TW202207459A - 積層體及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種積層體，依次包括前表面板、黏著劑層、及圓偏光板，所述圓偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層，且所述積層體滿足式：20＜（A×B×C）/1000＜380（式中，A表示前表面板的剛性[MPa·mm]，B表示黏著劑層的應力緩和性[MPa/mm]，且C表示圓偏光板的剛性[MPa·mm]）。

Description

積層體及圖像顯示裝置
本發明是有關於一種積層體及包括該積層體的圖像顯示裝置。
專利文獻1中揭示了一種光學積層體，其特徵在於包括基材及黏著劑層，基材具有特定範圍的拉伸彈性係數，黏著劑層具有特定範圍的25℃下的儲存彈性係數，且所述光學積層體具有優異的柔軟性，能夠使彎曲時的裂紋產生最小化。
專利文獻2中揭示了一種光學膜，其具有隔離膜，光學膜及隔離膜分別具有特定範圍的厚度，隔離膜具有特定範圍的表面的維氏（Vickers）硬度，且所述光學膜抑制了異物引起的損傷或凹痕產生。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]韓國專利第10-1579710號公報 [專利文獻2]日本專利特開2018-021202號公報
在依次包括前表面板、黏著劑層、及圓偏光板的積層體中，在以前表面板側為內側進行彎曲時，有時在前表面板或圓偏光板（特別是相位差層）上容易產生裂紋。另外，當積層體的前表面板側因來自外部的衝擊而產生凹痕時，有時容易視認到凹痕。
本發明的目的在於提供一種積層體，其依次包括前表面板、黏著劑層、及圓偏光板，圓偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層，且所述積層體的彎曲性及防凹痕性優異。
本發明提供以下的積層體及圖像顯示裝置。 [1]一種積層體，依次包括前表面板、黏著劑層、及圓偏光板， 所述圓偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層， 所述積層體滿足下述式（1）： 20＜（A×B×C）/1000＜380     （1） 〔式中， A表示所述前表面板的剛性[MPa·mm]，B表示所述黏著劑層的應力緩和性[MPa/mm]，且C表示所述圓偏光板的剛性[MPa·mm]， 當將所述前表面板的溫度23℃、相對濕度55%下的拉伸彈性係數設為EW [MPa]，將所述前表面板的厚度設為TW [mm]，將所述黏著劑層的溫度25℃下的儲存彈性係數設為G'A [MPa]，將所述黏著劑層的厚度設為TA [mm]，將所述圓偏光板的溫度23℃、相對濕度55%下的拉伸彈性係數設為EP [MPa]，將所述圓偏光板的厚度設為TP [mm]時，A、B及C分別按照下述式算出： A=EW ×TW B=G'A /TA C=EP ×TP 〕。 [2]如[1]所述的積層體，其中，所述A為290 MPa·mm以下。 [3]如[1]或[2]所述的積層體，其中，所述B為4 MPa/mm以下。 [4]如[1]至[3]中任一項所述的積層體，其中，所述C為380 MPa·mm以下。 [5]如[1]至[4]中任一項所述的積層體，其中，在所述圓偏光板側更包括觸控感測器面板。 [6]如[1]至[5]中任一項所述的積層體，其中，所述前表面板具有耐磨耗層。 [7]如[6]所述的積層體，其中，所述耐磨耗層形成在硬塗層的視認側。 [8]如[6]或[7]所述的積層體，其中，所述耐磨耗層構成所述前表面板的視認側表面。 [9]一種圖像顯示裝置，包括如[1]至[8]中任一項所述的積層體。
[發明的效果] 根據本發明，可提供一種積層體，其依次包括前表面板、黏著劑層、及圓偏光板，圓偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層，且所述積層體的彎曲性及防凹痕性優異。
以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但本發明並不限定於以下的實施方式。在以下的所有圖式中，為了使各構成要素容易理解而適當調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各構成要素的比例尺與實際的構成要素的比例尺未必一致。
＜積層體＞ 參照圖1來對本揭示的積層體進行說明。圖1所示的積層體10依次包括前表面板11、黏著劑層12、及圓偏光板13，圓偏光板13包括直線偏光板14及相位差板15。積層體10可更包括：後述的貼合層、觸控感測器面板及圖像顯示元件。積層體10較佳為前表面板11側成為視認側。視認側是指將積層體10用於圖像顯示裝置時圖像顯示裝置的被視認的一側。
積層體10能夠使前表面板11側為內側進行彎曲。能夠彎曲是指可在不使前表面板11及圓偏光板13（特別是相位差層）產生裂紋的情況下使積層體彎曲。彎曲包括在彎曲部分形成曲面的折彎形態。於折彎形態下，折彎的內表面的彎曲半徑並無特別限定。另外，彎曲包括內表面的折彎角大於0˚且小於180˚的折彎形態以及內表面的彎曲半徑近似為零或內表面的折彎角為0˚的折疊形態。積層體10能夠彎曲，因此適合於撓性顯示器。
積層體10在俯視下，例如可為方形形狀，較佳為具有長邊及短邊的方形形狀，更佳為長方形。對於構成積層體10的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。
積層體10例如可在圖像顯示裝置等中使用。圖像顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機電致發光（有機EL（electroluminescence））顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、場致發光顯示裝置等。積層體10能夠彎曲，因此適合於撓性顯示器。
[式（1）] 20＜（A×B×C）/1000＜380     （1） 〔式中， A表示前表面板的剛性[MPa·mm]，B表示黏著劑層的應力緩和性[MPa/mm]，且C表示圓偏光板的剛性[MPa·mm]， 當將前表面板的溫度23℃、相對濕度55%下的拉伸彈性係數設為EW [MPa]，將前表面板的厚度設為TW [mm]，將黏著劑層的溫度25℃下的儲存彈性係數設為G'A [MPa]，將黏著劑層的厚度設為TA [mm]，將圓偏光板的溫度23℃、相對濕度55%下的拉伸彈性係數設為EP [MPa]，將圓偏光板的厚度設為TP [mm]時，A、B及C分別按照下述式算出： A=EW ×TW B=G'A /TA C=EP ×TP 〕。
