KR20220157367A - 적층체 - Google Patents

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KR20220157367A
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동휘 김
은영 김
지희 유
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수미토모 케미칼 컴퍼니 리미티드
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Abstract

본 발명은, 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하는 적층체로서, 굴곡성이 우수한 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하고, 직선 편광판은, 제1 광학 부재 측으로부터 보호층과 편광자를 이 순으로 포함하고, 위상차판은, 제1 광학 부재 측으로부터 제1 위상차층과 제2 위상차층을 이 순으로 포함하고, 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층은, 층간 첩합층에 의해 첩합되어 있고, 조건 A 및 B를 충족시키는, 적층체를 제공한다.

Description

적층체
본 발명은, 적층체에 관한 것이며, 더욱이는 그것을 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
특허문헌 1에는, 점착제층과 광학 필름을 포함하는 플렉서블 화상 표시 장치용 적층체로서, 적층체를 절곡(折曲)했을 경우의 볼록 측의 최외면의 점착제층의 25℃에서의 저장 탄성률 G'가, 다른 점착제층의 25℃에서의 저장 탄성률 G'와 대략 동일, 또는 작은 것을 특징으로 하는 적층체가 개시되어 있다.
일본 특허공개 2018-028573호 공보
제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하는 적층체에 있어서, 상온에서 제1 광학 부재 측을 내측으로 하여 굴곡했을 때에, 위상차판이 구비하는 위상차층에 크랙이 발생하기 쉬운 경우가 있었다. 또한, 저온에서 제1 광학 부재 측을 내측으로 하여 굴곡했을 때에, 제1 광학 부재와 직선 편광판 사이에 벗겨짐이 발생하기 쉬운 경우가 있었다.
본 발명의 목적은, 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하는 적층체로서, 상온에서 굴곡성이 우수한 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하는 적층체로서, 온도 -20℃에서 굴곡성이 우수한 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하는 적층체로서, 상온 및 온도 -20℃ 중 어느 쪽에서도 굴곡성이 우수한 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명은, 이하의 적층체 및 화상 표시 장치를 제공한다.
[1] 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하고,
상기 직선 편광판은, 제1 광학 부재 측으로부터 보호층과 편광자를 이 순으로 포함하고,
상기 위상차판은, 제1 광학 부재 측으로부터 제1 위상차층과 제2 위상차층을 이 순으로 포함하고,
상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층은, 층간 첩합층에 의해 첩합되어 있고,
하기 조건 A 및 B를 충족시키는, 적층체.
조건 A: 상온에서의 상기 제1 점착제층의 강성(a)은 3㎫·㎛ 이하이다.
조건 B: 상온에서의 상기 층간 첩합층의 강성(c)에 대한 상온에서의 상기 보호층의 강성(b)의 비(b/c)는 1만 이하이다.
[2] 하기 조건 A' 및 B'를 더 충족시키는, [1]에 기재된 적층체.
조건 A': 온도 -20℃에서의 상기 제1 점착제층의 강성(a')은 10㎫·㎛ 이하이다.
조건 B': 온도 -20℃에서의 상기 층간 첩합층의 강성(c')에 대한 온도 -20℃에서의 상기 보호층의 강성(b')의 비(b'/c')는 1천 이하이다.
[3] 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하고,
상기 직선 편광판은, 제1 광학 부재 측으로부터 보호층과 편광자를 이 순으로 포함하고,
상기 위상차판은, 제1 광학 부재 측으로부터 제1 위상차층과 제2 위상차층을 이 순으로 포함하고,
상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층은, 층간 첩합층에 의해 첩합되어 있고,
하기 조건 A' 및 B'를 충족시키는, 적층체.
조건 A': 온도 -20℃에서의 상기 제1 점착제층의 강성(a')은 10㎫·㎛ 이하이다.
조건 B': 온도 -20℃에서의 상기 층간 첩합층의 강성(c')에 대한 온도 -20℃에서의 상기 보호층의 강성(b')의 비(b'/c')는 1천 이하이다.
[4] 하기 조건 C를 더 충족시키는, [1] 내지 [3] 중 어느 것에 기재된 적층체.
조건 C: 상기 층간 첩합층의 강성(c)은 10㎫·㎛ 이상이다.
[5] 상기 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 층을 갖는, [1] 내지 [4] 중 어느 것에 기재된 적층체.
[6] 상기 층간 첩합층은, 접착제층인, [1] 내지 [5] 중 어느 것에 기재된 적층체.
[7] 상기 제1 광학 부재는 전면판이며, 상기 제2 광학 부재는 터치 센서 패널인, [1] 내지 [6] 중 어느 것에 기재된 적층체.
[8] [1] 내지 [7] 중 어느 것에 기재된 적층체를 구비하는, 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하는 적층체로서, 굴곡성이 우수한 적층체를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 적층체의 일례를 모식적으로 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 적층체의 제조 방법을 모식적으로 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 반복 굴곡성 시험의 방법을 설명하는 개략도이다.
도 4는 정적 굴곡 내구성 시험의 방법을 설명하는 개략도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 이하의 모든 도면에서는, 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해 축척을 적절히 조정해서 나타내고 있으며, 도면에 나타나는 각 구성 요소의 축척과 실제의 구성 요소의 축척은 반드시 일치하지 않는다.
<적층체>
도 1을 참조하면서, 본 발명의 적층체에 대해서 설명한다. 도 1에 나타내는 적층체(100)는, 제1 광학 부재(110)와, 제1 점착제층(120)과, 직선 편광판(130)과, 위상차판(140)과, 제2 광학 부재(150)를 이 순으로 구비한다. 적층체(100)는, 직선 편광판(130)과 위상차판(140) 사이, 및 위상차판(140)과 제2 광학 부재(150) 사이에 첩합층을 더 갖고 있어도 된다. 직선 편광판(130)은, 제1 광학 부재(110) 측으로부터 보호층(131)과 편광자(132)를 이 순으로 포함한다. 직선 편광판(130)은, 보호층(131)과 편광자(132) 사이에, 배향막을 가져도 된다. 위상차판(140)은, 제1 광학 부재(110) 측으로부터 제1 위상차층(141)과 제2 위상차층(142)을 이 순으로 포함하고, 제1 위상차층(141)과 제2 위상차층(142)은, 층간 첩합층(143)에 의해 첩합되어 있다. 이하, 제1 광학 부재와 제2 광학 부재를 총칭하여 광학 부재라고 하는 경우가 있다.
적층체(100)는, 제1 광학 부재(110) 측을 내측으로 하여 굴곡(이하, 인폴딩이라고도 함)할 수 있다. 굴곡하는 것이 가능하다는 것은, 상온 및 온도 -20℃ 중 어느 한쪽 또는 양쪽에서 위상차판에 크랙을 발생시키는 일 없이 적층체를 굴곡시킬 수 있는 것을 의미한다. 굴곡에는, 굽힘 부분에 곡면이 형성되는 절곡의 형태가 포함된다. 절곡의 형태에 있어서, 절곡된 내면의 굴곡 반경은 특별히 한정되지 않는다. 또한, 굴곡에는, 내면의 굴절각이 0°보다 크고 180°미만인 굴절의 형태, 및 내면의 굴곡 반경이 제로에 근사(近似), 또는 내면의 굴절각이 0°인 폴딩의 형태가 포함된다. 본 발명의 적층체는, 굴곡하는 것이 가능하므로 플렉서블 디스플레이에 바람직하다. 본 명세서에서, 인폴딩이란, 적층체의 두께 방향에서 중심이 되는 층에 대해 제1 광학 부재가 내측이 되도록 굴곡하는 것을 말한다.
본 명세서에서, 상온이란 23℃ 이상 25℃ 이하의 온도여도 된다.
[반복 굴곡 내구성]
적층체(100)에 대하여, 상온(예를 들면 온도 25℃) 및 온도 -20℃ 중 어느 쪽 또는 양쪽의 온도에서, 제1 광학 부재(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜가 되도록 반복적인 굴곡을 행했을 경우, 굴곡부에서 위상차판(140)에 크랙이 발생하기 어려운 경향이 있다. 적층체(100)는, 상온(예를 들면 온도 25℃) 및 온도 -20℃ 중 어느 쪽 또는 양쪽의 온도에서 제1 광학 부재(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜에서 반복적인 굴곡을 행했을 때, 위상차판(140)에 최초로 크랙이 발생하는 굴곡 횟수가 바람직하게는 10만회 이상이며, 보다 바람직하게는 20만회 이상이며, 더 바람직하게는 30만회 이상이다. 반복 굴곡 내구성의 시험은, 후술하는 실시예에서 설명하는 방법에 의해 행할 수 있다.
[정적 굴곡 내구성]
적층체(100)에 대하여, 제1 광학 부재(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜가 되는 굴곡 상태를 유지했을 경우, 굴곡부에서 위상차판(140)에 크랙이 발생하기 어려운 경향이 있다. 적층체(100)는, 제1 광학 부재(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜가 되는 굴곡 상태를 유지했을 경우, 위상차판(140)에 최초로 크랙이 발생할 때까지의 기간이 바람직하게는 20일 이상이며, 보다 바람직하게는 30일 이상이다. 정적 굴곡 내구성의 시험은, 후술하는 실시예에서 설명하는 방법에 의해 행할 수 있다.
