KR20210095063A

KR20210095063A - 노즐 청소 장치, 도포 장치, 노즐 청소 방법, 및 스크레이퍼

Info

Publication number: KR20210095063A
Application number: KR1020210007336A
Authority: KR
Inventors: 유키히로 다카무라
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date: 2020-01-22
Filing date: 2021-01-19
Publication date: 2021-07-30
Also published as: JP7197525B2; KR102540091B1; JP2021115490A; CN113145363A

Abstract

[과제] 노즐의 청소 부재에 있어서, 슬라이딩에 의한 마모를 억제하면서, 노즐의 토출구에 대한 추종성의 저하를 억제한다.
[해결 수단] 노즐 청소 장치는, 슬릿 노즐의 단부에 접촉 가능한 노즐 청소 부재와, 제1 방향을 따라서 노즐 청소 부재를 이동시키는 이동 기구를 구비하고, 노즐 청소 부재는, 본체부와 박판 부재를 구비하는 제1 스크레이퍼와, 본체부와, 박판 부재를 구비하는 제2 스크레이퍼와, 본체부와, 박판 부재를 구비하는 제3 스크레이퍼와, 제1 스크레이퍼, 제2 스크레이퍼 및 제3 스크레이퍼를 지지하는 지지부를 구비한다.

Description

노즐 청소 장치, 도포 장치, 노즐 청소 방법, 및 스크레이퍼{NOZZLE CLEANING DEVICE, COATING DEVICE, NOZZLE CLEANING METHOD, AND SCRAPER}

본원 명세서에 개시되는 기술은, 노즐 청소 장치, 도포 장치, 노즐 청소 방법, 및 스크레이퍼에 관한 것이다.

종래부터, 기판에 대해서 도포액을 도포하기 위해서, 도포액을 슬릿형상의 토출구로부터 토출하는 슬릿 노즐이 일반적으로 이용되고 있다. 이러한 슬릿 노즐에서는, 토출구에 잔존하는 도포액 등의 부착물을 제거하기 위해서, 슬릿 노즐의 토출구를 따라서 이동 가능한 청소 부재를 이용하여 부착물을 제거하는 처리가 행해진다(예를 들어, 특허문헌 1을 참조).

일본국 특허공개 2013-165137호 공보

토출구의 청소 부재로는, 토출구의 형상에 대해서 추종 가능한 고무제의 부재가 이용되는 것이 많으나, 고무제의 부재에서는 슬라이딩에 의한 마모가 현저하고 청소 부재의 교환 빈도가 높아진다. 한편, PEEK(폴리에테르에테르케톤) 등의 경질의 재료를 이용하면, 슬라이딩에 의한 마모는 억제되지만, 토출구의 형상에 대한 추종성이 저하하여, 부착물을 충분히 제거할 수 없는 경우가 있다.

본원 명세서에 개시되는 기술은, 이상으로 기재된 바와 같은 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 노즐의 청소 부재에 있어서, 슬라이딩에 의한 마모를 억제하면서, 노즐의 토출구에 대한 추종성의 저하를 억제하기 위한 기술이다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제1 양태는, 슬릿형상의 토출구가 설치되는 슬릿 노즐의 단부를 청소하는 노즐 청소 장치로서, 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉 가능한 노즐 청소 부재와, 상기 노즐 청소 부재를 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉시키면서, 상기 슬릿 노즐의 상기 토출구가 연장되는 방향인 제1 방향을 따라서 상기 노즐 청소 부재를 이동시키는 이동 기구를 구비하고, 상기 노즐 청소 부재는, 제1 본체부와, 상기 제1 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제1 방향과 교차하는 방향인 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 제1 측면에 접촉 가능한 제1 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제1 스크레이퍼와, 제2 본체부와, 상기 제2 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 상기 제1 측면과는 반대측의 제2 측면에 접촉 가능한 제2 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제2 스크레이퍼와, 제3 본체부와, 상기 제3 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 하면에 접촉 가능한 제3 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제3 스크레이퍼와, 상기 제1 스크레이퍼, 상기 제2 스크레이퍼 및 상기 제3 스크레이퍼를 지지하는 지지부를 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제2 양태는, 제1 양태에 관련하여, 상기 제1 박판 부재의 두께, 상기 제2 박판 부재의 두께 및 상기 제3 박판 부재의 두께 중 적어도 하나는, 대응하는 상기 제1 본체부, 상기 제2 본체부 또는 상기 제3 본체부에 가까워짐에 따라 두꺼워진다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제3 양태는, 제1 또는 제2 양태에 관련하여, 상기 제1 박판 부재, 상기 제2 박판 부재 및 상기 제3 박판 부재 중 적어도 하나의, 상기 노즐 청소 부재가 이동하는 방향을 향하는 면의 대응하는 상기 제1 본체부, 상기 제2 본체부 또는 상기 제3 본체부와 연속하는 부분은, 만곡하는 곡면이다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제4 양태는, 제2 양태에 관련하여, 상기 제1 박판 부재의 두께, 상기 제2 박판 부재의 두께 및 상기 제3 박판 부재의 두께 중 적어도 하나는, 대응하는 상기 제1 본체부, 상기 제2 본체부 또는 상기 제3 본체부에 가까워짐에 따라, 1mm 이상 또한 5mm 이하의 곡률 반경에 따라서 두꺼워진다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제5 양태는, 제1 내지 제4 중 어느 한 양태에 관련하여, 상기 제1 박판 부재, 상기 제2 박판 부재 및 상기 제3 박판 부재 중 적어도 하나는, 록웰 경도 R110 이상 또한 R130 이하이며, 또한, 굽힘 강도 30 이상 또한 50 이하이다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제6 양태는, 제1 내지 제5 중 어느 한 양태에 관련하여, 상기 제1 방향에 있어서, 상기 제1 스크레이퍼, 상기 제2 스크레이퍼 및 상기 제3 스크레이퍼 중 적어도 하나를 복수 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제7 양태는, 제1 내지 제6 중 어느 한 양태에 관련하여, 상기 제1 박판 부재, 상기 제2 박판 부재 및 상기 제3 박판 부재 중 적어도 하나의, 상기 노즐 청소 부재가 이동하는 방향을 향하는 면과 상기 슬릿 노즐의 단부가 이루는 각이 둔각이다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제8 양태는, 제1 내지 제7 중 어느 한 양태에 관련하여, 상기 제3 박판 부재는, 상기 제1 박판 부재 및 상기 제2 박판 부재보다, 상기 노즐 청소 부재가 이동하는 방향에 있어서의 상류측에 위치한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제9 양태는, 슬릿형상의 토출구로부터 도포액을 토출하는 슬릿 노즐과, 상기의 노즐 청소 장치를 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제10 양태는, 슬릿형상의 토출구가 설치되는 슬릿 노즐의 단부를 청소하는 노즐 청소 방법으로서, 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉 가능한 노즐 청소 부재를 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉시키면서, 상기 슬릿 노즐의 상기 토출구가 연장되는 방향인 제1 방향을 따라서 상기 노즐 청소 부재를 이동시키는 공정을 구비하고, 상기 노즐 청소 부재는, 제1 본체부와, 상기 제1 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제1 방향과 교차하는 방향인 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 제1 측면에 접촉 가능한 제1 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제1 스크레이퍼와, 제2 본체부와, 상기 제2 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 상기 제1 측면과는 반대측의 제2 측면에 접촉 가능한 제2 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제2 스크레이퍼와, 제3 본체부와, 상기 제3 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 하면에 접촉 가능한 제3 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제3 스크레이퍼와, 상기 제1 스크레이퍼, 상기 제2 스크레이퍼 및 상기 제3 스크레이퍼를 지지하는 지지부를 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제11 양태는, 슬릿형상의 토출구가 설치되는 슬릿 노즐의 단부를 청소하기 위한 스크레이퍼로서, 본체부와, 상기 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 토출구가 연장되는 방향과 교차하는 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉 가능한 박판 부재를 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제12 양태는, 제11 양태에 관련하여, 상기 박판 부재의 상기 토출구가 연장되는 방향과 교차하는 방향에 있어서의 폭은, 상기 본체부로부터 멀어짐에 따라 좁아진다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제1 내지 제10 양태에 의하면, 슬릿 노즐의 청소 부재로서 경질의 재료를 이용함으로써 슬라이딩에 의한 마모를 억제하는 경우에도, 각각의 본체부로부터 연장되는 박판 부재에 의해서 슬릿 노즐의 단부에 대한 추종성의 저하를 억제할 수 있다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제11 및 제12 양태에 의하면, 슬릿 노즐의 청소 부재로서 경질의 재료를 이용함으로써 슬라이딩에 의한 마모를 억제하는 경우에도, 본체부로부터 연장되는 박판 부재에 의해서 슬릿 노즐의 단부에 대한 추종성의 저하를 억제할 수 있다.

또, 본원 명세서에 개시되는 기술에 관련하는 목적과, 특징과, 국면과, 이점은, 이하에 개시하는 상세한 설명과 첨부 도면에 의해서, 더욱 명백해진다.

