TW202102908A - 光學積層體及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種在彎曲時抑制了剝離的光學積層體、以及包括該光學積層體的顯示裝置。本發明的光學積層體包括前表面板、圓偏光板及貼合所述前表面板與所述圓偏光板的黏著劑層，其中當將所述前表面板與所述黏著劑層之間的平均密合力設為A〔N/25 mm〕、將所述黏著劑層與所述圓偏光板之間的平均密合力設為B〔N/25 mm〕時，由下述式（1）表示的評價參數C滿足下述式（2）： C=（B/A）×100  （1） 3.0＜C＜40.0  （2）。

Description

光學積層體及顯示裝置
本發明是有關於一種光學積層體及顯示裝置。
日本專利特開2018-027995號公報（專利文獻1）中記載有一種具備應力緩和特性優異的黏著劑層的撓性圖像顯示裝置。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2018-027995號公報
[發明所欲解決之課題] 有人指出，經由黏著劑層積層多層而構成的光學積層體在彎曲時，在黏著劑層和與黏著劑層接觸的層之間會產生剝離。
本發明的目的在於提供一種在彎曲時抑制剝離的光學積層體、以及包含該光學積層體的顯示裝置。 [解決課題之手段]
本發明提供以下所示的光學積層體及顯示裝置。 [1]一種光學積層體，包括前表面板、圓偏光板及貼合所述前表面板與所述圓偏光板的黏著劑層，且 當將所述前表面板與所述黏著劑層之間的平均密合力設為A〔N/25 mm〕，將所述黏著劑層與所述圓偏光板之間的平均密合力設為B〔N/25 mm〕時，由下述式（1）表示的評價參數C滿足下述式（2）： C=（B/A）×100   （1） 3.0＜C＜40.0  （2）。 [2]如[1]所述的光學積層體，其中所述A滿足下述式（3）： 5.0≦A≦15.0  （3）。 [3]如[1]或[2]所述的光學積層體，其中當將所述前表面板與所述黏著劑層間的密合力的最小值設為D〔N/25 mm〕、將最大值設為E〔N/25 mm〕時，由下述式（4）表示的評價參數F滿足下述式（5）： F=（D/E）×100  （4） F≧80.0  （5）。 [4]如[1]至[3]中任一項所述的光學積層體，其中當將所述黏著劑層與所述圓偏光板之間的密合力的最小值設為G〔N/25 mm〕、將最大值設為H〔N/25 mm〕時，由下述式（6）表示的評價參數F滿足下述式（7）： I=（G/H）×100  （6） I≧80.0  （7）。 [5]一種顯示裝置，包括如[1]至[4]中任一項所述的光學積層體。 [發明的效果]
根據本發明，能夠提供一種在彎曲時抑制剝離的光學積層體、以及包含該光學積層體的顯示裝置。
以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但是本發明不限於以下的實施方式。在以下的所有附圖中，為了使各構成要素容易理解而適當調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各構成要素的比例尺與實際的構成要素的比例尺未必一致。
＜光學積層體＞ 圖1是根據本發明的一實施方式的光學積層體的概略剖面圖。圖1所示的光學積層體100具備前表面板10、及圓偏光板30，且在前表面板10與圓偏光板30之間具備黏著劑層20。前表面板10及圓偏光板30可分別為單層或多層。
光學積層體100的厚度根據對光學積層體所要求的功能及光學積層體的用途等而不同，因此並無特別限定，例如為20 μm以上且2000 μm以下，較佳為50 μm以上且1000 μm以下，更佳為100 μm以上且500 μm以下。
光學積層體100的俯視形狀例如可為方形形狀，較佳為具有長邊及短邊的方形形狀，更佳為長方形。於光學積層體100的面方向的形狀為長方形的情況下，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。構成光學積層體100的各層可對角部進行R加工、或對端部進行切口加工、或進行開孔加工。
光學積層體100例如可用於顯示裝置等中。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉：有機電致發光（organic electroluminescence，有機EL）顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等。光學積層體100較佳地應用於能夠彎曲的顯示裝置。
[平均密合力] 光學積層體100中，在將前表面板10與黏著劑層20之間的平均密合力設為A〔N/25 mm〕、將黏著劑層20與圓偏光板30之間的平均密合力設為B〔N/25 mm〕時，由下述式（1）： C=（B/A）×100   （1） 表示的評價參數C滿足下述式（2）： 3.0＜C＜40.0   （2） 較佳為滿足下述式（2'）： 5.0＜C＜30.0   （2'）。 平均密合力按照後述的實施例欄中記載的方法測定。
光學積層體100能夠以前表面板10為內側進行彎曲。光學積層體彎曲並維持其狀態（以下稱為「靜態彎曲」）時，有時會在黏著劑層和與黏著劑層接觸的層之間產生剝離。根據本發明者的研究結果，發現：當前表面板10與黏著劑層20之間的平均密合力A和黏著劑層20與圓偏光板30之間的平均密合力B的關係滿足式（2）時，即使以前表面板10為內側進行靜態彎曲，前表面板10與黏著劑層20之間、及黏著劑層20與圓偏光板30之間的剝離亦得到抑制（以下，亦稱為具有優異的「靜態彎曲耐久性」）。此處，靜態彎曲時剝離得到抑制是指即使將光學積層體用於後述的靜態彎曲耐久試驗，30日以上亦沒有產生剝離。剝離的產生可藉由光學顯微鏡下的觀察來判斷。