적층체(100)는, 바람직하게는 상기 반복적인 굴곡을 행했을 경우에 있어서, 위상차판(140)에 최초로 크랙이 발생하는 굴곡 횟수가 바람직하게는 10만회 이상이며, 또한 상기 정적 굴곡 내구성 시험에 있어서, 위상차판(140)에 최초로 크랙이 발생할 때까지의 기간이 20일 이상인 것이며, 보다 바람직하게는 상기 반복적인 굴곡을 행했을 경우에 있어서, 위상차판(140)에 최초로 크랙이 발생하는 굴곡 횟수가 바람직하게는 20만회 이상이며, 또한 상기 정적 굴곡 내구성 시험에 있어서, 위상차판(140)에 최초로 크랙이 발생할 때까지의 기간이 30일 이상이다.
적층체(100)는, 조건 A 및 조건 B를 동시에 충족시킴으로써, 상온에서 굴곡성이 우수해진다. 본 명세서에서, 상온에서 굴곡성이 우수하다는 것은, 상온에서 상술한 반복 굴곡 내구성 및 정적 굴곡 내구성 모두 우수한 것을 말한다. 적층체(100)는, 제2 위상차층(142)이, 비교적 크랙이 발생하기 쉬운 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 층을 가질 경우에도, 우수한 굴곡성을 발휘할 수 있다.
[조건 A]
상온에서의 제1 점착제층(120)의 강성(a)[이하, 간략화를 위해 강성(a)이라고도 함]은 3㎫·㎛ 이하이다. 제1 점착제층(120)의 강성(a)이 3㎫·㎛ 이하이면, 상온에서 양호한 굴곡성이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있다. 이것은, 제1 광학 부재(110)와 직선 편광판(130) 사이에 비교적 유연한 제1 점착제층(120)을 배치함으로써, 제1 광학 부재(110)로부터의 영향이 직선 편광판(130), 그리고 위상차판(140)에 전달되기 어려워지기 때문이라고 추정된다. 강성(a)은, 제1 점착제층(120)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]와의 곱[㎫·㎛]이다. 강성(a)을 구하기 위한 탄성률[㎫]은 상온에서의 저장 탄성률[㎫]을 측정한다. 상온에서의 저장 탄성률[㎫] 및 두께[㎛]는, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 구해진다. 제1 점착제층(120)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]의 바람직한 범위는 후술한다.
제1 점착제층(120)의 강성(a)은, 상온에서의 적층체(100)의 굴곡성이 우수한 관점에서 바람직하게는 2.5㎫·㎛ 이하, 보다 바람직하게는 2.0㎫·㎛ 이하, 더 바람직하게는 1.5㎫·㎛ 이하이다. 제1 점착제층(120)의 강성(a)은, 통상 0.001㎫·㎛ 이상, 예를 들면 0.005㎫·㎛ 이상 또는 0.01㎫·㎛ 이상 또는 0.05㎫·㎛ 이상 또는 0.1㎫·㎛ 이상 또는 0.5㎫·㎛ 이상이다.
[조건 B]
상온에서의 층간 첩합층(143)의 강성(c)[이하, 간략화를 위해 강성(c)이라고도 함]에 대한 상온에서의 보호층(131)의 강성(b)[이하, 간략화를 위해 강성(b)이라고도 함]의 비(b/c)[이하, 간략화를 위해 비(b/c)라고도 함]는 1만 이하이다. 비(b/c)가 1만 이하이면, 상온에서 양호한 굴곡성이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있다. 이것은, 제1 위상차층(141)과 제2 위상차층(142)을 첩합하는 층간 첩합층(143)의 강성을 높게 함으로써, 제2 위상차층(142)이 층간 첩합층(143)에 지지되기 쉬워지는 경향이 되고, 또한, 직선 편광판(130)의 보호층(131)의 강성을 낮게 함으로써, 굴곡 시에 제2 위상차층(142)에 부여되는 응력이 작아지는 경향이 되기 때문이라고 추정된다.
비(b/c)는, 바람직하게는 5000 이하이며, 보다 바람직하게는 1000 이하, 더 바람직하게는 500 이하이며, 300 이하여도 좋고, 200 이하여도 좋다. 비(b/c)는, 통상 0.001 이상이며, 예를 들면 0.01 이상 또는 0.1 이상 또는 1 이상이어도 좋다.
보호층(131)의 강성(b)은, 예를 들면 1000㎫·㎛ 이상 10만㎫·㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 2000㎫·㎛ 이상 9만㎫·㎛ 이하, 보다 바람직하게는 5000㎫·㎛ 이상 8.5만㎫·㎛ 이하이며, 1만 이하여도 좋다. 강성(b)이 상기 범위 내임으로써, 적층체는 상온에서 굴곡성이 우수한 경향이 있다.
강성(b)은, 보호층(131)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]와의 곱[㎫·㎛]이다. 보호층(131)이, 후술하는 무기물층이나 유기물층인 경우, 강성(b)을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 상온에서의 압축 탄성률[㎫]을 측정한다. 보호층(131)이, 후술하는 수지 필름으로 형성될 경우, 강성(b)을 구하기 위한 탄성률[㎫]은 상온에서의 인장 탄성률[㎫]을 측정한다. 상온에서의 압축 탄성률[㎫], 상온에서의 인장 탄성률[㎫] 및 두께[㎛]는, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 구해진다. 보호층(131)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]의 바람직한 범위는 후술한다.
층간 첩합층(143)의 강성(c)은, 예를 들면 10㎫·㎛ 이상이어도 되고, 바람직하게는 30㎫·㎛ 이상 1만㎫·㎛ 이하, 보다 바람직하게는 100㎫·㎛ 이상 9000㎫·㎛ 이하, 더 바람직하게는 1000㎫·㎛ 이상 6000㎫·㎛ 이하이다. 강성(c)이 상기 범위 내임으로써, 적층체(100)는 굴곡성이 우수한 경향이 있다.
강성(c)은, 층간 첩합층(143)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]와의 곱[㎫·㎛]이다. 층간 첩합층(143)이 접착제층인 경우, 강성(c)을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 상온에서의 압축 탄성률[㎫]을 측정한다. 층간 첩합층(143)이 점착제층인 경우, 강성(c)을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 상온에서의 저장 탄성률[㎫]을 측정한다. 상온에서의 압축 탄성률[㎫], 상온에서의 저장 탄성률[㎫] 및 두께[㎛]는, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 구해진다. 층간 첩합층(143)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]의 바람직한 범위는 후술한다.
적층체(100)는, 조건 A' 및 조건 B'를 동시에 충족시킴으로써, 온도 -20℃에서 굴곡성이 우수해진다. 본 명세서에서, 온도 -20℃에서 굴곡성이 우수하다는 것은, 상술한 반복 굴곡 내구성이 온도 -20℃에서 우수한 것을 말한다. 적층체(100)는, 제2 위상차층(142)이, 비교적 크랙이 발생하기 쉬운 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 층을 가질 경우에도, 온도 -20℃에서 우수한 굴곡성을 발휘할 수 있다.
[조건 A']
온도 -20℃에서의 제1 점착제층(120)의 강성(a')[이하, 간략화를 위해 강성(a')이라고도 함]은 10㎫·㎛ 이하이다. 강성(a')이 10㎫·㎛ 이하이면, 온도 -20℃에서 양호한 굴곡성이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있다. 이것은, 제1 광학 부재(110)와 직선 편광판(130) 사이에 비교적 유연한 제1 점착제층(120)을 배치함으로써, 제1 광학 부재(110)로부터의 영향이 직선 편광판(130), 그리고 위상차판(140)에 전달되기 어려워지기 때문이라고 추정된다. 강성(a')은, 온도 -20℃에서의 제1 점착제층(120)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]와의 곱[㎫·㎛]이다. 강성(a')을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률[㎫]을 측정한다. 온도 -20℃에서의 저장 탄성률[㎫] 및 두께[㎛]는, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 구해진다. 온도 -20℃에서의 제1 점착제층(120)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]의 바람직한 범위는 후술한다.
강성(a')은, 온도 -20℃에서의 적층체(100)의 굴곡성이 우수한 관점에서 바람직하게는 9㎫·㎛ 이하, 보다 바람직하게는 7㎫·㎛ 이하, 더 바람직하게는 5㎫·㎛ 이하이다. 강성(a')은, 통상 0.001㎫·㎛ 이상, 예를 들면 0.005㎫·㎛ 이상 또는 0.01㎫·㎛ 이상 또는 0.05㎫·㎛ 이상 또는 0.1㎫·㎛ 이상 또는 0.5㎫·㎛ 이상이다.
[조건 B']
온도 -20℃에서의 층간 첩합층(143)의 강성(c')[이하, 간략화를 위해 강성(c')이라고도 함]에 대한 온도 -20℃에서의 보호층(131)의 강성(b')[이하, 간략화를 위해 강성(b')이라고도 함]의 비(b'/c')[이하, 간략화를 위해 비(b'/c')라고도 함]는 1천 이하이다. 비(b'/c')가 1천 이하이면, 온도 -20℃에서 양호한 굴곡성이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있다. 이것은, 제1 위상차층(141)과 제2 위상차층(142)을 첩합하는 층간 첩합층(143)의 강성을 높게 함으로써, 제2 위상차층(142)이 층간 첩합층(143)에 지지되기 쉬워지는 경향이 되고, 또한, 직선 편광판(130)의 보호층(131)의 강성을 낮게 함으로써, 굴곡 시에 제2 위상차층(142)에 부여되는 응력이 작아지는 경향이 되기 때문이라고 추정된다.
