KR20210079614A - 유기발광 표시장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시장치는 화상을 표시하도록 구획된 표시 영역 및 표시 영역 주위의 비표시 영역을 구비하는 기판을 포함한다. 표시 영역 내부에는 카메라 배치구역이 마련되고 비표시 영역에는 패널 식별 구역이 마련될 수 있다. 카메라 배치구역과 패널 식별 구역을 덮는 상부 보호막을 포함할 수 있다.

Description

유기발광 표시장치{Organic Light Emitting Display Apparatus}
본 명세서는 유기발광 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 본 명세서는 카메라가 표시 영역에 배치된 표시장치의 패널 ID에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라, 화상을 표시하는 디스플레이 장치에 대한 요구가 증가하고 있으며, 액정 디스플레이 장치, 유기발광 디스플레이 장치 등과 같은 다양한 유형의 디스플레이 장치가 활용된다.
디스플레이 장치는, 다수의 서브픽셀이 배치되며 영상을 표시하는 디스플레이 패널과, 디스플레이 패널에 배치된 서브픽셀을 구동하기 위한 각종 구동 회로를 포함할 수 있다.
또한, 디스플레이 장치는, 영상을 표시하는 기능 이외에 디스플레이 패널에 접근하는 물체를 감지하고 감지 정보를 기반으로 입력 처리를 수행하거나, 디스플레이 패널에 접근한 물체를 촬영하고 촬영된 영상이나 이미지를 디스플레이 패널을 통해 표시하는 기능을 제공할 수 있다.
따라서, 디스플레이 장치는, 요구되는 기능에 따라 근접 센서나 카메라 센서 등과 같은 센서를 포함할 수 있다. 그리고, 이러한 센서는, 일 예로, 디스플레이 패널에서 영상이 표시되지 않는 베젤 영역에 배치될 수 있다.
또는, 경우에 따라, 디스플레이 패널의 베젤 영역의 증가를 방지하기 위하여, 디스플레이 패널에서 영상이 표시되는 액티브 영역 내의 일부 영역에 카메라 센서 등이 위치할 수 있다.
이와 같이, 액티브 영역 내에 카메라 센서 등을 배치시키기 위한 홀을 위치시키는 경우 발생하는 문제를 해결하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다.
본 명세서는 표시 영역 내부에 촬영 장치(카메라 등)를 배치하기 위한 구조를 제공하는 것을 목적으로 한다. 더 나아가 본 명세서는 상기 배치 구조에서 발생할 수 있는 취약점을 개선하는 방안을 제공하려 한다.
본 명세서의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
전술한 바와 같이 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시장치는 화상을 표시하도록 구획된 표시 영역 및 표시 영역 주위의 비표시 영역을 구비하는 기판을 포함한다. 표시 영역 내부에는 카메라 배치구역이 마련되고 비표시 영역에는 패널 식별 구역이 마련될 수 있다. 카메라 배치구역과 패널 식별 구역을 덮는 상부 보호막을 포함할 수 있다.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어있다.
본 명세서의 실시예에 따른 유기발광 표시장치는 기판의 비표시 영역에 배치된 패널 식별 구역의 상부에는 표시 영역의 카메라 배치 구역의 상부에서 막들뜸을 방지하는 유기물질로 이루어진 상부 보호막과 동일한 보호막이 배치되어 화소가 있는 표시 영역 상부의 보호막을 제거할 때 사용되는 약액에 의해 패널 식별층이 애칭되어 유실되는 현상을 방지할 수 있다. 이는, 패널 ID의 손상을 방지할 수 있으며 패널 ID 손상에 의해 발생하는 공정 지연 및 표시 패널의 공정 이력 추적 불가와 같은 문제가 발생하지 않아 생산성을 보다 향상시킬 수 있다.
이상에서 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 효과에 기재한 발명의 내용이 청구항의 필수적인 특징을 특정하는 것은 아니므로, 청구항의 권리범위는 발명의 내용에 기재된 사항에 의하여 제한되지 않는다.
도 1은 터치 센서가 통합된 유기발광 표시장치를 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 터치센서층을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 표시 패널을 도시하는 평면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 패널 식별 구역을 확대한 도면이다.
도 5는 패널 식별층이 유실된 결과를 도시하는 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 7은 도 6의 절단선 II-II'을 따라 절취한 유기발광 표시장치의 표시 영역을 나타내는 단면도이다.
도 8은 도 6의 절단선 III-III'을 따라 절취한 유기발광 표시장치의 패널 식별 구역을 나타내는 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.
구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들면, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.
소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.
명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 당업자가 충분히 이해할 수 있듯이 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시 예를 상세하게 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 터치 센서를 가지는 유기발광 표시장치를 나타내는 사시도이다.
도 1에 도시된 터치 센서를 가지는 유기발광 표시장치는 터치 기간 동안 도 2에 도시된 터치 전극들(TE1, TE2)을 통해 사용자의 터치에 의한 상호 정전 용량(mutual capacitance)(Cm; 터치 센서)의 변화량을 감지하여 터치 유무 및 터치 위치를 센싱한다. 그리고, 도 1에 도시된 터치 센서를 가지는 유기발광 표시장치는 발광 소자(ED)를 포함하는 단위 화소를 통해 영상을 표시한다. 단위 화소는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 서브 화소(PXL)로 구성되거나, 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 서브 화소(PXL)로 구성된다.