黏著劑層20和與黏著劑層20接觸的層之間的平均密合力大時，應力有分散的傾向，彎曲時難以產生剝離。若以前表面板10為內側使光學積層體100靜態彎曲，則容易在更內側的層中引起應力集中。因此，認為對抑制剝離有效的是增大更內側的層的平均密合力、即、使前表面板10與黏著劑層20之間的平均密合力A較黏著劑層20與圓偏光板30之間的平均密合力B大。C為3.0以下時，B相對於A不足，在靜態彎曲時，在黏著劑層20與圓偏光板30之間容易產生剝離。在C為40.0以上的情況下，B相對於A過剩，在靜態彎曲時，在前表面板10與黏著劑層20之間容易產生剝離。
於本說明書中，彎曲包括在彎曲部分形成曲面的折彎形態，折彎的內表面的曲率半徑並無特別限定。另外，彎曲亦包括內表面的彎折角大於0度且小於180度的彎折、以及內表面的曲率半徑近似為零或內表面的彎折角為0度的折疊。
光學積層體100中，前表面板10與黏著劑層20的平均密合力A較佳為滿足下述式（3）： 5.0≦A≦15.0   （3） 更佳為滿足下述式（3'）： 7.0≦A≦12.0   ( 3’) 在A小於5.0的情況下，靜態彎曲時容易在前表面板10與黏著劑層20之間產生剝離。若A大，則在靜態彎曲時難以產生剝離，但是若A大於15.0，則有可能在黏著劑層內產生凝聚破壞。
平均密合力依賴於黏著劑層的特性、前表面板的拉伸彈性係數、構成圓偏光板且與黏著劑層接觸的最外層的拉伸彈性係數、前表面板及構成圓偏光板的層中與黏著劑層接觸的最外層的種類、貼合面的表面處理等。例如，存在構成圓偏光板且與黏著劑層接觸的最外層及前表面板的拉伸彈性係數越大，密合力變得越小的傾向。黏著劑層的特性可根據在構成黏著劑層的黏著劑組成物中，改變構成後述的(甲基)丙烯酸系聚合物的單體的種類、或調節(甲基)丙烯酸系聚合物的分子量的方法等而變化。作為貼合面的表面處理，例如可列舉：電暈處理、電漿處理、皂化處理。
[密合力的最大值及最小值] 光學積層體100中，當將前表面板10與黏著劑層20之間的密合力的最小值設為D〔N/25 mm〕、將最大值設為E〔N/25 mm〕時，由下述式（4）表示的評價參數F較佳為滿足下述式（5）： F=（D/E）×100   （4） F≧80.0   （5）。
另外，光學積層體100中，當將黏著劑層20與圓偏光板30之間的密合力的最小值設為G〔N/25 mm〕、將最大值設為H〔N/25 mm〕時，由下述式（6）表示的評價參數F較佳為滿足下述式（7）： I=（G/H）×100   （6） I≧80.0   （7）。
在F及/或I小於80.0的情況下，即，在密合力的最大值與最小值之差大的情況下，在靜態彎曲時，在前表面板10與黏著劑層20之間，或黏著劑層20與圓偏光板30之間容易產生氣泡。若產生氣泡則容易發生剝離。氣泡的產生可藉由光學顯微鏡下的觀察來判斷。
密合力的最小值相對於最大值的比例依賴於黏著劑層的特性、前表面板的拉伸彈性係數、構成圓偏光板且與黏著劑層接觸的最外層的拉伸彈性係數、前表面板及構成圓偏光板的層中與黏著劑層接觸的最外層的種類、貼合面的表面處理等。黏著劑層的特性可根據在構成黏著劑層的黏著劑組成物中，改變構成後述的(甲基)丙烯酸系聚合物的單體的種類、或調節(甲基)丙烯酸系聚合物的分子量的方法等而變化。作為貼合面的表面處理，例如可列舉：電暈處理、電漿處理、皂化處理。
[前表面板] 前表面板10只要為能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無限定，另外可僅包含一層，亦可包含兩層以上。作為前表面板10，可列舉樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體。前表面板10可構成顯示裝置的最表面。
前表面板10的厚度例如可為30 μm以上且500 μm以下，較佳為40 μm以上且200 μm以下，更佳為50 μm以上且100 μm以下。於本發明中，各層的厚度可依照後述的實施例中說明的厚度測定方法進行測定。
於前表面板10為樹脂製的板狀體的情況下，樹脂製的板狀體只要為能夠透過光者則並無限定。作為構成樹脂膜等樹脂製的板狀體的樹脂，例如可列舉由三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的膜。該些高分子可單獨使用或混合使用兩種以上。就提高強度及透明性的觀點而言，較佳為由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成樹脂膜。
前表面板10較佳為樹脂膜或在樹脂膜上具備硬塗層的樹脂膜。硬塗層可形成在樹脂膜的一面上，亦可形成在兩面上。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃痕性的樹脂膜。硬塗層例如是紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高硬度，硬塗層可含有添加劑。添加劑沒有限定，可列舉無機系微粒、有機系微粒、或者該些的混合物。在樹脂膜的兩面具有硬塗層的情況下，各硬塗層的組成或厚度可彼此相同，亦可彼此不同。
當前表面板10是玻璃板時，玻璃板較佳地使用顯示用強化玻璃。玻璃板的厚度例如可為10 μm以上1000 μm以下、亦可為50 μm以上1000 μm以下。藉由使用玻璃板，能夠構成具有優異的機械強度及表面硬度的前表面板。
當將光學積層體100用於顯示裝置時，前表面板10不僅具有保護顯示裝置的前表面（畫面）的功能（作為窗口膜的功能），可亦具有作為觸控感測器的功能、藍光隔斷功能、視角調整功能等。
自容易構成具有優異的靜態彎曲耐久性的光學積層體100的觀點出發，前表面板10在溫度23℃下的拉伸彈性係數較佳為3.0 GPa以上，更佳為4.0 GPa以上，亦可為5 GPa以上。前表面板10在溫度23℃下的拉伸彈性係數較佳為20 GPa以下，更佳為10 GPa以下。前表面板的拉伸彈性係數亦可較構成圓偏光板且與黏著劑層接觸的最外層的拉伸彈性係數大。拉伸彈性係數可藉由下述實施例欄中記載的試驗方法來測定。