비(b'/c')는, 바람직하게는 500 이하이며, 보다 바람직하게는 400 이하, 더 바람직하게는 300 이하이며, 200 이하여도 된다. 비(b'/c')는, 통상 0.001 이상이며, 예를 들면 0.01 이상 또는 0.1 이상 또는 1 이상이어도 된다.
강성(b')은, 예를 들면 1000㎫·㎛ 이상 10만㎫·㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 2000㎫·㎛ 이상 9만㎫·㎛ 이하, 보다 바람직하게는 5000㎫·㎛ 이상 8.5만㎫·㎛ 이하이며, 1만 이하여도 좋다. 강성(b')이 상기 범위 내임으로써, 적층체는 온도 -20℃에서 굴곡성이 우수한 경향이 있다.
강성(b')은, 보호층(131)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]와의 곱[㎫·㎛]이다. 보호층(131)이, 후술하는 수지 필름으로 형성될 경우, 강성(b')을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 온도 -20℃에서 측정한 인장 탄성률[㎫]을 이용한다. 보호층(131)이, 후술하는 수지 필름으로 형성될 경우, 온도 -20℃에서 측정한 인장 탄성률[㎫]로서, 상온에서 측정한 인장 탄성률[㎫]을 이용해도 된다. 보호층(131)이, 후술하는 무기물층이나 유기물층인 경우, 강성(b')을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 압축 탄성률[㎫]이며, 온도 -20℃에서 압축 탄성률[㎫]은 측정할 수 없기 때문에, 상온에서 측정한 압축 탄성률[㎫]을 이용한다. 온도 -20℃에서의 인장 탄성률[㎫], 상온에서의 압축 탄성률[㎫] 및 두께[㎛]는, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 구해진다. 보호층(131)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]의 바람직한 범위는 후술한다.
강성(c')은, 예를 들면 10㎫·㎛ 이상이어도 되고, 바람직하게는 30㎫·㎛ 이상 1만㎫·㎛ 이하, 보다 바람직하게는 100㎫·㎛ 이상 9000㎫·㎛ 이하, 더 바람직하게는 1000㎫·㎛ 이상 6000㎫·㎛ 이하이다. 강성(c')이 상기 범위 내임으로써, 적층체(100)는 온도 -20℃에서의 굴곡성이 우수한 경향이 있다.
강성(c')은, 층간 첩합층(143)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]와의 곱[㎫·㎛]이다. 층간 첩합층(143)이 점착제층인 경우, 강성(c')을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 온도 -20℃에서 측정한 저장 탄성률[㎫]을 이용한다. 층간 첩합층(143)이 접착제층인 경우, 강성(c')을 구하기 위한 탄성률[㎫]은, 압축 탄성률[㎫]이며, 온도 -20℃에서 압축 탄성률[㎫]은 측정할 수 없기 때문에, 상온에서 측정한 압축 탄성률[㎫]을 이용한다. 온도 -20℃에서의 저장 탄성률[㎫], 상온에서의 압축 탄성률[㎫] 및 두께[㎛]는, 후술하는 실시예의 란에 기재된 방법에 따라서 구해진다. 층간 첩합층(143)의 탄성률[㎫]과 두께[㎛]의 바람직한 범위는 후술한다.
적층체(100)는, 평면에서 볼 때, 예를 들면 방형(方形) 형상이어도 되고, 바람직하게는 장변과 단변을 갖는 방형 형상이며, 보다 바람직하게는 장방형이다. 적층체(100)를 구성하는 각 층은, 각부(角部)가 R 가공되거나, 단부(端部)가 노치 가공되거나, 홀 가공되어 있어도 된다.
적층체(100)는, 예를 들면 화상 표시 장치 등에 이용할 수 있다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등을 들 수 있다. 적층체(100)는 굴곡하는 것이 가능하기 때문에, 플렉서블 디스플레이에 바람직하다.
[광학 부재]
광학 부재는, 통상의 화상 표시 장치에 있어서 이용되고 있는 구성 요소일 수 있다. 적층체(100)가 화상 표시 장치에 이용될 경우, 제1 광학 부재(110)가 시인 측이 되도록 화상 표시 장치에 첩합될 수 있고, 바람직하게는 제1 광학 부재(110)가 화상 표시 장치의 시인 측의 최외면을 구성하는 층이 되도록 화상 표시 장치에 첩합된다.
광학 부재로서는, 예를 들면 전면판, 터치 센서 패널 및 화상 표시 소자 등을 들 수 있다. 제1 광학 부재(110)는, 전면판일 수 있다. 제2 광학 부재(150)는, 터치 센서 패널 또는 화상 표시 소자일 수 있고, 바람직하게는 터치 센서 패널이다.
[전면판]
전면판은, 광을 투과 가능한 판상체이면, 재료 및 두께는 한정되지 않고, 또한 단층 구조여도 다층 구조여도 되고, 유리제의 판상체(예를 들면, 유리판, 유리 필름 등), 수지제의 판상체(예를 들면, 수지판, 수지 시트, 수지 필름 등)가 예시된다. 전면판은, 화상 표시 장치의 시인 측의 최표면을 구성하는 층일 수 있다.
유리판으로서는, 디스플레이용 강화 유리가 바람직하게 이용된다. 유리판의 두께는, 예를 들면 10㎛ 이상 1000㎛ 이하이며, 바람직하게는 20㎛ 이상 500㎛ 이하이다. 유리판을 이용함으로써, 우수한 기계적 강도 및 표면 경도를 갖는 광학 부재를 구성할 수 있다.
수지 필름으로서는, 광을 투과 가능한 수지 필름이면 한정되지 않는다. 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부틸레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리(메타)아크릴, 폴리이미드, 폴리에테르설폰, 폴리설폰, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아미드이미드 등의 고분자로 형성된 필름을 들 수 있다. 이들 고분자는, 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다. 적층체를 플렉서블 디스플레이에 이용할 경우에는, 우수한 가요성(可撓性)을 갖고, 높은 강도 및 높은 투명성을 갖도록 구성 가능한, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리아미드이미드 등의 고분자로 형성된 수지 필름이 바람직하게 이용된다. 또, 본 명세서에서 「(메타)아크릴」이란, 아크릴 또는 메타크릴 중 어느 것이어도 되는 것을 의미한다. (메타)아크릴레이트 등의 「(메타)」도 마찬가지의 의미이다.
전면판이 수지 필름인 경우, 수지 필름은, 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코팅층을 마련하여 경도를 보다 향상시킨 필름이어도 된다. 하드 코팅층은, 기재 필름의 한쪽 면에 형성되어 있어도 좋고, 양쪽 면에 형성되어 있어도 좋다. 후술하는 화상 표시 장치가 터치 패널 방식의 화상 표시 장치인 경우에는, 전면판의 표면이 터치면이 되기 때문에, 하드 코팅층을 갖는 수지 필름이 바람직하게 이용된다. 하드 코팅층을 마련함으로써, 경도 및 내스크래치성을 향상시킨 수지 필름으로 할 수 있다. 하드 코팅층은, 예를 들면, 자외선 경화형 수지의 경화층이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 하드 코팅층은, 경도를 향상시키기 위해, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제는 한정되지 않고, 무기계 미립자, 유기계 미립자, 또는 이들 혼합물을 들 수 있다. 수지 필름의 두께는, 예를 들면 30㎛ 이상 2000㎛ 이하이다.
전면판은, 화상 표시 장치의 전면을 보호하는 기능을 가질 뿐만 아니고, 터치 센서로서의 기능, 블루라이트 컷 기능, 시야각 조정 기능 등을 갖는 것이어도 된다.
[제1 점착제층]
제1 점착제층(120)은, 제1 광학 부재(110)와 직선 편광판(130) 사이에 개재하여 이들을 첩합하는 층일 수 있다. 본 명세서에서 「점착제」란, 경화 반응 후의 상태가 고점도 액체 또는 겔상 고체이며, 상온에서 단시간, 근소한 압력을 가하는 것만으로 접착할 수 있는 것, 예를 들면 감압식 접착제라고도 불리는 것이다. 한편, 본 명세서에서 「접착제」란, 점착제(감압식 접착제) 이외의 접착제를 말하고, 경화 반응 후의 상태가 고체상이며, 경화 후의 탄성률의 범위가 100㎫ 이상인 것을 말한다. 제1 점착제층(120)은, 1층이어도 좋고, 또는 2층 이상으로 이루어지는 것이어도 좋지만, 바람직하게는 1층이다.
상온에서의 제1 점착제층(120)의 저장 탄성률[㎫]은, 예를 들면 0.005㎫ 이상 1㎫ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.01㎫ 이상 0.5㎫ 이하이며, 0.1㎫ 이하여도 좋다. 상온에서의 제1 점착제층(120)의 저장 탄성률[㎫]은, 예를 들면 후술하는 점착제 조성물에 이용하는 모노머의 종류의 선정, 가교도의 조절 등에 의해 조절할 수 있다.
온도 -20℃에서의 제1 점착제층(120)의 저장 탄성률[㎫]은, 예를 들면 0.01㎫ 이상 20㎫ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.05㎫ 이상 15㎫ 이하이며, 10㎫ 이하여도 좋다. 온도 -20℃에서의 제1 점착제층(120)의 저장 탄성률[㎫]은, 예를 들면 후술하는 점착제 조성물에 이용하는 모노머의 종류의 선정, 가교도의 조절 등에 의해 조절할 수 있다.