積層體10滿足所述式（1）。積層體10藉由滿足所述式（1），彎曲性及防凹痕性優異。先前，雖已知積層體的構成構件的拉伸彈性係數及黏著層的儲存彈性係數與彎曲性的關係、以及積層體的構成構件的厚度或表面硬度與防凹痕性的關係，但不知將所述兩種關係組合時同時實現良好的彎曲性及防凹痕性。這是因為彎曲性與防凹痕性是相反的產品性能。即，若要防止凹痕，則不得不犧牲彎曲性，若要提高彎曲性，則不得不在某種程度上容許看到凹痕。在此種狀況下，本發明者發現，藉由前表面板的作為拉伸彈性係數與厚度的積的剛性、黏著劑層的作為儲存彈性係數與厚度的商的應力緩和性、圓偏光板的作為拉伸彈性係數與厚度的積的剛性滿足式（1）的關係，可獲得彎曲性及防凹痕性均優異的積層體。
式（1）中左邊，較佳為30，更佳為40，進而佳為50，進而佳為80，可為100，亦可為105。式（1）中右邊，較佳為360，更佳為340，進而佳為320，進而佳為300，可為250，亦可為200。
前表面板11的剛性A例如可為350 MPa·mm以下，就積層體10的彎曲性的觀點而言，較佳為290 MPa·mm以下，更佳為230 MPa·mm以下。另一方面，前表面板11的剛性A例如可為30 MPa·mm以上，就積層體10的防凹痕性的觀點而言，較佳為50 MPa·mm以上，更佳為80 MPa·mm以上。關於EW [MPa]及TW [mm]，將在後面敘述。
黏著劑層12的應力緩和性B例如可為10 Mpa/mm以下，就彎曲性的觀點而言，較佳為5 MPa/mm以下，更佳為4 MPa/mm以下。另一方面，黏著劑層12的應力緩和性B例如可為0.5 MPa/mm以上，就防凹痕性（或復原力）的觀點而言，較佳為1.0 MPa/mm以上，更佳為1.5 MPa/mm以上。G'A [MPa]及TA [mm]將在後面描述。
積層體10在前表面板11與圓偏光板13之間包括黏著劑層12。在前表面板11與圓偏光板13之間存在兩個以上黏著劑層的情況下，將配置在最靠前表面板11側的黏著劑層作為黏著劑層12。其中，在存在與黏著劑層12相接地積層的黏著劑層以及與該黏著劑層連續積層的黏著劑層的情況下，將該些所有黏著劑層的應力緩和性（=黏著劑層的溫度25℃下的儲存彈性係數[MPa]/黏著劑層的厚度[mm]）的合計值設為應力緩和性B。另外，在前表面板為以提高後述的耐衝擊性等為目的而經由黏著劑層積層有樹脂膜的結構的情況下，該結構中所含的黏著劑層為構成前表面板11的要素，視為與前表面板11一體，不視為黏著劑層12。
圓偏光板13的剛性C例如可為400 MPa·mm以下，就圓偏光板13的彎曲性的觀點而言，較佳為380 MPa·mm以下，更佳為365 MPa·mm以下。另一方面，圓偏光板13的剛性C例如可為100 MPa·mm以上，就積層體10的防凹痕性的觀點而言，較佳為110 MPa·mm以上，更佳為120 MPa·mm以上。關於EP [MPa]及TP [mm]，將在後面敘述。
[反覆彎曲耐久性] 對於積層體10，在25℃的溫度下，以使前表面板11側為內側且彎曲半徑為1.5 mm的方式進行反覆的彎曲的情況下，有在彎曲部中在前表面板11或圓偏光板13（特別是相位差板15）不易產生裂紋的傾向。積層體10在25℃的溫度下以前表面板11側為內側且以彎曲半徑為1.5 mm進行反覆的彎曲時，圓偏光板13最初產生裂紋的彎曲次數較佳為20萬次以上，更佳為30萬次以上，進而佳為40萬次以上，特佳為50萬次以上。反覆彎曲耐久性試驗可藉由在後述的實施例中說明的方法來進行。
[前表面板] 前表面板11可構成圖像顯示裝置的視認側的最表面。前表面板11可具有保護圖像顯示裝置的前表面的功能。前表面板11亦可具有作為觸控感測器的功能、藍光隔斷功能、視角調整功能等。
EW [MPa]例如可為4000 MPa以上，就容易滿足式（1）的觀點而言，較佳為5000 MPa以上。EW [MPa]通常為10000 MPa以下。EW [MPa]可按照後述的實施例一欄中記載的測定方法進行測定。
TW [mm]例如可為0.001 mm以上且1 mm以下，就容易滿足式（1）的觀點而言，較佳為0.03 mm以上且0.5 mm以下，更佳為0.03 mm以上且0.07 mm以下。TW [mm]可按照後述實施例一欄中記載的測定方法來測定。
前表面板11只要是能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無限定，且可為單層結構亦可為多層結構，可例示玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體。前表面板11為了提高耐衝擊性，亦可具有經由黏著劑層而積層了樹脂膜的結構。前表面板11例如可為後述的能夠透過光的板狀體、黏著劑層、提高耐衝擊性的樹脂膜（以下亦稱為耐衝擊性膜）依次積層而成者。另外，前表面板11可具有後述的硬塗層或耐磨耗層。在前表面板11具有任意的多層結構的情況下，前表面板11的拉伸彈性係數EW [MPa]在作為一體的多層結構的狀態下進行測定。
作為玻璃板，較佳地使用顯示用強化玻璃。玻璃板的厚度例如為10 μm以上且1000 μm以下，較佳為20 μm以上且500 μm以下。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的光學構件。
作為樹脂膜，只要是能夠透過光的樹脂膜，則不進行限定。例如可列舉包含如下高分子的膜：三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等。所述高分子可單獨使用或混合兩種以上使用。當將積層體10用於撓性顯示器時，較佳地使用由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的樹脂膜，其可構成為具有優異的可撓性，並且具有高強度及高透明性。再者，本說明書中，「(甲基)丙烯酸」是指可為丙烯酸或甲基丙烯酸的任意一種。(甲基)丙烯酸酯等的「(甲基)」亦是同樣的含義。
前表面板11是樹脂膜的情況下，樹脂膜可為在基材膜的至少一面設置硬塗層而進一步提高了硬度的膜。硬塗層可形成在基材膜的一面上，亦可形成在兩面上。當後述的圖像顯示裝置是觸控面板方式的圖像顯示裝置時，由於前表面板11的表面成為觸控面，故較佳地使用具有硬塗層的樹脂膜。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃傷性的樹脂膜。硬塗層例如是紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可舉出(甲基)丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高硬度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無限定，可列舉無機系微粒、有機系微粒、或者該些的混合物。樹脂膜的厚度例如為10 μm以上且500 μm以下，較佳為20 μm以上且100 μm以下。