[黏著劑層] 黏著劑層20是介於前表面板10與圓偏光板30層之間並將該些貼合的層。黏著劑層20可為包含一層者，亦可為包含兩層以上者，較佳為一層。黏著劑層20可包含以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酯系樹脂、矽酮系樹脂、聚乙烯醚系樹脂為主成分的黏著劑組成物。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（原料聚合物），較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。原料聚合物較佳為使極性單體共聚。作為極性單體，可列舉(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、N,N-二甲基胺基(甲基)丙烯酸乙酯化合物、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量（Mw）例如較佳為60萬以上150萬以下。重量平均分子量（Mw）在此種範圍時，黏著劑層的耐久性和表面張力提高，容易保持密合力。重量平均分子量（Mw）可按照後述實施例欄中說明的測定方法來測定。
黏著劑組成物可僅含有所述原料聚合物，但通常更含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：為2價以上的金屬離子，且與羧基之間形成羧酸金屬鹽的金屬離子；與羧基之間形成醯胺鍵的多胺化合物；與羧基之間形成酯鍵的聚環氧化合物或多元醇；與羧基之間形成醯胺鍵的聚異氰酸酯化合物。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有受到紫外線或電子線之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有在活性能量線照射前仍具有黏著性而可與膜等被黏物密合，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密合力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外，可更含有活性能量線聚合性化合物。根據需要，亦可含有光聚合起始劑、光敏劑等。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、增黏劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
黏著劑層20可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈在基材上並使其乾燥而形成。黏著劑層20亦可使用用黏著劑組成物形成的黏著片來形成。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的硬化物。
黏著劑層20的厚度沒有特別限定，例如較佳為1 μm以上100 μm以下，更佳為3 μm以上50 μm以下，亦可為20 μm以上。
自容易構成具有優異的靜態彎曲耐久性的光學積層體100的觀點出發，黏著劑層20的凝膠分率較佳為45%以上85%以下，更佳為50%以上80%以下。凝膠分率根據後述的實施例中記載的方法來測定。
[圓偏光板] 圓偏光板30包括直線偏光片層及相位差層。圓偏光板30能夠吸收圖像顯示裝置中反射的外部光，因此，能夠對光學積層體100賦予作為防反射膜的功能。
圓偏光板30的厚度通常為5 μm以上、可為20 μm以上、亦可為25 μm以上、亦可為30 μm以上。另外，圓偏光板30的厚度較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下。
（直線偏光片層） 直線偏光片層具有從自然光等非偏振光的光線選擇性地透過一個方向上的直線偏光的功能。直線偏光片層可包括吸附二色性色素的拉伸膜或拉伸層、液晶層等作為偏光片層，所述液晶層包含聚合性液晶化合物的硬化物及二色性色素且二色性色素在聚合性液晶化合物的硬化物中分散並配向。二色性色素是指具有分子的長軸方向上的吸光度與短軸方向上的吸光度不同的性質的色素。將液晶層用作偏光片層的直線偏光片層與吸附有具有吸收各向異性的色素的拉伸膜或拉伸層相比，在彎曲方向上沒有限制，因此較佳。
（作為吸附二色性色素的拉伸膜或拉伸層的偏光片層） 作為吸附二色性色素的拉伸膜的偏光片層通常可經由如下的步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸拉伸的步驟；藉由利用碘等二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及在利用硼酸水溶液的處理後進行水洗的步驟。
偏光片層的厚度通常為30 μm以下，較佳為18 μm以下，更佳為15 μm以下。減薄偏光片層的厚度有利於圓偏光板30的薄膜化。偏光片層的厚度通常為1 μm以上，例如亦可為5 μm以上。
聚乙烯醇系樹脂是藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可使用乙酸乙烯酯與能夠與其共聚合的其他單體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體，例如可列舉不飽和羧酸系化合物、烯烴系化合物、乙烯基醚系化合物、不飽和磺酸系化合物、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺系化合物。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上且100莫耳%以下左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，亦可使用經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。