이를 위해, 도 1에 도시된 유기발광 표시장치는 기판(100) 상에 매트릭스 형태로 배열된 복수의 서브 화소들(PXL)과, 복수의 서브 화소들(PXL) 상에 배치된 봉지부(120)와, 봉지부(120) 상에 배치된 상호 정전 용량(Cm)을 구비한다.
복수의 서브 화소들(PXL) 각각은 화소 구동 회로와, 화소 구동 회로와 접속되는 발광 소자(ED)를 구비한다.
화소 구동 회로는 스위칭 트랜지스터(T1), 구동 트랜지스터(T2) 및 스토리지 커패시터(Cst)를 구비한다.
스위칭 트랜지스터(T1)는 스캔 라인(SL)에 스캔 펄스가 공급되면 턴-온되어 데이터 라인(DL)에 공급된 데이터 신호를 스토리지 캐패시터(Cst) 및 구동 트랜지스터(T2)의 게이트 전극으로 공급한다.
구동 트랜지스터(T2)는 그 구동 트랜지스터(T2)의 게이트 전극에 공급되는 데이터 신호에 응답하여 고전압(VDD) 공급 라인으로부터 발광 소자(130)로 공급되는 전류를 제어함으로써 발광 소자(ED)의 발광량을 조절하게 된다. 그리고, 스위칭 트랜지스터(T1)가 턴-오프되더라도 스토리지 캐패시터(Cst)에 충전된 전압에 의해 구동 트랜지스터(T2)는 다음 프레임의 데이터 신호가 공급될 때까지 일정한 전류를 공급하여 발광 소자(ED)가 발광을 유지하게 한다.
도 1에서는 화소 구동 회로가 스위칭 트랜지스터(T1), 구동 트랜지스터(T2) 및 스토리지 커패시터(Cst)를 포함하는 것으로 정의되었으나, 이에 제한되지 않고, 트랜지스터 및 커패시터의 개수는 다양하게 설계 변경될 수 있다.
도 2는 도 1에 도시된 터치센서층을 설명하기 위한 도면이다.
본 명세서의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 유기발광 표시장치는 별개의 터치패널을 표시 패널의 상부에 합착하는 방식이 아닌 봉지층 상에 터치 센서층을 형성하는 터치 스크린 통합형 표시장치를 지칭한다.
터치 센서층은 봉지층 상에 배치되고 터치 객체에 따른 터치를 센싱한다. 여기서, 터치 객체는 사용자의 손가락 또는 터치 펜 등과 같이 사용자가 터치 입력을 하기 위해 사용되는 다양한 수단을 포함할 수 있다.
일 예에 따른 터치 센서층은 터치 전극부(TEP), 터치 라우팅부(TRP), 및 보조 배선부(250)를 포함할 수 있다.
터치 전극부(TEP)는 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된 터치 전극(TE)을 포함할 수 있다.
터치 전극(TE)은 복수의 제 1 터치 전극(TE1) 및 복수의 제 2 터치 전극(TE2)을 포함할 수 있다.
복수의 제 1 터치 전극(TE1)은 제 1 방향(X)을 따라 연장되면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다. 이러한 복수의 제 1 터치 전극(TE1)은 터치 객체의 터치 위치 센싱을 위한 터치 센싱 전극(또는 터치 구동 전극)으로 사용될 수 있다.
일 예에 따른 복수의 제 1 터치 전극(TE1) 각각은 복수의 제 1 전극 패턴(151A) 및 복수의 브리지 패턴(153)을 포함할 수 있다.
복수의 제 1 전극 패턴(151A) 각각은 제 1 방향(X)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다.
복수의 브리지 패턴(153) 각각은 제 1 방향(X)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치되고 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(151A)을 전기적으로 연결한다. 복수의 브리지 패턴(153) 각각은 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(151A) 사이와 중첩되도록 배치됨으로써 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2)이 그 교차 영역에서 서로 쇼트(short)되는 것을 방지한다.
복수의 브리지 패턴(153) 각각의 일측은 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(151A) 중 일측에 배치된 제 1 전극 패턴(151A)에 전기적으로 연결되고, 복수의 브리지 패턴(153) 각각의 타측은 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(151A) 중 타측에 배치된 제 1 전극 패턴(151A)에 전기적으로 연결된다. 일 예에 따른 복수의 브리지 패턴(153) 각각은 직선 형태로 형성될 수 있지만, 이에 한정되지 않고 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(151A)을 전기적으로 연결시킬 수 있는 곡선 형태, 꺾쇠 형태, 또는 메쉬 형태 등의 다양한 형태를 가질 수 있다.
복수의 제 2 터치 전극(TE2)은 제 1 방향(X)을 따라 연장되면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되면서 복수의 제 1 터치 전극(TE1)과 전기적으로 분리되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다. 이러한 복수의 제 2 터치 전극(TE2)은 터치 객체의 터치 위치 센싱을 위한 터치 구동 전극(또는 터치 센싱 전극)으로 사용될 수 있다.
일 예에 따른 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각은 복수의 제 2 전극 패턴(151B) 및 복수의 연결 라인(152)을 포함할 수 있다.
복수의 제 2 전극 패턴(151B) 각각은 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다.