도 1은 실시 형태에 관한, 노즐 청소 장치를 포함하는 도포 장치를 모식적으로 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 예가 도시된 도포 장치를 모식적으로 도시한 측면도이다.
도 3은 도 1에 예가 도시된 도포 장치를 모식적으로 도시한 상면도이다.
도 4는 슬릿 노즐을 X축 방향에서 본 경우의 측면도이다.
도 5는 실시 형태에 관한, 노즐 청소 장치의 구성의 예를 도시한 측면도이다.
도 6은 노즐 청소 장치에 이용되는 노즐 청소 부재의 구성의 예를 도시한 사시도이다.
도 7은 노즐 청소 장치가 행하는 클리닝 처리의 예를 나타낸 플로차트이다.
도 8은 경사면과 박판 부재가 접촉하여 부착물을 제거하는 경우의 상세를 도시한 도면이다.
도 9는 립(lip)부와 3개의 박판 부재가 접촉하는 양태를 도시한 도면이다.
도 10은 노즐 청소 장치에 이용되는 노즐 청소 부재의 구성의 변형예를 도시한 사시도이다.
도 11은 노즐 청소 장치가 행하는 클리닝 처리의 예를 나타낸 플로차트이다.

이하, 첨부되는 도면을 참조하면서 실시 형태에 대해 설명한다. 이하의 실시 형태에서는, 기술의 설명을 위해서 상세한 특징 등도 개시되는데, 그들은 예시이며, 실시 형태가 실시 가능하게 되기 위해서 그들 모두가 반드시 필수의 특징은 아니다.

또한, 도면은 개략적으로 도시된 것이며, 설명의 편의를 위해, 적당히 구성의 생략, 또는, 구성의 간략화가 도면에 있어서 이루어진 것이다. 또, 상이한 도면에 각각 도시된 구성 등의 크기 및 위치의 상호 관계는, 반드시 정확하게 기재되는 것이 아니며, 적당히 변경될 수 있는 것이다.

또, 이하에 개시하는 설명에서는, 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 붙여 도시하고, 그들의 명칭과 기능에 대해서도 동일한 것으로 한다. 따라서, 그들에 대한 상세한 설명을, 중복을 피하기 위해서 생략하는 경우가 있다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 어느 구성 요소가 「구비하다」, 「포함하다」 또는 「갖다」 등으로 기재되는 경우, 특별히 기술하지 않는 한, 다른 구성 요소의 존재를 제외하는 배타적인 표현은 아니다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 「제1」 또는 「제2」 등의 서수가 이용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해서 편의상 이용되는 것이며, 이들 서수에 의해서 생길 수 있는 순서 등에 한정되는 것은 아니다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서의, 「대상물을 특정 방향으로 이동시킨다」 등의 표현은, 특별히 기술하지 않는 한, 대상물을 당해 특정 방향과 평행하게 이동시키는 경우, 및, 대상물을 당해 특정 방향의 성분을 갖는 방향으로 이동시키는 경우를 포함하는 것으로 한다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 「상」, 「하」, 「좌」, 「우」, 「옆」, 「바닥」, 「겉」, 또는 「뒤」 등의 특정 위치 또는 방향을 의미하는 용어가 이용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해서 편의상 이용되는 것이며, 실제로 실시될 때의 위치 또는 방향과는 관계하지 않는 것이다.

〈제1 실시 형태〉

이하, 본 실시 형태에 관한 도포 장치, 노즐 청소 장치, 스크레이퍼, 및, 노즐 청소 방법에 대해 설명한다.

〈도포 장치의 구성에 대해〉

도 1은, 본 실시 형태에 관한 노즐 청소 장치를 포함하는 도포 장치를 모식적으로 도시한 사시도이다. 또, 도 2는, 도 1에 예가 도시된 도포 장치를 모식적으로 도시한 측면도이다. 또, 도 3은, 도 1에 예가 도시된 도포 장치를 모식적으로 도시한 상면도이다. 또한, 도 2 및 도 3에서는, 노즐 지지체 등의 일부의 구성이 생략되어 있다.

도포 장치(1)는, 슬릿 노즐(2)을 이용하여 기판(3)의 상면(31)에 도포액을 도포하는 슬릿 코터로 불리는 도포 장치이다.

도포 장치(1)는, 그 도포액으로서, 내(耐)에칭 피막으로 해야 할 포토레지스트액, 컬러 필터용의 포토레지스트액, 폴리이미드 전구체(폴리아미드산)를 포함하는 액, 실리콘, 나노 메탈 잉크 또는 도전성 재료를 포함하는 슬러리(페이스트) 등의, 여러 가지의 도포액을 이용하는 것이 가능하다.

또, 도포 대상이 되는 기판(3)에 대해서도, 액정 표시 장치용 유리 기판, 반도체 기판, PDP용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 컬러 필터용 기판, 기록 디스크용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판, 직사각형 유리 기판, 필름 액정용 플렉시블 기판, 또는, 유기 EL(electroluminescence)용 기판 등의 여러 가지의 기판에 적용 가능하다.

또한, 「기판(3)의 상면(31)」이란, 기판(3)의 양 주면 중 도포액이 도포되는 측의 주면을 의미한다.

도포 장치(1)는, 기판(3)을 수평 자세로 흡착 유지 가능한 스테이지(4)와, 스테이지(4)에 유지되는 기판(3)에 슬릿 노즐(2)을 이용하여 도포 처리를 실시하는 도포 처리부(5)와, 도포 처리에 앞서 슬릿 노즐(2)에 대해서 클리닝 처리를 실시하는 노즐 청소 장치(6)(도 2 및 도 3을 참조)와, 이들 구성의 동작을 제어하는 제어부(8)를 구비한다.

제어부(8)는, 내부 또는 외부의 기억 매체(HDD, RAM, ROM 또는 플래쉬 메모리 등의, 휘발성 또는 불휘발성의 메모리 등)에 기억된 프로그램을 실행함으로써 제어 대상을 제어하는 것이며, 예를 들어, 중앙 연산 처리 장치(central processing unit, 즉, CPU), 마이크로프로세서 또는 마이크로컴퓨터 등으로 구성된다.

도 4는, 슬릿 노즐(2)을 X축 방향에서 본 경우의 측면도이다. 슬릿 노즐(2)은, X축 방향으로 연장되는 장척 슬릿 형상의 개구부인 토출구(21)를 갖는다. 토출구(21)는 X축 방향에 있어서 슬릿 노즐(2)의 전체 길이보다 길고, 슬릿 노즐(2)의 X축 방향의 양단에서는 토출구(21)가 개구하지 않는다.

슬릿 노즐(2)은, 스테이지(4)에 유지되어 있는 기판(3)의 상면(31)을 향해서 토출구(21)로부터 도포액을 토출 가능하다. 구체적으로는, 슬릿 노즐(2)은, 노즐 지지체(51)(도 1을 참조)에 의해서 고정 지지되는 기부(基部)(22)와, 도시하지 않은 공급 기구로부터 공급되는 도포액을 토출구(21)까지 송액하는 내부 유로(23)와, 기부(22)의 하방으로 돌출하는 립부(24)를 갖는다.

립부(24)는, 기부(22)의 하방으로 돌출하는 선단(하단)에 설치되는 평탄형상의 선단면(25)과, 선단면(25)과 기부(22)를 연결하는, ＋Y측에 형성되는 사면인 경사면(26a)과, 선단면(25)과 기부(22)를 연결하는, ―Y측에 형성되는 사면인 경사면(26b)을 갖는다. 이하에서는, 경사면(26a)과 경사면(26b)을 구별하지 않는 경우에, 단순히 경사면(26)으로 칭하는 경우가 있다.

이와 같이 립부(24)는 그 길이 방향인 X축 방향으로부터의 측면에서 봤을 때 끝이 가는 볼록 형상을 갖고, 볼록 형상의 선단(하단)에 토출구(21)가 설치되며, 볼록 형상의 각각의 측면이 경사면(26)으로 되어 있다.

이와 같이 구성된 슬릿 노즐(2)에, 도시하지 않은 공급 기구로부터 도포액이 공급되면, 도포액은 내부 유로(23)를 통해서 슬릿 노즐(2)의 길이 방향(X축 방향)으로 균등하게 확산되어 송액되고, 또한, 립부(24)의 선단면(25)에 설치된 토출구(21)로부터 하방을 향해서 토출된다.

상기와 같이, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)로부터 도포액을 토출하면서 기판(3)에 대한 도포 동작을 실행하면, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)의 주위 부분(립부(24))에는, 도포액이 부착되는 경우가 있다. 부착된 도포액은 건조하여 잔사가 되며, 이것을 방치하면, 도포액의 양호한 토출의 방해, 또는, 기판(3)에 형성되는 막의 오염의 원인이 되는 경우가 있다.

그래서, 도포 장치(1)에서는, 상기와 같은 토출구(21)의 주위 부분(립부(24))에 있어서의 부착물(부착액)을 제거하는 클리닝 처리를, 노즐 청소 장치(6)에 의해서 행한다.

도 1, 도 2 및 도 3에 예가 도시된 스테이지(4)는, 대략 직방체의 형상을 갖는 화강암 등의 석재로 구성된다. 스테이지(4)는, 그 상면(＋Z측의 면) 중 ―Y측의 영역에는, 대략 수평인 평탄면으로 가공되어 기판(3)을 유지하는 유지면(41)을 구비한다. 유지면(41)에는, 도시하지 않은 다수의 진공 흡착구가 분산하여 형성되어 있다. 이들 진공 흡착구에 의해서 기판(3)이 흡착됨으로써, 도포 처리 시에 기판(3)이 미리 정해진 위치에 대략 수평 상태로 유지된다. 또한, 기판(3)의 유지 양태는 이것에 한정되는 것이 아니며, 예를 들어, 기계적으로 기판(3)을 유지하도록 스테이지(4)가 구성되어 있어도 된다.

