JP7159375B2 - 光学積層体及び表示装置、並びに光学積層体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体及び表示装置、並びに光学積層体の製造方法に関する。

近年、折り畳み可能なフレキシブル表示装置の開発が進められている。表示装置が折り畳みに耐えるためには、画像表示素子が変形に耐えるのみではなく、画像表示素子上に積層される偏光子などを含む光学積層体も変形に耐える必要がある。韓国公開特許第１０－２０１６－００６９５６０号公報（特許文献１）には、折り曲げ部分に粘着剤を有さないことにより、折り畳みに起因する表面の折れしわが改善された表示装置が開示されている。

韓国公開特許第１０－２０１６－００６９５６０号公報

表示装置を繰り返し屈曲すると、屈曲装置の前面に配置された光学積層体に、屈曲軸に沿って折れしわが生じることがある。折れしわが生じると、表示画面が歪曲して見えるなど、表示装置の画面の視認性が低下する。

屈曲による折れしわを改善するために、表示装置の視認側に配置された貼合層（通常、粘着剤層である）の弾性率を上げる方法を採用し得る。しかしながら、弾性率が高い粘着剤層は、屈曲させると剥がれやすいという問題がある。本発明は、屈曲しても折れしわの発生が抑制されるとともに、視認側に配置された貼合層の剥離も抑制された光学積層体及びそれを含む表示装置、並びに該光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、以下に例示する光学積層体及び表示装置、並びに光学積層体の製造方法を供する。
［１］ 前面板と、保護層と、偏光子とをこの順に含み、
前記前面板と前記保護層とは、活性エネルギー線硬化型接着剤層によって貼合されている、光学積層体。
［２］ 前記偏光子側に位相差層をさらに含む、［１］に記載の光学積層体。
［３］ 前記活性エネルギー線硬化型接着剤層の温度２５℃における弾性率は、１０００ＭＰａ以上である、［１］又は［２］に記載の光学積層体。
［４］ 前記前面板と前記保護層との密着力は、２Ｎ／２５ｍｍ以上である、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
［５］ 前記前面板は、波長３８０ｎｍにおける透過率が１０％以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］ 前記保護層は、波長３８０ｎｍにおける透過率が６０％以上である、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］ ［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体を含む表示装置。
［８］ 前面板と保護層とを活性エネルギー線硬化型接着剤を介して積層する工程と、
前記保護層側から活性エネルギー線を照射する工程と、
前記保護層側に偏光子を積層する工程と、
をこの順に備える、光学積層体の製造方法。
［９］ 前記偏光子側に位相差層を積層する工程をさらに備える、［８］に記載の光学積層体の製造方法。

本発明によれば、屈曲したときの折れしわの発生が抑制されるとともに、視認側に配置された貼合層の剥離も抑制された光学積層体及び表示装置を得ることができる。

本発明に係る光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学積層体の製造方法の一例を示す模式図である。 実施例における屈曲試験の方法を説明する概略図である。 折れしわの深さ及び幅を説明する概略図である。 実施例における屈曲耐久性試験の方法を説明する概略図である。

以下、図面を参照しつつ本発明に係る光学積層体の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

＜光学積層体＞
図１を参照して、本発明に係る光学積層体について説明する。光学積層体１００は、前面板１０と、保護層１２と、偏光子１３とをこの順に含み、前面板１０と保護層１２とは、活性エネルギー線硬化型接着剤層１１によって貼合されている。光学積層体１００は、偏光子１３側に位相差層３０をさらに含んでもよい。位相差層３０は、例えば貼合層２０を介して偏光子１３に積層される。

光学積層体１００は、前面板を内側又は外側にして屈曲可能である。屈曲半径は、１５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以下であってもよく、例えば０．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下である。光学積層体１００は、任意の箇所においてクラックを生じさせることなく屈曲させることができる。光学積層体１００は、屈曲軸を中心とした両翼が略平行になるように対向（対面）させることができる。

光学積層体１００は、屈曲させても折れしわが抑制され、好ましくは内面の屈曲半径が１．５ｍｍとなるように屈曲させて温度６０℃、湿度９０％ＲＨで６時間静置しても表示面に歪曲がほぼ視認されない。光学積層体１００は、屈曲させても前面板に接する貼合層（視認側に配置された貼合層）の剥離が抑制される。光学積層体１００は、好ましくは内面の屈曲半径が１．５ｍｍとなるように屈曲させて２０日静置しても前面板に接する貼合層における剥離が観察されない。

光学積層体１００において、屈曲後に測定される折れしわの深さは、例えば７００μｍ以下であり、好ましくは６００μｍ以下、５８０μｍ以下、５４０μｍ以下、５００μｍ以下、又は４８０μｍ以下である。折れしわの深さは、例えば２００μｍ以上又は３００μｍ以上である。屈曲後に測定される折れしわの幅は、例えば１５ｍｍ以上であり、好ましくは１８ｍｍ以上であり、より好ましくは２０ｍｍ以上である。折れしわの幅は、例えば３０ｍｍ以下である。「折れしわの深さ／折れしわの幅」（μｍ／ｍｍ）は、例えば３０以下であり、好ましくは２８以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。「折れしわの深さ／折れしわの幅」（μｍ／ｍｍ）は、例えば１５以上又は１８以上である。折れしわがこの範囲であるとき、光学積層体１００は、視認性が低下しにくい。屈曲の条件及び折れしわの測定方法は、後述する実施例の方法に従う。

本明細書において、屈曲には、曲げ部分に曲面が形成される折り曲げの形態が含まれる。折り曲げの形態において、折り曲げた内面の屈曲半径は特に限定されない。また、屈曲には、内面の屈折角が０°より大きく１８０°未満である屈折の形態、及び内面の屈曲半径がゼロに近似、又は内面の屈折角が０°である折り畳みの形態が含まれる。

光学積層体１００は、平面視において、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。光学積層体１００の平面視における形状が長方形である場合、長辺の長さは、例えば１０ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってよく、好ましくは５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下である。短辺の長さは、例えば５ｍｍ以上８００ｍｍ以下であり、好ましくは３０ｍｍ以上５００ｍｍ以下であり、より好ましくは５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下である。光学積層体１００を構成する各層は、角部がＲ加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。本明細書において、平面視とは層の厚み方向から見ることを意味する。

光学積層体１００の厚みは、光学積層体に求められる機能及び光学積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば２０μｍ以上５００μｍ以下であり、好ましくは５０μｍ以上３００μｍ以下、より好ましくは７０μｍ以上２００μｍ以下である。

光学積層体１００は、例えば表示装置等に用いることができる。表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等が挙げられる。本発明に係る光学積層体１００は、フレキシブルディスプレイ（スライド式画面拡張ディスプレイを含む。）に好適である。

（前面板）
前面板は、光を透過可能な板状体であれば、材料及び厚みは限定されず、また１層のみから構成されてよく、２層以上から構成されてもよい。前面板としては、ガラス製の板状体（例えばガラス板、ガラスフィルム等）、樹脂製の板状体（例えば樹脂板、樹脂シート、樹脂フィルム等）、ガラス製の板状体と樹脂製の板状体との積層体が例示される。前面板は、表示装置の視認側の最表層を構成する層であることができる。

前面板の厚みは、例えば２０μｍ以上２００μｍ以下であってよく、好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下であり、より好ましくは４０μｍ以上１００μｍ以下である。本発明において、各層の厚みは、後述する実施例において説明する厚み測定方法にしたがって測定することができる。