제1 점착제층(120)의 두께는, 바람직하게는 4㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 5㎛ 이상이며, 더 바람직하게는 10㎛ 이상이다. 점착제층(150)의 두께는, 굴곡성을 높이는 관점에서 바람직하게는 100㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 50㎛ 이하이다. 제1 점착제층(120)의 두께는, 제1 점착제층(120)의 최대의 두께로 한다.
제1 점착제층(120)은, (메타)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 내후성(耐候性), 내열성 등이 우수한 (메타)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 바람직하다. 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형이어도 좋고, 열경화형이어도 좋다.
점착제 조성물에 이용되는 (메타)아크릴계 수지(베이스 폴리머)로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실과 같은 (메타)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 바람직하게 이용된다. 베이스 폴리머에는, 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산히드록시에틸, (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트와 같은, 카르복시기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다.
점착제 조성물은, 상기 베이스 폴리머만을 포함하는 것이어도 되지만, 통상은 가교제를 더 함유한다. 가교제로서는, 2가 이상의 금속 이온으로서, 카르복시기와의 사이에서 카르복시산 금속염을 형성하는 것; 폴리아민 화합물로서, 카르복시기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것; 폴리에폭시 화합물이나 폴리올로서, 카르복시기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 것; 폴리이소시아네이트 화합물로서, 카르복시기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것이 예시된다. 그 중에서도, 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물이란, 자외선이나 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사를 받아 경화되는 성질을 갖고 있으며, 활성 에너지선 조사 전에 있어서도 점착성을 가져 필름 등의 피착체에 밀착시킬 수 있고, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화되어 밀착력의 조정을 할 수 있는 성질을 갖는 점착제 조성물이다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 자외선 경화형인 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 베이스 폴리머, 가교제에 더하여, 활성 에너지선 중합성 화합물을 더 함유한다. 필요에 따라, 광중합개시제나 광증감제 등을 더 함유시킬 경우도 있다.
점착제 조성물은, 광산란성을 부여하기 위한 미립자, 비드(수지 비드, 유리 비드 등), 유리 섬유, 베이스 폴리머 이외의 수지, 점착성 부여제, 충전제(금속 분말이나 기타 무기 분말 등), 산화 방지제, 자외선 흡수제, 염료, 안료, 착색제, 소포제, 부식 방지제, 광중합개시제 등의 첨가제를 포함할 수 있다.
제1 점착제층(120)은, 상기 점착제 조성물의 유기 용제 희석액을 기재 상에 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 이용했을 경우에는, 형성된 제1 점착제층에, 활성 에너지선을 조사함으로써 원하는 경화도를 갖는 경화물로 할 수 있다.
[직선 편광판]
직선 편광판(130)은 편광자(132)의 한쪽 면에 보호층(131)을 적층한 것일 수 있다. 직선 편광판(130)은, 무편광의 광을 입사시켰을 때, 흡수축에 직교하는 진동면을 가지는 직선 편광을 투과시키는 성질을 갖는다. 직선 편광판(130)은, 편광자(132)로서 폴리비닐알코올(이하, 「PVA」라고 약기할 경우도 있음)계 수지 필름을 포함하는 것이어도 좋고, 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 배향시키고, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막이어도 좋다. 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시켜 이루어지는 편광자는, 연신 공정을 포함하는 PVA계 수지 필름의 편광자에 비해, 굴곡 방향으로 제한이 없기 때문에 바람직하다.
직선 편광판(130)은, 편광자(132) 및 보호층(131)만을 포함하는 것이어도 좋고, 편광자(132) 및 보호층(131)에 더하여, 기재, 열가소성 수지 필름, 오버코팅층 및 배향막 중 어느 하나 이상을 더 포함하고 있어도 좋다. 직선 편광판(130)의 두께는, 예를 들면 2㎛ 이상 100㎛ 이하이며, 바람직하게는 5㎛ 이상 60㎛ 이하이다.
[편광자]
편광자(132)로서는, 예를 들면, 폴리비닐알코올(이하, 「PVA」라고 약기할 경우도 있음)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리, 및 연신 처리가 실시된 것 등을 들 수 있다. 광학 특성이 우수하므로, PVA계 수지 필름을 요오드로 염색하고 일축 연신하여 얻어진 편광자(132)를 이용하는 것이 바람직하다.
폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 제조할 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외, 아세트산비닐과 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체일 수도 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예를 들면, 불포화 카르복시산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 설폰산류, 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류 등을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85 ∼ 100몰% 정도이며, 바람직하게는 98몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 되고, 예를 들면, 알데히드류에 의해 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용 가능하다. 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는, 통상 1,000 ∼ 10,000 정도이며, 바람직하게는 1,500 ∼ 5,000 정도이다. 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는, JIS K 6726(1994)에 준거하여 구할 수 있다. 평균 중합도가 1000 미만에서는 바람직한 편광 성능을 얻는 것이 곤란하며, 10000 초과에서는 필름 가공성이 뒤떨어질 경우가 있다.
그 외의 PVA계 수지 필름을 포함하는 편광자의 제조 방법으로서는, 우선 기재 필름을 준비하고, 기재 필름 상에 폴리비닐알코올계 수지 등의 수지의 용액을 도포하고, 용매를 제거하는 건조 등을 행하여 기재 필름 상에 수지층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 들 수 있다. 또, 기재 필름의 수지층이 형성되는 면에는, 미리 프라이머층을 형성할 수 있다. 기재 필름으로서는, PET 등의 수지 필름이나, 후술하는 보호층에 이용할 수 있는 열가소성 수지를 이용한 필름을 사용할 수 있다. 프라이머층의 재료로서는, 편광자에 이용되는 친수성 수지를 가교한 수지 등을 들 수 있다.
그 다음에, 필요에 따라 수지층의 수분 등의 용매량을 조정하고, 그 후, 기재 필름 및 수지층을 일축 연신하고, 계속해서, 수지층을 요오드 등의 이색성 색소로 염색하여 이색성 색소를 수지층에 흡착 배향시킨다. 계속해서, 필요에 따라 이색성 색소가 흡착 배향된 수지층을 붕산 수용액으로 처리하고, 붕산 수용액을 씻어내는 세정 공정을 행한다. 이에 따라, 이색성 색소가 흡착 배향된 수지층, 즉, 편광자가 제조된다. 각 공정에는 공지된 방법을 채용할 수 있다.
기재 필름 및 수지층의 일축 연신은, 염색 전에 행해도 좋고, 염색 중에 행해도 좋고, 염색 후의 붕산 처리 중에 행해도 좋고, 이들 복수의 단계에서 각각 일축 연신을 행해도 좋다. 기재 필름 및 수지층은, MD 방향(필름 반송 방향)으로 일축 연신해도 좋고, 이 경우, 주속이 서로 다른 롤간에서 일축으로 연신해도 좋고, 열롤을 이용하여 일축으로 연신해도 좋다. 또한, 기재 필름 및 수지층은, TD 방향(필름 반송 방향으로 수직인 방향)으로 일축 연신해도 좋고, 이 경우, 소위 텐터법을 사용할 수 있다. 또한, 기재 필름 및 수지층의 연신은, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신이어도 좋고, 용제에 의해 수지층을 팽윤시킨 상태에서 연신을 행하는 습식 연신이어도 좋다. 편광자의 성능을 발현하기 위해서는 연신 배율은 4배 이상이며, 5배 이상인 것이 바람직하고, 특히 5.5배 이상이 바람직하다. 연신 배율의 상한은 특별히 없지만, 파단 등을 억제하는 관점에서 8배 이하가 바람직하다.
상기 PVA계 수지 필름을 포함하는 편광자의 두께는, 예를 들면 2㎛ 이상 40㎛ 이하이다. 편광자의 두께는 5㎛ 이상이어도 좋고, 20㎛ 이하, 15㎛ 이하, 더욱이는 10㎛ 이하여도 좋다.
이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 배향시키고, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막인 편광자의 제조 방법으로서는, 기재 필름 상에 배향막을 개재하여 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소를 포함하는 편광자 형성용 조성물을 도포하여 편광자를 형성하는 방법, 혹은, 기재 필름 상에 형성한 후술하는 보호층(131) 상에, 배향막을 개재하여 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소를 포함하는 편광자 형성용 조성물을 도포하고, 중합성 액정 화합물을 액정 상태를 유지한 채 중합하여 경화시켜 편광자를 형성하는 방법을 들 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 편광자는, 기재 필름의 보호층 상에 적층된 상태에 있으며, 기재 필름 부착 직선 편광판으로서 이용해도 된다. 기재 필름으로서는, 열가소성 수지 필름, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등을 사용할 수 있다.
이색성 색소로서는, 분자의 장축 방향에서의 흡광도와 단축 방향에서의 흡광도가 서로 다른 성질을 갖는 색소를 이용할 수 있고, 예를 들면, 300 ∼ 700㎚의 범위에 흡수 극대 파장(λmax)을 갖는 색소가 바람직하다. 이러한 이색성 색소로서는, 예를 들면, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소, 안트라퀴논 색소 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 아조 색소가 바람직하다. 아조 색소로서는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소, 스틸벤아조 색소 등을 들 수 있고, 비스아조 색소, 트리스아조 색소가 보다 바람직하다.