또, 스테이지(4)는, 유지면(41)이 점유하는 영역보다 ＋Y측의 영역에 있어서, 노즐 조정 영역(100)을 구비한다. 노즐 조정 영역(100)에는, 노즐 청소 장치(6)(도 2 및 도 3을 참조)가 배치되어 있다.

도포 장치(1)에서는, 슬릿 노즐(2)을 Y축 방향으로 이동시키는 후술의 이동 기구가 도포 처리부(5)에 설치되어 있고, 당해 이동 기구에 의해서, 유지면(41)의 상방과 노즐 조정 영역(100)의 상방 사이에서 슬릿 노즐(2)을 왕복 이동시킬 수 있다.

그리고, 슬릿 노즐(2)이 노즐 조정 영역(100)의 상방으로 이동하고 있는 기간, 즉, 스테이지(4)에 있어서 유지면(41)이 점유하는 영역의 상방에 슬릿 노즐(2)이 없는 기간에, 먼저 도포 처리가 이루어진 기판(3)의 반출과, 지금부터 도포 처리가 이루어지는 기판(3)의 반입이 스테이지(4) 상에서 행해진다. 한편, 슬릿 노즐(2)이 유지면(41)의 상방을 이동하고 있는 동안에, 유지면(41)에 있어서의 기판(3)의 상면(31)에 슬릿 노즐(2)로부터 도포액이 도포된다.

도포 처리부(5)의 이동 기구는, 주로 스테이지(4)의 상방을 X축 방향으로 횡단하여 슬릿 노즐(2)을 지지하는 브릿지 구조의 노즐 지지체(51)와, Y축 방향으로 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(52)을 따라서 노즐 지지체(51) 및 이것에 지지되는 슬릿 노즐(2)을 수평 이동시키는 슬릿 노즐 이동부(53)를 갖는다.

노즐 지지체(51)는, 슬릿 노즐(2)을 고정하는 고정 부재(51a)와, 고정 부재(51a)를 지지함과 더불어 고정 부재(51a)를 승강시키는 2개의 승강 기구(51b)를 갖는다. 또한, 고정 부재(51a)는, X축 방향을 길이 방향으로 하는 카본 파이버 보강 수지 등의 단면 직사각형의 봉형 부재로 구성된다.

2개의 승강 기구(51b)는 고정 부재(51a)의 길이 방향의 양단부에 연결되어 있으며, 각각 AC 서보 모터 및 볼 나사 등을 갖는다. 이들 승강 기구(51b)에 의해서, 고정 부재(51a) 및 고정 부재(51a)에 고정된 슬릿 노즐(2)이 연직 방향(Z축 방향)으로 승강되어, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)와 기판(3)의 간격, 즉, 기판(3)에 대한 토출구(21)의 상대적인 높이가 조정된다.

또한, 고정 부재(51a)의 연직 방향의 위치는, 예를 들어, 승강 기구(51b)의 측면에 설치되는 스케일부와, 당해 스케일부에 대향하여 슬릿 노즐(2)의 측면 등에 설치되는 검출 센서로 구성되는 리니어 엔코더(여기에서는, 도시하지 않음)에 의해서 검출할 수 있다.

이와 같이 구성된 노즐 지지체(51)는, 도 1에 예가 도시된 바와 같이, 스테이지(4)의 좌우 양단부를 X축 방향을 따라서 걸쳐 놓고, 유지면(41)을 걸치는 가교 구조이다. 슬릿 노즐 이동부(53)는, 가교 구조인 노즐 지지체(51)와 노즐 지지체(51)에 유지되는 슬릿 노즐(2)을, 스테이지(4) 상에 유지되는 기판(3)에 대해서 Y축 방향을 따라서 상대 이동시킨다.

구체적으로는, 슬릿 노즐 이동부(53)는, ±X측의 각각에 있어서 슬릿 노즐(2)의 이동을 Y축 방향으로 안내하는 가이드 레일(52)과, 구동원인 리니어 모터(54)와, 슬릿 노즐(2)의 토출구의 위치를 검출하기 위한 리니어 엔코더(55)를 갖는다.

2개의 가이드 레일(52)은, 도 1 및 도 2에 예가 도시된 바와 같이, 스테이지(4)의 X축 방향의 양단부에 있어서, 노즐 세정 위치(Y1)(즉, 노즐 청소 장치(6)의 배치 위치)로부터 도포 종료 위치(Y3)(즉, 유지면(41)의 ―Y측의 단부 위치)까지의 구간을 포함하도록, Y축 방향을 따라서 연장되어 있다. 그로 인해, 슬릿 노즐 이동부(53)에 의해서 2개의 승강 기구(51b)의 하단부가 2개의 가이드 레일(52)을 따라서 안내됨으로써, 슬릿 노즐(2)은, 노즐 세정 위치(Y1)와 스테이지(4) 상에 유지되는 기판(3)에 대향하는 위치 사이를 이동할 수 있다.

또한, 도 2에 있어서는, 노즐 세정 위치(Y1) 및 도포 종료 위치(Y3) 이외에도, 도포 개시 위치(Y2)가 도시되어 있다. 도포 개시 위치(Y2)는, 도 3에 예가 개시되는 기판(3)의 도포 영역(RT)의, ＋Y측의 단부에 대응하는 도포 개시 위치(Y2)에 상당한다.

또, 각각의 리니어 모터(54)는, 고정자(54a)와 이동자(54b)를 갖는 AC 무선 리니어 모터이다. 고정자(54a)는, 스테이지(4)의 X축 방향의 양측면에 있어서 Y축 방향을 따라서 설치되어 있다. 한편, 이동자(54b)는, 승강 기구(51b)의 외측에 설치되어 있다. 리니어 모터(54)는, 고정자(54a)와 이동자(54b) 사이에 생기는 자력에 의해서 구동하는, 슬릿 노즐 이동부(53)의 구동원으로서 기능한다.

또, 리니어 엔코더(55)는 각각, 스케일부(55a)와 검출부(55b)를 갖고 있다. 스케일부(55a)는, 스테이지(4)에 설치된 리니어 모터(54)의 고정자(54a)의 하부에 있어서, Y축 방향을 따라서 설치되어 있다. 한편, 검출부(55b)는, 승강 기구(51b)에 설치된 리니어 모터(54)의 이동자(54b)의 더욱 외측에 설치되고, 또한, 스케일부(55a)에 대향 배치된다.

리니어 엔코더(55)는, 스케일부(55a)와 검출부(55b)의 상대적인 위치 관계에 의거하여, Y축 방향에 있어서의 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)의 위치를 검출한다.

이상과 같은 구성에 의해서, 슬릿 노즐(2)은, 기판(3)이 유지되는 유지면(41)의 상부 공간을, 유지면(41)에 대해서 상대적으로 Y축 방향으로 대략 수평하게 이동 가능하게 되어 있다. 그리고, 도포 장치(1)는, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)로부터 도포액을 토출하면서 슬릿 노즐(2)을 상기와 같이 상대 이동시킴으로써, 유지면(41)에 유지된 기판(3)의 상면(31)에 도포층을 형성할 수 있다.

또한, 기판(3)의 각각의 변의 단부로부터 소정의 폭의 영역(액자형상의 영역)은, 도포액의 도포 대상이 되지 않는 비도포 영역으로 되어 있다. 그리고, 기판(3) 중, 비도포 영역을 제외한 직사각형 영역이, 도포액이 도포되어야 할 영역인 도포 영역(RT)으로 되어 있다(도 3을 참조).

이로 인해, 슬릿 노즐(2)의 이동 가능한 구간 중, 기판(3)의 도포 영역(RT)의 Y축 방향의 범위에 대응하는, 도포 개시 위치(Y2)(도포 영역(RT)의 ＋Y측의 단부)로부터 도포 종료 위치(Y3)(도포 영역(RT)의 ―Y측의 단부)까지의 구간에서, 토출구(21)로부터 도포액이 토출된다.

또, 도포 장치(1)와 외부 반송 기구 사이에서의 기판(3)의 수도(受渡) 기간(즉, 기판(3)의 반입 반출 기간) 등의 스테이지(4) 상에서 도포 처리가 행해지지 않는 기간에는, 슬릿 노즐(2)은, 기판(3)의 유지면(41)으로부터 ＋Y측으로 빠지는 영역인 노즐 조정 영역(100)으로 대피되고(도 1에 예가 도시된 상태에 상당), 슬릿 노즐(2)은, 노즐 청소 장치(6)에 의해서 클리닝 처리를 받는다.

〈노즐 청소 장치의 구성에 대해〉

도 5는, 본 실시 형태에 관한 노즐 청소 장치의 구성의 예를 도시한 측면도이다. 또, 도 6은, 노즐 청소 장치에 이용되는 노즐 청소 부재의 구성의 예를 도시한 사시도이다.