樹脂フィルムとしては、光を透過可能な樹脂フィルムであれば限定されない。例えばトリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ（メタ）アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミド等の高分子で形成されたフィルムが挙げられる。これらの高分子は、単独で又は２種以上混合して用いることができる。優れた可撓性を有し、高い強度及び高い透明性を有する観点から、前面板は、好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム又はポリアミドイミドフィルムを含む。

前面板が樹脂フィルムである場合、前面板は、樹脂フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層を有するフィルムであってもよい。ハードコート層は、樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両方の面に形成されていてもよい。後述する表示装置がタッチパネル方式の表示装置である場合には、前面板の表面がタッチ面となるため、ハードコート層を有する樹脂フィルムが好適に用いられる。ハードコート層を設けることにより、硬度及び耐スクラッチ性を向上させた樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、例えば紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層は、強度を向上させるために添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子又はこれらの混合物が挙げられる。

ガラス板としては、ディスプレイ用強化ガラスが好ましく用いられる。ガラス板の厚みは、例えば２０μｍ以上１０００μｍ以下であり、２０μｍ以上１００μｍ以下であることができる。ガラス板を用いることにより、前面板は、優れた機械的強度及び表面硬度を有することができる。

ガラス製の板状体と樹脂製の板状体との積層体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム又はポリアミドイミドフィルムと、ガラス製の板状体とを、粘着剤層で貼り合わせた積層体が挙げられる。

前面板は、表示装置の前面を保護する機能を有するのみではなく、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。

光学積層体及び表示装置の紫外線による劣化を抑制する観点から、前面板の紫外線透過率は低いことが好ましく、例えば波長３８０ｎｍにおける透過率が１０％以下であり、より好ましくは８％以下であり、さらに好ましくは５％以下又は３％以下である。紫外線を透過しない前面板としては、好ましくはポリイミド、ポリアミド又はポリアミドイミドを含む樹脂フィルム、紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルムが挙げられる。

（保護層）
保護層は、偏光子の片面又は両面に積層される。保護層は、例えば熱可塑性樹脂フィルムである。熱可塑性樹脂フィルムは、偏光子を形成する際に基材フィルムとして用いることもできる。保護層は、偏光子用の保護フィルム、又は位相差フィルムとして機能し得る。熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂など）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂など）等のポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリアミド樹脂；ポリイミド樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリスルホン樹脂；又はこれらの混合物等からなるフィルムであることができる。

保護層の厚みは、薄型化の観点から、通常１００μｍ以下であり、好ましくは８０μｍ以下であり、より好ましくは６０μｍ以下であり、３０μｍ以下であってもよい。保護層の厚みは、通常５μｍ以上であり、１０μｍ以上であってもよい。

保護層は、熱可塑性樹脂フィルム上にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、熱可塑性樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及び耐スクラッチ性を向上させた熱可塑性樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、上述の樹脂フィルムに形成されるハードコート層と同様にして形成することができる。

活性エネルギー線を保護層側から照射して接着剤を硬化させる観点から、保護層は活性エネルギー線を透過できる層であることが好ましい。保護層は、好ましくは波長３８０ｎｍにおける透過率が６０％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、９０％以上であってよい。保護層は、例えば波長４００～８００ｎｍにおける全光線透過率が５０％以上、または７０％以上であることが好ましい。

保護層は、有機物層又は無機物層であることができる。有機物層は、保護層形成用組成物、例えば（メタ）アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等を用いて形成することができる。保護層形成用組成物は、活性エネルギー線硬化型であってもよいし、熱硬化型であってもよい。無機物層は、例えばシリコン酸化物等から形成することができる。保護層が有機物層である場合、保護層はハードコート層又はオーバーコート層と呼ばれるものであってもよい。

（活性エネルギー線硬化型接着剤層）
活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して硬化するものである。活性エネルギー線硬化型接着剤は、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含む接着剤、光反応性樹脂を含む接着剤、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含む接着剤等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマー、及びこれらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含む化合物を挙げることができる。

重合性化合物は、多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）又は単官能エポキシ化合物（Ｃ）を含んでいてもよく、さらに多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）又はオキセタン化合物（Ｆ）を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤中の重合性化合物は、重合性化合物の全量を１００質量部とすると、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）を１０～９０質量部、好ましくは３０～７５質量部含み、多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）を２５質量部未満、例えば１～２２質量部含み、単官能エポキシ化合物（Ｃ）を２０質量部未満、例えば１～１８質量部含み、多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）を例えば１～５０質量部含み、オキセタン化合物（Ｆ）を例えば１～５０質量部含む。この範囲であるとき、接着剤硬化層の屈折率を向上させ、接着性を向上させ、かつ屈曲した際に光学積層体に生じる折れしわを抑制することができる。活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含まないことが好ましい。

多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）は、エポキシ基を２つ以上有し、芳香環を有する化合物である。ただし、本明細書でいう多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、分子内に脂環式エポキシ基を有する化合物を除く。

多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）の具体例は、ナフタレン、又はナフタレン誘導体のポリグリシジルエーテル化物（「ナフタレン型エポキシ化合物」とも称する。）；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等のビスフェノール誘導体のポリグリシジルエーテル化物（「ビスフェノールＡ型エポキシ化合物」、「ビスフェノールＦ型エポキシ化合物」とも称する。）；エポキシノボラック樹脂；レゾルシノールやハイドロキノン、カテコール等の２個以上のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物のポリグリシジルエーテル化物；ベンゼンジメタノールやベンゼンジエタノール、ベンゼンジブタノール等のアルコール性水酸基を２個以上有する芳香族化合物のポリグリシジルエーテル化物；フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の２個以上のカルボキシル基を有する多塩基酸芳香族化合物のポリグリシジルエステル；安息香酸のグリシジルエステルやトルイル酸、ナフトエ酸のポリグリシジルエステル等；スチレンオキサイドやアルキル化スチレンオキサイド、ビニルナフタレンのエポキシ化物等のスチレンオキサイド類又はジビニルベンゼンのジエポキシ化物等が挙げられる。

脂環式エポキシ化合物（Ｂ）は、脂環式エポキシ基を１つ以上有する化合物である。脂環式エポキシ化合物（Ｂ）は、脂環式エポキシ基を１つ以上有する化合物であれば、脂環式エポキシ基以外のエポキシ基をさらに有していてもよい。本明細書において、脂環式エポキシ基とは、脂環式環に結合したエポキシ基を意味し、下記式（ａ）で示される構造における橋かけの酸素原子－Ｏ－を意味する。

上記式（ａ）中、ｍは２～５の整数である。上記式（ａ）における（ＣＨ_２）_ｍ中の１個又は複数個の水素原子を取り除いた形の基が他の化学構造に結合している化合物が、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）となり得る。（ＣＨ_２）_ｍ中の１個又は複数個の水素原子は、メチル基やエチル基のような直鎖状アルキル基で適宜置換されていてもよい。脂環式エポキシ化合物（Ｂ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化速度を調整することができ、また良好な高温耐性を有する接着剤硬化層を得ることができる。