亦較佳為在所述硬塗層的視認側形成有耐磨耗層，以提高耐磨耗性、或防止由皮脂等帶來的污染。前表面板可具有耐磨耗層，耐磨耗層可為構成前表面板的視認側表面的層。耐磨耗層可包含源自氟化合物的結構。作為氟化合物，較佳為具有矽原子並且在矽原子中具有烷氧基或鹵素般的水解性基的化合物。藉由水解性基進行脫水縮合反應可形成塗膜，並且藉由與基材表面的活性氫反應可提高耐磨耗層的密接性。此外，氟化合物具有全氟烷基或全氟聚醚結構時，可賦予撥水性，因此較佳。特佳為具有全氟聚醚結構及碳數4以上的長鏈烷基的含氟聚有機矽氧烷化合物。亦較佳為使用兩種以上的化合物作為氟化合物。作為進而較佳含有的氟化合物，為含有碳數2以上的伸烷基、及全氟伸烷基的含氟有機矽氧烷化合物。
耐磨耗層的厚度例如為1 nm～20 nm。另外，耐磨耗層具有防水性，水接觸角例如為110°～125°左右。利用滑落法測定的接觸角滯後及滑落角分別為3°～20°左右、2°～55°左右。進而，耐磨耗層亦可於不阻礙本發明的效果的範圍內含有矽烷醇縮合觸媒、抗氧化劑、防鏽劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、防黴劑、抗菌劑、生物附著防止劑、消臭劑、顏料、阻燃劑、抗靜電劑等各種添加劑。
亦可於耐磨耗層與硬塗層之間設置底塗層。作為底塗劑，例如有紫外線硬化型、熱硬化型、濕氣硬化劑、或二液硬化型的環氧系化合物等底塗劑。另外，作為底塗劑，亦可使用聚醯胺酸，亦較佳使用矽烷偶合劑。底塗層的厚度例如為0.001 μm～2 μm。
作為獲得包括耐磨耗層與硬塗層的積層體的方法，可藉由以下方式來形成，即，於硬塗層上視需要塗佈底塗劑，進行乾燥硬化而形成底塗層，然後塗佈包含氟化合物的組成物（耐磨耗層塗敷用組成物），並進行乾燥。作為塗佈的方法，例如可列舉：浸漬塗佈法、輥塗法、棒塗法、旋轉塗佈法、噴霧塗佈法、模具塗佈法、凹版印刷塗佈法等。另外，亦較佳為於塗佈底塗劑、或耐磨耗層塗敷用組成物前，對塗佈面實施電漿處理、電暈處理或紫外線處理等親水化處理。該積層體亦可直接積層在前表面板上，亦可使用接著劑或黏著劑將積層在另一透明基材上而得者貼合在前表面板上。 作為前表面板11的層結構，可列舉自視認側起依次例如為：硬塗層/基材膜、硬塗層/基材膜/硬塗層、耐磨耗層/硬塗層/基材膜、耐磨耗層/硬塗層/基材膜/硬塗層、耐磨耗層/底塗層/硬塗層/基材膜、耐磨耗層/底塗層/硬塗層/基材膜/硬塗層、硬塗層/基材膜/黏著劑層/耐衝擊性膜、硬塗層/基材膜/硬塗層/黏著劑層/耐衝擊性膜、耐磨耗層/硬塗層/基材膜/黏著劑層/耐衝擊性膜、耐磨耗層/硬塗層/基材膜/硬塗層/黏著劑層/耐衝擊性膜等。
[黏著劑層] 黏著劑層12可為介於前表面板11與圓偏光板13之間而將該些貼合的層。黏著劑層12較佳為與前表面板11及圓偏光板13直接接觸地配置。在本說明書中，「黏著劑」是指硬化反應後的狀態為高黏度液體或凝膠狀固體，在常溫（例如溫度23℃～溫度25℃、相對濕度55%～60%）下只需短時間施加微小的壓力就能夠接著的物質，例如亦稱為感壓式接著劑。另一方面，本說明書中的「接著劑」是指黏著劑（感壓式接著劑）以外的接著劑，是指硬化反應後的狀態為固體狀，且硬化後在25℃下的彈性係數的範圍為100 MPa以上的接著劑。黏著劑層12可為包括一層者，或者亦可為包括兩層以上者，較佳為包括一層。
G'A [MPa]例如可為0.005 MPa以上且0.5 MPa以下，就容易滿足式（1）的觀點而言，較佳為0.01 MPa以上且0.2 MPa以下，更佳為0.02 MPa以上且0.1 MPa以下。G'A [MPa]例如可藉由選擇構成後述的原料聚合物的單體的種類、調節交聯度等來調節。G'A [MPa]可按照後述的實施例一欄中記載的測定方法進行測定。
就容易滿足式（1）的觀點而言，TA [mm]較佳為0.004 mm以上，更佳為0.005 mm以上，進而佳為0.01 mm以上。就容易滿足式（1）的觀點而言，TA [mm]較佳為0.1 mm以下，更佳為0.05 mm以下。TA [mm]設為黏著劑層12的最大厚度。TA [mm]可按照後述的實施例一欄中記載的測定方法進行測定。
黏著劑層12可包含以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、矽酮系、聚乙烯醚系之類的樹脂為主成分的黏著劑組成物。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型，亦可為熱硬化型。(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量例如可為100萬以上，亦可為120萬以上，亦可為200萬以下。重量平均分子量藉由後述實施例中記載的方法測定。
作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（原料聚合物），例如可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之類的(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。原料聚合物中較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之類的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可僅含有所述原料聚合物，但通常更含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：為2價以上的金屬離子，且與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；為多胺化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者；為聚環氧化合物或多元醇，且與羧基之間形成酯鍵者；為聚異氰酸酯化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。
所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物是指如下的黏著劑組成物：具有受到紫外線或電子線之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有在活性能量線照射前仍具有黏著性而可與膜等被黏物密接，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密接力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外，更含有活性能量線聚合性化合物。進而，根據需要，亦有時含有光聚合起始劑或光增感劑等。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
黏著劑層12可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥而形成。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的硬化物。