作為吸附有二色性色素的拉伸層的偏光片層通常可經由如下步驟而製造：將含有所述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材膜上的步驟；將所得的積層膜單軸拉伸的步驟；藉由利用二色性色素對經單軸拉伸的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色來吸附該二色性色素而製成偏光片的步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的膜進行處理的步驟；以及在利用硼酸水溶液的處理後進行水洗的步驟。用於形成偏光片層的基材膜可用作偏光片層的保護層。根據需要，可自偏光片層剝離除去基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層的偏光片層可直接用作直線偏光片層，亦可在其單面或兩面形成保護層來用作直線偏光片層。作為保護層，可使用後述的熱塑性樹脂膜。所獲得的直線偏光片層的厚度較佳為2 μm以上40 μm以下。
熱塑性樹脂膜例如可列舉：環狀聚烯烴系樹脂膜；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素等包含樹脂的乙酸纖維素系樹脂膜；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等包含樹脂的聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；(甲基)丙烯酸系樹脂膜；聚丙烯系樹脂膜等本領域公知的膜。偏光片層與保護層可經由後述的貼合層積層。
自薄型化的觀點出發，熱塑性樹脂膜的厚度通常為100 μm以下，較佳為80 μm以下，更佳為60 μm以下，進而佳為40 μm以下，進而尤佳為30 μm以下，另外，通常為5 μm以上，較佳為10 μm以上。
在熱塑性樹脂膜上可形成硬塗層。硬塗層可形成在熱塑性樹脂膜的一個面上，亦可形成在兩面上。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃痕性的熱塑性樹脂膜。硬塗層可與在上述樹脂膜上形成的硬塗層同樣地形成。
（作為液晶層的偏光片層） 用於形成液晶層的聚合性液晶化合物為具有聚合性反應基且顯示液晶性的化合物。聚合性反應基是參與聚合反應的基，較佳為光聚合性反應基。光聚合性反應基是指藉由自光聚合起始劑產生的活性自由基、酸等而能夠參與聚合反應的基。作為光聚合性官能基，可列舉：乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。聚合性液晶化合物的種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及該些的混合物。聚合性液晶化合物的液晶性可為熱致（thermotropic）性液晶亦可為溶致（lyotropic）性液晶，作為相秩序結構，可為向列液晶亦可為層列液晶。
就作為液晶層的偏光片層中使用的二色性色素而言，較佳為在300 nm～700 nm的範圍內具有最大吸收波長（λMAX）。作為此種二色性色素，例如可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及二苯乙烯偶氮色素等，並且較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素。二色性色素可單獨使用，亦可組合兩種以上，但較佳為組合三種以上。特佳為組合三種以上的偶氮化合物。二色性色素的一部分可具有反應性基，另外亦可具有液晶性。
作為液晶層的偏光片層例如可藉由在形成於基材膜上的配向膜上塗佈包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物，使聚合性液晶化合物聚合並使其硬化來形成。亦可藉由在基材膜上塗佈偏光片層形成用組成物形成塗膜，並將該塗膜與基材膜一起拉伸，來形成偏光片層。用於形成偏光片層的基材膜亦可用作偏光片層的保護層。基材膜的材料及厚度可與上述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片層形成用組成物、以及使用了該組成物的偏光片層的製造方法，可例示日本專利特開2013-37353號公報、日本專利特開2013-33249號公報、日本專利特開2017-83843號公報等中記載者。偏光片層形成用組成物除了聚合性液晶化合物及二色性色素以外，可更含有溶媒、聚合起始劑、交聯劑、調平劑、抗氧化劑、增塑劑、增感劑等添加劑。該些成分可分別僅使用一種，亦可組合兩種以上使用。
偏光片層形成用組成物可含有的聚合起始劑是可使聚合性液晶化合物的聚合反應開始的化合物，就可在更低溫條件下開始聚合反應的觀點而言，較佳為光聚合性起始劑。具體而言，可列舉藉由光的作用能夠產生活性自由基或酸的光聚合起始劑，其中，較佳為藉由光的作用產生自由基的光聚合起始劑。聚合起始劑的含量相對於聚合性液晶化合物的總量100質量份較佳為1質量份以上10質量份以下，更佳為3質量份以上8質量份以下。在該範圍內時，聚合性基的反應充分進行，且容易使液晶化合物的配向狀態穩定化。
作為液晶層的偏光片層的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上8 μm以下，更佳為1 μm以上5 μm以下。
作為液晶層的偏光片層可不剝離除去基材膜而作為直線偏光片層使用，亦可將基材膜自偏光片層剝離除去而作為直線偏光片層。作為液晶層的偏光片層亦可在其一面或兩面形成保護層而作為直線偏光片層使用。作為保護層，可使用上述的熱塑性樹脂膜。
作為液晶層的偏光片層亦可在其一面或兩面具有外塗層作為保護層。外塗層可以保護偏光片層等為目的而設置。外塗層例如可藉由在偏光片層上塗佈用於形成外塗層的材料（組成物）來形成。作為構成外塗層的材料，例如可列舉光硬化性樹脂、水溶性聚合物等。作為構成外塗層的材料，可使用(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。