노즐 청소 장치(6)는, 립부(24)에 부착되는 부착물을 제거하는 제거 유닛(6A)과, 제거 유닛(6A)을 청소 방향(101)(즉, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)가 연장되는 방향)으로 이동시키기 위한 구동 유닛(6B)을 갖는다. 제거 유닛(6A)은, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)를 따르는 청소 방향(101)으로 노즐 청소 부재(61)를 수반하여 이동함으로써, 립부(24)에 부착되는 부착물을 제거한다.

여기서, 구동 유닛(6B)은, 제거 유닛(6A)을 X축 방향으로 왕복 이동시키는(즉, 청소 방향(101)의 방향 및 그 반대 방향으로 이동시키는) 것이 가능하다. 또, 제거 유닛(6A)에 의한 제거 대상이 되는 부착물로는, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)에 부착될 수 있는 여러 가지의 물질을 들 수 있으며, 예를 들어, 도포액의 용질이 건조 및 고체화한 것, 미리 토출된 도포액 자체, 또는, 노즐 청소 장치(6)에 의한 청소 동작 전에 슬릿 노즐(2)에 대해서 토출된 린스액 등이 있다. 예를 들어, 도포액이 컬러 필터용의 포토레지스트인 경우에는, 도포액에 포함되는 안료가 부착물로서 슬릿 노즐(2)의 립부(24)에 부착된다.

또, 노즐 청소 장치(6)는, 노즐 청소 부재(61)를 세정하는 세정 유닛(6C)(도 3을 참조)을 구비한다. 세정 유닛(6C)은, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)에 부착되는 부착물을 닦아내어 제거한 후의 노즐 청소 부재(61)에 세정액을 공급함으로써, 노즐 청소 부재(61)에 부착되어 있는 부착물을 씻어낸다.

제거 유닛(6A)은 주로, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)에 대응하는 형상을 갖는 노즐 청소 부재(61)와, 노즐 청소 부재(61)를 지지하는 지지대(62)를 갖는다.

린스액이 공급되는 경우, 노즐 청소 부재(61)는, 슬릿 노즐(2)의 단부에 접촉하면서 슬라이딩함으로써, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)로부터 린스액을 제거한다. 이로써, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 부착물을 린스액과 함께 제거할 수 있다. 즉, 건조하여 고체화한 도포액 등의 부착물이 립부(24)의 경사면(26)에 부착되어 있는 경우, 린스액이 부착물을 어느 정도 용해하고, 또한, 당해 용해물(부착물)을 포함하는 린스액이 노즐 청소 부재(61)에 의해서 제거된다.

도 6에 예가 도시된 바와 같이, 노즐 청소 부재(61)는, 지지대(62)에 의해서 지지 가능한 베이스부(201)와, 베이스부(201)의 상면에 배치되는 지지부(202)와, 지지부(202)에 의해서 일체적으로 지지되는 스크레이퍼(205A), 스크레이퍼(205B) 및 스크레이퍼(205C)를 구비한다. 이하에서는, 스크레이퍼(205A), 스크레이퍼(205B) 및 스크레이퍼(205C)를 구별하지 않고, 단순히 「스크레이퍼(205)」로 칭하는 경우가 있다.

스크레이퍼(205A)는, 지지부(202)에 지지되는 본체부(203A)와, 본체부(203A)로부터 각각 연속적으로 연장되는 2개의 박판 부재(204A)를 갖는다. 또한, 도 6에서는, 박판 부재(204A)가 청소 방향(101)에 있어서 복수 배치되어 있는데, 박판 부재(204A)는 하나여도 된다.

박판 부재(204A)의 본체부(203A)와 연속하는 측과는 반대측의 단면은, 립부(24)의 경사면(26)(예를 들어, 경사면(26a))에 대해, 청소 방향(101)과 교차하는 방향으로부터 대략 평행하게 접촉한다. 또, 박판 부재(204A)의 2개의 주면은, 대략 청소 방향(101) 또는 그 역방향을 향하는 면이다.

또, 박판 부재(204A)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 본체부(203A)에 가까워짐에 따라 두꺼워진다. 또한, 박판 부재(204A)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 예를 들어, 1mm 이상, 또한, 2mm 이하이다.

박판 부재(204A)의 대략 청소 방향(101)(즉, 노즐 청소 부재(61)의 이동 방향)을 향하는 면과 립부(24)의 경사면(26)(예를 들어, 경사면(26a)) 사이의 이루는 각은, 둔각(예를 들어, 120°)이다. 또, 박판 부재(204A)의 청소 방향(101)을 향하는 면 중 본체부(203A)와 연속하는 부분은, 미리 정해진 곡률 반경(R)(예를 들어, 곡률 반경(R)이 1mm 이상, 또한, 5mm 이하)에 따라서 만곡하는 곡면이다. 박판 부재(204A)가 만곡하는 곡면을 갖는 것에 의해서, 긁어낸 액의 액 흐름(배액)이 부드러워진다. 또, 박판 부재(204A)의 선단이 휠 때의 강도를 유지할 수 있다. 바꿔 말하면, 박판 부재(204A)의 강도를 유지하면서, 그 선단을 휘게 할 수 있다.

스크레이퍼(205B)는, 지지부(202)에 지지되는 본체부(203B)와, 본체부(203B)로부터 각각 연속적으로 연장되는 2개의 박판 부재(204B)를 갖는다. 또한, 도 6에서는, 박판 부재(204B)가 청소 방향(101)에 있어서 복수 배치되어 있는데, 박판 부재(204B)는 하나여도 된다.

박판 부재(204B)의 본체부(203B)와 연속하는 측과는 반대측의 단면은, 립부(24)의 반대측의 경사면(26)(예를 들어, 경사면(26b))에 대해, 청소 방향(101)과 교차하는 방향으로부터 대략 평행하게 접촉한다. 또, 박판 부재(204B)의 2개의 주면은, 대략 청소 방향(101) 또는 그 역방향을 향하는 면이다.

또, 박판 부재(204B)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 본체부(203B)에 가까워짐에 따라 두꺼워진다. 또한, 박판 부재(204B)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 예를 들어, 1mm 이상, 또한, 2mm 이하이다.

박판 부재(204B)의 대략 청소 방향(101)을 향하는 면과 립부(24)의 반대측의 경사면(26)(예를 들어, 경사면(26b)) 사이의 이루는 각은, 둔각(예를 들어, 120°)이다. 또, 박판 부재(204B)의 청소 방향(101)을 향하는 면 중 본체부(203B)와 연속하는 부분은, 미리 정해진 곡률 반경(R)(예를 들어, 곡률 반경(R)이 1mm 이상, 또한, 5mm 이하)에 따라서 만곡하는 곡면이다. 박판 부재(204B)가 만곡하는 곡면을 갖는 것에 의해서, 긁어낸 액의 액 흐름(배액)이 부드러워진다. 또, 박판 부재(204B)의 선단이 휠 때의 강도를 유지할 수 있다. 바꿔 말하면, 박판 부재(204B)의 강도를 유지하면서, 그 선단을 휘게 할 수 있다.

스크레이퍼(205C)는, 지지부(202)에 지지되는 본체부(203C)와, 본체부(203C)로부터 각각 연속적으로 연장되는 3개의 박판 부재(204C)를 갖는다. 또한, 도 6에서는, 박판 부재(204C)가 청소 방향(101)에 있어서 복수 배치되어 있는데, 박판 부재(204C)는 하나여도 된다.

박판 부재(204C)의 본체부(203C)와 연속하는 측과는 반대측의 단면은, 립부(24)의 선단면(25)에 대해, 청소 방향(101)과 교차하는 방향으로 대략 평행하게 접촉한다. 또, 박판 부재(204C)의 2개의 주면은, 대략 청소 방향(101) 또는 그 역방향을 향하는 면이다.

또, 박판 부재(204C)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 본체부(203C)에 가까워짐에 따라 두꺼워진다. 또한, 박판 부재(204C)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 예를 들어, 1mm 이상, 또한, 2mm 이하이다.

박판 부재(204C)의 대략 청소 방향(101)을 향하는 면과 립부(24)의 반대측의 경사면(26)(예를 들어, 경사면(26b)) 사이의 이루는 각은, 둔각(예를 들어, 120°)이다. 또, 박판 부재(204C)의 청소 방향(101)을 향하는 면 중 본체부(203C)와 연속하는 부분은, 미리 정해진 곡률 반경(R)(예를 들어, 곡률 반경(R)이 1mm 이상, 또한, 5mm 이하)에 따라서 만곡하는 곡면이다. 박판 부재(204C)가 만곡하는 곡면을 갖는 것에 의해서, 긁어낸 액의 액 흐름(배액)이 부드러워진다. 또, 박판 부재(204C)의 선단이 휠 때의 강도를 유지할 수 있다. 바꿔 말하면, 박판 부재(204C)의 강도를 유지하면서, 그 선단을 휘게 할 수 있다.

또, 복수 구비된 것 중 적어도 하나의 박판 부재(204C)는, 박판 부재(204A) 및 박판 부재(204B)보다 청소 방향(101)의 상류측(즉, 청소 방향(101)으로 진행되는 제거 유닛(6A)에 있어서의 후방측)에 위치한다. 또, 박판 부재(204C)의 청소 방향(101)과 교차하는 방향에 있어서의 폭은, 본체부(203C)로부터 멀어짐에 따라 좁아진다.

