TW202137549A - 光學積層體及顯示裝置 - Google Patents

光學積層體及顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202137549A
TW202137549A TW110108413A TW110108413A TW202137549A TW 202137549 A TW202137549 A TW 202137549A TW 110108413 A TW110108413 A TW 110108413A TW 110108413 A TW110108413 A TW 110108413A TW 202137549 A TW202137549 A TW 202137549A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
optical laminate
film
polarizing plate
reflection
Prior art date
Application number
TW110108413A
Other languages
English (en)
Inventor
金東輝
柳智煕
Original Assignee
日商住友化學股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商住友化學股份有限公司 filed Critical 日商住友化學股份有限公司
Publication of TW202137549A publication Critical patent/TW202137549A/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/50—OLEDs integrated with light modulating elements, e.g. with electrochromic elements, photochromic elements or liquid crystal elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本發明提供一種可抑制褶皺被視覺辨認到的光學積層體及包括該光學積層體的顯示裝置。一種光學積層體，包括直線偏光板、及配置於所述直線偏光板的視覺辨認側的防反射體，且以視覺辨認側表面為內側沿著彎曲軸能夠彎曲，自視覺辨認側表面入射的光的反射率為2.0%以下。

Description

光學積層體及顯示裝置
本發明是有關於一種光學積層體及顯示裝置。
作為液晶顯示裝置、有機電致發光（electroluminescence，EL）顯示裝置等各種顯示裝置，已知在其視覺辨認側的最表面包括包含偏光片層的光學積層體的構成。
在韓國公開專利第10-2019-0071119號公報（專利文獻1）中，揭示了藉由物理性張力使因折疊而產生的表面褶皺恢復，從而可改善視覺辨認性的可折疊顯示裝置。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]韓國公開專利第10-2019-0071119號公報
[發明所欲解決之課題]
在能夠彎曲的顯示裝置中，若反覆彎曲，則在配置於前表面的光學積層體中有時會沿著彎曲軸殘留褶皺。若視覺辨認到該褶皺，則顯示裝置的畫面的視覺辨認性降低。
本發明的目的在於提供一種可抑制褶皺被視覺辨認到的光學積層體以及包括該光學積層體的顯示裝置。 [解決課題之手段]
本發明提供以下所示的光學積層體及顯示裝置。 〔1〕一種光學積層體，包括直線偏光板、及配置於所述直線偏光板的視覺辨認側的防反射體，且 以視覺辨認側表面為內側沿著彎曲軸能夠彎曲， 自視覺辨認側表面入射的光的反射率為2.0%以下。 〔2〕如〔1〕所述的光學積層體，其中，自視覺辨認側表面入射的光的反射率為0.8%以下。 〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的光學積層體，其中所述防反射體包括前面板，所述前面板包括厚度為5 μm以上且60 μm以下的玻璃製的板狀體。 〔4〕如〔1〕～〔3〕中任一項所述的光學積層體，其能夠以視覺辨認側表面為內側沿著彎曲軸彎曲， 在以所述防反射體成為內側、彎曲半徑為1.5 mm的方式彎折光學積層體的狀態下，在溫度60度、濕度90%RH的環境下放置6小時後，在彎曲軸存在深度300 μm以上的褶皺。 〔5〕如〔1〕～〔4〕中任一項所述的光學積層體，其更包括配置於所述直線偏光板的與所述防反射體側相反的一側的相位差體。 〔6〕如〔1〕～〔5〕中任一項所述的光學積層體，其更包括配置於所述防反射體的與視覺辨認側相反的一側的觸控感測器面板。 〔7〕一種顯示裝置，包括如〔1〕～〔6〕中任一項所述的光學積層體。 [發明的效果]
根據本發明，可提供一種可抑制褶皺被視覺辨認到的光學積層體及包括該光學積層體的顯示裝置。
以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但本發明並不限定於以下的實施方式。於以下的所有圖式中，為了使各構成部件容易理解而適當調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各構成部件的比例尺與實際的構成部件的比例尺未必一致。
本發明的光學積層體包括直線偏光板、及配置於所述直線偏光板的視覺辨認側的防反射體，且以視覺辨認側表面為內側沿著彎曲軸能夠彎曲，自視覺辨認側表面入射的光的反射率為2.0%以下。
本說明書中，下述用語的含義或定義如下。 「光學積層體」是應用於顯示裝置等光學裝置、且包括兩個以上的層的積層體。構成光學積層體的兩個以上的層可分別獨立地為板、片、膜、包括塗佈層形成用塗佈液的步驟而形成的塗層等。作為顯示裝置，可列舉液晶顯示裝置、有機電致發光（electroluminescence，EL）顯示裝置等圖像顯示裝置。 本發明的光學積層體將視覺辨認側表面朝向外側，配置在顯示裝置所具有的顯示元件（液晶單元、有機EL顯示元件、無機EL顯示元件、電漿顯示元件、電場放射型顯示元件等）的視覺辨認側。
「能夠沿著彎曲軸彎曲」是指，以光學積層體的面內的一方向為彎曲軸，彎曲成將光學積層體的視覺辨認側表面設為內側沿著彎曲軸而內表面的彎曲半徑為1.5 mm時，能夠不產生裂紋地彎曲。 光學積層體在以將光學積層體的視覺辨認側表面設為內側沿著彎曲軸而內表面的彎曲半徑為1.5 mm的方式反覆彎曲時，較佳為即使其彎曲次數為1萬次亦不產生裂紋。 光學積層體在以將光學積層體的視覺辨認側表面設為內側沿著彎曲軸而內表面的彎曲半徑為1.5 mm的方式彎曲的狀態下，在放置在溫度60℃、濕度90%RH的環境下的情況下，較佳為即使在放置6小時的情況下亦不產生裂紋。
