積層體210的步驟[圖2的（b）]。
（c）準備包括輕隔離膜61、第二黏著劑層62及重隔離膜63的黏著片60，對自積層體210剝離了剝離膜53的面、及自黏著片60剝離了輕隔離膜61的面實施電暈處理後進行貼合，從而獲得依次包括剝離膜31、前面板32、第一黏著劑層42、圓偏光板52、第二黏著劑層62及重隔離膜63的積層體220的步驟[圖2的（c）]。
（d）準備帶有PET膜的觸控感測器層70，自帶有PET膜的觸控感測器層70剝離帶有黏著劑的PET膜71，對自積層體220剝離了重隔離膜63的面實施電暈處理，將該面與觸控感測器層72貼合，獲得依次包括剝離膜31、前面板32、第一黏著劑層42、圓偏光板52、第二黏著劑層62、及觸控感測器層72的積層體230後，自積層體230剝離剝離膜31，獲得依次包括前面板32、第一黏著劑層42、圓偏光板52、第二黏著劑層62及觸控感測器層72的積層體240的步驟[圖2的（d）]。
＜圖像顯示裝置＞ 本發明的圖像顯示裝置包括所述積層體。圖像顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、電場發光顯示裝置等圖像顯示裝置。圖像顯示裝置可具有觸控面板功能。積層體適於具有能夠彎曲或折彎等的可撓性的圖像顯示裝置。在圖像顯示裝置中，在積層體具有前面板的情況下，積層體使前面板朝向外側（與圖像顯示元件側相反的一側，即視認側）而配置在圖像顯示裝置的視認側。
本發明的圖像顯示裝置可用作智慧型手機、輸入板等移動設備、電視、數位相框、電子廣告牌、測定器或儀錶類、辦公用設備、醫療設備、計算機設備等。本發明的圖像顯示裝置因為具有優異的撓性，故適於撓性顯示器等。 [實施例]
以下，藉由實施例而對本發明進行更詳細說明。例中的「%」及「份」只要並無特別說明，則為質量%及質量份。
[厚度的測定] 使用接觸式膜厚測定裝置（尼康（Nikon）股份有限公司製造的「MS-5C」）進行測定。但是，對於偏光片、相位差層以及配向膜，使用雷射顯微鏡（LEXT、奧林巴斯（Olympus）股份有限公司製）進行測定。
[溫度25℃下的黏性值的測定] 黏著劑層的溫度25℃下的黏性值的測定使用質構儀（Texture Analyzer）（穩定微系統（STABLE MICRO SYSTEMS）公司）進行。參照圖3中的（A）～（C）對溫度25℃下的黏性值的測定順序進行說明。首先，在接合步驟[圖3中的（A）]中，自與實施例及比較例中使用的黏著片相同的黏著片剝離剝離膜並靜置，在室溫（25℃）下，使直徑5 mm的不鏽鋼製圓筒300接近露出的黏著劑層301的表面，按壓後，以基於100 g的負荷的接合力維持1秒（接觸面積為19.6 mm 2）。接合後，在剝離步驟[圖3中的（B）]中，以60 mm/min的速度抬起不鏽鋼製圓筒300時，將測定的剝離力達到最大時[圖3中的（C）]的測定值作為溫度25℃下的黏性值。再者，黏著劑層的溫度25℃下的黏性值是在製作黏著劑層後24小時後測定。
[溫度25℃下的剪切彈性係數的測定] 溫度25℃下的剪切彈性係數使用黏彈性測定裝置（MCR-301，安東帕（Anton Paar）公司）進行測定。將與實施例及比較例中使用的黏著片相同的黏著片設為寬20 mm×長20 mm，剝離剝離膜，以厚度成為150 μm的方式積層多張並接合於玻璃板後，在與測定晶片接著的狀態下，在-20℃至100℃的溫度區域，在頻率1.0 Hz、變形量1%、升溫速度5 ℃/分鐘的條件下進行測定，確認溫度25℃下的剪切彈性係數。再者，黏著劑層的溫度25℃下的剪切彈性係數是在製作黏著劑層後24小時後測定。
[靜態彎曲耐久性的評價] 圖4的（A）及圖4的（B）表示靜態彎曲耐久性試驗（心軸彎曲試驗）的方法。首先，將積層體切斷為1 cm×10 cm的試驗片。在試驗板400上以前面板側為上的方式放置積層體401，在其上放置直徑5 mm的鐵製棒402[圖4的（A）]。以前面板成為內側的方式，用手將試驗片與試驗板400一起折疊並固定[圖4的（B）]。維持該狀態，測量圓偏光板與黏著劑層之間，或黏著劑層內不產生氣泡的最大時間。 A：72小時以內沒有產生氣泡。 B：超過48小時，且72小時以內產生氣泡。 C：超過24小時，且48小時以內產生氣泡。 D：24小時以內產生氣泡。