[圓偏光板] 圓偏光板13包括後述的包含聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層。如圖1所示，圓偏光板13可包括直線偏光板14及相位差板15。圓偏光板13可在直線偏光板14側積層黏著劑層12。圓偏光板13能夠將自包括積層體10的圖像顯示裝置的視認側穿過積層體10入射的光（外部光）轉換為圓偏光。以直線偏光板14的吸收軸與相位差板15的遲相軸成為規定角度的方式配置直線偏光板及相位差板的圓偏光板13能夠吸收由圖像顯示裝置中的顯示元件反射的外部光，故可對積層體10賦予作為防反射膜的功能。
EP [MPa]例如可為2000 MPa以上，就容易滿足式（1）的觀點而言，較佳為3000 MPa以上，亦可為3500 MPa以上。EP [MPa]通常為10000 MPa以下。EP [MPa]可按照後述的實施例一欄中記載的測定方法來測定。
就容易滿足式（1）的觀點而言，TP [mm]較佳為0.03 mm以上，更佳為0.04 mm以上。就容易滿足式（1）的觀點而言，TP [mm]通常較佳為0.1 mm以下，更佳為0.08 mm以下。TP [mm]設為圓偏光板13的最大厚度。TP 可按照後述實施例一欄中記載的測定方法來測定。
[直線偏光板] 直線偏光板14中，作為偏光片層，可包括聚乙烯醇（以下，亦簡稱為「PVA（polyvinyl alcohol）」）系樹脂膜，亦可為使包含二色性色素及聚合性化合物的組成物配向而使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜。與包括拉伸步驟的PVA系樹脂膜的偏光片層相比，塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片層的彎曲方向並無限制，因此較佳。 直線偏光板14可只包括偏光片層，亦可除了偏光片層之外，更包括保護層、基材、熱塑性樹脂膜、外塗層及配向膜中的任意一個以上。直線偏光板14的厚度例如為1 μm以上且50 μm以下，較佳為5 μm以上且30 μm以下。
[偏光片層] 作為偏光片層，例如可列舉對聚乙烯醇（以下，亦簡稱為「PVA」）系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施了利用碘或二色性染料等二色性物質的染色處理、及拉伸處理而得者等。就光學特性優異的方面而言，較佳使用利用碘染色PVA系樹脂膜並進行單軸拉伸而得到的偏光片層。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可為乙酸乙烯酯與能夠和乙酸乙烯酯共聚合的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其他單量體，例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳～100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改質，例如亦可使用經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1,000～10,000左右，較佳為1,500～5,000左右。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可根據日本工業標準（Japanese Industrial Standard，JIS）K 6726（1994）求出。平均聚合度不足1000時，難以獲得較佳的偏光性能，超過10000時，膜加工性有時會差。
作為其他含有PVA系樹脂膜的偏光片層的製造方法，可列舉包括如下步驟的方法：首先準備基材膜，在基材膜上塗佈聚乙烯醇系樹脂等樹脂的溶液，進行除去溶媒的乾燥等而在基材膜上形成樹脂層。再者，可在基材膜的形成樹脂層的面上預先形成底塗層。作為基材膜，可使用PET等樹脂膜、或利用可用於後述的保護層的熱塑性樹脂的膜。作為底塗層的材料，可列舉將用於偏光片層的親水性樹脂交聯而成的樹脂等。
接著，根據需要調整樹脂層的水分等溶媒量，然後將基材膜及樹脂層單軸拉伸，繼而，利用碘等二色性色素對樹脂層進行染色，使二色性色素吸附配向於樹脂層。繼而，根據需要利用硼酸水溶液處理二色性色素吸附配向的樹脂層，並進行洗掉硼酸水溶液的清洗步驟。藉此，製造吸附配向有二色性色素的樹脂層、即，偏光片層。各步驟可採用公知的方法。
基材膜及樹脂層的單軸拉伸可在染色之前進行，亦可在染色中進行，亦可在染色後的硼酸處理中進行，亦可在所述多個階段分別進行單軸拉伸。基材膜及樹脂層可沿MD方向（膜輸送方向）單軸拉伸，此種情況下，可在圓周速度不同的輥之間單軸拉伸，亦可使用熱輥單軸拉伸。另外，基材膜及樹脂層亦可沿TD方向（與膜輸送方向垂直的方向）單軸拉伸，此種情況下，可使用所謂的拉幅機法。另外，基材膜及樹脂層的拉伸既可為乾式拉伸，亦可為濕式拉伸，其中乾式拉伸在大氣中進行拉伸，濕式拉伸在利用溶劑使樹脂層溶脹的狀態下進行拉伸。為了體現偏光片層的性能，拉伸倍率為4倍以上，較佳為5倍以上，特佳為5.5倍以上。拉伸倍率並無特別上限，但就抑制斷裂等的觀點而言，較佳為8倍以下。
包括PVA系樹脂膜的偏光片層的厚度例如為2 μm以上且40 μm以下。偏光片層的厚度可為5 μm以上，亦可為20 μm以下，15 μm以下，進而亦可為10 μm以下。
就作為使包含二色性色素及聚合性化合物的組成物配向、使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜的偏光片層的製造方法而言，可列舉在基材膜上經由配向膜塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物而形成偏光片層的方法；或者在形成在基材膜上的後述的保護層上，經由配向膜塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物，使聚合性液晶化合物在保持液晶狀態的狀態下聚合並硬化而形成偏光片層的方法。如此獲得的偏光片層處於積層在基材膜的保護層上的狀態，亦可作為帶基材膜的直線偏光板使用。作為基材膜，可使用熱塑性樹脂膜，例如聚對苯二甲酸乙二酯膜等。
塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片層的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下，亦可為4 μm以下。
藉由所述方法製作的偏光片層可剝離基材膜，或者與基材膜一起作為直線偏光板使用。根據所述方法，可剝離基材膜，因此可實現偏光片層的進一步的薄膜化。