복수의 연결 라인(152) 각각은 제 2 방향(Y)을 따라 서로 인접한 2개의 제 2 전극 패턴(151B) 사이사이에 배치되어 제 2 방향(Y)을 따라 서로 인접한 2개의 제 2 전극 패턴(151B)을 전기적으로 연결한다. 복수의 연결 라인(152) 각각은 복수의 제 2 전극 패턴(151B) 각각과 동일층에 배치될 수 있다. 이에 따라, 복수의 연결 라인(152) 각각과 복수의 제 2 전극 패턴(151B) 각각은 하나의 몸체로 이루어질 수 있다. 이러한 복수의 연결 라인(152) 각각은 복수의 브리지 패턴(153) 각각과 교차하도록 배치된다.
한편, 제 1 터치 전극(TE1)의 복수의 브리지 패턴(153)은 제 2 터치 전극(TE2)의 복수의 연결 라인(152)으로 변경될 수 있다. 그리고, 제 2 터치 전극(TE2)의 복수의 연결 라인(152)은 제 1 터치 전극(TE1)의 복수의 브리지 패턴(153)으로 변경될 수도 있다.
일 예에 따른 터치 센서층은 복수의 브리지 패턴(153)을 포함하는 제 1 터치 전극층, 복수의 제 1 전극 패턴(151A)과 복수의 제 2 터치 전극(TE2)을 포함하는 제 2 터치 전극층, 및 제 1 터치 전극층과 제 2 터치 전극층 사이에 배치된 제1 터치 절연막(156)을 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 터치 전극층은 제1 터치 절연막(156)을 사이에 두고 제 2 터치 전극층의 하부 또는 상부에 배치될 수 있다. 일 예로서, 터치 센서층은 브리지 패턴(153)을 갖는 제 1 터치 전극층, 제 1 터치 전극층 상에 배치된 제1 터치 절연막(156), 및 제1 터치 절연막(156) 상에 배치된 제 1 터치 전극들(TE1)과 제 2 터치 전극들(TE2)을 갖는 제 2 터치 전극층을 포함할 수 있다. 다른 예로서, 터치 센서층은 제 1 터치 전극들(TE1)과 제 2 터치 전극들(TE2)을 갖는 제 1 터치 전극층, 제 1 터치 전극층 상에 배치된 제1 터치 절연막(156), 및 제1 터치 절연막(156) 상에 배치된 브리지 패턴(153)을 갖는 제 2 터치 전극층을 포함할 수 있다.
제1 터치 절연막(156)은 제 1 전극 패턴(151A)과 브리지 패턴(153)의 중첩 영역에 마련된 브리지 컨택홀(155)을 포함한다. 이에 따라, 복수의 브리지 패턴(153) 각각은 제1 터치 절연막(156)에 마련된 브리지 컨택홀(155)을 통해서 해당하는 제 1 전극 패턴(151A)의 일측과 타측에 전기적으로 연결됨으로써 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(151A)을 전기적으로 연결한다.
일 예에 따른 복수의 제 1 터치 전극(TE1)과 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각은 매우 얇은 선폭을 갖는 메탈 라인들이 서로 교차하여 이루어진 메쉬 구조를 포함할 수 있다. 여기서, 메탈 라인은 몰리브덴(Mo), 은(Ag), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 알루미늄(Ti), 티타늄/알루미늄/티타늄(Ti/Al/Ti), 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴(Mo/Al/Mo) 등의 전도성 물질로 이루어진 단층 또는 다층 구조를 가질 수 있다.
일 예에 따른 복수의 제 1 전극 패턴(151A)과 복수의 제 2 전극 패턴(151B) 각각은 평면적으로 다각 형태, 예를 들어, 마름모 형태를 가질 수 있다. 이 경우, 표시 영역(AA)의 가장자리 부분을 따라 배치된 전극 패턴(151A, 151B) 각각은 삼각 형태를 가질 수 있다. 이러한 복수의 제 1 전극 패턴(151A)과 복수의 제 2 전극 패턴(151B) 각각은 봉지층 상에 서로 교차하는 메쉬 형태의 메탈 라인들을 형성하는 공정, 및 표시 영역(AA) 상에 미리 설정된 터치 전극 경계 영역 상에 형성된 메탈 라인들을 컷팅하여 복수의 제 1 전극 패턴(151A)과 복수의 제 2 전극 패턴(151B) 및 복수의 연결 라인(152)을 형성하는 공정에 의해 동시에 형성될 수 있다.
본 명세서에 따른 터치 스크린 일체형 유기발광 표시장치는 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 간의 상호 정전 용량(mutual capacitance)을 이용해 터치를 센싱하는데, 상호 정전 용량은 터치 경계 영역을 사이에 두고 서로 인접한 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 각각의 외곽부에서 대부분 형성된다. 이에 따라, 본 출원은 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 각각의 외곽부에 위치한 메탈 라인들의 컷팅부를 돌기 형태로 형성함으로써 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 각각의 외곽부 면적(또는 길이)을 증가시켜 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 사이의 터치 경계 영역(또는 센싱 영역)에 형성되는 상호 정전 용량을 증가시킬 수 있고, 이로 인하여 터치의 센싱 감도를 향상시킬 수 있다.
터치 라우팅부(TRP)는 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 마련되어 터치 센서층에 마련된 터치 전극(TE)과 전기적으로 연결된다. 일 예에 따른 터치 라우팅부(TRP)는 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1) 및 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2)을 포함할 수 있다.
복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1) 각각은 터치 센서층에 마련된 복수의 제 1 전극(TE1)과 일대일로 연결될 수 있다. 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1) 각각은 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)의 타측과 제 4 비표시 영역(IA4)(또는 제 3 비표시 영역(IA3))에 걸쳐 배치될 수 있다. 일 예에 따른 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1) 각각의 일단은 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)(또는 제 3 비표시 영역(IA3))에서 복수의 제 1 전극(TE1)과 일대일로 연결될 수 있다.