편광자 형성용 조성물은, 용제, 광중합개시제 등의 중합개시제, 광증감제, 중합 금지제 등을 포함할 수 있다. 편광층 형성용 조성물에 포함되는, 중합성 액정 화합물, 이색성 색소, 용제, 중합개시제, 광증감제, 중합 금지제 등에 대해서는, 공지된 것을 이용할 수 있고, 예를 들면, 일본 특허공개 2017-102479호 공보, 일본 특허공개 2017-83843호 공보에 예시되어 있는 것을 이용할 수 있다. 또한, 중합성 액정 화합물은, 후술하는 위상차층으로서의 경화물층을 얻기 위해 이용한 중합성 액정 화합물로서 예시한 화합물을 이용해도 된다. 편광자 형성용 조성물을 이용하여 편광자를 형성하는 방법에 대해서도, 상기 공보에 예시된 방법을 채용할 수 있다.
이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시켜 이루어지는 편광자의 두께는, 통상 10㎛ 이하이며, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 8㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 5㎛ 이하이다.
직선 편광판(130)의 편광자(132) 측의 면에, 오버코팅층(이하, OC층이라고도 함)을 마련할 수도 있다. OC층을 구성하는 재료로서는, 예를 들면 광경화성 수지나 수용성 폴리머 등을 들 수 있다. 광경화성 수지로서는, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지, 우레탄계 수지, (메타)아크릴우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있다. 수용성 폴리머로서는, 예를 들면, 폴리(메타)아크릴아미드계 폴리머; 폴리비닐알코올, 및 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, (메타)아크릴산 또는 그 무수물-비닐알코올 공중합체 등의 비닐알코올계 폴리머; 카르복시비닐계 폴리머; 폴리비닐피롤리돈; 전분류; 알긴산나트륨; 폴리에틸렌옥사이드계 폴리머 등을 들 수 있다. OC층의 두께는, 20㎛ 이하인 것이 바람직하고, 15㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10㎛ 이하인 것이 더 바람직하고, 5㎛ 이하여도 좋고, 또한, 0.05㎛ 이상이며, 0.5㎛ 이상이어도 좋다.
상기 방법으로 제작한 편광자는, 기재 필름을 박리하거나, 또는 기재 필름과 함께 직선 편광판으로서 이용해도 된다. 상기 방법에 의하면, 기재 필름을 박리할 수 있기 때문에, 편광자의 추가적인 박막화가 가능해진다.
[보호층]
보호층(131)은, 편광자(132)의 표면을 보호하는 기능을 갖는다. 적층체에 있어서, 직선 편광판(130)은 통상, 보호층(131)이 편광자(132)보다 제1 광학 부재(110) 측이 되도록 배치될 수 있다.
보호층(131)의 탄성률[㎫]은, 예를 들면 100㎫ 이상 1만㎫ 이하여도 되고, 바람직하게는 500㎫ 이상 5000㎫ 이하이다. 보호층(131)이 수지 필름인 경우, 상온에서의 보호층(131)의 인장 탄성률[㎫]은, 예를 들면 100㎫ 이상 1만㎫ 이하여도 된다. 보호층(131)이 수지 필름인 경우, 온도 -20℃에서의 보호층(131)의 인장 탄성률[㎫]은, 예를 들면 50㎫ 이상 1만㎫ 이하여도 된다. 보호층(131)이 무기물층이나 유기물층인 경우, 상온에서의 보호층(131)의 압축 탄성률[㎫]은, 예를 들면 100㎫ 이상 1만㎫ 이하여도 된다.
보호층(131)의 탄성률[㎫]은, 예를 들면 보호층(131)을 형성하는 재료의 선정 등에 의해 조절할 수 있다.
보호층(131)은, 유기물층 또는 무기물층일 수 있다. 유기물층 또는 무기물층은, 코팅에 의해 형성되는 층일 수 있다. 유기물층은, 보호층 형성용 조성물, 예를 들면 (메타)아크릴계 수지 조성물, 에폭시계 수지 조성물, 폴리이미드계 수지 조성물 등을 이용하여 형성할 수 있다. 보호층 형성용 조성물은, 활성 에너지선 경화형이어도 좋고, 열경화형이어도 좋다. 무기물층은, 예를 들면 실리콘 산화물 등으로 형성할 수 있다. 보호층(131)이 유기물층인 경우, 보호층은 하드 코팅층이라고 불리는 것이어도 된다.
보호층(131)이 유기물층인 경우, 예를 들면 활성 에너지선 경화형의 보호층 형성용 조성물을 기재 필름 상에 도포하고, 활성 에너지를 조사하여 경화시킴으로써 보호층을 제작할 수 있다. 기재 필름은, 상술한 기재 필름의 설명이 적용된다. 기재 필름은 통상, 박리하여 제거된다. 보호층 형성용 조성물을 도포하는 방법으로서는, 예를 들면 스핀 코팅법 등을 들 수 있다. 보호층(131)이 무기물층인 경우, 예를 들면 스퍼터링법, 증착법 등에 의해 보호층을 형성할 수 있다. 보호층(131)이 유기물층 또는 무기물층인 경우, 보호층(131)의 두께는, 예를 들면 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 5㎛ 이하이다.
보호층(131)으로서는, 예를 들면, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성, 연신성 등이 우수한 열가소성 수지 필름을 이용할 수도 있다. 이러한 열가소성 수지의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지; 폴리에테르설폰 수지; 폴리설폰 수지; 폴리카보네이트 수지; 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드 수지; 폴리이미드 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀 수지; 시클로계 및 노르보르넨 구조를 갖는 환상 폴리올레핀 수지(노르보르넨계 수지라고도 함); (메타)아크릴 수지; 폴리아릴레이트 수지; 폴리스티렌 수지; 폴리비닐알코올 수지, 그리고 이들 혼합물을 들 수 있다. 편광자의 양면에 보호층이 적층되어 있을 경우, 두 개의 보호층은 동종이어도 좋고, 이종(異種)이어도 좋다. 열가소성 수지 필름의 두께는, 예를 들면 3㎛ 이상 50㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 5㎛ 이상 30㎛ 이하이다.
[위상차판]
적층체(100)는, 직선 편광판(130)과 위상차판(140)을 구비함으로써 원 편광판으로서의 기능을 가질 수 있다. 이하, 직선 편광판(130)과 위상차판(140)을 구비하는 구성을 원 편광판이라고 하는 경우도 있다.
위상차판(140)은, 제1 위상차층(141)과 제2 위상차층(142)을 포함한다. 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)은, 후술하는 층간 첩합층(143)에 의해 첩합되어 있다. 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)은, 그 표면을 보호하는 오버코팅층, 및 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)을 지지하는 기재 필름 등을 갖고 있어도 된다. 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)으로서는, 예를 들면 λ/4의 위상차를 부여하는 위상차층(λ/4층), λ/2의 위상차를 부여하는 위상차층(λ/2층) 및 포지티브 C층 등을 들 수 있다. 위상차판(140)은, 바람직하게는 포지티브 C층을 포함한다.
위상차판(140)은, 직선 편광판 측으로부터 순서대로 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)이 적층된다. 위상차판(140)이 포지티브 C층을 포함할 경우, 제1 위상차층(141)이 포지티브 C층이며, 한편 제2 위상차층(142)이 λ/4층이거나, 또는 제1 위상차층(141)이 λ/4층이며, 및 제2 위상차층(142)이 포지티브 C층이다. 위상차판이 λ/2층을 포함할 경우, 제1 위상차층(141)이 λ/2층이며, 제2 위상차층(142)이 λ/4층이다. 위상차판(140)의 두께는, 예를 들면 0.1㎛ 이상 50㎛ 이하이며, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 30㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 10㎛ 이하이다.
제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)은, 상술한 열가소성 수지 필름의 재료로서 예시한 수지 필름으로 형성해도 좋고, 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 층으로 형성해도 좋다. 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)은, 배향막 및 기재 필름을 더 포함하고 있어도 된다.
제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)을 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 층으로 형성할 경우, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을, 기재 필름에 도포하고 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 기재 필름과 도포층 사이에 배향막을 형성해도 된다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 상기 열가소성 수지 필름의 재료 및 두께와 같아도 된다. 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)은, 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 층으로 형성할 경우, 배향막 및 기재 필름을 갖는 형태로 적층체에 편성되어도 된다.
직선 편광판의 흡수축과 위상차판(140)의 지상축이 소정의 각도가 되도록, 직선 편광판과 위상차판(140)이 배치된 편광판은, 반사 방지 기능을 갖는, 즉 원 편광판으로서 기능할 수 있다. 위상차판(140)이 λ/4층을 포함할 경우, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4층의 지상축이 이루는 각도는, 45° ± 10°일 수 있다. 제1 위상차층(141) 및 제2 위상차층(142)은 정파장 분산성을 갖고 있어도 좋고, 역파장 분산성을 갖고 있어도 좋다. λ/4층은, 바람직하게는 역파장 분산성을 갖는다. 직선 편광판과 위상차판(140)은 접착제나 점착제에 의해 첩합되어 있어도 된다.
[층간 첩합층]
층간 첩합층(143)은, 제1 위상차층(141)과 제2 위상차층(142) 사이에 배치되고, 제1 위상차층(141)과 제2 위상차층(142)을 첩합하는 기능을 갖는다. 층간 첩합층(143)은, 접착제 또는 점착제로 구성될 수 있다. 층간 첩합층(143)은, 바람직하게는 접착제층이다.