[外塗層] 可在直線偏光板14的偏光片層側的面上設置外塗層（以下亦稱為OC層）。作為構成OC層的材料，例如可列舉光硬化性樹脂或水溶性聚合物等。作為光硬化性樹脂，例如可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、環氧系樹脂、矽酮系樹脂等。作為水溶性聚合物，例如可列舉聚(甲基)丙烯醯胺系聚合物；聚乙烯醇、及乙烯-乙烯醇共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、(甲基)丙烯酸或其酸酐-乙烯醇共聚物等乙烯醇系聚合物；羧基乙烯基系聚合物；聚乙烯吡咯啶酮；澱粉類；海藻酸鈉；聚環氧乙烷系聚合物等。OC層的厚度較佳為20 μm以下，更佳為15 μm以下，進而佳為10 μm以下，亦可為5 μm以下，另外，為0.05 μm以上，亦可為0.5 μm以上。
[保護層] 保護層具有保護偏光片層表面的功能。在積層體中，直線偏光板14通常可配置成保護層較偏光片層更靠近前表面板11側。
保護層可為有機物層或無機物層。有機物層或無機物層可為藉由塗敷而形成的層。有機物層可使用保護層形成用組成物、例如(甲基)丙烯酸系樹脂組成物、環氧系樹脂組成物、聚醯亞胺系樹脂組成物等形成。保護層形成用組成物可為活性能量線硬化型，亦可為熱硬化型。無機物層例如可由矽氧化物等形成。於保護層是有機物層的情況下，保護層可為被稱為硬塗層的層。
於保護層為有機物層的情況下，例如可藉由將活性能量線硬化型的保護層形成用組成物塗佈在基材膜上，照射活性能量使其硬化來製作保護層。基材膜適用所述基材膜的說明。基材膜通常被剝離除去。作為塗佈保護層形成用組成物的方法，例如可列舉旋塗法等。在保護層為無機物層的情況下，例如可藉由濺射法、蒸鍍法等形成保護層。在保護層為有機物層或無機物層的情況下，保護層的厚度例如可為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且5 μm以下。
作為保護層，例如亦可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、等方形、拉伸性等優異的熱塑性樹脂膜。作為此種熱塑性樹脂的具體例，可列舉：三乙醯纖維素等纖維素樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚碳酸酯樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴樹脂；具有環系及降冰片烯結構的環狀聚烯烴樹脂（亦稱為降冰片烯系樹脂）；(甲基)丙烯酸樹脂；聚芳酯樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂、及該些的混合物。於在偏光片層的兩面積層有保護層的情況下，兩個保護層可為同種，亦可為異種。熱塑性樹脂膜的厚度例如可為3 μm以上且60 μm以下，較佳為5 μm以上且50 μm以下，亦可為30 μm以下。
[相位差板] 相位差板15包括含有聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層。相位差板15可包括一層或兩層以上的相位差層。在相位差板15包括兩層相位差層的情況下，自偏光片層側開始有時依次稱為第一相位差層及第二相位差層。相位差層可為一層，亦可為兩層以上。相位差層可具有保護其表面的外塗層、及支撐相位差層的基材膜等。作為相位差層，例如可列舉賦予λ/4相位差的相位差層（λ/4層）、賦予λ/2相位差的相位差層（λ/2層）及正C層等。相位差板15較佳為包括λ/4層，進而佳為包括λ/4層與λ/2層或正C層的至少任一者。在相位差板15包括λ/2層的情況下，自直線偏光板14側起依次積層λ/2層及λ/4層。在相位差板15包括正C層的情況下，可自直線偏光板14側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光板14側起依次積層正C層及λ/4層。相位差板15的厚度例如為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下。
相位差板15可包括由作為所述熱塑性樹脂膜的材料而例示的樹脂膜形成的相位差層。相位差層可更包括配向膜及基材膜，λ/4層與λ/2層及正C層可藉由後述的層間貼合層來接合。
包含聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層可藉由將含有聚合性液晶化合物的組成物塗佈於基材膜並使其硬化而形成。亦可在基材膜與塗佈層之間形成配向膜。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。相位差層由使聚合性液晶化合物硬化而成的層形成時，可以具有配向膜及基材膜的形態或不具有配向膜及基材膜的形態組入積層體。
以直線偏光板14的吸收軸與相位差層的遲相軸成為規定角度的方式配置直線偏光板14及相位差板15的偏光板可具有防反射功能。相位差板包括λ/4層時，直線偏光板14的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度可為45°±10°。相位差層可具有正波長分散性，亦可具有逆波長分散性。λ/4層較佳為具有逆波長分散性。 直線偏光板14與相位差板15可藉由後述的貼合層而接合。
[層間貼合層] 層間貼合層配置在第一相位差層與第二相位差層之間，具有貼合第一相位差層與第二相位差層的功能。層間貼合層可包括接著劑或黏著劑。層間貼合層較佳為接著劑層。
層間貼合層的厚度於作為層間貼合層而使用黏著劑層的情況下，較佳為1 μm以上，可為5 μm以上，通常為50 μm以下，亦可為20 μm以下。於作為層間貼合層而使用接著劑層的情況下，層間貼合層的厚度較佳為0.1 μm以上，可為0.5 μm以上，較佳為10 μm以下，可為5 μm以下。
用於層間貼合層的黏著劑可使用所述的黏著劑組成物，亦可使用其他黏著劑，例如與黏著劑層的材料不同的(甲基)丙烯酸系黏著劑、苯乙烯系黏著劑、矽酮系黏著劑、橡膠系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、聚酯系黏著劑、環氧系共聚物黏著劑等。
作為用於層間貼合層的接著劑，例如可將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等中的一種或兩種以上組合形成。作為水系接著劑，例如可列舉聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑是藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉：含有聚合性化合物及光聚合性起始劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有黏著劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。作為所述聚合性化合物，可列舉：光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、以及來自該些單體的寡聚物等。作為所述光聚合起始劑，可列舉包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質的化合物。