복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2) 각각은 터치 센서층에 마련된 복수의 제 2 전극(TE2)과 일대일로 연결될 수 있다. 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2) 각각은 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)의 일측과 제 2 비표시 영역(IA2) 및 제 3 비표시 영역(IA3)(또는 제 4 비표시 영역(IA4))에 걸쳐 배치될 수 있다. 일 예에 따른 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2) 각각의 일단은 기판(100)의 제 2 비표시 영역(IA2)에서 복수의 제 2 전극(TE2)과 일대일로 연결될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 유기발광 표시장치는 패드부(PP), 게이트 구동 회로(200), 구동 집적 회로(300), 플렉서블 회로 케이블(500), 및 터치 구동 회로(600)를 더 포함할 수 있다.
패드부(PP)는 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 마련된 복수의 패드를 포함할 수 있다. 일 예에 따른 패드부(PP)는 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 마련된 복수의 공통 전원 공급 패드, 복수의 데이터 입력 패드, 복수의 전원 공급 패드, 복수의 제어 신호 입력 패드, 및 복수의 터치 구동 패드 등을 포함할 수 있다.
게이트 구동 회로(200)는 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3) 및/또는 제 4 비표시 영역(IA4)에 마련되어 표시 영역(AA)에 마련된 스캔 라인들(SL)과 일대일로 연결된다. 게이트 구동 회로(200)는 화소 어레이층의 제조 공정, 즉 박막 트랜지스터의 제조 공정과 함께 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3) 및/또는 제 4 비표시 영역(IA4)에 집적된다. 이러한 게이트 구동 회로(200)는 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 게이트 제어 신호를 기반으로 스캔 신호를 생성하여 정해진 순서에 따라 출력함으로써 복수의 스캔 라인(SL) 각각을 정해진 순서에 따라 구동한다. 일 예에 따른 게이트 구동 회로(200)는 쉬프트 레지스터를 포함할 수 있다.
한편, 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1)은 제 4 비표시 영역(IA4)에서 게이트 구동 회로(200)와 중첩되도록 터치 전극부(TEP)와 보조 배선부(ALP) 사이에 배치됨으로써 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에 따른 베젤 폭이 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1)의 배치 영역으로 인하여 증가하는 것을 최소화할 수 있다. 이와 마찬가지로, 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2)은 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3)에서 게이트 구동 회로(200)와 중첩되도록 터치 전극부(TEP)와 보조 배선부(ALP) 사이에 배치됨으로써 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3)에 따른 베젤 폭이 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2)의 배치 영역으로 인하여 증가하는 것을 최소화할 수 있다.
구동 집적 회로(300)는 칩 실장(또는 본딩) 공정을 통해 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 정의된 칩 실장 영역에 실장된다. 구동 집적 회로(300)의 입력 단자들은 패드부(PP)에 전기적으로 연결되고, 구동 집적 회로(300)의 입력 단자들은 표시 영역(AA)에 마련된 복수의 데이터 라인(DL)과 복수의 화소 구동 전원 라인(PL)에 전기적으로 연결된다. 구동 집적 회로(300)는 패드부(PP)를 통해 디스플레이 구동 회로부(또는 호스트 회로)로부터 입력되는 각종 전원, 타이밍 동기 신호, 및 디지털 영상 데이터 등을 수신하고, 타이밍 동기 신호에 따라 게이트 제어 신호를 생성하여 게이트 구동 회로(180)의 구동을 제어하고, 이와 동시에 디지털 영상 데이터를 아날로그 형태의 화소 데이터 전압으로 변환하여 해당하는 데이터 라인(DL)에 공급한다.
플렉서블 회로 케이블(500)은 패드부(PP)에 부착된다. 플렉서블 회로 케이블(500)은 디스플레이 구동 회로부와 패드부(PP)를 전기적으로 연결하며, 패드부(PP)와 터치 구동 회로(600)를 전기적으로 연결한다.
터치 구동 회로(600)는 칩 실장(또는 본딩) 공정을 통해 플렉서블 회로 케이블(500)에 실장된다. 터치 구동 회로(600)는 패드부(PP)에 마련된 복수의 터치 구동 패드를 통해 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1) 각각의 타단과 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2) 각각의 타단에 전기적으로 연결된다. 이러한 터치 구동 회로(600)는 호스트 회로로부터 제공되는 터치 동기 신호에 응답하여 패드부(PP)와 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2)을 통해 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각에 터치 구동 펄스를 공급하고, 패드부(PP)와 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1)을 통해 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 사이의 정전 용량 변화를 센싱하여 터치 로우 데이터를 생성하고, 생성된 터치 로우 데이터를 호스트 회로에 제공한다. 호스트 회로는 터치 레포트 기간 동안 터치 구동 회로(600)로부터 제공되는 터치 로우 데이터를 기반으로 터치 객체에 대한 터치 위치 정보를 산출하고, 산출된 터치 위치 정보에 연계된 응용 프로그램을 실행한다.