각각의 스크레이퍼(205)는, 예를 들어, 수지제의 PEEK(폴리에테르에테르케톤), PPS(폴리페닐렌설파이드) 또는 PET(폴리에틸렌텔레프탈레이트) 등으로 형성된다. 또는, 각각의 스크레이퍼(205)는, 예를 들어, 록웰 경도 R110 이상, 또한, R130 이하이며, 바람직하게는, 록웰 경도 R120이다. 또는, 각각의 스크레이퍼(205)는, 굽힘 강도 30 이상, 또한, 50 이하이며, 바람직하게는, 굽힘 강도 41이다.

지지부(202)는, 본체부(203A), 본체부(203B) 및 본체부(203C) 사이의 상대적인 위치 관계가 고정되도록 지지하는데, 본체부(203A), 본체부(203B) 및 본체부(203C)의 각각은, 지지부(202)에 대한 위치가 조정 가능하다. 지지부(202)가 본체부(203A), 본체부(203B) 및 본체부(203C)를 일체적으로 지지하는 경우에는, 복수의 스크레이퍼(205)의 위치 조정을 동시에 행할 수 있기 때문에, 위치 조정이 간소화한다.

특히, 본체부(203A) 및 본체부(203B)는, 지지부(202)에 나사 및 볼트 등을 통해 연결되고, 또한, 지지부(202)에 대해서 Y축 방향으로 요동 가능하게 지지된다.

상기와 같은 구성인 노즐 청소 부재(61)는, 볼트 등에 의해서 지지대(62)에 착탈 자유롭게 고정된다.

도 5에 도시되는 지지대(62)는, 노즐 청소 부재(61)의 베이스부(201)의 하방에 토대(62A)를 갖는다. 그리고, 노즐 청소 부재(61)의 베이스부(201)는 토대(62A)에 의해서 승강 가능하게 지지되어 있다. 즉, 지지대(62)에서는, 토대(62A)의 상면으로부터 Z축 방향으로 연장되어 설치된 가이드 레일(62B)과, 토대(62A)와 베이스부(201) 사이에 설치된 탄성 가압 부재(62C)(예를 들어, 압축 스프링)가 설치되어 있다.

그리고, 가이드 레일(62B)이 베이스부(201)의 이동을 Z축 방향으로 안내하면서, 탄성 가압 부재(62C)가 토대(62A)에 대해서 베이스부(201)를 상방으로 탄성 가압한다. 그로 인해, 베이스부(201)를 포함하는 노즐 청소 부재(61)는, 탄성 가압 부재(62C)의 탄성 가압력에 의해 상방으로 탄성 가압된다.

또, 지지대(62)의 토대(62A)는, 구동 유닛(6B)에 장착되어 있다. 구동 유닛(6B)은, X축 방향에 있어서 슬릿 노즐(2)의 양 외측에 배치된 한 쌍의 롤러(651A) 및 롤러(651B)와, 롤러(651A) 및 롤러(651B)에 걸쳐져 있는 무단(無端) 벨트(652)를 갖는다. 그리고, 무단 벨트(652)의 상면에는, 지지대(62)의 토대(62A)가 장착되어 있다.

이와 같이 구성된 구동 유닛(6B)은, 롤러(651A) 및 롤러(651B)를 회전시켜 무단 벨트(652)의 상면을 X축 방향으로 구동하고, 지지대(62)에 수반하여 노즐 청소 부재(61)를 X축 방향(구체적으로는, 청소 방향(101))으로 이동시킨다.

그리고, 이상과 같이 구성된 노즐 청소 장치(6)는, 노즐 세정 위치(Y1)에 위치하는 슬릿 노즐(2)의 립부(24)에 노즐 청소 부재(61)를 하방으로부터 근접시키면서 노즐 청소 부재(61)를 청소 방향(101)으로 이동시킴으로써, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)를 클리닝한다.

〈노즐 청소 장치의 동작에 대해〉

도 7은, 노즐 청소 장치가 행하는 클리닝 처리의 예를 나타낸 플로차트이다. 도 7의 플로차트는, 제어부(8)가 도포 장치(1)의 각각의 작동부를 제어함으로써 실행된다.

우선, 구동 유닛(6B)에 의한 구동에 의해서, 제거 유닛(6A)이 청소 개시 위치(P1)로 이동한다(도 7의 단계 ST101). 청소 개시 위치(P1)는, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 청소 방향(101)의 상류 단부(20A)에 대응하여 설정되어 있고, 제거 유닛(6A)이 청소 개시 위치(P1)에 위치하는 상태에 있어서, 노즐 청소 부재(61)는, 립부(24)의 상류 단부(20A)에 하방으로부터 대향한다(도 5와 동일한 위치).

또한, 토출구(21)는 X축 방향에 있어서 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 전체 길이보다 짧기 때문에, 슬릿 노즐(2)의 X축 방향의 양단, 즉, 청소 방향(101)의 상류 단부(20A) 및 하류 단부(20B)의 각각에서는 토출구(21)가 개구하지 않는다. 즉, 단계 ST101에서는, 슬릿 노즐(2)의 립부(24) 중, 토출구(21)보다 청소 방향(101)의 상류측의 상류 단부(20A)에 노즐 청소 부재(61)가 대향한다.

또, 단계 ST101에 있어서는, 슬릿 노즐(2)은 상방 위치에 위치하고 있고, 립부(24)의 상류 단부(20A)와, 이것에 대향하는 노즐 청소 부재(61)는 Z축 방향으로 이격되어 있다.

청소 개시 위치(P1)로의 제거 유닛(6A)의 이동이 완료하면, 다음으로, 슬릿 노즐(2)은 토출구(21)로부터 미리 정해진 양의 도포액을 토출한다(도 7의 단계 ST102). 여기에서의 도포액의 토출은, 클리닝 처리에 이어 실행되는 도포 처리 전에 토출구(21)의 전역을 도포액으로 채우는 것을 목적으로 하고 있는데, 당해 토출은 필수는 아니다.

다음으로, 상방 위치보다 낮은 하방 위치로 슬릿 노즐(2)이 하강한다(도 7의 단계 ST103). 슬릿 노즐(2)이 하강을 개시하면, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)와 노즐 청소 부재(61) 사이의 간격이 좁아져, 박판 부재(204A)의 본체부(203A)와 연속하는 측과는 반대측의 단면 및 박판 부재(204B)의 본체부(203B)와 연속하는 측과는 반대측의 단면이, 립부(24)의 2개의 경사면(26)에 접촉한다. 또, 박판 부재(204C)의 본체부(203C)와 연속하는 측과는 반대측의 단면이, 립부(24)의 선단면(25)에 접촉한다.

그리고, 슬릿 노즐(2)은 더욱 하강하여, 탄성 가압 부재(62C)의 탄성 가압력에 저항해 노즐 청소 부재(61)를 하방으로 누른다. 따라서, 탄성 가압 부재(62C)의 탄성 가압력에 의해서, 박판 부재(204A) 및 박판 부재(204B)의 단면이 립부(24)의 2개의 경사면(26)에 눌린다. 또, 탄성 가압 부재(62C)의 탄성 가압력에 의해서, 박판 부재(204C)의 단면이 립부(24)의 선단면(25)에 눌린다.

계속해서, 구동 유닛(6B)이 청소 방향(101)에 제거 유닛(6A)을 구동함으로써, 노즐 청소 부재(61)를 청소 방향(101)으로 이동시킨다(단계 ST104).

립부(24)에 대해서 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C)의 각각의 단면이 접촉하면서 청소 방향(101)으로 이동하는 노즐 청소 부재(61)는, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)로부터 하방으로 토출된 도포액을 긁어내고, 토출구(21)를 채우는 도포액의 하부를 청소 방향(101)을 따라서 평균화한다.

그리고, 제거 유닛(6A)이 청소 종료 위치(P2)에 도달하고, 노즐 청소 부재(61)가 슬릿 노즐(2)보다 청소 방향(101)의 하류측으로 이동하면, 구동 유닛(6B)이 제거 유닛(6A)을 정지시킨다(단계 ST105).

도 8은, 상기의 공정 중 단계 ST104에 있어서의, 경사면(26a)과 박판 부재(204A)가 접촉하여 부착물(예를 들어, 슬릿 노즐(2)에 부착되어 있어 건조 고체화한 후의 도포액이, 윤활용의 도포액에 용해된 것)을 제거하는 경우의 상세를 도시한 도면이다. 또한, 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C)가 립부(24)와 접촉하는 양태도 거의 동일하다.

도 8에 예가 도시된 바와 같이, 박판 부재(204A)의 본체부(203A)와 연속하는 측과는 반대측의 단면(214A)은, 립부(24)의 경사면(26a)에 대해, 청소 방향(101)과 교차하는 방향(101A)으로부터 대략 평행하게 접촉한다.

또, 박판 부재(204A)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 본체부(203A)에 가까워짐에 따라 두꺼워진다. 특히, 박판 부재(204A)의 청소 방향(101)을 향하는 면(224A) 중 본체부(203A)와 연속하는 부분의 면(234A)은, 미리 정해진 곡률 반경(R)에 따라서 만곡하는 곡면이다. 또, 면(224A)과 경사면(26a) 사이의 이루는 각(θ)은, 둔각이다.