[貼合層] 積層體10可更包括貼合層，以用於直線偏光板14與相位差板15的貼合、及用於積層體10與後述的觸控感測器面板或圖像顯示元件的貼合。貼合層可由接著劑或黏著劑形成。關於接著劑及黏著劑，適用所述的層間貼合層的接著劑及黏著劑的說明。
[觸控感測器面板] 作為觸控感測器面板，只要是能夠檢測出被觸控的位置的感測器，則檢測方式不受限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光學感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。自低成本方面而言，較佳使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。觸控感測器面板可配置在積層體的與視認側相反的一側。
電阻膜方式的觸控感測器面板的一個例子包括彼此相向配置的一對基板、夾持於所述一對基板之間的絕緣性間隔物、在各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路。在設置有電阻膜方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中，當觸控前表面板11的表面時，相向的電阻膜短路，在電阻膜中流動電流。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化，從而檢測被觸控的位置。
靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的一例包括基板、設置在基板的整個面上的位置檢測用透明電極、觸控位置檢測電路。在設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中，當觸控前表面板11的表面時，在被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測所觸控的位置。
[圖像顯示元件] 圖像顯示元件例如可列舉：液晶單元、有機電致發光（有機EL）顯示元件、無機電致發光（無機EL）顯示元件、電漿顯示元件、電場發射型顯示元件等。
[積層體的製造方法] 積層體可藉由使用黏著劑層貼合前表面板與圓偏光板來製造。黏著劑層可作為黏著片準備。黏著片可藉由在實施了脫模處理的剝離膜（以下，亦稱為隔離膜（separator））上將含有黏著劑的層預先形成為片狀，並在該黏著劑層上再貼合另一剝離膜的方式等來製作。可藉由將剝離了其中一個剝離膜的黏著片貼合在其中一層上，接著剝離另一剝離膜，並貼合另一層的方法來貼合各層。
積層體的製造方法可包括例如以下的（a）～（d）的步驟。參照圖2的（a）～（d）說明積層體的製造方法。
（a）準備前表面板30、及包括輕隔離膜41、黏著劑層42及重隔離膜43的黏著片40，將前表面板30與黏著片40的剝離了輕隔離膜41的面進行貼合，從而獲得依次包括前表面板30、黏著劑層42及重隔離膜43的前表面板積層體100的步驟[圖2的（a）]。
（b）準備包括基材膜51、偏光片層52及外塗層53的直線偏光板50、以及包括輕隔離膜61、貼合層62及重隔離膜63的黏著片60，將外塗層53與黏著片60的剝離了輕隔離膜61的面進行貼合，從而獲得依次包括基材膜51、偏光片層52、外塗層53、貼合層62及重隔離膜63的偏光片層積層體101的步驟[圖2的（b）]。
（c）準備包括基材膜71、第一相位差層72、層間貼合層73、第二相位差層74及基材膜75的相位差板70，將自偏光片層積層體101剝離了重隔離膜63的面與自相位差板70剝離了基材膜71的面進行貼合，獲得依次具有基材膜51、偏光片層52、外塗層53、貼合層62、第一相位差層72、層間貼合層73、第二相位差層74、及基材膜75的圓偏光板102的步驟[圖2的（c）]。
（d）將自前表面板積層體100剝離了重隔離膜43的面與圓偏光板102的基材膜51貼合，從而獲得依次具有前表面板30、黏著劑層42、基材膜51、偏光片層52、外塗層53、貼合層62、第一相位差層72、層間貼合層73、第二相位差層74及基材膜75的積層體103的步驟[圖2的（d）]。
可剝離所述積層體103的基材膜75，經由貼合層進一步積層觸控感測器面板或圖像顯示元件。
為了提高密接性，較佳為對貼合面的其中一面或兩面實施例如電暈處理或電漿處理等表面活性化處理。貼合可使用公知的層壓機、輥、單元接合機等裝置進行。
＜圖像顯示裝置＞ 本發明的圖像顯示裝置包括所述積層體。圖像顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、電場發光顯示裝置等圖像顯示裝置。圖像顯示裝置可具有觸控面板功能。積層體適於具有可彎曲或折彎等可撓性的圖像顯示裝置。在圖像顯示裝置中，在積層體具有前表面板的情況下，積層體使前表面板朝向外側（與圖像顯示元件側相反的一側，即視認側）而配置在圖像顯示裝置的視認側。
本發明的圖像顯示裝置可用作智慧型手機、輸入板等移動設備、電視、數位相框、電子廣告牌、測定器或儀錶類、辦公用設備、醫療設備、計算機設備等。本發明的圖像顯示裝置因為具有優異的撓性，故適於撓性顯示器等。 [實施例]
以下，藉由實施例而對本發明進行更詳細說明。例中的「%」及「份」只要並無特別說明，則為質量%及質量份。
[層的厚度] 使用接觸式膜厚測定裝置（尼康（Nikon）股份有限公司製造的「MS-5C」）進行測定。其中，對於偏光片層及配向膜，使用雷射顯微鏡（奧林巴斯（Olympus）股份有限公司製造的「OLS3000」）進行測定。
[儲存彈性係數] 使用黏彈性測定裝置（MCR-301、安東帕（Anton Paar）公司）測定G'A [MPa]。將與實施例及比較例中使用的黏著片相同的黏著片設為寬30 mm×長30 mm，剝離剝離膜，以厚度為150 μm的方式積層多張並接合於玻璃板後，在與測定晶片接著的狀態下，在-20℃～100℃的溫度區域，在頻率1.0 Hz、變形量1%、升溫速度5 ℃/分鐘的條件下進行測定。
[拉伸彈性係數] 在溫度23℃、相對濕度55%下，使用拉伸試驗機（AG-1S、島津製作所股份有限公司製），測定EW [MPa]及EP [MPa]。於測定對象在面內具有相位差的情況下，測定遲相軸方向的拉伸彈性係數。
[重量平均分子量（Mw）的測定] (甲基)丙烯酸樹脂的重量平均分子量（Mw）作為聚苯乙烯換算的數量平均分子量（Mn），將四氫呋喃用於移動相，藉由以下的粒徑篩析層析法（Size Exclusion Chromatography，SEC）求出。 將測定的(甲基)丙烯酸系聚合物以約0.05質量%的濃度溶解於四氫呋喃中，並向粒徑篩析層析儀（size exclusion chromatograph，SEC）中注入10 μL。移動相以1.0 mL/分鐘的流量流動。作為管柱，使用PLgel MIXED-B（聚合物實驗室（Polymer Laboratories）製造）。檢測器使用紫外-可見光檢測器（ultraviolet-visible light detector，UV-VIS檢測器）（商品名：安捷倫（Agilent）GPC）。