脂環式エポキシ化合物（Ｂ）の具体例は、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン、１，２－エポキシ－１－メチル－４－（１－メチルエポキシエチル）シクロヘキサン、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの４－（１，２－エポキシエチル）－１，２－エポキシシクロヘキサン付加物、エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、オキシジエチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、１，４－シクロヘキサンジメチルビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、及び３－（３，４－エポキシシクロヘキシルメトキシカルボニル）プロピル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。

単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、エポキシ基を１つ有する化合物である。ただし、本明細書でいう単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、脂環式エポキシ基を分子内に有する化合物を除く。単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、芳香環を分子内に有していてもよく、有していなくてもよい。単官能エポキシ化合物（Ｃ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度を調整することができる。

芳香環を有する単官能エポキシ化合物（Ｃ）としては、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール等の１価フェノール若しくはビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等のビスフェノール誘導体、又はそれらのアルキレンオキサイド付加物のモノグリシジルエーテル化物；エポキシノボラック樹脂；レゾルシノールやハイドロキノン、カテコール等の２個以上のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物のモノグリシジルエーテル化物；ベンゼンジメタノールやベンゼンジエタノール、ベンゼンジブタノール等のアルコール性水酸基を２個以上有する芳香族化合物のモノグリシジルエーテル化物；フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の２個以上のカルボキシル基を有する多塩基酸芳香族化合物のモノグリシジルエステル；安息香酸のグリシジルエステルやトルイル酸、ナフトエ酸のモノグリシジルエステル等が挙げられる。

芳香環を有しない単官能エポキシ化合物（Ｃ）としては、脂肪族アルコールのグリシジルエーテル化物、アルキルカルボン酸のグリシジルエステル等が挙げられ、その具体例は、アリルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ｓｅｃ－ブチルフェニルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、炭素数１２及び１３混合アルキルグリシジルエーテル、アルコールのグリシジルエーテル、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル等を含む。単官能エポキシ化合物（Ｃ）としては、１種の単官能エポキシ化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。

多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）は、２個以上のエポキシ基を有し、芳香環を有さない化合物である。ただし、本明細書でいう多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、脂環式エポキシ基を有する化合物を除く。多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）により、接着剤硬化層の接着性を調整することができる。

多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）としては、下記式（Ｉ）で表される脂肪族ジエポキシ化合物がより好ましい。下記式（Ｉ）で表される脂肪族ジエポキシ化合物を多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）として含むことにより、粘度が低く、塗布し易い活性エネルギー線硬化型接着剤を得ることができる。

式（Ｉ）中、Ｚは炭素数１～９のアルキレン基、炭素数３もしくは４のアルキリデン基、２価の脂環式炭化水素基、又は式－Ｃ_ｍＨ_２ｍ－Ｚ^１－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－で示される２価の基である。また、前記式－Ｃ_ｍＨ_２ｍ－Ｚ^１－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－中、－Ｚ^１－は、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＳＯ_２－、－ＳＯ－又は－ＣＯ－であり、ｍ及びｎは各々独立に１以上の整数を表し、ｍ及びｎの合計は９以下である。

２価の脂環式炭化水素基は、例えば、炭素数４～８の２価の脂環式炭化水素基であってよく、例えば下記式（Ｉ－１）で示される２価の基等が挙げられる。

式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、例えばアルカンジオールのジグリシジルエーテル、繰り返し数４程度までのオリゴアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、又は脂環式ジオールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。

式（Ｉ）で示される化合物を形成し得るジオール（グリコール）としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３－プロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、３－メチル－２，４－ペンタンジオール、２，４－ペンタンジオール、１，５－ペンタンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、２，４－ジエチル－１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、３，５－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、２－メチル－１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール等のアルカンジオール；ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のオリゴアルキレングリコール；シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等の脂環式ジオールが挙げられる。

本発明において、多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）としては、粘度が低く、塗布しやすい活性エネルギー線硬化型接着剤が得られるとの観点から、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルが好ましい。多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）としては、１種の脂肪族エポキシ化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。

本明細書において、オキセタン化合物（Ｆ）は、オキセタニル基を有する化合物であり、脂肪族化合物、脂環式化合物又は芳香族化合物であってもよい。本明細書でいうオキセタン化合物（Ｆ）は、エポキシ基を有さない化合物とする。オキセタン化合物（Ｆ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化速度や粘度を調整することができ、また反応性を向上させることができる。

オキセタン化合物（Ｆ）は、具体例として、３，７－ビス（３－オキセタニル）－５－オキサ－ノナン、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ヘキサン、３－エチル－３－［（フェノキシ）メチル］オキセタン、３－エチル－３－（ヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（ヒドロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（クロロメチル）オキセタン、３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン等を含む。オキセタン化合物（Ｆ）としては、１種のオキセタン化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。

上記した重合性化合物は、通常室温において液体であり、溶剤を存在させなくても適度な流動性を有し、適切な接着強度を与えるものを選択し、それに適したカチオン重合開始剤を配合した活性エネルギー線硬化型接着剤は、光学積層体の製造設備において、前面板と保護層とを接着する工程で溶剤を蒸発させるための乾燥設備を省くことができる。また、適切な活性エネルギー線量を照射することで硬化速度を促進させ、生産速度を向上させることができる。

接着剤は、上記したカチオン重合性化合物以外のカチオン重合性の重合性化合物、及びラジカル重合性の重合性化合物を含んでいてもよい。ラジカル重合性の重合性化合物としては、アクリル系化合物が例示される。ラジカル重合は硬化収縮が大きい傾向にあるため、活性エネルギー線硬化型接着剤は、重合性化合物としてカチオン重合性の重合性化合物のみを含むことが好ましい。

カチオン重合開始剤（Ｄ）を含有する接着剤は、重合性化合物を活性エネルギー線の照射によるカチオン重合で硬化させて接着剤層を形成することができる。カチオン重合開始剤（Ｄ）は、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線のような活性エネルギー線の照射によって、カチオン種又はルイス酸を発生し、重合性化合物の重合反応を開始させるものである。カチオン重合開始剤（Ｄ）は光で触媒的に作用するため、重合性化合物に混合しても保存安定性や作業性に優れる。カチオン重合開始剤（Ｄ）として使用し得る、活性エネルギー線の照射によりカチオン種やルイス酸を生じる化合物として、例えば、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩；鉄－アレーン錯体等を挙げることができる。

カチオン重合開始剤（Ｄ）は、１種のみを単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。上記の中でも特に芳香族スルホニウム塩は、３００ｎｍ付近の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械強度や接着強度を有する接着剤硬化層を得ることができるため、好ましく用いられる。

カチオン重合開始剤（Ｄ）の含有量は、重合性化合物の合計量１００質量部に対して０．５～１０質量部とされ、好ましくは１～４質量部である。カチオン重合開始剤（Ｄ）を１質量部以上含有させることにより、重合性化合物を十分に硬化させることができ、十分な接着強度と硬度を有する接着剤硬化層を得ることができる。一方、その量が多くなると、硬化物中のイオン性物質が増加することで硬化物の吸湿性が高くなり、光学積層体の耐久性能を低下させる可能性があるため、カチオン重合開始剤（Ｄ）の量は、重合性化合物の合計量１００質量部に対して１０質量部以下とする。