상기와 같이 경사면(26a)과 박판 부재(204A)가 접촉한 상태로 노즐 청소 부재(61)가 청소 방향(101)으로 이동하면, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)에 부착되어 있는 부착물(300)이 박판 부재(204A)로 긁어내어져 제거된다.

이때, 박판 부재(204A)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는 단면(214A) 측에서 얇아져 있기 때문에, 박판 부재(204A)는, 경질의 재료로 형성되어 있음에도 불구하고 다소 만곡한다. 한편, 박판 부재(204A)의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 본체부(203A)와 연속하는 측에서는 두꺼워져 있기 때문에, 박판 부재(204A)의 강도의 저하도 억제된다. 따라서, 박판 부재(204A)는, 슬라이딩에 의한 마모를 억제하면서, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 형상에 따라 변형하여, 부착물(300)을 효과적으로 긁어낼 수 있다. 또, 박판 부재(204A)에 의하면, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)에 있어서의 손상을 억제할 수도 있다.

또, 면(224A)과 경사면(26a) 사이의 이루는 각(θ)이 둔각이기 때문에, 부착물(300)은 부드럽게 스크레이퍼(205A)의 박판 부재(204A) 측으로부터 본체부(203A) 측으로 흐른다. 따라서, 배액성이 향상한다.

또, 면(234A)이 미리 정해진 곡률 반경(R)에 따라서 만곡하고 있기 때문에, 긁어낸 부착물(300)이 박판 부재(204A)의 근원 부분(즉, 박판 부재(204A)와 본체부(203A)가 연속하는 부분)에 모이는 것을 억제할 수 있고, 긁어낸 부착물(300)을 부드럽게 흐르게 할 수 있다. 따라서, 스크레이퍼(205A) 자체의 오염도 억제되고, 세정도 용이해진다.

도 9는, 상기의 공정 중 단계 ST104에 있어서의, 립부(24)와 3개의 박판 부재가 접촉하는 양태를 도시한 도면이다.

도 9에 예가 도시된 바와 같이, 립부(24)의 2개의 경사면(26) 각각에 대응하는 스크레이퍼(205A) 및 스크레이퍼(205B)가 접촉하고, 또한, 립부(24)의 선단면(25)에 스크레이퍼(205C)가 접촉하고 있다.

또, 스크레이퍼(205C)(구체적으로는 박판 부재)의 청소 방향(101)과 교차하는 방향에 있어서의 폭은, 본체부측으로부터 멀어짐에 따라 좁아진다. 또한, 스크레이퍼(205C)(구체적으로는 박판 부재)의 선단부의 폭은, 선단면(25)에 설치된 토출구의 폭보다 넓은 것으로 한다.

이 경우, 청소 방향(101)을 따르는 방향에서 보면, 스크레이퍼(205C)가 스크레이퍼(205A) 및 스크레이퍼(205B)와 일부 겹쳐서 배치되나, 이들 스크레이퍼(205)는 청소 방향(101)에 있어서는 배치가 어긋나 있기 때문에, 서로 접촉하고 있지는 않다.

여기서, 도포액의 긁어냄 불량을 억제하기 위해서, 스크레이퍼(205)의, 립부(24)와 접촉하는 단면의 폭(D1), 폭(D2) 및 폭(D3) 중 적어도 하나를, 대응하는 립부(24)의 폭보다 넓게 해도 된다. 구체적으로는, 스크레이퍼(205A)의 단면의 폭(D1)을, 스크레이퍼(205A)가 접촉하는 립부(24)의 경사면(26)의 폭보다 넓게 하고, 스크레이퍼(205B)의 단면의 폭(D2)을, 스크레이퍼(205B)가 접촉하는 립부(24)의 경사면(26)의 폭보다 넓게 하며, 또는, 스크레이퍼(205C)의 단면의 폭(D3)을, 스크레이퍼(205C)가 접촉하는 립부(24)의 선단면(25)의 폭보다 넓게 할 수 있다.

〈제2 실시 형태〉

이하, 본 실시 형태에 관한 도포 장치, 노즐 청소 장치, 스크레이퍼, 및, 노즐 청소 방법에 대해 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서는, 이상에 기재된 실시 형태에서 설명된 구성 요소와 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 붙여 도시하며, 그 상세한 설명에 대해서는 적당히 생략하는 것으로 한다.

〈노즐 청소 장치의 구성에 대해〉

도 10은, 노즐 청소 장치에 이용되는 노즐 청소 부재의 구성의 변형예를 도시한 사시도이다. 도 10에 예가 도시된 바와 같이, 노즐 청소 부재(61A)는, 베이스부(201)와, 지지부(202)와, 스크레이퍼(205A), 스크레이퍼(205B) 및 스크레이퍼(205C)와, 린스 노즐(700)을 구비한다.

린스 노즐(700)은, 베이스부(201)의 하방에 있어서의 도시하지 않은 린스액 공급원으로부터 공급되는 린스액을, 슬릿 노즐(2)에 공급한다.

〈노즐 청소 장치의 동작에 대해〉

도 11은, 노즐 청소 장치가 행하는 클리닝 처리의 예를 나타낸 플로차트이다. 도 11의 플로차트는, 제어부(8)가 도포 장치의 각각의 작동부를 제어함으로써 실행된다.

우선, 구동 유닛(6B)에 의한 구동에 의해서, 제거 유닛(6A)이 청소 개시 위치(P1)로 이동한다(도 11의 단계 ST101). 청소 개시 위치(P1)는, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 청소 방향(101)의 상류 단부(20A)에 대응하여 설정되어 있고, 제거 유닛(6A)이 청소 개시 위치(P1)에 위치하는 상태에 있어서, 노즐 청소 부재(61)는, 립부(24)의 상류 단부(20A)에 하방으로부터 대향한다(도 5와 동일한 위치).

또, 단계 ST101에 있어서는, 슬릿 노즐(2)은 상방 위치에 위치하고 있고, 립부(24)의 상류 단부(20A)와, 이것에 대향하는 노즐 청소 부재(61)와는 Z축 방향으로 이격되어 있다.

청소 개시 위치(P1)로의 제거 유닛(6A)의 이동이 완료하면, 다음으로, 상방 위치보다 낮은 하방 위치로 슬릿 노즐(2)이 하강한다(도 11의 단계 ST103). 슬릿 노즐(2)이 하강을 개시하면, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)와 노즐 청소 부재(61) 사이의 간격이 좁아져, 박판 부재(204A)의 본체부(203A)와 연속하는 측과는 반대측의 단면 및 박판 부재(204B)의 본체부(203B)와 연속하는 측과는 반대측의 단면이, 립부(24)의 2개의 경사면(26)에 접촉한다. 또, 박판 부재(204C)의 본체부(203C)와 연속하는 측과는 반대측의 단면이, 립부(24)의 선단면(25)에 접촉한다.

슬릿 노즐(2)의 하강이 완료되면, 도시하지 않은 린스액 공급원으로부터 슬릿 노즐(2)의 립부(24)와 노즐 청소 부재(61) 사이로 린스액이 공급된다(단계 ST106). 린스액의 단위 시간당 공급량은, 립부(24)의 선단면(25)보다 상방에 린스액의 액면이 유지되어 립부(24)의 경사면(26)에 린스액이 부착되는 정도가 바람직하다. 또한, 린스액으로는 여러 가지의 액체를 이용할 수 있고, 예를 들어, 도포액을 조성하는 용매여도 된다. 이 경우, 용매인 린스액에 용질을 녹인 용액이 도포액이 된다.

계속해서, 구동 유닛(6B)이 청소 방향(101)으로 제거 유닛(6A)을 구동함으로써, 노즐 청소 부재(61)를 청소 방향(101)으로 이동시킨다(단계 ST104). 노즐 청소 부재(61)의 이동 중은, 립부(24)와 노즐 청소 부재(61) 사이로 린스액의 공급이 계속되고 있다.

립부(24)에 대해서 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C)의 각각의 단면이 접촉하면서 청소 방향(101)으로 이동하는 노즐 청소 부재(61)는, 부착물(예를 들어, 슬릿 노즐(2)에 부착되어 있어 건조 고체화한 후의 도포액이, 윤활용의 린스액에 용해된 것)을 립부(24)의 경사면(26) 및 선단면(25)으로부터 제거한다.

그리고, 제거 유닛(6A)이 청소 종료 위치(P2)에 도달하고, 노즐 청소 부재(61)가 슬릿 노즐(2)보다 청소 방향(101)의 하류측으로 이동하면, 구동 유닛(6B)이 제거 유닛(6A)을 정지시킨다(단계 ST105). 또, 린스액의 공급도 정지된다(단계 ST107).

〈이상으로 기재된 실시 형태에 의해서 생기는 효과에 대해〉

다음으로, 이상으로 기재된 실시 형태에 의해서 생기는 효과의 예를 개시한다. 또한, 이하의 설명에 있어서는, 이상으로 기재된 실시 형태에 예가 개시된 구체적인 구성에 의거하여 당해 효과가 기재되나, 동일한 효과가 생기는 범위에서, 본원 명세서에 예가 개시되는 다른 구체적인 구성과 치환되어도 된다.