[反覆彎曲耐久性試驗] 如圖3的（a）及（b）所示，準備具有兩個載物台501、502的彎曲裝置（科學城（Science Town）公司製造，STS-VRT-500），以間隔C1配置兩個載物台501、502，且以積層體500的寬度方向的中心位於間隔C1的中心的方式固定配置（圖3的（a））。此時，以前表面板為上方的方式將積層體500配置在載物台501、載物台502上。該載物台501、載物台502能夠以兩個載物台的間隔C1為中心擺動，初期兩個載物台501、502構成同一平面。使兩個載物台501、502以位置P1以及位置P2為旋轉軸的中心向上方旋轉90度而將兩個載物台501、502閉合，對與載置台的間隔C1對應的積層體500的區域施加彎曲力，使相向的前表面板彼此的間隔C2成為3.0 mm（彎曲半徑1.5 mm）（圖3的（b））。其後，再次打開載物台501、載物台502（圖3的（a））。將以上的一系列的動作定義為一次彎曲。反覆進行該動作，對前表面板或相位差板最初產生裂紋為止的彎曲次數進行計數。評價的基準如下。將A或B設為合格。 A：彎曲次數即使為50萬次以上亦未產生裂紋。 B：彎曲次數為20萬次以上且不足50萬次時產生了裂紋。 C：彎曲次數為10萬次以上且不足20萬次時產生了裂紋。 D：彎曲次數不足10萬次時產生了裂紋。
[防凹痕性] 使用超級切割器自積層體切出長邊150 mm×短邊70 mm的長方形大小的小片，將小片的與前表面板側相反的一側的表面經由黏著劑層貼合至亞克力板。然後，在23℃、相對濕度55%的環境下，相對於小片，將評價用筆保持為筆尖處於距小片的前表面板的最表面5 cm的高度，並且筆尖向下，自該位置使評價用筆落下。作為評價用筆，使用了重量為5.6 g、筆尖直徑為0.75 mm的筆。對於使評價用筆落下後的小片，藉由自積層體的前表面板側目視觀察，基於以下的評價基準評價凹痕。將A、B或C設為合格。 A：未觀測到凹痕。 B：稍微觀測到凹痕。 C：觀察到凹痕。 D：清晰地觀察到凹痕。
[黏著劑層P1] 使丙烯酸正丁酯70質量份、丙烯酸甲酯20質量份、丙烯酸1.0質量份共聚合，製備丙烯酸系聚合物。該丙烯酸系聚合物的重量平均分子量Mw為150萬。
在獲得的丙烯酸系聚合物100質量份中混合0.3質量份交聯劑（東曹股份有限公司「科羅奈特（Coronate）L」）、0.5質量份矽烷偶合劑（信越化學工業股份有限公司製「X-12-981」），以使整體固體成分濃度為10%的方式添加乙酸乙酯，獲得黏著劑組成物。利用塗敷器（applicator）以乾燥後的厚度為25 μm的方式，將獲得的黏著劑組成物塗佈在經脫模處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜（重sp膜、厚度38 μm）的脫模處理面上。將塗佈層在100℃下乾燥1分鐘，獲得包括黏著劑層的膜。然後，在黏著劑層的露出面上貼合經脫模處理的另一聚對苯二甲酸乙二酯膜（輕sp膜、厚度38 μm）。然後，在溫度23℃、相對濕度50%RH的條件下養護7天。如此，製作包括重sp膜/黏著劑層/輕sp膜的黏著劑片。G'A =為0.047 MPa。
[黏著劑層P2] 使丙烯酸正丁酯98.9質量份、丙烯酸1.1質量份共聚合，製備丙烯酸系聚合物。該丙烯酸系聚合物的重量平均分子量Mw為136萬。
在獲得的丙烯酸系聚合物100質量份中混合2質量份交聯劑（東曹股份有限公司「科羅奈特（Coronate）L」）、及0.02質量份（相互藥工股份有限公司「TAZM」）、0.5質量份矽烷偶合劑（信越化學工業股份有限公司製「KBM403」），除此之外，與黏著劑層P1的製作順序同樣地製作包括重sp膜/黏著劑層P2/輕sp膜的黏著劑片。G'A =0.094 MPa。
[黏著劑層P3] 使丙烯酸正丁酯70.4質量份、丙烯酸2-乙基己酯45質量份、丙烯酸4-羥基丁酯1質量份共聚合，製備丙烯酸系聚合物。該丙烯酸系聚合物的重量平均分子量Mw為80萬。
在獲得的丙烯酸系聚合物100質量份中混合0.4質量份交聯劑（東曹股份有限公司「科羅奈特（Coronate）L」）、0.5質量份矽烷偶合劑（信越化學工業股份有限公司製「KBM403」），除此之外，與黏著劑層P1的製作順序同樣地製作包括重sp膜/黏著劑層P3/輕sp膜的黏著劑片。G'A =1.02 MPa。
[黏著劑層P4] 使丙烯酸正丁酯68質量份、丙烯酸甲酯30質量份、丙烯酸2-羥基乙酯1質量份、丙烯酸1質量份共聚合，製備丙烯酸系聚合物。該丙烯酸系聚合物的重量平均分子量Mw為135萬。
在獲得的丙烯酸系樹脂100質量份中混合3質量份交聯劑（東曹股份有限公司「科羅奈特（Coronate）L」）、0.5質量份矽烷偶合劑（信越化學工業股份有限公司製「KBM403」），且以乾燥後的厚度成為5 μm的方式塗佈黏著劑組成物，除此之外，與黏著劑層P1的製作順序同樣地製作包括重sp膜/黏著劑層P4/輕sp膜的黏著劑片。G'A =0.638 MPa。
＜實施例1＞ （前表面板的準備） 按照日本專利特開2018-119141號公報的實施例4製作前表面板[聚醯胺醯亞胺膜、厚度40 μm（TW =0.04 mm）、EW =5700 MPa]。
（圓偏光板的準備） 在基材膜（三乙醯纖維素膜、產品名：KC2UAW，柯尼卡美能達（Konica Minolta）股份有限公司、厚度25 μm）上塗佈配向膜形成用組成物。使塗膜乾燥後，照射偏光UV而形成配向膜（厚度0.1 μm）。在配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的組成物。使聚合性液晶化合物配向、硬化而形成偏光片層（厚度1.8 μm）。在偏光片層上塗佈外塗層形成用組成物，使其乾燥而形成外塗層（厚度1 μm）。
準備將λ/4層（厚度2 μm）與正C層（厚度4 μm）藉由接著劑層（厚度2 μm）貼合而成的相位差板。λ/4板及正C層分別包括聚合性液晶化合物硬化而成的層。接著劑層是由紫外線硬化型接著劑形成的層。
藉由黏著劑層P4（厚度5 μm）將外塗層與λ/4層積層。相位差板以偏光片層的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度為45°的方式積層。如此，製作了包括基材膜、偏光片層、外塗層、丙烯酸系黏著劑層、以及相位差板的帶基材膜的圓偏光板[厚度41 μm（TP =0.041 mm）、EP =3100 MPa]。
（積層體的製作） 藉由黏著劑層P2[厚度25 μm（TW =0.025 mm）]將圓偏光板的基材膜與前表面板的聚醯亞胺系樹脂膜積層。
藉由黏著劑層P1（厚度25 μm）積層作為有機EL面板的代用品的聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）與正C層，來製作積層體。 對所獲得的積層體進行了反覆彎曲耐久性試驗及防凹痕性的評價。將結果示於表1中。