光學積層體即使在不因彎曲而產生裂紋的情況下，亦存在會因彎曲而產生沿著彎曲軸的褶皺的情況。所述褶皺可存在於光學積層體的表層，亦可存在於其內部的層。若視覺辨認到該褶皺，則顯示裝置的畫面的視覺辨認性降低。本發明者發現，在光學積層體中，褶皺的深度根據彎曲次數或彎曲時間等彎曲條件而產生差異，褶皺的深度越深，褶皺越容易被視覺辨認到。發現了在使用按照後述的實施例中記載的方法形成、測定的褶皺深度例如為300 μm以上的光學積層體的情況下，顯示裝置的畫面的視覺辨認性容易因彎曲而降低。本發明者經過反覆深入研究，發明了即使在產生褶皺的情況下，甚至在使用褶皺深度為300 μm以上的光學積層體的情況下，亦可抑制褶皺被視覺辨認到的光學積層體。褶皺的深度例如較佳為1000 μm以下，更佳為700 μm以下。再者，關於褶皺的形成條件（溫度、濕度、彎曲半徑等）、以及褶皺的深度的測定方法，按照後述的實施例中記載的方法。
＜光學積層體＞ 〔1〕光學積層體的形狀、及層構成的概要 本發明的光學積層體（以下亦簡稱為「光學積層體」）包括直線偏光板、及配置在直線偏光板的視覺辨認側的防反射體。
光學積層體中，直線偏光板包括偏光片層，且可包括設置在偏光片層的單面或兩面的保護層。
防反射體只要是包括具有使自光學積層體的視覺辨認側表面入射的光的反射率降低的作用的反射膜的構件，則並無限定。防反射體可包括兩個以上的防反射膜，亦可包括前面板。
光學積層體亦可更包括配置在直線偏光板的視覺辨認側的前面板。前面板由一層以上構成，亦可包括用於貼合層彼此的貼合層、樹脂膜層。
光學積層體亦可更包括相位差體。相位差體例如配置於直線偏光板的與視覺辨認側相反的一側（顯示元件側）。相位差體只要具有對透射光賦予相位差的功能，則並無限定，包括一層以上的相位差層。相位差體可包括相位差層及經由貼合層或不經由貼合層而積層的樹脂膜層。
光學積層體亦可更包括觸控感測器面板。觸控感測器面板可配置在直線偏光板的視覺辨認側，亦可配置在顯示元件側。
光學積層體除了所述的構成部件以外，亦可包括其他的構成部件。作為其他的構成部件，可列舉樹脂膜層、貼合層等。
光學積層體的自視覺辨認側表面入射的光的反射率為2.0%以下，較佳為1.5%以下，更佳為1.0%以下，進而佳為0.8%以下。另外，光學積層體的自視覺辨認側表面入射的光的反射率例如為0.05%以上。光學積層體中，自視覺辨認側表面入射的光的反射率可藉由防反射體的構成、配置位置、個數等進行調整。光學積層體中，自視覺辨認側表面入射的光的反射率是按照後述的實施例中記載的方法測定而得的值，測定反射率的光的波長為550 nm。光學積層體中，自視覺辨認側表面入射的光的反射率為1.0%以下，藉此可抑制沿著彎曲軸產生的褶皺被視覺辨認到。
〔2〕光學積層體的層構成的例子 圖1表示本發明的第一實施方式的光學積層體的概略剖面圖。圖1所示的光學積層體101依序包括防反射體201、直線偏光板130、相位差體140、及觸控感測器面板150。防反射體201是防反射膜110與前面板120的積層體。光學積層體101可更具有用於貼合兩個層的貼合層。光學積層體101中，視覺辨認側表面由防反射體201的視覺辨認側表面構成。防反射體201可為在其視覺辨認側表面包括防污層的結構。防反射體中的防污層例如可按照日本專利特開平8-186401號公報中記載的方法形成。光學積層體101中，觸控感測器面板150可積層在直線偏光板130與防反射體201之間。
圖2表示本發明的第二實施方式的光學積層體的概略剖面圖。圖2所示的光學積層體102包括與圖1所示的第一實施方式的光學積層體101所包括的防反射體201不同結構的防反射體202。防反射體202與防反射體201的不同之處在於，除了設置在前面板120的視覺辨認側表面上的防反射膜110以外，在前面板120的顯示元件側表面上亦設置有防反射膜111。
圖3表示本發明的第三實施方式的光學積層體的概略剖面圖。圖3所示的光學積層體103包括與圖1所示的第一實施方式的光學積層體101所包括的防反射體201不同結構的防反射體203。防反射體203與防反射體201的不同之處在於，僅由防反射膜110構成，不具有前面板120。
光學積層體101、光學積層體102、光學積層體103的厚度根據光學積層體所要求的功能以及光學積層體的用途等而不同，因此並無特別限定，例如為50 μm以上且4,000 μm以下，較佳為100 μm以上且2000 μm以下，更佳為150 μm以上且1000 μm以下。
光學積層體101、光學積層體102、光學積層體103的俯視形狀例如可以是方形形狀，較佳為具有長邊與短邊的方形形狀，更佳為長方形。於光學積層體的面方向的形狀為長方形的情況下，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。構成光學積層體的各層可對角部進行R加工、或對端部進行切口加工、或者進行穿孔加工。
光學積層體101、光學積層體102、光學積層體103例如可用於顯示裝置等。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉：有機電致發光（有機EL）顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等。
[防反射體] 防反射體只要包括使在顯示裝置中自視覺辨認側表面入射的光的反射率降低的防反射膜，則材料及厚度並無限定，另外，可為單層結構，亦可為多層結構。構成防反射體的各層（包括防反射膜）可分別獨立地為板、片、膜、包括塗佈層形成用塗佈液的步驟而形成的塗層等。防反射體亦可包括貼合兩個層的貼合層。防反射體的厚度例如為10 μm以上且2000 μm以下。
[防反射膜] 防反射膜只要使在顯示裝置中自視覺辨認側表面入射的光的反射率降低，則材料及厚度並無限定，另外，可為單層結構，亦可為多層結構。防反射膜可直接形成在前面板或直線偏光板的表面上，或者亦可經由貼合層貼合在前面板或直線偏光板的表面上。另外，防反射膜亦可兼具作為前面板的作用。作為防反射膜，可為公知的防反射膜，亦可使用市售的防反射膜，例如可例示以下的防反射膜。
（a）包括凹凸的週期被控制在可見光的波長以下的凹凸圖案的、使用了所謂的蛾眼（moth eye）結構原理的防反射膜（日本專利特開2010-122599號公報、日本專利特表2001-517319號公報、日本專利特開2004-205990號公報、日本專利特開2004-287238號公報、日本專利特開2001-27505號公報、日本專利特開2002-286906號公報、國際公開第2006/059686號等中記載的防反射膜）。作為市售品，例如可使用莫斯邁特（MOSMITE）（註冊商標、三菱化學股份有限公司製造）。 （b）包括發揮光學功能的微細凹凸圖案的防反射膜（日本專利特開2004-59822號公報、日本專利特公平5-46064號公報、日本專利特公平6-85103號公報等中記載的防反射膜） （c）包括包含間距為光波長以下的無數微細凹凸的凹凸圖案的防反射膜（日本專利特開2001-264520號公報、日本專利特開平9-80205號公報等中記載的防反射膜）。 （d）具有單層或多層的調製了折射率的層的防反射膜（日本專利特開2000-187102號公報、日本專利特開平6-186401號公報、日本專利特開2004-345333號公報等中記載的防反射膜）。作為市售品，例如可使用MTAR、MTAGAR（美舘（MeCan）公司製造）。 防反射膜的厚度例如為10 μm以上且100 μm以下。