층간 첩합층(143)의 탄성률[㎫]은, 예를 들면 100㎫ 이상 1만㎫ 이하여도 되고, 바람직하게는 500㎫ 이상 5000㎫ 이하이다. 층간 첩합층(143)이 접착제층인 경우, 상온에서의 층간 첩합층(143)의 압축 탄성률[㎫]은, 예를 들면 100㎫ 이상 1만㎫ 이하여도 된다. 층간 첩합층(143)의 탄성률[㎫]은, 예를 들면 층간 첩합층(143)을 형성하는 재료의 선정 등에 의해 조절할 수 있다.
층간 첩합층(143)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 층간 첩합층(143)으로서 점착제층을 사용할 경우, 1㎛ 이상인 것이 바람직하고, 5㎛ 이상이어도 좋고, 통상 50㎛ 이하이며, 25㎛ 이하여도 좋다. 층간 첩합층(143)으로서 접착제층을 사용할 경우, 층간 첩합층(143)의 두께는, 0.1㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5㎛ 이상이어도 좋고, 10㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이하여도 좋다.
층간 첩합층(143)에 이용하는 점착제는, 상술한 점착제 조성물을 이용할 수 있고, 다른 점착제, 예를 들면 점착제층의 재료와는 다른 (메타)아크릴계 점착제, 스티렌계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제, 우레탄계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 에폭시계 공중합체 점착제 등을 이용할 수도 있다.
층간 첩합층(143)에 이용하는 접착제로서는, 예를 들면 수계 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제 등 중 1종 또는 2종 이상을 조합하여 형성할 수 있다. 수계 접착제로서는, 예를 들면 폴리비닐알코올계 수지 수용액, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제 등을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화되는 접착제이며, 예를 들면 중합성 화합물 및 광중합성 개시제를 포함하는 접착제, 광반응성 수지를 포함하는 접착제, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 접착제 등을 들 수 있다. 상기 중합성 화합물로서는, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 아크릴계 모노머, 광경화성 우레탄계 모노머 등의 광중합성 모노머, 및 이들 모노머에 유래하는 올리고머 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제로서는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 중성 라디칼, 음이온 라디칼, 양이온 라디칼과 같은 활성종을 발생하는 물질을 포함하는 화합물을 들 수 있다.
[터치 센서 패널]
터치 센서 패널로서는, 터치된 위치를 검출 가능한 센서이면, 검출 방식은 한정되지 않고, 저항막 방식, 정전 용량 결합 방식, 광센서 방식, 초음파 방식, 전자 유도 결합 방식, 표면 탄성파 방식 등의 터치 센서 패널이 예시된다. 저비용이므로, 저항막 방식, 정전 용량 결합 방식의 터치 센서 패널이 바람직하게 이용된다. 터치 센서 패널은, 적층체의 시인 측과는 반대 측에 배치될 수 있다.
저항막 방식의 터치 센서 패널의 일례는, 서로 대향 배치된 한 쌍의 기판과, 그들 한 쌍의 기판 사이에 협지된 절연성 스페이서와, 각 기판의 내측의 전면에 저항막으로서 마련된 투명 도전막과, 터치 위치 검지 회로에 의해 구성되어 있다. 저항막 방식의 터치 센서 패널을 마련한 화상 표시 장치에 있어서는, 전면판의 표면이 터치되면, 대향하는 저항막이 단락(短絡)하여, 저항막에 전류가 흐른다. 터치 위치 검지 회로가, 이때의 전압의 변화를 검지하고, 터치된 위치가 검출된다.
정전 용량 결합 방식의 터치 센서 패널의 일례는, 기판과, 기판의 전면에 마련된 위치 검출용 투명 전극과, 터치 위치 검지 회로에 의해 구성되어 있다. 정전 용량 결합 방식의 터치 센서 패널을 마련한 화상 표시 장치에 있어서는, 전면판의 표면이 터치되면, 터치된 점에서 인체의 정전 용량을 통해 투명 전극이 접지된다. 터치 위치 검지 회로가, 투명 전극의 접지를 검지하고, 터치된 위치가 검출된다.
[첩합층]
적층체는, 직선 편광판과 위상차판과의 첩합, 및 위상차판과 제2 광학 부재와의 첩합을 위해 첩합층을 더 포함하고 있어도 된다. 첩합층은 접착제 또는 점착제로 형성할 수 있다. 접착제 및 점착제는, 상술한 층간 첩합층에서 예시한 것을 이용할 수 있다.
[화상 표시 소자]
화상 표시 소자는, 예를 들면 액정 셀, 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 표시 소자, 무기 일렉트로 루미네선스(무기 EL) 표시 소자, 플라스마 표시 소자, 전계 방사형 표시 소자 등을 들 수 있다.
[적층체의 제조 방법]
적층체의 제조 방법은, 예를 들면 이하의 (a) ∼ (g)의 공정을 포함할 수 있다. 적층체의 제조 방법에 대해서, 도 2를 참조하면서 설명한다.
(a) 기재 필름(109) 상에 보호층(131)을 형성하는 공정
(b) 보호층(131) 상에, 편광자(132)를 형성하고, 직선 편광판(130)을 제작하는 공정
(c) 편광자(132) 상에 오버코팅(133)층을 마련하는 공정
(d) 제1 위상차층(141)과 층간 첩합층(143)과 제2 위상차층(142)으로 이루어지는 위상차판(140), 및 기재 필름(151)을 갖는 터치 센서 패널(152)을 준비하는 공정
(e) 오버코팅(133)층 상에, 첩합층(160)을 개재하여, 위상차판(140)/터치 센서 패널(152)/기재 필름(151)의 적층체를 위상차판(140) 측을 첩합면으로 하여 첩합하는 공정
(f) 보호층(131) 상에 접해 있는 기재 필름(109)을 박리하는 공정
(g) 보호층(131) 상에 제1 점착제층(120)을 개재하여 전면판(111)을 첩합하고, 그 다음에 터치 센서 패널(152)에 접해 있는 기재 필름(151)을 박리하는 공정
적층체의 제조 방법은, 공정 (a)와 공정 (b) 사이에, 보호층(131) 상에 배향막을 형성하는 공정을 가질 수 있다. 첩합은, 공지된 라미네이터, 롤, 셀 접합기 등의 장치를 이용하여 행할 수 있다. 첩합면은 코로나 처리나 플라스마 처리 등의 표면 처리를 실시할 수 있다.
<화상 표시 장치>
본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 상기 적층체를 포함한다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 들 수 있다. 화상 표시 장치는 터치 패널 기능을 갖고 있어도 된다. 적층체는, 굴곡 또는 절곡 등이 가능한 가요성을 갖는 화상 표시 장치에 바람직하다. 화상 표시 장치에 있어서, 적층체가 전면판을 가질 경우, 적층체는, 전면판을 외측(화상 표시 소자 측과는 반대 측, 즉 시인 측)을 향하여, 화상 표시 장치의 시인 측에 배치된다.
본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 스마트폰, 태블릿 등의 모바일 기기, 텔레비전, 디지털 포토 프레임, 전자 간판, 측정기나 계기류, 사무용 기기, 의료 기기, 전산 기기 등으로서 이용할 수 있다. 본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 우수한 플렉서블성을 갖기 때문에, 플렉서블 디스플레이 등에 바람직하다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특기가 없는 한, 질량% 및 질량부이다.
[두께의 측정]
적층체를 이루는 각 층의 두께는, 다음의 절차로 행했다. 적층체를 레이저 커터를 이용하여 커팅하고, 커팅한 적층체의 단면(斷面)에 대해서, 투과형 전자 현미경(SU8010, HORIBA, Ltd. 제조)을 이용하여 관찰하고, 얻어진 관찰상으로부터, 플렉서블 적층체를 이루는 각 층의 두께를 측정했다.
[탄성률의 측정]
탄성률의 종류와 그 탄성률을 측정한 측정 대상을 이하에 나타낸다.
저장 탄성률: 점착제층
압축 탄성률: 코팅층(하드 코팅층, 접착제층)
인장 탄성률: 수지 필름
[상온 및 -20℃에서의 저장 탄성률의 측정]
점착제층을 두께 150㎛가 되도록 겹쳐쌓아, 측정용의 샘플을 제작했다. 측정용 샘플을, 레오미터(Anton Parr, MCR-301)에 배치하고, 온도 25℃/상대습도 50%(또는 온도 -20℃), 응력 1%, 주파수 1㎐의 조건으로, 저장 탄성률의 측정을 행했다.
[상온에서의 압축 탄성률의 측정]
Nano Indenter(HM-500, Fisher Instruments사 제조)를 이용하여, 온도 25℃/상대습도 50%, 압력 1mN의 조건으로, 압축 탄성률의 측정을 행했다. 압자에는, Berkovich 삼각추 압자를 이용했다.
[상온 및 -20℃에서의 인장 탄성률의 측정]
인장 시험기(AG-1S, Shimadzu Corporation 제조)를 이용하여, 온도 25℃/상대습도 50%(또는 온도 -20℃), 인장 탄성률을 측정했다. 측정 대상의 수지 필름이 면 내에 위상차를 가질 경우, 지상축 방향의 인장 탄성률을 측정했다.
[강성(a)]
측정한 제1 점착제층의 두께[㎛]와 상온에서의 저장 탄성률[㎫]과의 곱을 구했다.