[黏著片C1～黏著片C8的製造] 為了使氮氣回流而容易調節溫度，在設置了冷卻裝置的1 L反應器中，投入包含表1所示的2-乙基己基丙烯酸酯（2-ethyl hexyl acrylate，2-EHA）、丙烯酸正丁酯（n-butyl acrylate，n-BA）、β-羧乙基丙烯酸酯（β-carboxy ethyl acrylate，β-CEA）、丙烯酸（acrylic acid，AA）、甲基丙烯酸縮水甘油酯（glycidyl methacrylate，GMA）、2-羥乙基甲基丙烯酸酯（2-Hydroxyethyl Methacrylate，2-HEMA）的單體混合物。為了除去氧而使氮氣回流1小時後，將溶液維持在60℃。將所述單體混合物均勻混合後，按照表1所示的調配量，投入光聚合起始劑苄基二甲基縮酮（I-651）及1-羥基環己基苯基酮（I-184）。一邊攪拌一邊照射UV燈（10 mW），製造(甲基)丙烯酸系樹脂A1～(甲基)丙烯酸系樹脂A8。以表1所示的量混合獲得的(甲基)丙烯酸系樹脂A1～(甲基)丙烯酸系樹脂A8、添加劑T1～添加劑T3、1-羥基環己基苯基酮（I-184），製造黏著劑組成物B1～黏著劑組成物B8。以厚度為25 μm的方式將黏著劑組成物B1～黏著劑組成物B8塗佈於塗敷有矽脫模劑的剝離膜A（聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度38 μm）上，在其上接合剝離膜B（聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度為38 μm），進行UV照射，製作包括剝離膜A/黏著劑層/剝離膜B的黏著片C1～黏著片C8。在製作黏著片C1～黏著片C8後24小時後測定溫度25℃下的黏性值及剪切彈性係數。UV照射的條件為累計光量400 mJ/cm 2，照度1.8 mW/cm 2（UVV基準）。
[表1]
黏著劑 組成物 (甲基)丙烯酸系樹脂的組成（質量份） 光聚合起始劑 添加劑 光聚合起始劑
種類 2-EHA BA β-CEA AA GMA 2-HEMA I-651 I-184 種類 調配量 （質量份） 種類 調配量 （質量份）
B1 A1 94 1 1 - 3.5 0.5 0.05 0.05 T1 5 I-184 0.05
B2 A2 91 5 1 0.1 2.1 0.8 0.05 0.05 T2 5 I-184 0.05
B3 A3 93 3 0.5 0.6 2.1 0.8 0.02 0 02 T3 8 I-184 0.05
B4 A4 77 15 2.5 2.5 0.8 2.2 0.05 0.05 T3 4 I-184 0.05
B5 A5 79 17 0.5 1.9 1.5 0.1 0.05 0.05 T2 8 I-184 0.05
B6 A6 91 1 3.5 - 3.5 1.0 0.10 0.10 T2 3 I-184 0.05
B7 A7 97 1.5 0.5 - 0.5 0.5 0.15 0.10 T1 5 I-184 0.05
B8 A8 91 1 3.5 - 3.5 1.0 0.05 0.05 T1 3 I-184 0.05
質量份：將(甲基)丙烯酸系樹脂設為100質量份時的質量份
表1中的縮略號表示以下含義。 2-EHA：2-乙基己基丙烯酸酯（東京化成工業股份有限公司） BA：丙烯酸丁酯（東京化成工業股份有限公司） β-CEA：β-羧乙基丙烯酸酯（西格瑪奧瑞奇（Sigma-Aldrich）、美國） AA：丙烯酸（東京化成工業股份有限公司） GMA：甲基丙烯酸縮水甘油酯（西格瑪奧瑞奇（Sigma-Aldrich）、美國） 2-HEMA：2-羥乙基甲基丙烯酸酯（東京化成工業股份有限公司） I-651：苄基二甲基縮酮（巴斯夫（BASF）） I-184：1-羥基環己基苯基酮（巴斯夫（BASF）） T1：3,3,5-三甲基環己基丙烯酸酯（美瑞莫（Miramer）M1130、美源特種化學（Miwon specialty chemical）、韓國） T2：丙烯酸月桂基酯（美瑞莫（Miramer）M120、美源特種化學（Miwon specialty chemical）、韓國） T3：苯酚(EO)丙烯酸酯（美瑞莫（Miramer）M140、美源特種化學（Miwon specialty chemical）、韓國）