이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 노즐 청소 장치(6)는, 노즐 청소 부재(61)를 갖는 제거 유닛(6A)과, 이동 기구를 구비한다. 여기서, 이동 기구는, 예를 들어, 구동 유닛(6B)에 대응하는 것이다. 노즐 청소 부재(61)는, 슬릿 노즐(2)의 단부에 접촉 가능하다. 구동 유닛(6B)은, 노즐 청소 부재(61)를 슬릿 노즐(2)의 단부에 접촉시키면서, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)가 연장되는 방향인 제1 방향을 따라서 노즐 청소 부재(61)를 이동시킨다. 여기서, 제1 방향은, 예를 들어, 청소 방향(101) 및 그 반대 방향에 대응하는 것이다. 노즐 청소 부재(61)는, 적어도 하나의 제1 스크레이퍼와, 적어도 하나의 제2 스크레이퍼와, 적어도 하나의 제3 스크레이퍼와, 지지부(202)를 구비한다. 여기서, 제1 스크레이퍼는, 예를 들어, 스크레이퍼(205A)에 대응하는 것이다. 또, 제2 스크레이퍼는, 예를 들어, 스크레이퍼(205B)에 대응하는 것이다. 또, 제3 스크레이퍼는, 예를 들어, 스크레이퍼(205C)에 대응하는 것이다. 스크레이퍼(205A)는, 제1 본체부와, 제1 박판 부재를 구비한다. 여기서, 제1 본체부는, 예를 들어, 본체부(203A)에 대응하는 것이다. 또, 제1 박판 부재는, 예를 들어, 박판 부재(204A)에 대응하는 것이다. 박판 부재(204A)는, 본체부(203A)로부터 연장된다. 또, 박판 부재(204A)는, 제1 방향과 교차하는 방향인 제2 방향으로부터 슬릿 노즐(2)의 단부의 제1 측면에 접촉 가능하다. 여기서, 제2 방향은, 예를 들어, 방향(101A)에 대응하는 것이다. 또, 제1 측면은, 예를 들어, 경사면(26a) 등에 대응하는 것이다. 스크레이퍼(205B)는, 제2 본체부와, 제2 박판 부재를 구비한다. 여기서, 제2 본체부는, 예를 들어, 본체부(203B)에 대응하는 것이다. 또, 제2 박판 부재는, 예를 들어, 박판 부재(204B)에 대응하는 것이다. 박판 부재(204B)는, 본체부(203B)로부터 연장된다. 또, 박판 부재(204B)는, 제2 방향으로부터 슬릿 노즐(2)의 단부의 제1 측면과는 반대측의 제2 측면에 접촉 가능하다. 여기서, 제2 측면은, 예를 들어, 경사면(26b) 등에 대응하는 것이다. 스크레이퍼(205C)는, 제3 본체부와, 제3 박판 부재를 구비한다. 여기서, 제3 본체부는, 예를 들어, 본체부(203C)에 대응하는 것이다. 또, 제3 박판 부재는, 예를 들어, 박판 부재(204C)에 대응하는 것이다. 박판 부재(204C)는, 본체부(203C)로부터 연장된다. 또, 박판 부재(204C)는, 제2 방향으로부터 슬릿 노즐(2)의 단부의 하면(선단면(25))에 접촉 가능하다. 지지부(202)는, 스크레이퍼(205A), 스크레이퍼(205B) 및 스크레이퍼(205C)를 지지한다.

이러한 구성에 의하면, 슬릿 노즐(2)의 청소 부재로서 경질의 재료를 이용함으로써 슬라이딩에 의한 마모를 억제하는 경우에도, 각각의 본체부로부터 연장되는 박판 부재에 의해서 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)에 대한 추종성의 저하를 억제할 수 있다. 또, 구체적으로는, 스크레이퍼(205A), 스크레이퍼(205B) 및 스크레이퍼(205C)의 각각이 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)에 접촉하면서 슬라이딩함으로써 토출구(21)의 주위 부분에 있어서의 부착물을 제거하기 때문에, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 형상이 변경되는 경우에도, 각각의 스크레이퍼의 지지부(202)에 대한 위치를 조정함으로써, 립부(24)의 형상에 유연하게 대응하여 부착물을 제거할 수 있다.

또한, 상기의 구성에 본원 명세서에 예가 개시된 다른 구성을 적당히 추가한 경우, 즉, 상기의 구성으로서는 언급되지 않았던 본원 명세서 중의 다른 구성이 적당히 추가된 경우에도, 동일한 효과를 발생시킬 수 있다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 박판 부재(204A)의 두께, 박판 부재(204B)의 두께 및 박판 부재(204C)의 두께 중 적어도 하나는, 대응하는 본체부(203A), 본체부(203B) 또는 본체부(203C)에 가까워짐에 따라 두꺼워진다. 이러한 구성에 의하면, 박판 부재의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는 단면측에서 상대적으로 얇아져 있기 때문에, 박판 부재는 다소 만곡한다. 한편, 박판 부재의 청소 방향(101)에 있어서의 두께는, 본체부와 연속하는 측에서는 상대적으로 두꺼워져 있기 때문에, 박판 부재의 강도의 저하도 억제된다. 따라서, 박판 부재는, 슬라이딩에 의한 마모를 억제하면서, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 형상에 따라 변형하여, 부착물을 효과적으로 긁어낼 수 있다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 박판 부재(204A)의 두께, 박판 부재(204B)의 두께 및 박판 부재(204C)의 두께 중 적어도 하나는, 대응하는 본체부(203A), 본체부(203B) 또는 본체부(203C)에 가까워짐에 따라, 1mm 이상 또한 5mm 이하의 곡률 반경에 따라서 두꺼워진다. 이러한 구성에 의하면, 긁어낸 부착물이 박판 부재의 근원 부분에 모이는 것을 억제할 수 있고, 긁어낸 부착물을 부드럽게 흐르게 할 수 있다. 따라서, 스크레이퍼 자체의 오염도 억제되고 세정도 용이해진다. 또, 곡률 반경(R)을 조정함으로써, 박판 부재의 강도와 박판 부재의 만곡도를 조정할 수 있다. 구체적으로는, 곡률 반경(R)이 크면 박판 부재의 강도가 높아지고, 곡률 반경(R)이 작으면, 박판 부재의 만곡도가 높아진다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C) 중 적어도 하나는, 록웰 경도 R110 이상 또한 R130 이하이며, 또한, 굽힘 강도 30 이상 또한 50 이하이다. 이러한 구성에 의하면, 따라서, 박판 부재는, 슬라이딩에 의한 마모를 억제하면서, 슬릿 노즐(2)의 립부(24)의 형상에 따라 변형하여, 부착물을 효과적으로 긁어낼 수 있다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 제1 방향에 있어서, 스크레이퍼(205A), 스크레이퍼(205B) 및 스크레이퍼(205C) 중 적어도 하나를 복수 구비한다. 이러한 구성에 의하면, 제거 유닛(6A)의 1회의 슬라이딩으로 제거 가능한 부착물의 양을 증대시킬 수 있다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C) 중 적어도 하나의, 노즐 청소 부재(61)가 이동하는 방향을 향하는 면과 슬릿 노즐(2)의 단부가 이루는 각이 둔각이다. 이러한 구성에 의하면, 부착물은 부드럽게 박판 부재측으로부터 본체부측으로 흐르기 때문에, 배액성이 향상한다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 박판 부재(204C)는, 박판 부재(204A) 및 박판 부재(204B)보다, 노즐 청소 부재(61)가 이동하는 방향에 있어서의 상류측에 위치한다. 이러한 구성에 의하면, 박판 부재(204A) 및 박판 부재(204B)에 의해서 립부(24)의 선단면(25)으로 떠내려간 부착물에 대해서도, 청소 방향(101)으로 진행되는 제거 유닛(6A)의 후방에 위치하는 박판 부재(204C)에 의해서 효과적으로 제거할 수 있다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 도포 장치(1)는, 슬릿형상의 토출구(21)로부터 도포액을 토출하는 슬릿 노즐(2)과, 상기의 노즐 청소 장치를 구비한다. 이러한 구성에 의하면, 슬릿 노즐(2)의 청소 부재로서 경질의 재료를 이용함으로써 슬라이딩에 의한 마모를 억제하는 경우에도, 각각의 본체부로부터 연장되는 박판 부재에 의해서 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)에 대한 추종성의 저하를 억제할 수 있다.

이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 노즐 청소 방법에 있어서, 슬릿 노즐(2)의 단부에 접촉 가능한 노즐 청소 부재(61)를 슬릿 노즐(2)의 단부에 접촉시키면서, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)가 연장되는 방향인 제1 방향을 따라서 노즐 청소 부재(61)를 이동시키는 공정을 구비한다. 여기서, 노즐 청소 부재(61)는, 적어도 하나의 스크레이퍼(205A)와, 적어도 하나의 스크레이퍼(205B)와, 적어도 하나의 스크레이퍼(205C)와, 지지부(202)를 구비한다.

이러한 구성에 의하면, 슬릿 노즐(2)의 청소 부재로서 경질의 재료를 이용함으로써 슬라이딩에 의한 마모를 억제하는 경우에도, 각각의 본체부로부터 연장되는 박판 부재에 의해서 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)에 대한 추종성의 저하를 억제할 수 있다.