圓偏光板30配置成直線偏光片層相對於相位差層位於黏著劑層20側。構成圓偏光板30並與黏著劑層20接觸的最外層較佳為直線偏光片層中所包含的基材膜或保護層。
自容易構成具有優異的靜態彎曲耐久性的光學積層體100的觀點出發，構成圓偏光板30且與黏著劑層20接觸的最外層在溫度23℃下的拉伸彈性係數較佳為3.0 GPa以上。構成圓偏光板30且與黏著劑層20接觸的最外層在溫度23℃下的拉伸彈性係數較佳為20 GPa以下，更佳為10 GPa以下。拉伸彈性係數可藉由下述實施例欄中記載的試驗方法來測定。
（相位差層） 相位差層可為一層，亦可為兩層以上。相位差層可具有保護其表面的外塗層、支持相位差層的基材膜等。相位差層包括λ/4層，且可更包括λ/2層或正C層的至少任一者。在相位差層包括λ/2層的情況下，自直線偏光片層側起依次積層λ/2層及λ/4層。在相位差層包括正C層的情況下，可自直線偏光片層側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光片層側起依次積層正C層及λ/4層。相位差層的厚度例如為0.1 μm以上10 μm以下，較佳為0.5 μm以上8 μm以下，更佳為1 μm以上6 μm以下。
相位差層可包含作為保護層的材料例示的樹脂膜，亦可包含聚合性液晶化合物硬化而成的層。相位差層可更包含配向膜。相位差層亦可具有用於貼合λ/4層、λ/2層及正C層的貼合層。
相位差層在由使聚合性液晶化合物硬化而成的層形成的情況下，可藉由將包含聚合性液晶化合物的組成物塗佈在基材膜上並使其硬化來形成。亦可在基材膜與塗佈層之間形成配向膜。基材膜的材料及厚度可與作為上述熱塑性樹脂膜的材料及厚度例示者相同。相位差層在由使聚合性液晶化合物硬化而成的層形成的情況下，亦可以具有配向膜及基材膜的形態組裝到光學積層體中。相位差層可經由貼合層而與直線偏光片層貼合。
（貼合層） 貼合層為含有黏著劑或接著劑的層。成為貼合層的材料的黏著劑可使用與成為黏著劑層20的材料的黏著劑組成物相同的黏著劑組成物。貼合層亦可使用其他黏著劑，例如與黏著劑層20的材料不同的(甲基)丙烯酸系黏著劑、苯乙烯系黏著劑、矽酮系黏著劑、橡膠系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、聚酯系黏著劑、環氧系共聚物黏著劑等。
作為成為貼合層的材料的接著劑，例如可將水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等中的一種或兩種以上組合來形成。作為水系接著劑，例如可列舉聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑是藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如可列舉含有聚合性化合物及光聚合性起始劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。作為所述聚合性化合物，可列舉光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、及源自該些單體的寡聚物等。作為所述光聚合起始劑，可列舉含有照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質的化合物。
貼合層的厚度例如可為1 μm以上，較佳為1 μm以上且25 μm以下，更佳為2 μm以上且15 μm以下，進而佳為2.5 μm以上且5 μm以下。
[觸控感測器面板] 光學積層體100可更包括觸控感測器面板。作為包括觸控感測器面板的光學積層體100，例如可列舉依次具有前表面板、圓偏光板、及觸控感測器的光學積層體。觸控感測器面板只要為具有能夠檢測出所觸控的位置的感測器（即觸控感測器）的面板，則不被限定。觸控感測器的檢測方式不受限定，可例示電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光感測器方式、超聲波方式、電磁感應耦合方式、表面彈性波方式等的觸控感測器面板。就低成本而言，較佳地使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。
作為電阻膜方式的觸控感測器的一例，可列舉包括彼此相向配置的一對基板、夾持於所述一對基板之間的絕緣性間隔物、在各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路的構件。於設置有電阻膜方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，若觸控前表面板的表面，則相向的電阻膜短路，電流在電阻膜中流動。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化，從而檢測被觸控的位置。
作為靜電電容耦合方式的觸控感測器的一例，可列舉包括基板、設置於基板的整個面的位置檢測用透明電極、以及觸控位置檢測電路的構件。於設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，若觸控前表面板的表面，則在被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測被觸控的位置。
觸控感測器面板的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為為5 μm以上且100 μm以下，進而佳為5 μm以上且50 μm以下。
觸控感測器面板可為在基材膜上形成有觸控感測器的圖案的構件。基材膜的例示可與上述熱塑性樹脂膜的說明中的例示相同。觸控感測器圖案的厚度例如可為1 μm以上20 μm以下。