[前面板] 前面板只要是能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無特別限定，且可為單層結構亦可為多層結構，可例示玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）。前面板可為構成圖像顯示裝置的視覺辨認側的最表面的層。在前面板具有樹脂製的板狀體的情況下，由於彎曲時容易產生褶皺，故容易獲得本發明的效果。在前面板為玻璃製的板狀體的情況下，即使由於彎曲而產生褶皺，褶皺的寬度（相當於圖5中的山與山之間的距離。）有變大的傾向，故可進一步抑制褶皺被視覺辨認到。
作為玻璃板，較佳地使用顯示用強化玻璃。玻璃板的厚度例如為5 μm以上且1000 μm以下，亦可為500 μm以下。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的光學構件。
就防反射體的彎曲性及透光性的觀點而言，玻璃板較佳為90 μm以下，更佳為80 μm以下，進而佳為70 μm以下，特佳為60 μm以下，尤佳為50 μm以下。就積層體的耐衝擊性的觀點而言，玻璃板的厚度較佳為10 μm以上。
玻璃板較佳使用強度及透光性優異的化學強化玻璃。藉由使用化學強化玻璃，可在保持可撓性（柔性）的同時，提高防反射體的耐衝擊性。化學強化玻璃可藉由玻璃的化學離子交換處理而獲得。藉由化學離子交換處理，將玻璃表面的鈉離子或鋰離子部分置換為離子半徑更大的鉀離子，從而可提高玻璃表面的強度。藉由薄的壓縮應力層的形成，表面強度提高。作為用於化學強化玻璃的玻璃，例如可列舉：鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸鹽玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃、及鋁硼矽酸鹽玻璃等。
化學離子交換處理可藉由將所述玻璃浸漬在加熱到熔點以上的離子置換溶液中、或者將糊狀的離子置換溶液直接塗佈在玻璃上來進行。作為離子置換溶液，可列舉硝酸鉀、碳酸鉀、碳酸氫鉀、磷酸鉀、硫酸鉀及氫氧化鉀鹼等。其中，硝酸鉀（330℃）由於熔點較玻璃的熔點（通常為500℃以上且600℃以下）低且容易處理而較佳。
亦可在化學離子交換處理之前進行蝕刻處理，而進行玻璃的薄膜化。蝕刻處理亦可使用氫氟酸或者其與氟化銨水溶液及有機酸、例如甲酸、乙酸、丙酸等混合而成的溶液作為化學處理溶液來進行。可使用該些並藉由噴射、浸漬等進行蝕刻。蝕刻處理亦可使用作為蝕刻氣體的含有氟的惰性氣體、例如含有CF4 、C3 F8 、C2 F6 、XeF2 等中的至少一種的氦（He）氣或者氬（Ar）氣進行。具體而言，可藉由在大氣壓下將利用氦氣或氬氣稀釋的含氟的惰性氣體電漿化，使氟自氟化碳中游離來進行蝕刻。
作為樹脂膜，只要是能夠透過光的樹脂膜，則不進行限定。例如可列舉包含如下高分子的膜：三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等。所述高分子可單獨使用或混合兩種以上使用。當將積層體用於撓性顯示器時，較佳地使用可構成為具有優異的可撓性，減小褶皺深度、並且具有高強度及高透明性、且由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的樹脂膜。再者，本說明書中，「(甲基)丙烯酸」是指可為丙烯酸或甲基丙烯酸的任意一種。(甲基)丙烯酸酯等「(甲基)」亦是同樣的含義。
前面板是樹脂膜的情況下，樹脂膜可為在基材膜的至少一面設置硬塗層而進一步提高了硬度的膜。硬塗層可形成於基材膜的其中一面，亦可形成於兩面。當後述的圖像顯示裝置是觸控面板方式的圖像顯示裝置時，由於前面板的表面成為觸控面，故較佳地使用具有硬塗層的樹脂膜。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及劃傷性的樹脂膜。硬塗層例如是紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可舉出(甲基)丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高硬度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無限定，可列舉無機系微粒子、有機系微粒子、或者該些的混合物。樹脂膜的厚度例如為30 μm以上2000 μm以下。
前面板不僅具有保護顯示裝置的前表面的功能，還可具有作為觸控感測器的功能、藍光隔斷功能、視角調整功能等。
[直線偏光板] 直線偏光板包含偏光片層，亦可在偏光片層的一面或兩面進一步具有保護層。直線偏光板具有在入射了無偏光的光時，使具有與吸收軸正交的振動面的直線偏光透過的性質。直線偏光板可包括聚乙烯醇（以下，有時亦簡稱為「PVA（polyvinylalcoho）」）系樹脂膜作為偏光片層，亦可為使二色性色素及聚合性化合物配向而使聚合性液晶化合物聚合的硬化膜。與包含包括拉伸步驟的PVA系樹脂膜的偏光片層相比，塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片層的彎曲方向並無限制，因此較佳。
直線偏光板可只包括偏光片層，亦可只包括偏光片層及保護層，亦可除了偏光片層及保護層之外，更包括基材、樹脂膜及配向膜中的任意一個以上。
（偏光片層） 作為偏光片層，例如可列舉對聚乙烯醇（以下，有時亦簡稱為「PVA」）系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施了利用碘或二色性染料等二色性物質的染色處理、及拉伸處理而得者等。就光學特性優異的方面而言，較佳使用對PVA系樹脂膜利用碘染色並進行單軸拉伸而得到的偏光片層。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可為乙酸乙烯酯與能夠和乙酸乙烯酯共聚的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚的其他單量體，例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%～100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改質，例如亦可使用經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1,000～10,000左右，較佳為1,500～5,000左右。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可根據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）K 6726（1994）求出。平均聚合度不足1000時，難以獲得較佳的偏光性能，超過10000時，膜加工性有時會差。