重合性化合物としてラジカル重合性の重合性化合物を含む場合は、重合開始剤として、カチオン重合開始剤（Ｄ）に加えてラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、光増感剤を含有してもよい。上記のカチオン重合開始剤（Ｄ）は、３００ｎｍ付近又はそれより短い波長域に極大吸収を示し、その付近の波長の光に感応してカチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン重合性の重合性化合物のカチオン重合を開始させるが、それよりも長い波長の光にも感応するように、光増感剤は、３８０ｎｍより長い波長域に極大吸収を示すものであることが好ましい。かかる光増感剤として、アントラセン系化合物が好適に用いられる。

活性エネルギー線硬化型接着剤に光増感剤を含有させることにより、それを含有しない場合に比べ、接着剤の硬化性を向上させることができる。重合性化合物の合計量１００質量部に対する光増感剤の含有量を０．１質量部以上とすることにより、このような効果を発現させることができる。一方、光増感剤の含有量が多くなると、低温保管時に析出する等の問題が生じることから、その含有量は、重合性化合物の合計量１００質量部に対して２質量部以下とすることが好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、光増感助剤を含有してもよい。光増感助剤は、好ましくはナフタレン系光増感助剤である。活性エネルギー線硬化型接着剤にナフタレン系光増感助剤を含有させることにより、それを含有しない場合に比べ、接着剤の硬化性を向上させることができる。重合性化合物の合計量１００質量部に対するナフタレン系光増感助剤の含有量を０．１質量部以上とすることにより、このような効果を発現させることができる。一方、ナフタレン系光増感助剤の含有量が多くなると、低温保管時に析出する等の問題を生じることから、その含有量は、重合性化合物の合計量１００質量部に対して５質量部以下とすることが好ましい。ナフタレン系光増感助剤の含有量は、好ましくは、重合性化合物の合計量１００質量部に対して３質量部以下である。上記した含有量の数値範囲は、いずれも固形分基準での数値範囲である。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、本発明の効果を損なわない限り、他の成分として、添加剤成分を含有させることができる。添加剤成分としては、イオントラップ剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、色素、有機溶剤等を挙げることができる。

接着剤層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ以上であり、より好ましくは０．０５μｍ以上であり、さらに好ましくは０．１μｍ以上である。接着剤層の厚みは、屈曲性を高める観点から好ましくは１０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以下である。接着剤層の厚みは最大厚みとする。

活性エネルギー線硬化型接着剤層の温度２５℃における弾性率（圧縮弾性率）は、好ましくは１０００ＭＰａ以上であり、より好ましくは２０００ＭＰａ以上であり、２５００ＭＰａ以上であってもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤層の温度２５℃における圧縮弾性率は、例えば４０００ＭＰａ以下である。接着剤層の圧縮弾性率が高いとき、光学積層体を屈曲した際の折れしわの発生を抑制できる。なお、本明細書において、活性エネルギー線硬化型接着剤層のような接着剤層の弾性率には圧縮弾性率をあて、粘着剤層の弾性率には貯蔵弾性率をあてる。圧縮弾性率および貯蔵弾性率は、後述する実施例の記載に従って測定できる。

活性エネルギー線硬化型接着剤を介した前面板と保護層との密着力は、好ましくは２Ｎ／２５ｍｍ以上であり、より好ましくは１０Ｎ／２５ｍｍ以上であり、さらに好ましくは１５Ｎ／２５ｍｍ以上であり、２０Ｎ／２５ｍｍ以上であってもよい。前面板と保護層との密着力は、例えば４０Ｎ／２５ｍｍ以下である。密着力がこの範囲であるとき、光学積層体を屈曲させても、剥離が生じにくい。密着力は、接着剤の種類及び組成、前面板及び保護層の種類、貼合面の表面処理等によって調整し得る。密着力は、後述する実施例の記載に従って測定できる。

（偏光子）
光学積層体１００は、偏光子１３を含み、偏光板を構成できる。偏光板は、偏光子１３と保護層１２とを備えた直線偏光板であってよく、後述の位相差層をさらに備えた円偏光板（楕円偏光板を含む。）であってよい。偏光板は、偏光子及び保護層に加えて、基材フィルム、樹脂フィルム及び配向膜のいずれか１以上をさらに含んでいてもよい。

偏光子は、直線偏光子であってよい。偏光子としては、二色性色素を吸着させた延伸フィルム若しくは延伸層、又は重合性液晶化合物及び二色性色素を含む組成物を塗布し硬化させた液晶層等が挙げられる。液晶層である偏光子は、二色性色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層に比べて、屈曲方向に制限がないため好ましい。

（１）延伸フィルム又は延伸層である偏光子
二色性色素を吸着させた延伸フィルムである偏光子は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。

偏光子の厚みは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１８μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下である。偏光子の厚みを薄くすることは、光学積層体１００の薄膜化に有利である。偏光子の厚みは、通常１μｍ以上であり、例えば５μｍ以上であってよい。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸系化合物、オレフィン系化合物、ビニルエーテル系化合物、不飽和スルホン系化合物、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド系化合物が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５モル％以上１００モル％以下であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えばアルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１０００以上１００００以下であり、好ましくは１５００以上５０００以下である。

二色性色素を吸着させた延伸層である偏光子は、通常、上記ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布する工程、得られた積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸された積層フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させて偏光子とする工程、二色性色素が吸着されたフィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。工程は、例えば上記の順番とおり行ってもよく、順番を変更して行ってもよく、複数以上の工程を同時に行ってもよい。偏光子を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子の保護フィルムとして用いてもよい。必要に応じて、基材フィルムを偏光子から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上述の熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同じであってよい。

（２）液晶層である偏光子
液晶層を形成するために用いる重合性液晶化合物は、重合性反応基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性反応基は、重合反応に関与する基であり、光重合性反応基であることが好ましい。光重合性反応基は、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物の液晶性は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

液晶層である偏光子に用いられる二色性色素としては、３００～７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、及びアントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、及びスチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素、及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、２種以上を組み合わせてもよいが、３種以上を組み合わせることが好ましい。特に、３種以上のアゾ化合物を組み合わせることがより好ましい。二色性色素の一部が反応性基を有していてもよく、また液晶性を有していてもよい。

液晶層である偏光子は、例えば基材フィルム上に形成した配向膜上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合して硬化させることによって形成することができる。基材フィルム上に、偏光子形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸することによって、偏光子を形成してもよい。偏光子を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子の保護フィルムとして用いてもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同じであってよい。

重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子形成用組成物、及びこの組成物を用いた偏光子の製造方法としては、特開２０１３－３７３５３号公報、特開２０１３－３３２４９号公報、特開２０１７－８３８４３号公報等に記載のものを例示することができる。偏光子形成用組成物は、重合性液晶化合物及び二色性色素に加えて、溶媒、重合開始剤、架橋剤、レベリング剤、酸化防止剤、可塑剤、増感剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

偏光子形成用組成物が含有していてもよい重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で重合反応を開始できる点で、光重合性開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量１００重量部に対して、好ましくは１質量部以上１０質量部以下であり、より好ましくは３質量部以上８質量部以下である。この範囲内であると、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、液晶化合物の配向状態を安定化させやすい。

液晶層である偏光子の厚みは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。

液晶層である偏光子は、その片面又は両面に上述の熱可塑性樹脂フィルムが貼合されている形態で光学積層体に組み込まれてもよい。この熱可塑性樹脂フィルムは、偏光子用の保護フィルム、又は位相差フィルムとして機能し得る。