또한, 특별한 제한이 없는 경우에는, 각각의 처리가 행해지는 순서는 변경할 수 있다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 스크레이퍼(205C)는, 본체부(203C)와, 본체부(203C)로부터 연장되고, 또한, 토출구(21)가 연장되는 방향과 교차하는 방향으로부터 슬릿 노즐(2)의 단부에 접촉 가능한 박판 부재(204C)를 구비한다. 이러한 구성에 의하면, 슬릿 노즐(2)의 청소 부재로서 경질의 재료를 이용함으로써 슬라이딩에 의한 마모를 억제하는 경우에도, 본체부(203C)로부터 연장되는 박판 부재(204C)에 의해서 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)에 대한 추종성의 저하를 억제할 수 있다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 의하면, 박판 부재(204C)의 토출구(21)가 연장되는 방향과 교차하는 방향에 있어서의 폭은, 본체부(203C)로부터 멀어짐에 따라 좁아진다. 이러한 구성에 의하면, 박판 부재(204C)가 박판 부재(204A) 및 박판 부재(204B)와 간섭하는 것을 피하면서, 본체부(203C)와 연속하는 측에서 박판 부재(204C)의 폭을 넓게 하면 박판 부재(204C)의 강도의 저하를 억제할 수 있다.

〈이상으로 기재된 실시 형태의 변형예에 대해〉

상기의 실시 형태에서는, 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C)가, 대응하는 본체부에 가까워짐에 따라 두께가 두꺼워지는 취지가 기재되었는데, 대응하는 본체부에 가까워짐에 따라 두께가 변화하지 않는 박판 부재가 포함되어 있어도 된다.

또, 상기의 실시 형태에서는, 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C)가, 대응하는 본체부에 가까워짐에 따라 미리 정해진 곡률 반경(R)에 따라서 두께가 두꺼워지는 취지가 기재되었는데, 대응하는 본체부에 가까워짐에 따라 두께가 변화하지 않는 박판 부재가 포함되어 있어도 된다.

또, 상기의 실시 형태에서는, 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C)의 청소 방향(101)을 향하는 면과 립부(24)가 이루는 각이 둔각인 취지가 기재되었는데, 당해 각이 둔각이 아닌 박판 부재가 포함되어 있어도 된다.

또, 상기의 실시 형태에서는, 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C)가 일체적으로 지지되어 이용되었는데, 박판 부재(204A), 박판 부재(204B) 및 박판 부재(204C) 중 어느 하나를 구비한 경우여도 된다.

또, 상기의 실시 형태에서는, 각각의 구성 요소의 재질, 재료, 치수, 형상, 상대적 배치 관계 또는 실시 조건 등에 대해서도 기재하는 경우가 있는데, 이들은 모든 국면에 있어서 하나의 예이며, 본원 명세서에 기재된 것에 한정되는 것은 아닌 것으로 한다.

따라서, 예가 개시되어 있지 않은 무수한 변형예, 및, 균등물이, 본원 명세서에 개시되는 기술의 범위 내에 있어서 상정된다. 예를 들어, 적어도 하나의 구성 요소를 변형하는 경우, 추가하는 경우 또는 생략하는 경우가 포함되는 것으로 한다.

또, 이상으로 기재된 실시 형태에 있어서, 특별히 지정되지 않고 재료명 등이 기재되었을 경우에는, 모순이 생기지 않는 한, 당해 재료에 다른 첨가물이 포함된, 예를 들어, 합금 등이 포함되는 것으로 한다.

1 도포 장치
2 슬릿 노즐
3 기판
4 스테이지
5 도포 처리부
6 노즐 청소 장치
6A 제거 유닛
6B 구동 유닛
6C 세정 유닛
8 제어부
20A 상류 단부
20B 하류 단부
21 토출구
22 기부
23 내부 유로
24 립부
25 선단면
26, 26a, 26b 경사면
31 상면
41 유지면
51 노즐 지지체
51a 고정 부재
51b 승강 기구
52, 62B 가이드 레일
53 슬릿 노즐 이동부
54 리니어 모터
54a 고정자
54b 이동자
55 리니어 엔코더
55a 스케일부
55b 검출부
61 노즐 청소 부재
62 지지대
62A 토대
62C 탄성 가압 부재
100 노즐 조정 영역
101 청소 방향
101A 방향
201 베이스부
202 지지부
203A, 203B, 203C 본체부
204A, 204B, 204C 박판 부재
205, 205A, 205B, 205C 스크레이퍼
214A 단면
224A, 234A 면
300 부착물
651A, 651B 롤러
652 무단 벨트
700 린스 노즐

Claims

슬릿형상의 토출구가 설치되는 슬릿 노즐의 단부를 청소하는 노즐 청소 장치로서,
상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉 가능한 노즐 청소 부재와,
상기 노즐 청소 부재를 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉시키면서, 상기 슬릿 노즐의 상기 토출구가 연장되는 방향인 제1 방향을 따라서 상기 노즐 청소 부재를 이동시키는 이동 기구를 구비하고,
상기 노즐 청소 부재는,
제1 본체부와, 상기 제1 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제1 방향과 교차하는 방향인 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 제1 측면에 접촉 가능한 제1 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제1 스크레이퍼와,
제2 본체부와, 상기 제2 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 상기 제1 측면과는 반대측의 제2 측면에 접촉 가능한 제2 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제2 스크레이퍼와,
제3 본체부와, 상기 제3 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 하면에 접촉 가능한 제3 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제3 스크레이퍼와,
상기 제1 스크레이퍼, 상기 제2 스크레이퍼 및 상기 제3 스크레이퍼를 지지하는 지지부를 구비하는,
노즐 청소 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 박판 부재의 두께, 상기 제2 박판 부재의 두께 및 상기 제3 박판 부재의 두께 중 적어도 하나는, 대응하는 상기 제1 본체부, 상기 제2 본체부 또는 상기 제3 본체부에 가까워짐에 따라 두꺼워지는, 노즐 청소 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 박판 부재, 상기 제2 박판 부재 및 상기 제3 박판 부재 중 적어도 하나의, 상기 노즐 청소 부재가 이동하는 방향을 향하는 면의 대응하는 상기 제1 본체부, 상기 제2 본체부 또는 상기 제3 본체부와 연속하는 부분은, 만곡하는 곡면인, 노즐 청소 장치.
청구항 2에 있어서,
상기 제1 박판 부재의 두께, 상기 제2 박판 부재의 두께 및 상기 제3 박판 부재의 두께 중 적어도 하나는, 대응하는 상기 제1 본체부, 상기 제2 본체부 또는 상기 제3 본체부에 가까워짐에 따라, 1mm 이상 또한 5mm 이하의 곡률 반경에 따라서 두꺼워지는, 노즐 청소 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 박판 부재, 상기 제2 박판 부재 및 상기 제3 박판 부재 중 적어도 하나는, 록웰 경도 R110 이상 또한 R130 이하이며, 또한, 굽힘 강도 30 이상 또한 50 이하인, 노즐 청소 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 방향에 있어서, 상기 제1 스크레이퍼, 상기 제2 스크레이퍼 및 상기 제3 스크레이퍼 중 적어도 하나를 복수 구비하는, 노즐 청소 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 박판 부재, 상기 제2 박판 부재 및 상기 제3 박판 부재 중 적어도 하나의, 상기 노즐 청소 부재가 이동하는 방향을 향하는 면과 상기 슬릿 노즐의 단부가 이루는 각이 둔각인, 노즐 청소 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제3 박판 부재는, 상기 제1 박판 부재 및 상기 제2 박판 부재보다, 상기 노즐 청소 부재가 이동하는 방향에 있어서의 상류측에 위치하는, 노즐 청소 장치.
슬릿형상의 토출구로부터 도포액을 토출하는 슬릿 노즐과,
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 노즐 청소 장치를 구비하는,
도포 장치.
슬릿형상의 토출구가 설치되는 슬릿 노즐의 단부를 청소하는 노즐 청소 방법으로서,
상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉 가능한 노즐 청소 부재를 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉시키면서, 상기 슬릿 노즐의 상기 토출구가 연장되는 방향인 제1 방향을 따라서 상기 노즐 청소 부재를 이동시키는 공정을 구비하고,
상기 노즐 청소 부재는,
제1 본체부와, 상기 제1 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제1 방향과 교차하는 방향인 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 제1 측면에 접촉 가능한 제1 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제1 스크레이퍼와,
제2 본체부와, 상기 제2 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 상기 제1 측면과는 반대측의 제2 측면에 접촉 가능한 제2 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제2 스크레이퍼와,
제3 본체부와, 상기 제3 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 제2 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부의 하면에 접촉 가능한 제3 박판 부재를 구비하는 적어도 하나의 제3 스크레이퍼와,
상기 제1 스크레이퍼, 상기 제2 스크레이퍼 및 상기 제3 스크레이퍼를 지지하는 지지부를 구비하는,
노즐 청소 방법.
슬릿형상의 토출구가 설치되는 슬릿 노즐의 단부를 청소하기 위한 스크레이퍼로서,
본체부와,
상기 본체부로부터 연장되고, 또한, 상기 토출구가 연장되는 방향과 교차하는 방향으로부터 상기 슬릿 노즐의 단부에 접촉 가능한 박판 부재를 구비하는,
스크레이퍼.
청구항 11에 있어서,
상기 박판 부재의 상기 토출구가 연장되는 방향과 교차하는 방향에 있어서의 폭은, 상기 본체부로부터 멀어짐에 따라 좁아지는, 스크레이퍼.