作為其他含有PVA系樹脂膜的直線偏光板的製造方法，可列舉包括如下步驟的方法：首先準備基材膜，在基材膜上塗佈聚乙烯醇系樹脂等樹脂的溶液，進行除去溶媒的乾燥等而在基材膜上形成樹脂層。再者，可在基材膜的形成有樹脂層的面上預先形成底塗層。作為基材膜，可使用聚對苯二甲酸乙二醇酯（Polyethylene Terephthalate，PET）等樹脂膜、可用於後述的保護層的樹脂膜。作為底塗層的材料，可列舉將用於直線偏光板的親水性樹脂交聯而成的樹脂等。
接著，根據需要調整樹脂層的水分等溶媒量，然後將基材膜及樹脂層單軸拉伸，繼而，利用碘等二色性色素對樹脂層進行染色，使二色性色素吸附配向於樹脂層。繼而，根據需要，利用硼酸水溶液處理二色性色素吸附配向的樹脂層，進行洗掉硼酸水溶液的清洗步驟。藉此，製造吸附配向有二色性色素的樹脂層、即，直線偏光板的膜。各步驟可採用公知的方法。
基材膜及樹脂層的單軸拉伸可在染色之前進行，亦可在染色中進行，亦可在染色後的硼酸處理中進行，亦可在所述多個階段分別進行單軸拉伸。基材膜及樹脂層可沿MD方向（膜輸送方向）單軸拉伸，此種情況下，可在圓周速度不同的輥之間單軸拉伸，亦可使用熱輥單軸拉伸。另外，基材膜及樹脂層可沿TD方向（與膜輸送方向垂直的方向）單軸拉伸，此種情況下，可使用所謂的拉幅機法。另外，基材膜及樹脂層的拉伸既可為乾式拉伸，亦可為濕式拉伸，其中，乾式拉伸在大氣中進行拉伸，濕式拉伸在利用溶劑使樹脂層溶脹的狀態下進行拉伸。為了體現直線偏光板的性能，拉伸倍率為4倍以上，較佳為5倍以上，特佳為5.5倍以上。拉伸倍率並無特別上限，但就抑制斷裂等的觀點而言，較佳為8倍以下。
包括所述PVA系樹脂膜的偏光片層的厚度例如為2 μm以上且40 μm以下。偏光片層的厚度可為5 μm以上，亦可為20 μm以下，15 μm以下，進而亦可為10 μm以下。
就作為使二色性色素及聚合性化合物配向、使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜的直線偏光板的製造方法而言，可列舉在基材膜上經由配向膜塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物而形成直線偏光板的方法；或者在形成有保護層的基材膜上，塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物，使聚合性液晶化合物在保持液晶狀態的狀態下聚合並硬化而形成直線偏光板的方法。如此獲得的直線偏光板處於積層在基材膜的保護層上的狀態，亦可作為帶基材膜的直線偏光板使用。作為基材膜，可使用樹脂膜，例如聚對苯二甲酸乙二酯膜等。
作為二色性色素，可使用具有分子的長軸方向上的吸光度與短軸方向上的吸光度不同的性質的色素，例如較佳為在300 nm～700 nm範圍內具有吸收極大波長（λmax）的色素。作為此種二色性色素，例如可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素等，更佳為雙偶氮色素、三偶氮色素。
偏光片層形成用組成物可含有溶劑、光聚合引發劑等聚合引發劑、光敏劑、阻聚劑等。關於偏光片層形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶劑、聚合引發劑、光敏劑、阻聚劑等，可使用公知者，例如可使用日本專利特開2017-102479號公報、日本專利特開2017-83843號公報中例示者。另外，聚合性液晶化合物亦可使用作為用以獲得後述的作為相位差層的硬化物層的聚合性液晶化合物而例示的化合物。關於使用偏光片層形成用組成物形成直線偏光板的方法，亦可採用所述公報中例示的方法。
利用所述方法製作的直線偏光板可剝離基材膜，或者與基材膜一起作為直線偏光板使用。根據所述方法，可剝離基材膜，因此可實現直線偏光板的進一步薄膜化。
塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片層的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
（保護層） 保護層具有保護偏光片層表面的功能。保護層可為有機物層或無機物層。有機物層可使用保護層形成用組成物、例如(甲基)丙烯酸系樹脂組成物、環氧系樹脂組成物、聚醯亞胺系樹脂組成物等形成。保護層形成用組成物可為活性能量線硬化型，亦可為熱硬化型。無機物層例如可由矽氧化物等形成。於保護層是有機物層的情況下，保護層可為被稱為硬塗層或外塗層的層。
於保護層為有機物層的情況下，例如可藉由將活性能量線硬化型的保護層形成用組成物塗佈在基材膜上，照射活性能量使其硬化來製作保護層。基材膜適用所述基材膜的說明。基材膜通常被剝離除去。作為塗佈保護層形成用組成物的方法，例如可列舉旋塗法等。在保護層為無機物層的情況下，例如可藉由濺射法、蒸鍍法等形成保護層。在保護層為有機物層或無機物層的情況下，保護層的厚度例如可為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且5 μm以下。
作為保護層，例如亦可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、等方形、拉伸性等優異的樹脂膜。作為此種樹脂的具體例，可列舉三乙醯纖維素等纖維素樹脂；聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯樹脂；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚碳酸酯樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯丙烯共聚物等聚烯烴樹脂；具有環系及降冰片烯結構的環狀聚烯烴樹脂（亦稱為降冰片烯系樹脂）；(甲基)丙烯酸樹脂；聚芳酯樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂、及該些的混合物。於在直線偏光層的兩面積層有保護層的情況下，兩個保護層可為同種，亦可為異種。樹脂膜的厚度例如可為3 μm以上且50 μm以下，較佳為5 μm以上且30 μm以下。