[光學積層體的製造方法] 光學積層體100可藉由包括以下步驟的方法來製造，所述步驟中，經由黏著劑層20將前表面板10及圓偏光板30貼合。構成光學積層體的層彼此可根據需要經由上述的貼合層進行貼合。於經由黏著劑層20或貼合層將層彼此貼合的情況下，為了調整密合性，較佳為對貼合面的其中一面或兩面實施電暈處理等表面活性化處理。電暈處理的條件能夠適當設定，在貼合面的一面和另一面上條件可不同。
＜顯示裝置＞ 本發明的顯示裝置包括所述光學積層體100。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等圖像顯示裝置。光學積層體中可進一步積層觸控感測器，顯示裝置亦可具有觸控面板功能。包括本發明的光學積層體的顯示裝置顯示出靜態彎曲優異的耐久性，可作為能夠彎曲或纏繞等的撓性顯示器使用。
於顯示裝置中，光學積層體100使前表面板朝向外側（與顯示元件側相反的一側，即視認側），配置於顯示裝置所具有的顯示元件的視認側。
本發明的顯示裝置可用作智慧型電話、輸入板等行動設備、電視機、數位相框（digital photo frame）、電子廣告牌、測定器或儀表類、辦公用設備、醫療設備、電腦設備等。 [實施例]
以下列舉實施例更詳細地說明本發明，但本發明不限定於該些實施例。
[前表面板] 作為前表面板，準備了單面具有硬塗層的50 μm的樹脂膜。硬塗層為厚度10 μm且由包含在末端具有多官能丙烯醯基的樹枝狀聚合物化合物的組成物形成的層。樹脂膜是厚度為40 μm的聚醯亞胺膜。前表面板的拉伸彈性係數為4.4 GPa。
[圓偏光板] 在三乙醯纖維素（Triacetyl Cellulose，TAC）膜（KC2UA、柯尼卡美能達（Konica Minolta）股份有限公司製造、厚度25 μm）上形成光配向膜。將含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物塗佈在光配向膜上，並使其配向、硬化，獲得厚度2 μm的偏光片層。藉由棒塗法將外塗層形成用組成物（將100份水、3份聚乙烯醇樹脂粉末（KL318、可樂麗（Kuraray）股份有限公司製造、平均聚合度18000）、1.5份作為交聯劑的聚醯胺環氧樹脂（SR650（30）、住化化成（Sumika Chemtex）股份有限公司製造）混合而成者）塗佈於所述偏光片層上，並在溫度80℃下使其乾燥3分鐘來形成外塗層。外塗層的厚度為1.0 μm。藉此，獲得了具有TAC膜/光配向膜/偏光片層/外塗層的層結構的直線偏光片層。TAC膜的拉伸彈性係數為3.5 GPa。
相位差層是依次積層λ/4層、貼合層、正C層及基材膜而成者，除了基材膜以外的厚度為11 μm。該貼合層包含黏著劑，厚度為5 μm。λ/4層具有液晶化合物硬化而成的層及配向膜，厚度為3 μm。正C層具有液晶化合物硬化而成的層及配向膜，厚度為3 μm。基材膜使用了厚度100 μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜。
經由貼合層貼合直線偏光片層的外塗層側與相位差層的λ/4層側，獲得圓偏光板。該貼合層包含黏著劑，厚度為5 μm。直線偏光片層的吸收軸與相位差層的遲相軸所成的角度為45˚。剝離基材膜，獲得厚度44 μm的圓偏光板。
[黏著劑層] （使用黏著劑組成物B1及黏著劑組成物B2的黏著劑層） 在包括冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機的反應器中，如表1所示，加入丙酮81.8質量份、丙烯酸丁酯（BA（butyl acrylate）、Tg：-54℃）98.6質量份、丙烯酸（AA（Acrylic acid）、Tg：105℃）0.4質量份、及丙烯酸2-羥基乙酯（2HEA（2-Hydroxyethyl acrylate）、Tg：-15℃）1.0質量份的混合溶液。一邊用氮氣置換裝置內的空氣使其不含氧，一邊將內溫提高到55℃。然後，添加全部將偶氮二異丁腈（聚合起始劑）0.14質量份溶解於丙酮10質量份中而得到的溶液。添加聚合起始劑1小時後，以使除單體以外的丙烯酸樹脂的濃度為35%的方式，一邊以添加速度17.3質量份/hr連續地向反應器中添加丙酮，一邊在內溫54℃～56℃下保溫12小時。最後添加乙酸乙酯，以使丙烯酸樹脂的濃度達到20%的方式調節丙烯酸系聚合物A1。表中單體量為質量份。
將上述步驟中獲得的丙烯酸系聚合物100質量份（固體成分換算值；以下相同）、作為熱交聯劑的三羥甲基丙烷改質伸二甲苯基二異氰酸酯（綜研化學股份有限公司製造、產品名「TD-75」）、及作為矽烷偶合劑的3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷（信越化學工業股份有限公司製造、產品名「KBM403」）以表1所示的量（質量份）混合，進行充分攪拌。用甲基乙基酮稀釋上述混合物，藉此獲得黏著性組成物B1及黏著性組成物B2的塗佈溶液。
[表1]
黏著劑 組成物 丙烯酸系聚合物 丙烯酸系聚合物的製備 熱交聯劑 矽烷偶合劑 黏著劑層
種類 重量平均分子量（萬） BA 2HEA AA 厚度 （μm） 凝膠分率（%）
B1 A1 95 98.6 1 0.4 0.4 0.5 25 70
B2 A1 95 98.6 1 0.4 0.3 0.5 25 66
用刮刀式塗佈機將黏著性組成物B1及黏著性組成物B2的塗佈溶液塗佈在剝離膜A（琳得科（LINTEC）股份有限公司製造、產品名「SP-PET752150」）的剝離處理面上。然後，對塗佈層，在90℃下加熱處理1分鐘，形成塗佈層。繼而，將上述獲得的剝離膜A上的塗佈層與剝離膜B（琳得科（LINTEC）股份有限公司製造、產品名「SP-PET382120」）以該剝離型剝離片的剝離處理面與塗佈層接觸的方式貼合，在23℃、50%RH的條件下養護7天。如此製作了具有厚度25 μm的黏著劑層的黏著片，即，包含剝離膜A/黏著劑層/剝離膜B的構成的黏著片。黏著劑層的厚度、重量平均分子量及凝膠分率用後述方法測定。