＜實施例1＞ （前面板的準備） 在按照日本專利特開2018-119141號公報的實施例4製作的透明基材膜（聚醯胺醯亞胺膜、厚度40 μm）的一個表面上塗敷以下的硬塗層用組成物後，使溶劑乾燥，進行UV硬化，藉此製作在基材膜的單面形成有厚度10 μm的硬塗層的前面板（厚度50 μm）。 [硬塗層形成用組成物] 利用攪拌機調配30質量份多功能丙烯酸酯（美源（MIWON）特種化學（Specialty Chemical）、「美瑞莫（MIRAMER） M340」）、50質量份分散在丙二醇單甲醚中的奈米矽溶膠（粒徑12 nm，固體成分40%）、17質量份乙酸乙酯、2.7質量份光聚合起始劑（巴斯夫（BASF）公司、I184）、0.3質量份氟系添加劑（信越化學工業股份有限公司、KY1203），使用聚丙烯（Polypropylene，PP）材質的過濾器進行過濾來製造。
（圓偏振光板的準備） 準備平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上、厚度20 μm的聚乙烯醇（polyvinylalcohol，PVA）膜。將PVA膜浸漬在30℃的純水中後，在30℃下浸漬在碘/碘化鉀/水的質量比為0.02/2/100的水溶液中來進行碘染色（碘染色步驟）。將經過碘染色步驟的PVA膜在56.5℃下浸漬在碘化鉀/硼酸/水的質量比為12/5/100的水溶液中，進行硼酸處理（硼酸處理步驟）。將經過硼酸處理步驟的PVA膜用8℃的純水洗滌後，在65℃下進行乾燥，得到碘吸附配向於聚乙烯醇的偏光片。PVA膜的拉伸在碘染色步驟及硼酸處理步驟中進行。PVA膜的總拉伸倍率為5.3倍。獲得的偏光片的厚度為7 μm。
將所述獲得的偏光片及厚度13 μm的環烯烴聚合物（Cyclo Olefin Polymer，COP）膜（ZF-14、日本瑞翁（ZEON）股份有限公司製、波長550 nm下的面內相位差值為1 nm）經由水系接著劑用夾持輥貼合。一邊將得到的貼合物的張力保持在430 N/m，一邊在60℃下乾燥2分鐘，得到單面具有COP膜的直線偏光板。再者，水系接著劑是在100質量份水中添加3質量份羧基改質聚乙烯醇（「可樂麗波瓦爾（Kuraray Poval）KL318」，可樂麗（Kuraray）股份有限公司製）及1.5質量份水溶性聚醯胺環氧樹脂（「蘇米雷斯樹脂（SUMIREZ RESIN）650」（固體成分濃度30%的水溶液），田岡化學工業股份有限公司製）而調配。
經由厚度為5 μm的丙烯酸系黏著劑層貼合直線偏光板的偏光片側與相位差層。相位差層的厚度為5 μm，層結構為含有液晶化合物硬化而成的層的λ/2層（厚度2 μm）/UV硬化型接著劑層（厚度2 μm）/含有液晶化合物硬化而成的層的λ/4層（厚度1 μm）。如此，製作了圓偏光板（厚度30 μm，層結構：COP膜/偏光片/相位差層）。
（觸控感測器積層體的準備） 將丙烯酸系樹脂塗敷於玻璃板，形成分離層。接著，在分離層上形成透光性電極層，從而製作包括透光性電極層及分離層的觸控感測器層（厚度7 μm）。然後，在透光性電極層的與分離層側相反的一側積層剝離膜A。在去除了玻璃板的面上積層剝離膜B，製作了具有剝離膜A/觸控感測器層/剝離膜B的層結構的觸控感測器積層體。
（積層體的製作） 將表2中記載的黏著片用於黏著劑層，貼合所述構件，製作積層體。該積層體依次包括前面板（厚度50 μm）、第一黏著劑層（厚度25 μm）、圓偏光板（厚度30 μm）、第二黏著劑層（厚度25 μm）、觸控感測器層（厚度7 μm），其合計厚度為137 μm。在貼合各構件時，對貼合面實施電暈處理。將所製作的積層體在溫度23℃、相對濕度55%的環境中靜置24小時後，對積層體進行靜態彎曲耐久性的評價。將結果示於表2中。