선택적으로, 터치 구동 회로(600)는 구동 집적 회로(300)에 내장될 수도 있으며, 이 경우, 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1)과 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2) 각각의 타단은 패드부(PP)에 연결되지 않고 구동 집적 회로(300)와 전기적으로 연결된다. 구동 집적 회로(300)는 호스트 회로로부터 제공되는 터치 동기 신호에 응답하여 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(TRL2)을 통해 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각에 터치 구동 펄스를 공급하고, 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(TRL1)을 통해 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 사이의 정전 용량 변화를 센싱하여 터치 로우 데이터를 생성하고, 생성된 터치 로우 데이터를 패드부(PP)를 통해서 호스트 회로에 제공할 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 유기발광 표시장치는 구동 집적 회로(300)의 회로 크기를 감소시키기 위한 데이터 분배 회로(400)를 더 포함할 수 있다.
데이터 분배 회로(400)는 구동 집적 회로(300)로부터 1 수평 구간의 시분할 구간마다 순차적으로 입력되는 데이터 전압을 1 수평 구간 동안 n(n은 2 이상의 자연수)개의 시분할 구간의 개수와 대응되는 n개의 데이터 라인에 순차적으로 분배한다. 일 예에 따른 데이터 분배 회로(400)는 복수의 역다중화 회로를 포함한다.
복수의 역다중화 회로 각각은 구동 집적 회로(300)의 출력 채널에 연결된 하나의 입력 단자, 구동 집적 회로(300)로부터 제 1 내지 제 3 시분할 제어 신호를 개별적으로 수신하는 제 1 내지 제 n 제어 단자, 및 n개의 데이터 라인에 연결된 제 1 내지 제 n 출력 단자를 포함할 수 있다. 여기서, n이 3이라 가정하고, 1 수평 기간이 제 1 내지 제 3 시분할 구간을 포함하는 것으로 가정하면, 복수의 역다중화 회로 각각은 수평 기간의 제 1 시분할 구간마다 제 1 시분할 제어 신호에 응답하여 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 제 1 데이터 전압을 제 3i-2(i는 자연수) 데이터 라인에 공급하고, 수평 기간의 제 2 시분할 구간마다 제 2 시분할 제어 신호에 응답하여 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 제 2 데이터 전압을 제 3i-1 데이터 라인에 공급하며, 수평 기간의 제 3 시분할 구간마다 제 3 시분할 제어 신호에 응답하여 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 제 3 데이터 전압을 제 3i 데이터 라인에 공급할 수 있다.
도 3은 도 1에 도시된 표시 패널을 도시하는 평면도이다.
도 3을 참조하면, 표시 패널은 기판(100), 화소 어레이층, 공통 전원 라인(137), 봉지층, 카메라 배치 구역, 패널 식별 구역(PIA)을 포함할 수 있다.
기판(100)은 베이스 기판(또는 베이스층)으로서, 플라스틱 재질 또는 유리 재질을 포함한다. 일 예에 따른 기판(100)은 평면적으로 사각 형태, 각 모서리 부분이 일정한 곡률반경으로 라운딩된 사각 형태, 또는 적어도 6개의 변을 갖는 비사각 형태를 가질 수 있다. 여기서, 비사각 형태를 갖는 기판(100)은 적어도 하나의 돌출부 또는 적어도 하나의 노치부(notch portion)를 포함할 수 있다.
일 예에 따른 기판(100)은 표시 영역(AA)과 비표시 영역(IA)으로 구분될 수 있다.
표시 영역(AA)은 기판(100)의 중간 영역에 마련되는 것으로, 영상을 표시하는 영역으로 정의될 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위해 표시 영역(AA) 내부를 제1 구역(A1), 제2 구역(A1) 및 제3 구역(A3)으로 나누어 설명한다. 제1 구역(A1)과 제2 구역(A2)에는 화상이 표시되지는 않지만, 화상 표시 소자들이 배치되는 제3 구역(A3)에 둘러싸여 있기 때문에, 본 명세서에서는 표시 영역(AA)으로 분류한다. 한편, 제1 구역(A1) 및 상기 제2 구역(A2)은 평면 상 임의의 위치에 마련될 수 있으며, 도 3에 도시된 곳에 그 위치가 한정되는 것은 아니다.
제1 구역(A1)은 개구부(opening)가 마련된, 카메라 등의 촬영 장치가 배치된 부분이다. 제1 구역(A1)은 표시 영역(AA) 내부에 마련되어 있다. 제1 구역(A1)은 카메라 등이 위치하는 영역으로서 영상을 표시하지는 않는다. 제1 구역(A1)은 원형, 타원형 등의 형상으로 이루어질 수 있다.
제3 구역(A3)은 화소(pixel)가 배치된 부분이다. 화소는 색(또는 빛)을 표현하는 단위 구조이다. 화소는 적색, 녹색, 청색, 백색 서브 화소(sub-pixel)를 포함할 수 있다. 화소는 발광 소자(발광 다이오드 등), 소자 제어 회로 등을 포함한다.
제2 구역(A2)은 제1 구역(A1)과 제3 구역(A3) 사이에 위치한다. 즉, 개구부가 마련된 제1 구역의 외곽과 접하며 배치된 경계 영역일 수 있다. 제2 구역(A2)은 상기 제1 구역(A1)의 외곽을 둘러싸고 있으므로 제1 구역(A1)의 형상에 대응하는 형상으로 이루어질 수 있으나, 그 형상은 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 제1 구역(A1)이 원형으로 이루어진 경우, 상기 제2 구역(A2)은 원형 또는 타원형 형상으로 이루어질 수 있다.