液晶層である偏光子は、偏光子の保護等を目的として、その片面又は両面にオーバーコート層を有していてもよい。オーバーコート層は、例えば偏光子上にオーバーコート層を形成するための組成物を塗布することによって形成することができる。オーバーコート層を構成する組成物は、例えば光硬化性樹脂、水溶性ポリマー等を含むことが好ましい。オーバーコート層を構成する組成物は、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等を含むことが好ましい。オーバーコート層の厚みは、好ましくは２０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下であり、５μｍ以下であってもよい。オーバーコート層の厚みは、例えば０．０５μｍ以上であり、０．５μｍ以上であってよい。

（位相差層）
偏光子は、位相差層をさらに含んで円偏光板（楕円偏光板を含む。）を構成してもよい。直線偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とは所定の角度、例えば４５°±１０°となるように配置することができる。このような円偏光板は、反射防止機能を発揮することができる。

位相差層は、１層であってもよく２層以上であってもよい。位相差層は、その表面を保護するオーバーコート層、位相差層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。位相差層は、λ／４層を含み、さらにλ／２層又はポジティブＣ層の少なくともいずれかを含んでいてもよい。位相差層がλ／２層を含む場合、直線偏光子側から順にλ／２層及びλ／４層が積層される。位相差層がポジティブＣ層を含む場合、直線偏光子側から順にλ／４層及びポジティブＣ層を積層してもよく、直線偏光子側から順にポジティブＣ層及びλ／４層が積層されてもよい。位相差層の厚みは、たとえば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上６μｍ以下である。

位相差層は、上述した熱可塑性樹脂フィルムから形成してもよいし、重合性液晶化合物が硬化した層から形成してもよい。位相差層は、さらに配向膜を含んでいてもよい。位相差層は、λ／４層と、λ／２層及びポジティブＣ層とを貼合するための貼合層を有していてもよい。

重合性液晶化合物を硬化して位相差層を形成する場合、位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させることにより形成することができる。基材フィルムと塗布層との間に配向膜を形成してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上記熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同じであってよい。重合性液晶化合物を硬化してなる層から位相差層を形成する場合、位相差層は、配向膜及び基材フィルムを有する形態で光学積層体に組み込まれてもよい。位相差層は、直線偏光子の視認側とは反対側の面に、後述する貼合層を介して貼合され得る。

（タッチセンサパネル）
光学積層体１００は、前面板１０とは反対側にさらにタッチセンサパネルを含んでもよい。タッチセンサパネルとしては、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。

抵抗膜方式のタッチセンサパネルの一例は、互いに対向配置された一対の基板と、それら一対の基板の間に挟持された絶縁性スペーサーと、各基板の内側の全面に抵抗膜として設けられた透明導電膜と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。抵抗膜方式のタッチセンサパネルを設けた表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、対向する抵抗膜が短絡して、抵抗膜に電流が流れる。タッチ位置検知回路が、このときの電圧の変化を検知し、タッチされた位置が検出される。

静電容量結合方式のタッチセンサパネルの一例は、基板と、基板の全面に設けられた位置検出用透明電極と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量結合方式のタッチセンサパネルを設けた表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明電極が接地される。タッチ位置検知回路が、透明電極の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。

（貼合層）
光学積層体１００は、２つの層を接合するための貼合層を含むことができる。貼合層は、粘着剤層又は接着剤層である。

粘着剤層は、（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物から構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型又は熱硬化型であってもよい。

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸化合物、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル化合物、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル化合物、（メタ）アクリルアミド化合物、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート化合物、グリシジル（メタ）アクリレート化合物等の、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成する金属イオン、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリアミン化合物、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するポリエポキシ化合物又はポリオール、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリイソシアネート化合物が例示される。架橋剤は、好ましくはポリイソシアネート化合物である。

活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有してもよい。必要に応じて、光重合開始剤、光増感剤等を含有させてもよい。

活性エネルギー線重合性化合物としては、例えば分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートモノマー；官能基含有化合物を２種以上反応させて得られ、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートオリゴマー等の（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物等の（メタ）アクリル系化合物が挙げられる。粘着剤組成物は、活性エネルギー線重合性化合物を、粘着剤組成物の固形分１００質量部に対して０．１質量部以上含むことができ、１０質量部以下、５質量部以下又は２質量部以下含むことができる。

光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。光重合開始剤は、１種又は２種以上を含むことができる。粘着剤組成物が光重合開始剤を含むとき、その全含有量は、例えば粘着剤組成物の固形分１００質量部に対し０．０１質量部以上３．０質量部以下であってよい。

粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビーズ等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。

粘着剤層は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。粘着剤層は、粘着剤組成物を用いて形成された粘着シートを用いて形成することもできる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する粘着剤層とすることができる。

粘着剤層の厚みは、特に限定されないが、例えば１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上であってもよい。粘着剤層の厚みは最大厚みとする。

接着剤としては、例えば水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤等のうち１種又は２種以上を組み合わせて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤は、上述の接着剤を挙げることができる。

接着剤層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ以上であり、より好ましくは０．０５μｍ以上であり、さらに好ましくは０．１μｍ以上である。接着剤層の厚みは、屈曲性を高める観点から好ましくは１０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以下である。接着剤層の厚みは最大厚みとする。

＜光学積層体の製造方法＞
本発明に係る光学積層体の製造方法は、
（１）前面板と保護層とを活性エネルギー線硬化型接着剤を介して積層する工程と、
（２）保護層側から活性エネルギー線を照射する工程と、
（３）保護層側に偏光子を積層する工程と、
をこの順に備える。
光学積層体の製造方法は、好ましくは（４）偏光子側に位相差層を積層する工程をさらに備える。

図２を参照して光学積層体の製造方法の一例を説明する。光学積層体の製造方法において、まず、（１）前面板１０と保護層１２とを活性エネルギー線硬化型接着剤１１を介して積層する。接着剤は、前面板及び保護層のいずれか又は両方に接着剤を塗工し、これにもう一方の貼合面を積層すればよい。前面板及び保護層における接着剤の塗工面は、接着剤の塗工前にコロナ処理、プラズマ処理を行ってもよいし、プライマー層を形成してもよい。接着剤の塗工方法は特に限定されず、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーターなどの公知の塗工方式が利用できる。前面板、保護層及び活性エネルギー線硬化型接着剤としては、それぞれ上述の前面板、保護層及び活性エネルギー線硬化型接着剤を使用できる。

（２）前面板１０／活性エネルギー線硬化型接着剤１１／保護層１２からなる積層体に、保護層１２側から活性エネルギー線を照射する（Ｂ１－２）。保護層１２側から活性エネルギー線を照射することで、前面板が活性エネルギー線を透過しない樹脂フィルムであっても、接着剤を硬化させることができる。保護層は、活性エネルギー線を透過できることが好ましい。活性エネルギー線の照射は、下記の偏光子の積層工程前に行う。活性エネルギー線の照射は、下記の配向膜１４の形成後であってもよい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、電子線硬化型、紫外線硬化型であり得る。本明細書において、活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられる。

電子線硬化型において、電子線の照射条件は、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５ｋＶ～３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０ｋＶ～２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、前面板や保護層に損傷を与えるおそれがある。照射線量としては、５～１００ｋＧｙ、さらに好ましくは１０～７５ｋＧｙである。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、光学層に損傷を与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所望の光学特性を得られないおそれがある。