[강성(b)]
측정한 보호층의 두께[㎛]와, 보호층이 수지 필름인 경우에는 상온에서의 인장 탄성률[㎫] 또는 보호층이 무기물층이나 유기물층인 경우(코팅층인 경우)에는 상온에서의 압축 탄성률[㎫]과의 곱을 구했다.
[강성(c)]
측정한 층간 첩합층의 두께[㎛]와, 층간 첩합층이 점착제층인 경우에는 상온에서의 저장 탄성률[㎫] 또는 층간 첩합층이 접착제층인 경우에는 상온에서의 압축 탄성률[㎫]과의 곱을 구했다.
[강성(a')]
측정한 제1 점착제층의 두께[㎛]와 온도 -20℃에서의 저장 탄성률[㎫]과의 곱을 구했다.
[강성(b')]
측정한 보호층의 두께[㎛]와, 보호층이 수지 필름인 경우에는 상온에서의 인장 탄성률[㎫] 또는 보호층이 무기물층이나 유기물층인 경우(코팅층인 경우)에는 상온에서의 압축 탄성률[㎫]과의 곱을 구했다.
[강성(c')]
측정한 층간 첩합층의 두께[㎛]와, 층간 첩합층이 점착제층인 경우에는 온도 -20℃에서의 저장 탄성률[㎫] 또는 층간 첩합층이 접착제층인 경우에는 상온에서의 압축 탄성률[㎫]과의 곱을 구했다.
[반복 굴곡 내구성 시험]
굴곡 평가 설비(Science Town사 제조, STS-VRT-500)를 이용하여, 25℃ 또는 -20℃의 온도에서, 굽힘에 대한 내구성을 확인하는 평가 시험을 행했다. 도 3은, 본 평가 시험의 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 개별적으로 이동 가능한 두 개의 재치대(501, 502)를, 간극(C1)으로 배치하고, 간극(C)의 중심에 폭 방향의 중심이 위치하도록 적층체(500)를 고정하여 배치했다(도 3의 (a)). 이때, 전면판(제1 광학 부재) 측이 상방이 되도록 적층체(500)를 배치했다. 위치(P1) 및 위치(P2)를 회전축의 중심으로 하여 상방으로 90도 회전시켜, 재치대의 간극(C)에 대응하는 적층체(500)의 영역에 굽힘력을 부가하고, 대향하는 전면판끼리의 간격(C2)이, 온도 25℃ 환경 하의 시험에서는 2.0㎜, 온도 -20℃ 환경 하의 시험에서는 3.0㎜가 되도록 했다(도 3의 (b)). 그 후, 두 개의 재치대(501, 502)를 원래의 위치로 되돌렸다(도 3의 (a)). 이상의 일련의 조작을 완료하여, 굽힘력의 부가 횟수를 1회로 카운트했다. 굽힘력의 부가 횟수를 겹쳐쌓아, 재치대(501, 502)의 간극(C)에 대응하는 적층체(500)의 위상차판의 영역에서의 크랙의 발생의 유무, 및 벗겨짐의 유무를 확인하여, 위상차판에 크랙이 발생하거나, 벗겨짐이 발생한 시점에서 굽힘력의 부가를 정지하고, 크랙 또는 벗겨짐이 발생했을 때의 굽힘력의 부가 횟수를 기록했다. 재치대(501, 502)의 이동 속도, 굽힘력의 부가의 페이스는, 어느 적층체에 대한 평가 시험에 있어서도 동일한 조건으로 했다.
[정적 굴곡 내구성 시험]
도 4에 정적 굴곡 내구성 시험(만드렐 굴곡 시험)의 방법을 나타낸다. 우선, 적층체(100)를 1㎝ × 10㎝의 시험편으로 재단했다. 시험판(503) 상에 적층체(100)의 전면판(10) 측이 위가 되도록 두고, 그 위에 직경 5㎜의 철제봉(504)을 두었다(도 4의 (A)). 전면판(110)이 내측이 되도록 손으로 접어, 고정했다(도 4의 (B)). 시험은, 상온 환경 하에서 행했다.
위상차판(140)에 크랙이 발생하지 않았던 기간에 의거하여, 정적 굴곡 내구성을 다음과 같이 평가했다.
A: 30일 경과한 시점에서 크랙이 발생하지 않았다.
B: 30일 경과한 시점에서 크랙이 발생하고 있었다.
C: 20일 경과한 시점에서 크랙이 발생하고 있었다.
D: 10일 경과한 시점에서 크랙이 발생하고 있었다.
[아크릴계 점착제층 1]
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응기에, 아세톤 81.8부, 아크릴산부틸 98.8부, 아크릴산 0.2부, 및 아크릴산2-히드록시에틸 1.0부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않으면서, 내온을 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합개시제) 0.14부를 아세톤 10부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 중합개시제를 첨가한 1시간 후에, 단량체를 제외한 아크릴계 수지 1의 농도가 35%가 되도록, 첨가 속도 17.3부/hr로 아세톤을 연속적으로 반응기에 첨가하면서, 내온 54 ∼ 56℃에서 12시간 보온하고, 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여, 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절했다. 이와 같이 하여, 아크릴계 수지 1 용액을 얻었다.
상기 아크릴계 수지 1 용액 100부(불휘발분량), 콜로네이트 L 0.3부, 및 KBM-403 0.5부를 혼합했다. 고형분 농도가 10%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물을 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께 38㎛)의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 25㎛가 되도록 도포했다. 도포층을 100℃에서 1분간 건조하여, 점착제층 1을 구비하는 필름을 얻었다. 그 후, 점착제층 상에, 이형 처리된 다른 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께 38㎛)을 첩합했다. 그 후, 온도 23℃, 상대습도 50%RH의 조건으로 7일간 양생(養生)시켜, 아크릴계 점착제층 1을 얻었다.
[아크릴계 점착제층 2]
단량체의 조성을, 아크릴산부틸 76부, 아크릴산메틸 22부, 및 아크릴산 2.0부로 변경한 것 이외에는, 아크릴계 수지 1 용액의 제조 방법과 마찬가지로 하여, 아크릴계 수지 2 용액을 얻었다.
상기 아크릴계 수지 2 용액 100부(불휘발분량), 콜로네이트 L 1.0부, 및 KBM-403 0.5부를 혼합했다. 고형분 농도가 10%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물로부터, 아크릴계 점착제층 1의 제작과 마찬가지로 하여, 두께 7㎛의 아크릴계 점착제층 2를 얻었다.
[아크릴계 점착제층 3]
단량체의 조성을, 아크릴산부틸 68.0부, 메타크릴산메틸 27부, 아크릴산 4.0부, 및 아크릴산2-히드록시에틸 1.0부로 변경한 것 이외에는, 아크릴계 수지 1 용액의 제조 방법과 마찬가지로 하여, 아크릴계 수지 3 용액을 얻었다.
상기 아크릴계 수지 3 용액 100부(불휘발분량), 콜로네이트 L 3.0부, 및 KBM-403 0.5부를 혼합했다. 고형분 농도가 10%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물로부터, 아크릴계 점착제층 1의 제작과 마찬가지로 하여, 두께 25㎛의 아크릴계 점착제층 3을 얻었다.
[아크릴계 점착제층 4]
단량체의 조성을, 아크릴산부틸 68.0부, 메타크릴산메틸 29부, 아크릴산 2.0부, 및 아크릴산2-히드록시에틸 1.0부로 변경한 것 이외에는, 아크릴계 수지 1 용액의 제조 방법과 마찬가지로 하여, 아크릴계 수지 4 용액을 얻었다.
상기 아크릴계 수지 4 용액 100부(불휘발분량), 콜로네이트 L 3.0부, 및 KBM-403 0.5부를 혼합했다. 고형분 농도가 10%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물로부터, 아크릴계 점착제층 1의 제작과 마찬가지로 하여, 두께 5㎛의 아크릴계 점착제층 4를 얻었다.
[아크릴계 점착제층 5]
상기 아크릴계 수지 1 용액 100부(불휘발분량), 콜로네이트 L 0.25부, 및 KBM-403 0.5부를 혼합했다. 고형분 농도가 10%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물로부터, 아크릴계 점착제층 1의 제작과 마찬가지로 하여, 두께 25㎛의 아크릴계 점착제층 5를 얻었다.
[아크릴계 점착제층 6]
상기 아크릴계 수지 1 용액 100부(불휘발분량), 콜로네이트 L 0.15부, 및 KBM-403 0.5부를 혼합했다. 고형분 농도가 10%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다. 얻어진 점착제 조성물로부터, 아크릴계 점착제층 1의 제작과 마찬가지로 하여, 두께 25㎛의 아크릴계 점착제층 6을 얻었다.
[실시예 1]
18관능의 아크릴기를 갖는 덴드리머 아크릴레이트(Miramer SP1106, Miwon) 2.8부, 6관능의 아크릴기를 갖는 우레탄 아크릴레이트(Miramer PU-620D, Miwon사) 6.6부, 광중합개시제(Irgacure-184, BASF사) 0.5부, 레벨링제(BYK-3530, BYK사) 0.1부, 및 메틸에틸케톤(MEK) 90부를 혼합하여, 하드 코팅층 형성용 조성물을 조제했다.
폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 기재 필름 상에, 하드 코팅층 형성용 조성물을 도포했다. 도막을 80°의 오븐에서 3분간 건조했다. 노광량이 500mJ/㎠(365㎚ 기준)가 되도록, 도막에 자외선을 조사하여, 하드 코팅층(두께 2㎛, 온도 25℃에서의 압축 탄성률 2963㎫)을 형성했다.