（使用黏著劑組成物B3～黏著劑組成物B6的黏著劑層） 為了使氮氣回流且溫度調節變得容易，在設置了冷卻裝置的1L反應器中，投入包含表2所示的丙烯酸2-乙基己酯（2-EHA）單體、丙烯酸十二烷基酯（DA（dodecyl acrylate））單體、丙烯酸異冰片酯（IBOA（isobornyl acrylate））單體、丙烯酸5-羥基丙酯（5-HPA（5-hydroxypropyl acrylate））單體的單體混合物。為了除去氧，將氮氣回流1小時後，將溶液維持在60℃。均勻混合上述單體混合物後，相對於100質量份單體成分投入0.5質量份光聚合起始劑1-羥基環己基苯基酮（I-184）。接著，一邊攪拌一邊照射UV燈（10 mW），製造丙烯酸系聚合物A2～丙烯酸系聚合物A5。表2中的添加量為質量份。
[表2]
丙烯酸系聚合物的種類 丙烯酸系聚合物的製備 光聚合起始劑 重量平均分子量（萬）
2-EHA DA IBOA 5-HPA
A2 85 1 7 7 0.5 129
A3 80 10 5 5 0.5 67
A4 15 - 60 25 0.5 175
A5 15 - 50 35 0.5 162
按照表3所示的成分及比例混合上述得到的丙烯酸系聚合物A2～丙烯酸系聚合物A5，製造黏著劑組成物B3～黏著劑組成物B6。表3中的添加量為質量份。光聚合起始劑使用1-羥基環己基苯基酮（I-184）。
[表3]
黏著劑組成物 丙烯酸系聚合物 光聚合起始劑 2-EHA 黏著劑層
種類 調配量 厚度（μm） 凝膠分率（%）
B3 A2 100 2.5 - 25 75
B4 A3 100 2.5 - 25 58
B5 A4 100 3.5 10 25 91
B6 A5 100 5 - 25 88
以厚度為25 μm的方式將黏著劑組成物B3～黏著劑組成物B6塗佈在塗有矽脫模劑的剝離膜A（聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度38 μm）上。在其上接合剝離膜B（聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度38 μm），進行UV照射，製作包含剝離膜A/黏著劑層/剝離膜B的黏著片。UV照射的條件是累計光量400 mJ/cm2 、照度2.8 mW/cm2 （UVV基準）。
[光學積層體的製作] 經由包含黏著劑組成物B1～黏著劑組成物B6的黏著劑層，貼合前表面板的不具有硬塗層的一側與圓偏光板的TAC膜側，來製作圖1所示的層結構的光學積層體（實施例1～實施例4及比較例1～比較例3）。製作實施例1～實施例4及比較例1、比較例2的光學積層體時，對前表面板、黏著劑層及圓偏光板的貼合面，在貼合前進行了雙面電暈處理。電暈處理使用TEC-4AX（牛尾（Usio）電機股份有限公司製造），在表4所示的條件下進行一次。另一方面，在製作比較例3的光學積層體時，不進行電暈處理。按照下述方法測定光學積層體的密合力及靜態彎曲耐久性，結果如表4所示。
[層的厚度] 使用接觸式膜厚測定裝置（尼康（Nikon）股份有限公司製造的「MS-5C」）進行測定。對於偏光片層及配向膜，使用雷射顯微鏡（奧林巴斯（Olympus）股份有限公司製造的「OLS3000」）進行測定。
[拉伸彈性係數] 拉伸彈性係數如以下般進行測定。使用超級切割器自前表面板或TAC膜（構成圓偏光板且與黏著劑層相接的最外層）上切出長邊110 mm×短邊10 mm的測定用樣品。繼而，用拉伸試驗機（島津製作所股份有限公司製造 奧托古拉夫（autograph） AG-Xplus試驗機）的上下夾具，以夾具的間隔為5 cm的方式夾住上述測定用樣品的長邊方向兩端。在溫度23℃、相對濕度55%的環境下，以拉伸速度4 mm/分鐘向測定用樣品的長度方向拉伸。由得到的應力-應變曲線中20 MPa～40 MPa間的直線的斜率，算出溫度23℃、相對濕度55%下的拉伸彈性係數。此時，用於計算應力的厚度藉由上述記載的方法進行了測定。
[重量平均分子量] 重量平均分子量（Mw）作為聚苯乙烯換算的數量平均分子量（Mn），在流動相中使用四氫呋喃，藉由粒徑篩析層析法（size exclusion chromatography，SEC）而求出。具體而言，進行了以下操作。向粒徑篩析層析儀（size exclusion chromatograph，SEC）中注入10 μL上述試樣。流動相以1.0 mL/分鐘的流量流動。作為管柱，使用PLgel MIXED-B（聚合物實驗室（Polymer Laboratories）製造）。檢測器使用了示差折射率（refractive index，RI）檢測器（商品名：安捷倫（Agilent） GPC）。
[凝膠分率] 將黏著片裁斷成80 mm×80 mm的尺寸，將其黏著劑層包在聚酯製網（網尺寸200）中，用精密天平稱量其質量，減去上述網單獨的質量，藉此算出僅黏著劑的質量。此時的質量設為M1。繼而，將被上述聚酯製網包著的黏著劑在室溫下（23℃）在乙酸乙酯中浸漬24小時。然後取出黏著劑，在溫度23℃、相對濕度50%的環境下，風乾24小時，進而在80℃的烘箱中乾燥12小時。乾燥後，用精密天平稱量其質量，減去上述網單獨的質量，算出僅黏著劑的質量。此時的質量設為M2。凝膠分率（%）用（M2/M1）×100表示。