電子線照射は、通常、不活性ガス中で照射を行うが、必要であれば大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。酸素を適宜導入することによって、最初に電子線があたる光学層にあえて酸素阻害を生じさせ、他の光学層へのダメージを防ぐことができ、接着剤にのみ効率的に電子線を照射させることができる。

紫外線硬化型において、活性エネルギー線硬化型接着剤の光照射強度は、接着剤の組成ごとに決定されるものであって特に限定されないが、１０～１０００ｍＷ／ｃｍ^２であることが好ましい。樹脂組成物への光照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ^２未満であると、反応時間が長くなりすぎ、１０００ｍＷ／ｃｍ^２を超えると、光源から輻射される熱及び組成物の重合時の発熱により、接着剤の構成材料の黄変を生じる可能性がある。なお、照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤（Ｄ）の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長４００ｎｍ以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長２８０～３２０ｎｍの波長領域における強度である。このような光照射強度で１回あるいは複数回照射して、その積算光量を、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ^２以上、さらに好ましくは１００～１０００ｍＪ／ｃｍ^２となるように設定する。上記接着剤への積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ^２未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、接着剤の硬化が不十分となる。一方でその積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ^２を超えると、照射時間が長くなり、生産性向上には不利となる場合がある。前面板及び保護層の種類、並びに接着剤種の組み合わせなどによって、どの波長領域（ＵＶＡ（３２０～３９０ｎｍ）又はＵＶＢ（２８０～３２０ｎｍ）など）での積算光量が必要かは異なる。

本発明における活性エネルギー線の照射により接着剤の重合硬化を行うために用いる光源は、特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。エネルギーの安定性や装置の簡便さという観点から、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する紫外光源であることが好ましい。

（３）接着剤を硬化させて得られた前面板１０／接着剤層１１／保護層１２の積層体の保護層１２側に偏光子１３を積層する。予め製造された偏光子１３を貼合層を介して保護層１２上に積層してもよい。保護層１２を基材フィルムとして、保護層１２上に重合性液晶化合物及び二色性色素を含む組成物を塗布し硬化させて、偏光子１３を形成させてもよい（Ｂ１－４）。重合性液晶化合物及び二色性色素を含む組成物を塗布する前に、保護層１２上に配向膜１４が形成されてもよい（Ｂ１－３）。偏光子１３上にオーバーコート層１５が形成されてもよい（Ｂ１－５）。

位相差層３０は、偏光子１３とは別に準備すればよい。位相差層３０は、上述の位相差層であってよい。重合性液晶化合物を硬化して位相差層を形成する場合、位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させることによりλ／４層３１又はポジティブＣ層３４を形成することができる（Ｂ２－１、Ｂ２－２）。基材フィルムとλ／４層３１又はポジティブＣ層３４との間に配向膜３２，３３を形成してもよい。λ／４層３１及びポジティブＣ層３４とを貼合層３５を介して貼合し、位相差層３０を得ることができる（Ｂ２－３）。貼合層３５が活性エネルギー線硬化型接着剤層である場合は、活性エネルギー線硬化型接着剤を介してλ／４層３１とポジティブＣ層３４とを積層した後、活性エネルギー線を照射すればよい。位相差層は、基材フィルムを剥離して光学積層体に組み込まれることが好ましい。

（４）前面板１０／接着剤層１１／保護層１２／（配向膜１４）／偏光子１３／（オーバーコート層１５）を備えた積層体の偏光子１３側に、位相差層３０を積層する（Ｂ３及びＢ４）。２つの積層体は、貼合層２０を介して積層すればよい。貼合層は粘着剤層であってよい。貼合層を介して貼合される対向する二つの表面は、予めコロナ処理、プラズマ処理等を行ってもよく、プライマー層等を有していてもよい。以上の工程により、前面板と、保護層と、偏光子とをこの順に含み、前面板と保護層とが、活性エネルギー線硬化型接着剤層によって貼合されている光学積層体を得ることができる。

＜表示装置＞
本発明に係る表示装置は、上記光学積層体１００を含む。光学積層体は、例えば貼合層を介して画像表示素子に積層され、表示装置を構成する。表示装置は特に限定されず、例えば有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。表示装置はタッチパネル機能を有していてもよい。光学積層体１００は、屈曲又は折り曲げ等が可能な可撓性を有する表示装置に好適である。表示装置において、光学積層体１００は、前面板１０を外側（画像表示素子側とは反対側）に向けて、表示装置の視認側に配置される。表示装置は、例えば前面板１０を内側にして屈曲可能である。

表示装置における構成要素の積層順としては、例えば前面板／円偏光板／セパレータ、前面板／円偏光板／有機ＥＬ表示素子、前面板／円偏光板／タッチセンサパネル／有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。

本発明に係る表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。本発明に係る表示装置は、優れたフレキシブル性を有するため、フレキシブルディスプレイ（スライド式画面拡張ディスプレイを含む。）等に好適である。

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。例中の「％」及び「部」は、特記のない限り、質量％及び質量部である。

［層の厚みの測定］
層の厚みは、接触式膜厚測定装置（株式会社ニコン製「ＭＳ－５Ｃ」）を用いて測定した。接着剤層、偏光子層及び配向膜の厚みは、レーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製「ＯＬＳ３０００」）を用いて測定した。

［弾性率の測定］
測定の対象が接着剤層である場合には圧縮弾性率を測定し、測定の対象が粘着剤層である場合には貯蔵弾性率を測定した。

［圧縮弾性率の測定］
別途基材上に厚み２μｍの接着剤層を形成して、圧縮弾性率測定用のサンプルを作製した。Ｎａｎｏ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ（ＨＭ－５００、フィッシャー・インスツルメンツ社製）を用いて、温度２５℃、相対湿度５０％、圧力１ｍＮの条件で、圧縮弾性率の測定を行った。圧子には、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ三角錘圧子を用いた。

［貯蔵弾性率の測定］
各粘着剤層を厚み１５０μｍになるように積み重ね、ガラス板に接合した。この貯蔵弾性率測定用サンプルついて、レオメーター（Ａｎｔｏｎ Ｐａｒｒ社製「ＭＣＲ－３０１」）を用いて、温度２５℃、相対湿度５０％、応力１％、周波数１Ｈｚの条件で貯蔵弾性率の測定を行った。

［密着力の測定］
密着力は、オートグラフＡＧ－Ｘ（株式会社島津製作所）を用いて測定した。前面板と保護層との積層体から幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍの試験片を裁断した。試験片の保護層側をガラス基板に貼り付け、ガラス基板から接着剤層までを測定装置に固定した。温度２３℃、相対湿度５５％の環境下において、前面板を長さ方向に剥離速度３００ｍｍ／分の条件で１８０°方向に剥離したときの力を測定した。

波長３８０ｎｍにおける透過率の測定は、積分球付き分光光度計（日本分光株式会社製「Ｖ７１００」）を用いて行った。

［光学積層体を構成する部材の準備］
（前面板）
厚み４０μｍのポリイミドフィルムに１０μｍのハードコート層を有する前面板を準備した。ハードコート層は、末端に多官能アクリル基を有するデンドリマー化合物を含む組成物をポリイミドフィルム上に塗工し、硬化させた層であった。前面板の波長３８０ｎｍにおける透過率は、０．４％であった。

（保護層）
保護層として、厚み２５μｍトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ株式会社製「ＫＣ２ＵＡ」）を準備した。保護層の波長３８０ｎｍにおける透過率は、９１％であった。