〔實施例2～實施例5及比較例1～比較例2〕 除了在第一黏著劑層及第二黏著劑層中使用表2中記載的黏著片以外，按照與實施例1相同的順序製作了積層體。對積層體進行了靜態彎曲耐久性的評價。自黏著劑層的製作到靜態彎曲耐久性的評價為止的時間設為與實施例1相同的時間。將結果示於表2中。
[表2]
  實施例 比較例
1 2 3 4 5 1 2
第一黏著劑層 溫度25℃下的黏性值（gf） 4.2 4.1 1.6 2.7 2.7 5.4 0.3
溫度25℃下的剪切彈性係數（MPa） 0.05 0.06 0.09 0.05 0.05 0.03 0.65
黏著片 C2 C3 C4 C5 C5 C7 C6
第二黏著劑層 溫度25℃下的黏性值（gf） 3.4 3.4 1.6 3.4 4.2 0.3 0.7
溫度25℃下的剪切彈性係數（MPa） 0.06 0.06 0.09 0.06 0.05 0.65 0.59
黏著片 C1 C1 C4 C1 C2 C6 C8
靜態彎曲耐久性 A A B B B C D
30:前面板積層體 31、33、51、53:剝離膜 32:前面板 40、60:黏著劑片 41、61:輕隔離膜 42:第一黏著劑層 43、63:重隔離膜 50:圓偏光板積層體 52:圓偏光板 62:第二黏著劑層 70:帶有PET膜的觸控感測器層 71:帶有黏著劑的PET膜 72:觸控感測器層 100、200、210、220、230、240、401:積層體 110:第一光學膜/第一光學構件 120:第一黏著劑層 130:第二光學構件/偏光板 140:第二黏著劑層 150:第三光學構件 300:圓筒 301:黏著劑層 400:試驗板 402:鐵製棒
圖1是示意性表示本發明的積層體的一例的概略剖面圖。 圖2的（a）～圖2的（d）是示意性表示本發明的積層體的製造方法的概略剖面圖。 圖3中的（A）～（C）是說明溫度25℃下的黏性值的測定方法的概略圖。 圖4的（A）及圖4的（B）是說明靜態彎曲耐久性的評價方法的概略圖。

Claims (9)

  1. 一種積層體，依次包括：第一光學構件、第一黏著劑層、第二光學構件、第二黏著劑層、及第三光學構件，其中， 所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值均為0.8 gf以上。
  2. 如請求項1所述的積層體，其滿足式（1）： 第一黏著劑層的溫度25℃下的黏性值≧第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值   （1）。
  3. 如請求項1或請求項2所述的積層體，其中所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的溫度25℃下的黏性值均為10.0 gf以下。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的積層體，其中所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的溫度25℃下的剪切彈性係數均為0.5 MPa以下。
  5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的積層體，其中第一光學構件為前面板。
  6. 如請求項1至請求項5中任一項所述的積層體，其中第二光學構件為偏光板。
  7. 如請求項1至請求項6中任一項所述的積層體，其中第三光學構件為觸控感測器面板。
  8. 一種圖像顯示裝置，包括如請求項1至請求項7中任一項所述的積層體。
  9. 一種積層體的製造方法，是如請求項1所述的積層體的製造方法，其包括： 使用溫度25℃下的黏性值為0.8 gf以上的黏著劑層貼合光學構件的步驟。
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