＜實施例2～實施例8及比較例1～比較例6＞ 使用表1所示的前表面板、黏著劑層及圓偏光板的基材膜，按照與實施例1相同的順序製作了積層體。將結果示於表1中。再者，實施例7及實施例8中使用的帶硬塗（hard coat，HC）層的前表面板（HC-PAI）以如下方式製作。 （HC-PAI的製作方法） 在實施例1中用作前表面板的聚醯胺醯亞胺膜的一個面上，以硬化後的厚度為10 μm的方式塗佈下述HC層形成用組成物。對獲得的塗膜在溫度80℃下乾燥5分鐘，使用UV照射裝置（SPOT CURE SP-7、牛尾（Ushio）電機股份有限公司製）照射曝光量500 mJ/cm2 （365 nm基準）的UV光而形成HC層。如上所述，獲得了具有HC層（厚度10 μm）/PAI（厚度40 μm）的層結構的前表面板（HC-PAI）。 （硬塗（HC）層形成用組成物） HC層形成用組成物包含：多官能丙烯酸酯（米若末（Miramer） M340、美源特種化工（Miwon Specialty Chemical）製）30質量份、奈米矽溶膠的丙二醇單甲醚分散體（12 nm、固體成分40%）50質量份、乙基乙酸酯17質量份、光聚合起始劑（豔佳固（Irgacure）-184、汽巴公司（Ciba Corporation）製）2.7質量份、及氟系添加劑（KY1203、信越化學工業股份有限公司製）0.3質量份。
[表1]
  實施例 比較例
1 2 3 4 5 6 7 8 1 2 3 4 5 6
前表面板 種類 PAI PAI PAI PAI PAI TAC HC-PAI HC-PAI PAI PAI PAI TAC PAI TAC
TW [mm] 0.04 0.04 0.04 0.05 0.04 0.025 0.05 0.05 0.04 0.05 0.05 0.025 0.04 0.025
EW [MPa] 5700 5700 5700 5700 5700 3000 5700 5700 5700 5700 5700 3000 5700 3000
黏著劑層 種類 P2 P1 P2 P1 P1 P2 P2 P1 P3 P3 P2 P1 P3 P3
TA [mm] 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025 0.025
G'A [MPa] 0.094 0.047 0.094 0.047 0.047 0.094 0.094 0.047 1.02 1.02 0.094 0.047 1.02 1.02
圓偏光板 基材膜 種類 TAC PAI PAI PAI TAC PAI TAC TAC PAI TAC PAI TAC TAC TAC
TP [mm] 0.041 0.066 0.066 0.066 0.041 0.066 0.041 0.041 0.066 0.041 0.066 0.041 0.041 0.041
EP [MPa] 3100 5500 5500 5500 3100 5500 3100 3100 5500 3100 5500 3100 3100 3100
A 228 228 228 285 228 75 285 285 228 285 285 75 228 75
B 3.8 1.9 3.8 1.9 1.9 3.8 3.8 1.9 40.8 40.8 3.8 1.9 40.8 40.8
C 127 363 363 363 127 363 127 127 363 127 363 127 127 127
（A×B×C）/100 109 156 311 194 54 102 138 69 3377 1478 393 18 1182 389
反覆彎曲耐久性 A A B A A B A A D C C A C C
防凹痕性 B B B B C B A B A A A D B B
PAI：聚醯胺醯亞胺膜 TAC：三乙醯纖維素膜 HC-PAI：在用作實施例1的前表面板的PAI的其中一表面形成有厚度10 μm的硬塗層的前表面板
10、103、500:積層體 11、30:前表面板 12、42:黏著劑層 13、102:圓偏光板 14、50:直線偏光板 15、70:相位差板 40、60:黏著片 41、61:輕隔離膜 43、63:重隔離膜 51、71、75:基材膜 52:偏光片層 53:外塗層 62:貼合層 72:第一相位差層 73:層間貼合層 74:第二相位差層 100:前表面板積層體 101:偏光片層積層體 501、502:載物台 P1、P2:位置 C1、C2:間隔
圖1是示意性表示本發明的積層體的一例的概略剖面圖。 圖2的（a）～（d）是示意性表示本發明的積層體的製造方法的概略剖面圖。 圖3的（a）及（b）是說明反覆彎曲耐久性的評價方法的概略圖。
10:積層體
11:前表面板
12:黏著劑層
13:圓偏光板
14:直線偏光板
15:相位差板

Claims (9)

  1. 一種積層體，依次包括前表面板、黏著劑層、及圓偏光板， 所述圓偏光板包括包含聚合性液晶化合物的硬化物的相位差層， 所述積層體滿足下述式（1）： 20＜（A×B×C）/1000＜380     （1） 式中， A表示所述前表面板的剛性[MPa·mm]，B表示所述黏著劑層的應力緩和性[MPa/mm]，且C表示所述圓偏光板的剛性[MPa·mm]， 當將所述前表面板的溫度23℃、相對濕度55%下的拉伸彈性係數設為EW [MPa]，將所述前表面板的厚度設為TW [mm]，將所述黏著劑層的溫度25℃下的儲存彈性係數設為G'A [MPa]，將所述黏著劑層的厚度設為TA [mm]，將所述圓偏光板的溫度23℃、相對濕度55%下的拉伸彈性係數設為EP [MPa]，將所述圓偏光板的厚度設為TP [mm]時，A、B及C分別按照下述式算出： A=EW ×TW B=G'A /TA C=EP ×TP 。
  2. 如請求項1所述的積層體，其中所述A為290 MPa·mm以下。
  3. 如請求項1或請求項2所述的積層體，其中所述B為4 MPa/mm以下。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的積層體，其中所述C為380 MPa·mm以下。
  5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的積層體，其中在所述圓偏光板側更包括觸控感測器面板。
  6. 如請求項1至請求項5中任一項所述的積層體，其中所述前表面板具有耐磨耗層。
  7. 如請求項6所述的積層體，其中所述耐磨耗層形成在硬塗層的視認側。
  8. 如請求項6或請求項7所述的積層體，其中所述耐磨耗層構成所述前表面板的視認側表面。
  9. 一種圖像顯示裝置，包括如請求項1至請求項8中任一項所述的積層體。
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