（位相差層）
λ／４層、貼合層及びポジティブＣ層この順に積層された厚み７μｍの位相差層を準備した。貼合層は接着剤Ａからなり、厚みが２μｍであった。λ／４層は、重合性液晶化合物が硬化した層及び配向膜を有し、厚みが２μｍであった。ポジティブＣ層は、重合性液晶化合物が硬化した層及び配向膜を有し、厚みが３μｍであった。

（粘着剤層）
窒素ガスが還流して温度調節が容易になるように冷却装置を設置した１Ｌの反応器に、表１に示すアクリル酸２－エチルヘキシル（２－ＥＨＡ）、アクリル酸ｎ－ブチル（ｎ－ＢＡ）、アクリル酸２－プロピルヘプチル（２－ＰＨＡ）、アクリル酸（ＡＡ）、アクリル酸ベヘニル（Ｃ２２Ａ）、アクリル酸オクチルデシル（ＯＤＡ）からなるモノマー混合物を投入した。酸素を除去するため、窒素ガスを１時間還流した後、溶液を６０℃に維持した。上記モノマー混合物を均一に混合した後、表１に示す配合量で、光重合開始剤ベンジルジメチルケタール（Ｉ－６５１）及び１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｉ－１８４）を投入した。攪拌しながらＵＶランプ（１０ｍＷ）を照射して、アクリル系重合体（ポリマーＡ、ポリマーＢ、ポリマーＣ）を製造した。

用いた化合物の入手先は以下のとおりである。
２－ＥＨＡ：東京化成工業株式会社、日本
ｎ－ＢＡ：東京化成工業株式会社、日本
２－ＰＨＡ：ＢＡＳＦ、ドイツ
ＡＡ：東京化成工業株式会社、日本
Ｃ２２Ａ：東京化成工業株式会社、日本
ＯＤＡ：Ｍｉｗｏｎ ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ｃｈｅｍｉｃａｌ、韓国
Ｉ－６５１：ＢＡＳＦ、ドイツ
Ｉ－１８４：ＢＡＳＦ、ドイツ

アクリル系重合体（ポリマーＡ、ポリマーＢ、ポリマーＣ）１００質量部に対して、アクリル酸イソデシル（ＩＤＡ）１．５質量部と１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｉ－１８４）０．０５質量部とを混合し、粘着剤組成物Ａ～Ｃを調製した。それぞれの粘着剤組成物をシリコン離型処理された離型フィルムＡ（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ３８μｍ）上に厚さが２５μｍになるように塗布した。その上に別の離型フィルムＢ（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ３８μｍ）を接合し、ＵＶ照射を行い、離型フィルムＡ／粘着剤層／離型フィルムＢからなる粘着シートＡ～Ｃを作製した。ＵＶ照射の条件は、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２、照度１．８ｍＷ／ｃｍ^２（ＵＶＶ基準）とした。各アクリル系重合体と各粘着剤層との対応関係を表２に示す。

＜実施例１の光学積層体＞
（前面板と保護層との積層）
３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ＣＥＬ２０２１Ｐ、株式会社ダイセル）５０部、３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（ＯＸＴ－２２１、東亞合成株式会社）５０部、カチオン重合開始剤（ＣＰＩ－１００、サンアプロ株式会社）２．２５部及び１，４－ジエトキシナフタレン２部を含む紫外線硬化型の接着剤Ａを準備した。前面板及び保護層の貼合面にコロナ処理したあと、バーコーターを用いて硬化後の厚みが２μｍになるように接着剤Ａを塗工し、前面板と保護層とを接合した。保護層側から紫外線照射装置（ランプは、フュージョンＵＶシステムズ社製「Ｄバルブ」を使用）を用いて積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ^２（ＵＶＢ）となるように紫外線を照射し、接着剤を硬化させ、接着剤層Ａを形成した。これにより、前面板／接着剤層Ａ／保護層の構成を有する積層体を得た。

（偏光子の積層）
保護層上に配向膜形成用組成物をバーコート法により塗布した。塗膜を８０℃で１分間乾燥した。次いで上記ＵＶ照射装置及びワイヤーグリッドを用いて、塗膜に偏光ＵＶを照射し、塗膜に配向性能を付与した。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）であった。ワイヤーグリッドは、ＵＩＳ－２７１３２＃＃（ウシオ電機株式会社製）を用いた。このようにして、配向膜を形成した。配向膜の厚さは１００ｎｍであった。形成した配向膜上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子形成用組成物をバーコート法により塗布した。塗膜を１００℃で２分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。上記ＵＶ照射装置を用いて、積算光量１２００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）で紫外線を、塗膜に照射することにより、偏光子を形成した。得られた偏光子の厚さは３μｍであった。偏光子上に、ポリビニルアルコールと水とを含む組成物を、乾燥後の厚さが０．５μｍとなるように塗工し、温度８０℃で３分間乾燥してオーバーコート層を形成した。このようにして、前面板／接着剤層Ａ／保護層／配向膜／偏光子／オーバーコート層の構成を有する積層体を作製した。

（位相差層の積層）
上記積層体のオーバーコート層と、２５μｍの粘着剤層Ｄを備える粘着シートの一方の離型フィルムを剥離して露出させた粘着剤層Ｄの面とにコロナ処理を施した後、両者を貼り合わせた。次に粘着剤層Ｄからもう一方の離型フィルムを剥離して粘着剤層Ｄを露出させた。粘着剤層Ｄの露出面と、位相差層のλ／４層側の表面にコロナ処理を施した後、両者を貼り合わせた。λ／４板の遅相軸は、偏光子の吸収軸に対して４５°であった。以上により、前面板／接着剤層Ａ／保護層／配向膜／偏光子／オーバーコート層／粘着剤層Ｄ／（λ／４層）／接着剤層Ａ／ポジティブＣ層の構成を有する実施例１の光学積層体を得た。接着剤層Ａの圧縮弾性率、厚み及び前面板と保護層間の密着力を表３に示す。

＜実施例２の光学積層体＞
前面板と保護層との積層工程において、下記接着剤層Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同じ方法で、実施例２の光学積層体を作製した。接着剤層Ｂに用いられた接着剤Ｂは、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ＣＥＬ２０２１Ｐ、株式会社ダイセル）７０部、３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（ＯＸＴ－２２１、東亞合成株式会社）３０部、カチオン重合開始剤（ＣＰＩ－１００、サンアプロ株式会社）２．５部、１，４－ジエトキシナフタレン２部を含む紫外線硬化型の接着剤であった。実施例２の光学積層体は、前面板／接着剤層Ｂ／保護層／配向膜／偏光子／オーバーコート層／粘着剤層Ｄ／（λ／４層）／接着剤層Ａ／ポジティブＣ層の構成を有していた。接着剤層Ｂの圧縮弾性率、厚み及び前面板と保護層間の密着力を表３に示す。

＜比較例１の光学積層体＞
（保護層と偏光子の積層）
比較例１の光学積層体の製造においては、基材フィルムとしての保護層の上に偏光子を形成する。実施例１と同じ方法で、基材フィルム上に配向膜、偏光子及びオーバーコート層を形成し、保護層／配向膜／偏光子／オーバーコート層の構成を有する直線偏光板を得た。