제2 구역(A2)은 제1 구역(A1)과 제3 구역(A3)을 분리함으로써, 제1 구역(A1)과 제3 구역(A3)이 서로 영향을 받지 않지 않도록 한다. 일 예로, 제2 구역(A2)은, 제3 구역(A3)에 형성되는 유기발광 층 및/또는 봉지층이 제1 구역(A1)으로 침투하는 것을 방지한다. 또, 제2 구역(A2)은, 제1 구역(A1)을 형성할 때 생길 수 있는 손상이 제3 구역(A3)으로 전달되는 것을 방지한다. 제2 구역(A2)은, 상술한 방지 기능을 위한 구조물들을 포함할 수 있다. 일 예에 따른 표시 영역(AA)은 평면적으로 사각 형태, 각 모서리 부분이 일정한 곡률 반경을 가지도록 라운딩된 사각 형태, 또는 적어도 6개의 변을 갖는 비사각 형태를 가질 수 있다. 여기서, 비사각 형태를 갖는 표시 영역(AA)은 적어도 하나의 돌출부 또는 적어도 하나의 노치부를 포함할 수 있다.
비표시 영역(IA)은 표시 영역(AA)을 둘러싸도록 기판(100)의 가장자리 영역에 마련되는 것으로, 영상이 표시되는 않는 영역 또는 주변 영역으로 정의될 수 있다. 일 예에 따른 비표시 영역(IA)은 기판(100)의 제 1 가장자리에 마련된 제 1 비표시 영역(IA1), 제 1 비표시 영역(IA1)과 나란한 기판(100)의 제 2 가장자리에 마련된 제 2 비표시 영역(IA2), 기판(100)의 제 3 가장자리에 마련된 제 3 비표시 영역(IA3), 및 제 3 비표시 영역과 나란한 기판(100)의 제 4 가장자리에 마련된 제 4 비표시 영역(IA4)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 비표시 영역(IA1)은 기판(100)의 상측(또는 하측) 가장자리 영역, 제 2 비표시 영역(IA2)은 기판(100)의 하측(또는 상측) 가장자리 영역, 제 3 비표시 영역(IA3)은 기판(100)의 좌측(또는 우측) 가장자리 영역, 그리고 제 4 비표시 영역(IA4)은 기판(100)의 우측(또는 좌측) 가장자리 영역일 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.
화소 어레이층은 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 마련될 수 있다. 일 예에 따른 화소 어레이층은 스캔 라인(SL), 데이터 라인(DL), 화소 구동 전원 라인(PL), 및 화소(P)를 포함할 수 있다.
스캔 라인(SL)은 제 1 방향(X)을 따라 연장되고 제 1 방향(X)과 교차하는 제 2 방향(Y)을 따라 배치된다. 기판(100)의 표시 영역(AA)은 제 1 방향(X)과 나란하면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격된 복수의 스캔 라인(SL)을 포함한다. 여기서, 제 1 방향(X)은 기판(100)의 가로 방향으로 정의될 수 있고, 제 2 방향(Y)은 기판(100)의 세로 방향으로 정의될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고 그 반대로 정의될 수도 있다.
데이터 라인(DL)은 제 2 방향(Y)을 따라 연장되고 제 1 방향(X)을 따라 배치된다. 기판(100)의 표시 영역(AA)은 제 2 방향(Y)과 나란하면서 제 1 방향(X)을 따라 서로 이격된 복수의 데이터 라인(DL)을 포함한다.
화소 구동 전원 라인(PL)은 데이터 라인(DL)과 나란하도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다. 기판(100)의 표시 영역(AA)은 데이터 라인(DL)과 나란한 복수의 화소 구동 전원 라인(PL)을 포함한다. 선택적으로, 화소 구동 전원 라인(PL)은 스캔 라인(SL)과 나란하도록 배치될 수도 있다.
화소(P)는 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 정의된 화소 영역에 배치되고 인접한 스캔 라인(SL)과 데이터 라인(DL) 및 화소 구동 전원 라인(PL)에 전기적으로 연결된다. 여기서, 화소 영역은 스캔 라인(SL)과 데이터 라인(DL)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
일 예에 따른 화소(P)는 표시 영역(AA) 상에 스트라이프(stripe) 구조를 가지도록 배치될 수 있다. 이 경우, 하나의 단위 화소는 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소를 포함할 수 있으며, 나아가 하나의 단위 화소는 백색 화소를 더 포함할 수 있다.
다른 예에 따른 화소(P)는 표시 영역(AA) 상에 펜타일(pentile) 구조를 가지도록 배치될 수 있다. 이 경우, 하나의 단위 화소는 평면적으로 다각 형태로 배치된 적어도 하나의 적색 화소, 적어도 2개의 녹색 화소, 및 적어도 하나의 청색 화소들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 펜타일 구조를 갖는 하나의 단위 화소는 하나의 적색 화소, 2개의 녹색 화소, 및 하나의 청색 화소가 평면적으로 팔각 형태를 가지도록 배치될 수 있고, 이 경우 청색 화소는 상대적으로 가장 큰 크기의 개구 영역(또는 발광 영역)을 가질 수 있으며, 녹색 화소는 상대적으로 가장 작은 크기의 개구 영역을 가질 수 있다.
화소(P)는 인접한 스캔 라인(SL)과 데이터 라인(DL) 및 화소 구동 전원 라인(PL)에 전기적으로 연결된 화소 회로(PC), 및 화소 회로(PC)에 전기적으로 연결된 발광 소자(ED)를 포함할 수 있다.
화소 회로(PC)는 인접한 적어도 하나의 스캔 라인(SL)으로부터 공급되는 스캔 신호에 응답하여 인접한 데이터 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 전압을 기반으로 화소 구동 전원 라인(PL)으로부터 발광 소자(ED)에 흐르는 전류(Ied)를 제어한다.