[相位差體] 光學積層體藉由包括直線偏光板及相位差體，可具有作為圓偏光板的功能。此種情況下，相位差體可包括第一相位差層及第二相位差層。以下，有時亦將包括直線偏光板與相位差體的結構稱為圓偏光板。
第一相位差層及第二相位差層可藉由貼合層貼合而積層。第一相位差層及第二相位差層亦可具有保護其表面的外塗層、及支撐第一相位差層及第二相位差層的基材膜等。作為第一相位差層及第二相位差層，例如可列舉賦予λ/4相位差的相位差層（λ/4層）、賦予λ/2相位差的相位差層（λ/2層）及正C層等。相位差體較佳為包括λ/4層，進而佳為包括λ/4層與λ/2層或正C層的至少任一者。
相位差體自直線偏光板側起依序積層第一相位差層及第二相位差層。於相位差體包括λ/2層的情況下，第一相位差層為λ/2層，第二相位差層為λ/4層。於相位差體包括正C層的情況下，第一相位差層為正C層且第二相位差層為λ/4層，或者第一相位差層λ/4層、及第二相位差層為正C層。相位差體的厚度例如為0.1 μm以上且10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且6 μm以下。
第一相位差層及第二相位差層可包含所述的樹脂膜，亦可包含聚合性液晶化合物硬化而成的層。第一相位差層及第二相位差層可更含有配向膜及基材膜。
由使聚合性液晶化合物硬化而成的層形成第一相位差層及第二相位差層時，可藉由將含有聚合性液晶化合物的組成物塗佈於基材膜並使其硬化而形成。亦可在基材膜與塗佈層之間形成配向膜。基材膜的材料及厚度可與所述樹脂膜的材料及厚度相同。第一相位差層及第二相位差層包含使聚合性液晶化合物硬化而成的層時，可以具有配向膜及基材膜的形態組入光學積層體。
以直線偏光板的吸收軸（偏光片層的吸收軸）與相位差體的遲相軸成為規定角度的方式配置有直線偏光板與相位差體的偏光板具有防反射功能，即，可作為圓偏光板發揮功能。於相位差體包含λ/4層的情況下，偏光片層的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度可為45°±10°。第一相位差層及第二相位差層可具有正波長分散性，亦可具有逆波長分散性。λ/4層較佳為具有逆波長分散性。直線偏光板與相位差體可藉由貼合層而貼合。
[貼合層] 光學積層體中，為了貼合兩個層，亦可包括介於兩個層之間的貼合層。光學積層體中，貼合層為黏著劑層或接著劑層。黏著劑層是指包含黏著劑的層或者對該層實施某種處理而成的層。黏著劑亦稱為感壓式接著劑。
所謂接著劑是指黏著劑（感壓式接著劑）以外的接著劑，與黏著劑明確區別。接著劑層是指包含接著劑的層或者對該層實施某種處理而成的層。本說明書中，「貼合層」是「黏著劑層」與「接著劑層」的總稱，可為「黏著劑層」，亦可為「接著劑層」。
（黏著劑層） 黏著劑層可包含以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、矽酮系、聚乙烯醚系之類的樹脂為主成分的黏著劑組成物。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型、熱硬化型。
本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸基」表示選自由丙烯酸基及甲基丙烯酸基所組成的群組中的至少一種。對於其他附加了「(甲基)」的用語亦同樣。
作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（原料聚合物），例如可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之類的(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。原料聚合物中較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之類的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可僅含有所述原料聚合物，但通常更含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：為2價以上的金屬離子，且與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；為多胺化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者；為聚環氧化合物或多元醇，且與羧基之間形成酯鍵者；為聚異氰酸酯化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。
所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物是指如下的黏著劑組成物：具有受到紫外線或電子線之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有在活性能量線照射前仍具有黏著性而可與膜等被黏物密著，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密著力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外，更含有活性能量線聚合性化合物。此外，根據需要，亦含有光聚合引發劑或光敏劑等。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、增黏劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合引發劑等添加劑。
黏著劑層可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥而形成。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的硬化物。
黏著劑層的厚度較佳為4 μm以上，更佳為5 μm以上，進而佳為10 μm以上。就提高彎曲性的觀點而言，黏著劑層的厚度較佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下。黏著劑層的厚度設為最大厚度。