（直線偏光板への位相差層の積層）
直線偏光板に実施例１と同じ方法で位相差層を積層し、保護層／配向膜／偏光子／オーバーコート層／粘着剤層Ｄ／（λ／４層）／接着剤層Ａ／ポジティブＣ層の構成を有する円偏光板を得た。

（円偏光板への前面板の積層）
円偏光板の保護層側に、粘着剤層Ａを介して前面板を貼合した。貼合面には、コロナ処理を施した。以上により、前面板／粘着剤層Ａ／保護層／配向膜／偏光子／オーバーコート層／粘着剤層Ｄ／（λ／４層）／接着剤層Ａ／ポジティブＣ層の構成を有する比較例１の光学積層体を得た。粘着剤層Ａの貯蔵弾性率、厚み及び前面板と保護層間の密着力を表３に示す。

＜比較例２～４の光学積層体＞
円偏光板への前面板の積層工程において、粘着剤層Ｂ、Ｃ又はＤを使用したこと以外は比較例１と同じ方法で、比較例２～４の光学積層体を製造した。

＜屈曲試験＞
実施例１，２及び比較例１～４の光学積層体を用いて、以下の試験を行った。試験には、光学積層体の位相差層側に粘着剤層Ａを介して有機ＥＬパネルの代用品（３５μｍのポリイミド（ＰＩ）フィルム／粘着剤層Ａ／５０μｍのＰＩフィルム）を貼合した試験積層体を用いた。

試験積層体２００を幅２０ｍｍ×長さ１１０ｍｍのサイズに切り出した。図３は、屈曲試験の方法を模式的に示す図である。図３（ａ）に示すように、試験積層体２００の有機ＥＬパネルの代用品側に、粘着剤層２０３，２０４（厚さ２５μｍ）を介して二枚のガラス板２０１，２０２を貼合した。二枚のガラス板２０１，２０２は光学積層体の半分の面積を有するものであり、粘着剤層２０３，２０４は光学積層体の中心線から両側に４０ｍｍずつ離して貼合した。これを平らな台に載置したとき、ガラス板２０１，２０２同士はその側面で接触する。光学積層体の前面板側が内側となるようにして光学積層体を中央部分の屈曲軸Ａで折り曲げ（図３（ｂ））、対向する面同士の距離を３．０ｍｍ（３．０ｍｍ厚のプレート使用、１．５Ｒ（図３には図示していない。））にすることで、「ガラス板／粘着剤層／試験積層体（３．０ｍｍ厚のプレートを挟んだ‘Ｕ’字形状）／粘着剤層／ガラス板」の状態とした。この状態で、温度６０℃、湿度９０％ＲＨのオーブン内に６時間放置した後、二つのガラス板２０１，２０２を元の位置に戻した（図３（ａ））。

［視認性評価］
屈曲した試験積層体を開いて、蛍光灯の反射象を利用して屈曲部の歪曲を観察し、表面の平滑性を目視評価した。この観察は暗室（蛍光灯の消灯時は０．０２ルクス、点灯時は光学積層体が置かれた位置で２０００ルクス。この照度の測定には「ＹＬ－１０２ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｍｅｔｅｒ」（ＵＮＩＳ社製）を用いた。）及び室内（蛍光灯の点灯時に約３００ルクス）で行った。評価基準は以下のとおりである。評価結果を表３に示す。
Ａ：蛍光灯の反射象歪曲が暗室及び室内でほとんど見られなかった。
Ｂ：暗室の蛍光灯の反射象歪曲が見られたが、室内ではほとんど見られなかった。
Ｃ：暗室及び室内で蛍光灯の反射象歪曲が顕著に見られた。

［折れしわ］
屈曲した試験積層体を開いて、ガラス板を剥離し、前面板側が上を向くようにして平らな台に載置し、二次元測定機を用いて折れしわの形状を測定した。図４に示されているような試験積層体の断面形状において、屈曲軸の高さ位置（Ｈ１）と、屈曲軸を中心としてその両翼における最高高さ位置（Ｈ２１，Ｈ２２）との差の平均値を求め、その差を「折れしわの深さ」（｛（Ｈ２１－Ｈ１）＋（Ｈ２２－Ｈ１）｝／２）とした。また、両翼における最高高さ位置同士の水平距離（Ｄ）を「折れしわの幅」とした。測定結果を表３に示す。

＜屈曲耐久性試験＞
試験積層体を用いて、静的屈曲耐久性試験を行った。図５に示されているとおり、２つのステージ３０１、３０２を備えた屈曲装置（Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｔｏｗｎ社製、ＳＴＳＶＲＴ－５００）を準備し、ステージ３０１、３０２に前面板が上方となるように試験積層体２００を載せた（図５（ａ））。２つのステージ３０１、３０２は同一平面を構成し、２つのステージ３０１、３０２の間の距離Ｃ１は３ｍｍ（１．５Ｒ）に設定した。２つのステージ３０１，３０２を、２つのステージの間（ギャップ）を中心に９０度回転させて（図５（ｂ））、この状態で温度６０℃、相対湿度９０％の環境下で２０日間保持した。２０日経過後、前面板と保護層との間の貼合層に剥離が発生していないかどうかを確認した。評価基準は以下のとおりである。屈曲耐久性評価の結果を表３に示す。
Ａ：前面板と保護層との間の貼合層に剥離が発生しなかった。
Ｂ：前面板と保護層との間の貼合層に剥離が発生した。

前面板と保護層とを接着剤層を介して積層した光学積層体は、屈曲しても折れしわの発生による視認性の低下が抑制され、かつ、前面板と保護層との間の貼合層の剥離の発生も抑制された。

１００ 光学積層体、１０ 前面板、１１ 活性エネルギー線硬化型接着剤層、１２ 保護層、１３ 偏光子、１４ 配向膜、１５ オーバーコート層、２０ 貼合層、３０ 位相差層、３１，３４ 配向膜、３２ λ／４層、３３ ポジティブＣ層、３５ 貼合層、２００ 試験積層体、２０１，２０２ ガラス板、２０３，２０４ 粘着剤層、３０１，３０２ ステージ。

Claims (6)

1. 前面板と、保護層と、偏光子とをこの順に含み、
   前記前面板と前記保護層とは、活性エネルギー線硬化型接着剤層によって貼合されており、
   前記前面板は、波長３８０ｎｍにおける透過率が１０％以下であり、
   前記保護層は、波長３８０ｎｍにおける透過率が６０％以上であり、
   前記活性エネルギー線硬化型接着剤層の温度２５℃における弾性率は１０００ＭＰａ以上であり、
   前記前面板と前記保護層との密着力は、２０Ｎ／２５ｍｍ以上である、光学積層体。
2. 前記偏光子側に位相差層をさらに含む、請求項１に記載の光学積層体。
3. 請求項１または２に記載の光学積層体を含む表示装置。
4. 前面板と保護層とを活性エネルギー線硬化型接着剤を介して積層する工程と、
   前記保護層側から活性エネルギー線を照射する工程と、
   前記保護層側に偏光子を積層する工程と、
   をこの順に備え、
   前記前面板と前記保護層との密着力は、２０Ｎ／２５ｍｍ以上である、光学積層体の製造方法。
5. 前記偏光子側に位相差層を積層する工程をさらに備える、請求項４に記載の光学積層体の製造方法。
6. 前記活性エネルギー線硬化型接着剤層の厚みは、１０μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。

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