일 예에 따른 화소 회로(PC)는 2개의 박막 트랜지스터 및 하나의 커패시터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일 예에 따른 화소 회로(PC)는 데이터 전압을 기반으로 하는 데이터 전류(Ied)를 발광 소자(ED)에 공급하는 구동 박막 트랜지스터, 데이터 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 전압을 구동 박막 트랜지스터에 공급하는 스위칭 트랜지스터, 및 구동 박막 트랜지스터의 게이트-소스 전압을 저장하는 커패시터를 포함할 수 있다.
다른 예에 따른 화소 회로(PC)는 적어도 3개의 박막 트랜지스터 및 적어도 하나의 커패시터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일 예에 따른 화소 회로(PC)는 적어도 3개의 박막 트랜지스터 각각의 동작(또는 기능)에 따라 전류 공급 회로와 데이터 공급 회로 및 보상 회로를 포함할 수 있다. 여기서, 전류 공급 회로는 데이터 전압을 기반으로 하는 데이터 전류(Ied)를 발광 소자(ED)에 공급하는 구동 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 데이터 공급 회로는 적어도 하나의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 전압을 전류 공급 회로에 공급하는 적어도 하나의 스위칭 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 보상 회로는 적어도 하나의 스캔 신호에 응답하여 구동 박막 트랜지스터의 특성 값(임계 전압 및/또는 이동도) 변화를 보상하는 적어도 하나의 보상 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다.
발광 소자(ED)는 화소 회로(PC)로부터 공급되는 데이터 전류(Ied)에 의해 발광하여 데이터 전류(Ied)에 해당하는 휘도의 광을 방출한다. 이 경우, 데이터 전류(Ied)는 화소 구동 전원 라인(PL)으로부터 구동 박막 트랜지스터와 발광 소자(ED)를 통해 공통 전원 라인(CPL)으로 흐를 수 있다.
일 예에 따른 발광 소자(ED)는 화소 회로(PC)와 전기적으로 연결된 화소 구동 전극(또는 제 1 전극), 화소 구동 전극 상에 형성된 발광층, 및 발광층에 전기적으로 연결된 공통 전극(또는 제 2 전극)(CE)을 포함할 수 있다.
공통 전원 라인(CPL)은 기판(100)의 비표시 영역(IA) 상에 배치되고 표시 영역(AA) 상에 배치된 공통 전극(CE)과 전기적으로 연결된다.
일 예에 따른 공통 전원 라인(CPL)은 일정한 라인 폭을 가지면서 기판(100)의 표시 영역(IA)에 인접한 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 따라 배치되고, 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 인접한 표시 영역(AA)의 일부를 제외한 나머지 부분을 둘러싼다. 공통 전원 라인(CPL)의 일단은 제 1 비표시 영역(IA1)의 일측 상에 배치되고, 공통 전원 라인(CPL)의 타단은 제 1 비표시 영역(IA1)의 타측 상에 배치될 수 있다. 그리고, 공통 전원 라인(CPL)의 일단과 타단 사이는 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 일 예에 따른 공통 전원 배선(137)은 평면적으로 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 해당하는 일측이 개구된 '∩'자 형태를 가질 수 있다.
봉지층은 산소 또는 수분이 화소 어레이층에 마련된 발광 소자(ED)로 침투하는 것을 방지할 수 있다. 일 예에 따른 봉지층은 적어도 하나의 무기막을 포함할 수 있다. 다른 예에 따른 봉지층은 복수의 무기막 및 복수의 무기막 사이의 유기막을 포함할 수 있다.
패널 식별 구역(PIA)은 도 3과 같이 표시 영역(AA)을 제외한 비표시 영역(IA)에 형성될 수 있다. 도 3에서는 패널 식별 구역(PIA)이 패드부(PAD)의 제1 측 가장자리에 배치된 것을 예시하였으나, 본 명세서의 실시예들은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 패널 식별 구역(PIA)은 기판(100)의 제1 측의 반대편인 제2 측 가장자리에 배치될 수 있다. 또는, 패널 식별 구역(PIA)은 게이트 구동회로(180)가 형성되는 기판(100)의 제3 측 가장자리 또는 제4 측 가장자리에 배치될 수 있다.
패널 식별 구역(PIA)은 레이저를 이용하여 기판(100)에 형성된 패널 식별층에 패널 식별 수단(panel identification, 이하에서는 "패널 ID"라 칭함)을 패터닝하므로, 비표시 영역(IA)에 형성된 신호라인들과 중첩되지 않는 것이 바람직하다. 따라서, 패널 식별 구역(PIA)은 비표시 영역(IA)에 형성된 신호라인들과 중첩되지 않는다면 기판(110)의 상면 상에서 비표시 영역(IA) 중 어느 곳에도 형성될 수 있다.
도 4는 도 3의 패널 식별 구역이 형성된 하부 기판을 상세히 보여주는 확대 평면도이다.
도 4를 참조하면, 패널 식별 구역(PIA)은 패널 식별층(PIL)과 패널 ID(PID)를 포함한다.
패널 식별층(PIL)은 도 4와 같이 패널 식별 구역(PIA) 전체에 형성될 수 있다. 패널 식별 구역(PIA)은 패널 식별층(PIL)이 형성된 영역으로 정의될 수 있다. 패널 식별층(PIL)은 패널 ID(PID)가 패턴될 수 있는 금속층으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 패널 식별층(PIL)은 게이트 전극과 동일한 금속층으로 형성될 수 있다.