[密合力測定試驗] 附著力使用奧托古拉夫（Autograph）（AG-1S，島津製作所股份有限公司）進行了測定。自光學積層體100裁斷寬25 mm×長150 mm的試驗片。如圖2中的（A）所示，將試驗片的圓偏光板30側貼附在玻璃基板501（「艾格（EAGLE） XG」、康寧（Corning）公司、無鹼玻璃板）上。自玻璃基板501到黏著劑層20固定在測定裝置上，在溫度23℃、相對濕度55%的環境下，在長度方向上以剝離速度300 mm/分鐘的條件沿180°方向（圖中箭頭）剝離前表面板10。將除了自剝離開始到10 mm以外測定的剝離強度作為前表面板10與黏著劑層20之間的密合力。將自10 mm到110 mm的100 mm剝離期間測定的密合力的平均值設為平均密合力A〔N/25 mm〕，將測定的值中的最小值設為D〔N/25 mm〕，將最大值設為E〔N/25 mm〕。同樣，如圖2中的（B）所示，試驗片的前表面板10側被貼附到玻璃基板501，自玻璃基板501到黏著劑層20固定到測定裝置。將剝離圓偏光板30時的剝離強度作為黏著劑層20與圓偏光板30之間的密合力，求出平均密合力B〔N/25 mm〕、最小值G〔N/25 mm〕、最大值H〔N/25 mm〕。在此種情況下，自剝離開始到10 mm的區間檢測出的剝離強度亦不用於平均密合力B〔N/25 mm〕、最小值G〔N/25 mm〕、最大值H〔N/25 mm〕的計算。
[靜態彎曲耐久性試驗] 圖3表示靜態彎曲耐久性試驗（心軸（mandrel）彎曲試驗）的方法。首先，將光學積層體100裁斷成1 cm×10 cm的試驗片。在試驗板503上以光學積層體100的前表面板10側朝上的方式放置，在其上放置直徑5 mm的鐵製棒502（圖3中的（A））。以前表面板10成為內側的方式用手折疊固定（圖3中的（B））。
基於前表面板10與黏著劑層20之間、或黏著劑層20與圓偏光板30之間未產生剝離的期間，如以下般評價靜態彎曲耐久性。 靜態彎曲耐久性（剝離） A：在經過30天的時間點未產生剝離。 B：在經過20天的時間點未產生剝離。 C：在經過10天的時間點未產生剝離。 D：在經過1天的時間點未產生剝離。
基於前表面板10與黏著劑層20之間、或黏著劑層20與圓偏光板30之間未產生氣泡的期間，如以下般評價靜態彎曲耐久性。 靜態彎曲耐久性（氣泡） A：在經過30天的時間點未產生氣泡。 B：在經過20天的時間點未產生氣泡。 C：在經過10天的時間點未產生氣泡。 D：在經過1天的時間點未產生氣泡。
[表4]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1 比較例2 比較例3
黏著劑層的種類 B1 B2 B3 B4 B5 B6 B4
黏著劑層的厚度（μm） 25 25 25 25 25 25 25
前表面板與黏著劑層之間 平均密合力（A） 9.12 8.05 11.82 7.93 15.71 22.3 0.09
電暈處理 輸出0.3 kW 速度9 m/min 輸出0.3 kW 速度3 m/min 無
黏著劑層與圓偏光板之間 平均密合力（B） 0.52 0.54 3.11 1.98 6.45 18.62 0.06
電暈處理 輸出0.3 kW 速度3 m/min 無
（C）=（B）/（A）×100 5.7 6.7 26.3 25.0 41.1 83.5 66.7
密合力的最小值（D） 8.52 7.85 10.12 5.87 13.15 21.21 0.08
密合力的最大值（E） 9.53 8.51 12.01 9.12 20.92 25.51 0.11
（F）=（D）/（E）×100 89.4 92.2 84.3 64.4 62.9 83.1 72.7
密合力的最小值（G） 0.47 0.45 2.89 1.75 4.98 16.08 0.05
密合力的最大值（H） 0.55 0.56 3.22 2.25 8.71 20.02 0.07
（I）=（G）/（H）×100 85.5 80.4 89.8 77.8 57.2 80.3 71.4
靜態彎曲耐久性（剝離） A A A A D D D
靜態彎曲耐久性（氣泡） A A A B D D D
實施例1～實施例4的光學積層體滿足3.0＜C＜40.0，在靜態彎曲耐久試驗中在經過30天的時間點未產生剝離。實施例1～實施例3的光學積層體滿足F≧80.0及I≧80.0，在靜態彎曲耐久試驗中，在經過30天的時間點未產生氣泡。
100:光學積層體 10:前表面板 20:黏著劑層 30:圓偏光板 501:玻璃基板 502:鐵製棒 503:試驗板
圖1是表示本發明的光學積層體的一例的概略剖面圖。 圖2是說明密合力測定試驗的概略圖。（A）表示前表面板與黏著劑層之間的密合力的測定方法。（B）表示黏著劑層與圓偏光板之間的密合力的測定方法。 圖3是說明靜態彎曲耐久試驗的概略圖。
100:光學積層體
10:前表面板
20:黏著劑層
30:圓偏光板

Claims (5)

  1. 一種光學積層體，包括前表面板、圓偏光板及貼合所述前表面板與所述圓偏光板的黏著劑層，且 當將所述前表面板與所述黏著劑層之間的平均密合力設為A〔N/25 mm〕，將所述黏著劑層與所述圓偏光板之間的平均密合力設為B〔N/25 mm〕時，由下述式（1）表示的評價參數C滿足下述式（2）： C=（B/A）×100   （1） 3.0＜C＜40.0  （2）。
  2. 如請求項1所述的光學積層體，其中所述A滿足下述式（3）： 5.0≦A≦15.0  （3）。
  3. 如請求項1或請求項2所述的光學積層體，其中當將所述前表面板與所述黏著劑層間的密合力的最小值設為D〔N/25 mm〕、將最大值設為E〔N/25 mm〕時，由下述式（4）表示的評價參數F滿足下述式（5）： F=（D/E）×100  （4） F≧80.0  （5）。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的光學積層體，其中當將所述黏著劑層與所述圓偏光板之間的密合力的最小值設為G〔N/25 mm〕、將最大值設為H〔N/25 mm〕時，由下述式（6）表示的評價參數F滿足下述式（7）： I=（G/H）×100  （6） I≧80.0  （7）。
  5. 一種顯示裝置，包括如請求項1至請求項4中任一項所述的光學積層體。
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