（接著劑層） 作為接著劑，例如可將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等中的一種或兩種以上組合形成。作為水系接著劑，例如可舉出聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑是藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉：含有聚合性化合物及光聚合性引發劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有黏著劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。作為所述聚合性化合物，可列舉：光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、以及來自該些單體的寡聚物等。作為所述光聚合引發劑，可列舉包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質的化合物。
接著劑層的厚度較佳為0.01 μm以上，更佳為0.05 μm以上，進而佳為0.1 μm以上。就提高彎曲性的觀點而言，接著劑層的厚度較佳為10 μm以下，更佳為5 μm以下。接著劑層的厚度設為最大厚度。
[觸控感測器面板] 作為觸控感測器面板，只要是能夠檢測出被觸控的位置的感測器，則檢測方式不受限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光學感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。自低成本方面而言，較佳使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。
電阻膜方式的觸控感測器面板的一個例子包括彼此相向配置的一對基板、夾持於所述一對基板之間的絕緣性間隔物、在各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路。在設置有電阻膜方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中，當觸控前面板的表面時，相向的電阻膜短路，在電阻膜中流動電流。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化，從而檢測被觸控的位置。
靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的一例包括基板、設置在基板的整個面上的位置檢測用透明電極、觸控位置檢測電路。在設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中，當觸控前面板的表面時，在被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測被觸控的位置。
觸控感測器面板的厚度例如可為5 μm以上且2,000 μm以下，亦可為5 μm以上且100 μm以下。
[光學積層體的製造方法] 光學積層體可藉由經由黏著劑層或接著劑層將層彼此貼合的步驟、或包括在一個層上直接形成其他層的結構等的方法來製造。於經由黏著劑層或接著劑層將層彼此貼合的情況下，為了提高密接性，較佳為對貼合面的其中一面或兩面實施例如電暈處理等表面活性化處理。貼合可使用公知的層壓機、輥、單元接合機等裝置進行。
[顯示裝置] 本發明的顯示裝置包括上述本發明的光學積層體。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等圖像顯示裝置。光學積層體適於具有能夠實現彎曲或折彎等的可撓性的顯示裝置。
在顯示裝置中，光學積層體以防反射體位於較直線偏光板更靠外側（與顯示元件側相反的一側，即，視覺辨認側）處的朝向配置在顯示裝置所具有的顯示元件的視覺辨認側。
本發明的顯示裝置可用作智慧型電話、輸入板等行動設備、電視機、數位相框（digital photo frame）、電子看板、測定器或儀表類、辦公用設備、醫療設備、電腦設備等。 [實施例]
以下，藉由實施例而對本發明進行更詳細說明。例中的「%」及「份」只要沒有特別說明，為質量%及質量份。
[實施例1] （積層體「前面板/圓偏光板/有機EL面板的代用品」的製作） 準備三乙醯纖維素（Triacetyl Cellulose，TAC）膜（厚度25 μm）作為基材並在其上塗佈配向膜形成用組成物。使塗膜乾燥後，照射偏光UV而形成配向膜。在配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的組成物。使聚合性液晶化合物配向、硬化而形成偏光片層（厚度2 μm）。在偏光片層上塗佈外塗層形成用組成物。對塗膜照射紫外線而形成外塗層（厚度2 μm）。
準備將λ/4層（厚度2 μm）與正C層（厚度3 μm）藉由接著劑層（厚度2 μm）貼合而成的相位差體。λ/4板及正C層分別包括聚合性液晶化合物硬化而成的層。接著劑層是由紫外線硬化型接著劑形成的層。
藉由丙烯酸系黏著劑層（厚度5 μm）將外塗層與λ/4層積層。相位差體以偏光片層的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度為45°的方式積層。如此，製作了包括基材、偏光片層、外塗層、丙烯酸系黏著劑層、以及相位差體的圓偏光板。
準備在聚醯亞胺系樹脂膜（厚度50 μm）的其中一面形成有硬塗層（10 μm）的前面板。藉由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）將圓偏光板的基材側與前面板的聚醯亞胺系樹脂膜側積層。
藉由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）積層兩張聚醯亞胺系樹脂膜（厚度38 μm、厚度50 μm），製作了有機EL面板的代用品。藉由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）積層正C層與有機EL面板的代用品。如此，製作了包括「前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的積層體。
（防反射膜的製作） 在三乙醯纖維素膜（TAC膜）（厚度60 μm）上塗佈硬塗層形成用組成物（DN-0080、DSM公司製造）。將塗膜在70℃下熱乾燥1分鐘。利用高壓水銀燈對塗膜照射700 mJ/cm2 的紫外線使其硬化。如此，在TAC膜上形成了厚度5 μm的硬塗層。聚丙烯酸以成為43質量%的方式與硬塗層形成用組成物（DN-0080、DSM公司製造）進行混合，製備多孔質層形成用組成物。將所述多孔質層形成用組成物以厚度成為110 nm的方式塗佈在硬塗層上。將塗膜在70℃下熱乾燥1分鐘。利用高壓水銀燈對塗膜照射700 mJ/cm2 的紫外線使其硬化。在50℃的水中浸漬10分鐘除去聚丙烯酸後，在80℃下乾燥5分鐘。如此，製作了具有「多孔質層/硬塗層/TAC膜」的層結構的防反射膜。