하드 코팅층 상에, 배향막 형성용 조성물을 도포했다. 도막을 건조시킨 후, 편광 UV를 조사하여, 배향막을 형성했다. 배향막 상에, 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소를 포함하는 조성물을 도포했다. 중합성 액정 화합물을 배향, 경화시켜, 편광자(두께 2㎛)를 형성했다. 편광자 상에, 오버코팅층 형성용 조성물을 도포했다. 도막에 자외선을 조사하여, 오버코팅층(두께 2㎛)을 형성했다.
λ/4층(두께 2㎛)과 포지티브 C층(두께 3㎛)이 접착제층(두께 2㎛, 온도 25℃에서의 압축 탄성률 2426㎫)에 의해 첩합된 위상차판을 준비했다. λ/4판 및 포지티브 C층은, 각각 중합성 액정 화합물이 경화된 층으로 이루어진다. 접착제층은, 자외선 경화형 접착제로 형성된 층이며, 이 자외선 경화형 접착제는, 3',4'-에폭시시클로헥실메틸3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트(CEL2021P, Daicel Corporation) 50부, 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄(OXT-221, TOAGOSEI CO., LTD.) 50부, 양이온 중합개시제(CPI-100, San-Apro Ltd.) 2.25부, 1,4-디에톡시나프탈렌 2부로 이루어지는 조성물이다.
오버코팅층과 λ/4층을, 아크릴계 점착제층 4(두께 5㎛)에 의해 적층했다. 위상차판은, 편광자의 흡수축과 λ/4층의 지상축이 이루는 각이 45°가 되도록 적층했다. 이와 같이 하여, 기재 필름, 하드 코팅층, 편광자, 오버코팅층, 아크릴계 점착제층, 및 위상차판으로 이루어지는, 기재 필름 부착 원 편광판을 제작했다.
폴리이미드계 수지 필름(두께 40㎛)의 한쪽 면에 하드 코팅층(10㎛)이 형성된 전면판을 준비했다. 기재 필름 부착 원 편광판으로부터, 기재 필름을 박리하고, 하드 코팅층(보호층)을 노출시켰다. 원 편광판이 구비하는 하드 코팅층(보호층)과 전면판의 폴리이미드계 수지 필름을, 아크릴계 점착제층 1(두께 25㎛, 온도 25℃에서의 저장 탄성률 0.047㎫, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률 0.18㎫)에 의해 적층했다.
2매의 폴리이미드계 수지 필름(두께 38㎛, 50㎛)을, 아크릴계 점착제층(두께 25㎛)에 의해 적층하여, 유기 EL 패널의 대용품을 제작했다. 포지티브 C층과 유기 EL 패널의 대용품을, 아크릴계 점착제층 1(두께 25㎛)에 의해 적층했다. 이와 같이 하여, 전면판, 제1 점착제층, 원 편광판, 아크릴계 점착제층, 및 유기 EL 패널의 대용품으로 이루어지는 적층체를 제작했다.
얻어진 적층체에 대해서 반복 굴곡 내구성 시험 및 정적 굴곡 내구성 시험을 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 2]
기재 및 하드 코팅층 대신에 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛, 온도 23℃에서의 인장 탄성률 3282㎫)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 적층체를 제작했다. 실시예 2의 적층체가 구비하는 원 편광판은, TAC, 편광자, 오버코팅층, 점착제층, 및 위상차판으로 이루어진다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 3]
전면판과 원 편광판을 적층하기 위한 제1 점착제층에, 온도 25℃에서의 저장 탄성률이 0.25㎫이며, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률 1.3㎫인 아크릴계 점착제층 2(두께 7㎛)를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 적층체를 제작했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 4]
위상차판으로서, λ/4판(2㎛)과 포지티브 C층(3㎛)이 아크릴계 점착제층 3(두께 25㎛, 온도 25℃에서의 저장 탄성률 1.207㎫, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률 3.1㎫)에 의해 첩합된 것을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 적층체를 제작했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 5]
전면판과 원 편광판을 적층하기 위한 제1 점착제층에, 온도 25℃에서의 저장 탄성률이 0.049㎫이며, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률 0.12㎫인 아크릴계 점착제층 5(두께 25㎛)를 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 적층체를 제작했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 6]
전면판과 원 편광판을 적층하기 위한 제1 점착제층에, 온도 25℃에서의 저장 탄성률이 0.032㎫이며, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률 0.09㎫인 아크릴계 점착제층 6(두께 25㎛)을 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 적층체를 제작했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 1]
전면판과 원 편광판을 적층하기 위한 제1 점착제층에, 온도 25℃에서의 저장 탄성률이 1.207㎫이며, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률 3.1㎫인 아크릴계 점착제층 3(두께 25㎛)을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 적층체를 제작했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 2]
기재 필름 및 하드 코팅층 대신에 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛, 온도 23℃에서의 인장 탄성률 3282㎫)을 사용한 것, 위상차판으로서, λ/4판(두께 2㎛)과 포지티브 C층(두께 3㎛)이 아크릴계 점착제층 4(두께 5㎛, 온도 25℃에서의 저장 탄성률 0.87㎫, 온도 -20℃에서의 저장 탄성률 8.3㎫)에 의해 첩합된 것을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 적층체를 제작했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00001
[표 2]
Figure pct00002
100: 적층체 109: 기재 필름
110: 제1 광학 부재 111: 전면판
120: 제1 점착제층 130: 직선 편광판
131: 보호층 132: 편광자
140: 위상차판 141: 제1 위상차층
142: 제2 위상차층 143: 층간 첩합층
150: 제2 광학 부재 151: 기재 필름
152: 터치 센서 패널 160: 첩합층
500: 적층체 501, 502: 재치대
503: 시험판 504: 철제봉

Claims (8)

  1. 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하고,
    상기 직선 편광판은, 제1 광학 부재 측으로부터 보호층과 편광자를 이 순으로 포함하고,
    상기 위상차판은, 제1 광학 부재 측으로부터 제1 위상차층과 제2 위상차층을 이 순으로 포함하고,
    상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층은, 층간 첩합층에 의해 첩합되어 있고,
    하기 조건 A 및 B를 충족시키는, 적층체.
    조건 A: 상온에서의 상기 제1 점착제층의 강성(a)은 3㎫·㎛ 이하이다.
    조건 B: 상온에서의 상기 층간 첩합층의 강성(c)에 대한 상온에서의 상기 보호층의 강성(b)의 비(b/c)는 1만 이하이다.
  2. 제1항에 있어서,
    하기 조건 A' 및 B'를 더 충족시키는, 적층체.
    조건 A': 온도 -20℃에서의 상기 제1 점착제층의 강성(a')은 10㎫·㎛ 이하이다.
    조건 B': 온도 -20℃에서의 상기 층간 첩합층의 강성(c')에 대한 온도 -20℃에서의 상기 보호층의 강성(b')의 비(b'/c')는 1천 이하이다.
  3. 제1 광학 부재와, 제1 점착제층과, 직선 편광판과, 위상차판과, 제2 광학 부재를 이 순으로 구비하고,
    상기 직선 편광판은, 제1 광학 부재 측으로부터 보호층과 편광자를 이 순으로 포함하고,
    상기 위상차판은, 제1 광학 부재 측으로부터 제1 위상차층과 제2 위상차층을 이 순으로 포함하고,
    상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층은, 층간 첩합층에 의해 첩합되어 있고,
    하기 조건 A' 및 B'를 충족시키는, 적층체.
    조건 A': 온도 -20℃에서의 상기 제1 점착제층의 강성(a')은 10㎫·㎛ 이하이다.
    조건 B': 온도 -20℃에서의 상기 층간 첩합층의 강성(c')에 대한 온도 -20℃에서의 상기 보호층의 강성(b')의 비(b'/c')는 1천 이하이다.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    하기 조건 C를 더 충족시키는, 적층체.
    조건 C: 상온에서의 상기 층간 첩합층의 강성(c)은 10㎫·㎛ 이상이다.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 층을 갖는, 적층체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 층간 첩합층은, 접착제층인, 적층체.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광학 부재는 전면판이며, 상기 제2 광학 부재는 터치 센서 패널인, 적층체.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 구비하는, 화상 표시 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2024106316A1 (ja) * 2022-11-18 2024-05-23 日東電工株式会社 光学積層体、画像表示装置、及び光学積層体の製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018028573A (ja) 2016-08-15 2018-02-22 日東電工株式会社 フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7348719B2 (ja) * 2017-11-10 2023-09-21 住友化学株式会社 複合位相差板、光学積層体、及び画像表示装置
JP7441610B2 (ja) * 2018-04-20 2024-03-01 日東電工株式会社 位相差層付き偏光板および有機el表示装置
JP2020019277A (ja) * 2018-07-24 2020-02-06 住友化学株式会社 積層体およびその製造方法
WO2020054285A1 (ja) * 2018-09-12 2020-03-19 住友化学株式会社 前面板付き偏光板
JP6735891B2 (ja) * 2018-12-27 2020-08-05 住友化学株式会社 フレキシブル積層体及びそれを備えた画像表示装置
JP2020157577A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 住友化学株式会社 積層体及び表示装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018028573A (ja) 2016-08-15 2018-02-22 日東電工株式会社 フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置

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