（防反射膜的貼合） 在包括如上製作的積層體[前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品]的層結構的積層體的前面板側，經由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）貼合如上製作的防反射膜，從而獲得包括「防反射膜/黏著劑層/前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的實施例1的光學積層體。在實施例1的光學積層體中，「防反射膜/黏著劑層/前面板」的層結構部分相當於防反射體。
[實施例2] （防反射膜的製作） 在實施例1的防反射膜的製作中，將多孔質層形成用組成物的聚丙烯酸的含量設為39質量%，除此之外，與實施例1同樣地製作實施例2的防反射膜。
（防反射膜的貼合） 在與實施例1同樣製作的積層體[前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品]的前面板側，經由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）貼合如上製作的防反射膜，從而獲得包括「防反射膜/黏著劑層/前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的實施例2的光學積層體。在實施例2的光學積層體中，「防反射膜/黏著劑層/前面板」的層結構部分相當於防反射體。
[實施例3] （防反射膜的製作） 在實施例1的防反射膜的製作中，將多孔質層形成用組成物的聚丙烯酸的含量設為35質量%，除此之外，與實施例1同樣地製作實施例3的防反射膜。
（防反射膜的貼合） 在與實施例1同樣製作的積層體[前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品]的前面板側，經由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）貼合如上製作的防反射膜，從而獲得包括「防反射膜/黏著劑層/前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的實施例3的光學積層體。在實施例3的光學積層體中，「防反射膜/黏著劑層/前面板」的層結構部分相當於防反射體。
[實施例4] （防反射膜的製作） 在實施例1的防反射膜的製作中，將多孔質層形成用組成物的聚丙烯酸的含量設為30質量%，除此之外，與實施例1同樣地製作實施例4的防反射膜。
（防反射膜的貼合） 在與實施例1同樣製作的積層體[前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品]的前面板側，經由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）貼合如上製作的防反射膜，從而獲得包括「防反射膜/黏著劑層/前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的實施例4的光學積層體。在實施例4的光學積層體中，「防反射膜/黏著劑層/前面板」的層結構部分相當於防反射體。
[實施例5] 使用如下述般製作的厚度50 μm的玻璃板（表1中表述為「薄板玻璃」）來代替實施例1的聚醯亞胺系樹脂膜（表1中表述為「PI（Polyimide）膜」）的前面板，除此之外，與實施例1同樣地獲得包括「防反射膜/黏著劑層/前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的實施例5的光學積層體。在實施例5的光學積層體中，「防反射膜/黏著劑層/前面板」的層結構部分相當於防反射體。
（薄板玻璃的製作） 準備玻璃板（康寧（Corning）公司製造，厚度400 μm），藉由蝕刻使厚度為50 μm。然後，進行玻璃板的化學強化處理，藉由超聲波研磨及使用立銑刀的切削研磨進行玻璃的倒角。如此，製作了厚度50 μm的玻璃板。
[實施例6] 使用與實施例5中使用的玻璃板相同的厚度50 μm的玻璃板來代替實施例3的前面板，除此之外，與實施例3同樣地獲得包括「防反射膜/黏著劑層/前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的實施例6的光學積層體。在實施例6的光學積層體中，「防反射膜/黏著劑層/前面板」的層結構部分相當於防反射體。
[比較例1] 在與實施例1同樣地製作的積層體「前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」上不貼合防反射膜，製成了比較例1的光學積層體。
[比較例2] 在與實施例1同樣製作的積層體「前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的前面板側，經由丙烯酸系黏著劑層（厚度25 μm）貼合TAC膜（厚度60 μm）來代替防反射膜，從而獲得包括「TAC膜/黏著劑層/前面板/黏著劑層/圓偏光板/黏著劑層/有機EL面板的代用品」的層結構的比較例2的光學積層體。
[試驗] （自視覺辨認側表面入射的光的反射率的測定） 對於實施例1～實施例6及比較例1、比較例2的光學積層體，使用紫外可見分光光度計（UV-2450、島津製作所股份有限公司製造），測定自視覺辨認側表面（與有機EL面板的代用品側相反的一側的表面）入射的光的反射率。測定的波長為550 nm。表1中示出反射率的測定結果。
（彎曲性試驗） 準備了將實施例1～實施例6及比較例1、比較例2的光學積層體切成寬20 mm×長110 mm的尺寸的樣品。圖4的（a）及圖4的（b）是示意性表示本彎曲性試驗的方法的圖。如圖4的（a）所示，在樣品500的顯示側表面，自樣品500的中心線A向兩側各離開40 mm地貼合黏著劑層503、黏著劑層504（厚度25 μm），以樣品500的中心線A成為與在側面接觸地配置的兩個玻璃板501、玻璃板502的邊界線一致的位置的方式經由黏著劑層503、黏著劑層504貼合（圖4的（a））。然後，以樣品500的視覺辨認側表面成為內側的方式，以與中心線A一致的彎曲軸彎折樣品500（圖4的（b）），使相向的面彼此的距離成為3.0 mm（使用3.0 mm厚的板，1.5R（圖4中未圖示）），藉此成為「玻璃/黏著劑層/樣品（夾著3.0 mm厚的板的‘U’字形）/黏著劑層/玻璃」的狀態。在該狀態下，在溫度60℃、濕度90%RH的烘箱內放置6小時後，使兩個玻璃板501、502返回原來的位置（圖4的（a）），獲得供於彎曲性試驗的樣品500。然後，利用三維測定機（PREMIUM-600C，阿莫科技（Ammon Tech）公司製造）測定供於彎曲性試驗的樣品500的含有彎曲軸的區域的形狀，計算褶皺的深度。
圖5是藉由三維測定機測定的資料的一例。在所述資料中，彎曲軸是A的位置。褶皺的深度設為彎曲軸的高度位置與最大高度位置之差。表1中示出計算出的褶皺的深度的值。
另外，將供於彎曲性試驗的樣品500以視覺辨認側表面朝上的方式放置在暗室內，點亮室內天花板上的包括兩根直線狀螢光管的螢光燈。目視觀察映在視覺辨認側表面的螢光管的圖像，按照下述評價基準評價了該圖像的畸變抑制程度。表1中示出評價結果。 AA：螢光管完全呈直線狀，無法視覺辨認到褶皺。 A：螢光管大致呈直線狀，無法視覺辨認到褶皺。 B：螢光管稍微產生畸變，皺褶稍微被視覺辨認到。 C：螢光管明顯產生畸變，可視覺辨認到皺褶。
[表1]
  實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 比較例1 比較例2
前面板 PI膜 PI膜 PI膜 PI膜 薄板玻璃 薄板玻璃 PI膜 PI膜
反射率（%） 0.1 0.4 0.7 1.0 0.1 0.7 3.5 4.0
褶皺的深度（μm） 540 560 550 540 520 530 570 550
視覺辨認性 A A A B AA AA C C
101、102、103:光學積層體 110、111:防反射膜 120:前面板 130:直線偏光板 140:相位差體 150:觸控感測器面板 201、202、203:防反射體 500:樣品 501、502:玻璃板 503、504:黏著劑層 A:中心線
圖1是第一實施方式的光學積層體的概略剖面圖。 圖2是第二實施方式的光學積層體的概略剖面圖。 圖3是第三實施方式的光學積層體的概略剖面圖。 圖4的（a）及圖4的（b）是說明彎曲性試驗的方法的概略圖。且是說明實施例1的光學積層體的製造方法的概略剖面圖。 圖5是表示藉由三維測定機測定的資料的一例的圖。
101:光學積層體
110:防反射膜
120:前面板
130:直線偏光板
140:相位差體
150:觸控感測器面板
201:防反射體

Claims (7)

  1. 一種光學積層體，包括直線偏光板、及配置在所述直線偏光板的視覺辨認側的防反射體， 能夠以視覺辨認側表面為內側沿著彎曲軸彎曲，且 自視覺辨認側表面入射的光的反射率為2.0%以下。
  2. 如請求項1所述的光學積層體，其中，自視覺辨認側表面入射的光的反射率為0.8%以下。
  3. 如請求項1或請求項2所述的光學積層體，其中，所述防反射體包括前面板， 所述前面板包括厚度為5 μm以上且60 μm以下的玻璃製的板狀體。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的光學積層體，其能夠以視覺辨認側表面為內側沿著彎曲軸彎曲， 在以所述防反射體成為內側、彎曲半徑為1.5 mm的方式彎折光學積層體的狀態下，在溫度60度、濕度90%RH的環境下放置6小時後，在彎曲軸存在深度300 μm以上的褶皺。
  5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的光學積層體，其更包括配置於所述直線偏光板的與所述防反射體側相反的一側的相位差體。
  6. 如請求項1至請求項5中任一項所述的光學積層體，其更包括配置於所述防反射體的與視覺辨認側相反的一側的觸控感測器面板。
  7. 一種顯示裝置，包括如請求項1至請求項6中任一項所述的光學積層體。
TW110108413A 2020-03-19 2021-03-10 光學積層體及顯示裝置 TW202137549A (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020-049497 2020-03-19
JP2020049497 2020-03-19
JP2021021934A JP2021152642A (ja) 2020-03-19 2021-02-15 光学積層体及び表示装置
JP2021-021934 2021-02-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202137549A true TW202137549A (zh) 2021-10-01

Family

ID=77886525

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110108413A TW202137549A (zh) 2020-03-19 2021-03-10 光學積層體及顯示裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2021152642A (zh)
KR (1) KR20210117941A (zh)
CN (1) CN113495315A (zh)
TW (1) TW202137549A (zh)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102447330B1 (ko) 2017-12-14 2022-09-23 엘지디스플레이 주식회사 폴더블 표시장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210117941A (ko) 2021-09-29
JP2021152642A (ja) 2021-09-30
CN113495315A (zh) 2021-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102220433B1 (ko) 플렉시블 적층체 및 그것을 구비한 화상 표시 장치
JP7469889B2 (ja) 光学積層体、及び表示装置の製造方法
TW202015895A (zh) 積層體及其製造方法
TW202043817A (zh) 積層體以及顯示裝置
TW202046076A (zh) 撓性積層體及具備其的圖像顯示裝置
CN109313306B (zh) 偏振板组件
TW202136832A (zh) 積層體
TW202137549A (zh) 光學積層體及顯示裝置
TW202140261A (zh) 積層片及其製造方法
WO2022270402A1 (ja) 表示装置
JP2021152649A (ja) 積層体
TW202132878A (zh) 光學積層體及撓性圖像顯示裝置
WO2021220805A1 (ja) フレキシブル積層体及び表示装置
WO2020195699A1 (ja) 積層体及び表示装置
JP2023003395A (ja) 表示装置
TW202134709A (zh) 光學積層體
JP2022161832A (ja) 積層体
TW202307485A (zh) 積層體
TW202207459A (zh) 積層體及圖像顯示裝置
CN114265139A (zh) 柔性层叠体
TW202208960A (zh) 積層體、圖像顯示裝置及製造方法
TW202214432A (zh) 積層體、圖像顯示裝置及製造方法
TW202327881A (zh) 偏光板及其製造方法
TW202132825A (zh) 光學積層體及具備其的顯示裝置