패널 ID(PID)는 표시패널(110)마다 상이한 값을 갖는 고유의 패널 식별 수단에 해당한다. 패널 ID(PID)는 도 4와 같이 문자, 숫자, 및 기호 중 어느 하나 또는 이들의 조합으로 이루어질 수 있다. 도 4에서는 패널 ID(PID)가 문자와 숫자의 조합으로 이루어진 것을 예시하였다.
패널 ID(PID)는 패널 식별층(PIL)에 패턴 형성된다. 구체적으로, 패널 ID(PID)는 패널 식별층(PIL)에 비해 음각으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 패널 ID(PID)는 레이저를 이용하여 패널 식별층(PIL)에 음각 패턴으로 형성될 수 있다. 이에, OCR(Optical Character Reader)을 이용하여 패널 ID(PID)를 인식하는 경우, 패널 ID(PID)는 패널 식별층(PIL)과 광학적으로 구분될 수 있다. 따라서, OCR을 이용하여 패널 ID(PID)를 인식할 수 있다.
표시 영역(AA) 내부에 카메라가 안착되는 영역을 포함할 수 있다. 제조 효율 및/또는 심미적인 이유로 표시장치의 크기(특히, 평면 면적)는 제한적인 경우가 많은데, 만약 카메라가 안착되는 영역을 비표시 영역(IA)에 마련하게 되면, 비표시 영역(IA)의 크기가 증가되고 그만큼 표시 영역(AA)의 크기가 감소된다. 반면, 카메라가 안착되는 영역을 표시 영역(AA)에 마련하게 되면, 그 만큼의 비표시 영역(IA)을 줄일 수 있어서 상기 표시 영역(AA)의 크기가 최대화되는 효과가 있다.
이에 본 명세서의 실시예에 따른 표시장치에서는, 카메라 등의 촬영 소자가 배치된 영역을 표시 영역(AA) 내부에 둠으로써, 비표시 영역(IA)의 크기를 줄이면서 표시영역(AA)의 크기를 더 확장할 수 있다.
본 명세서의 발명자들은 터치 스크린 일체형 유기발광 표시장치의 표시 영역(AA)에 카메라 배치 구역을 마련하는데 수반되는 문제를 발견하였다. 표시 영역(AA)에 카메라 배치 구역을 형성한 후에 터치 센서층을 봉지층의 상부에 형성하는 공정은 챔버(chamber)에서 진행된다. 챔버에 봉지층이 구비된 표시 패널을 넣은 후에는 챔버(chamber) 내부를 진공상태로 만들어 주어야 한다. 이때, 카메라 배치 구역의 개구부에서는 막들뜸이 발생하게 된다. 막들뜸이 발생하게 되면 챔버(chamber) 내부가 오염될 수 있다. 또한, 막들뜸이 발생한 부분으로 수분 및 산소가 침투하게 되어 발광 소자(ED)가 손상되어 표시 패널의 구동불량이 발생한다.
막들뜸을 방지하기 위해서는 카메라 배치 구역의 개구부의 측면과 주변부를 보호막으로 덮어주어야 한다. 보호막은 다양한 형태로 구성될 수 있는데, BCB(Benzocyclobutene) 또는 아크릴(Acryl) 등과 같은 유기 절연막으로 형성될 수 있다. 카메라 배치 구역에 보호막을 형성하기 위해서는 표시 패널 상면 전체에 유기물을 증착한 후에 카메라 배치 구역을 제외한 나머지 부분에 도포된 유기물을 제거하는 공정을 진행한다. 유기물 제거는 약액을 이용하여 진행한다. 하지만, 유기물을 제거하는 공정에서 패널 식별층(PIL)에 음각 패턴으로 형성된 패널 ID(PID)가 유기물이 제거된 후 남아있는 약액에 의해 유실이 되는 현상이 발생하게 된다.
도 5는 유기물을 제거 후 패널 ID를 촬영한 사진이다.
도 5를 참조하면, 유기물을 제거하는 약액에 의해 패널 ID가 일부 유실된 것을 알 수 있다. 패널 ID가 유실되어 인식 오류 발생 시 패널 ID를 재인식하기 위해 공정 지연이 발생할 수 있다. 또한, 패널 ID를 오류로 인식한 경우 공정 이력 추적에 오류가 발생하거나 공정 이력 추적이 불가할 수 있다. 이에, 발명자들은 이와 같은 문제를 인식하고 패널 식별 영역의 새로운 구조를 고안하였다.
도 6은 본 명세서의 일 실시예에 따른 유기발광 표시장치를 도시하는 평면도이다. 도 7은 도 6의 II-II'에 따른 단면을 도시하는 도면이다. 도 8은 도 6의 III-III'에 따른 단면을 도시하는 도면이다.
도 6 내지 도8을 참조하면, 제1 구역(A1), 제2 구역(A2) 및 제3 구역(A3)은, 도 3에서 서술된 표시 영역(AA)의 적어도 일부에 적용될 수 있다.
제1 구역(A1)에 대응된 베이스 층(201)과 그 상부의 기능 층들은 제거된다. 이에 제1 구역(A1)은 수직 방향으로 관통 홀(hole)과 촬영 장치(미도시)가 위치하게 된다. 이때 제거 공정은 레이저(laser) 등을 이용한 천공(punching) 공정일 수 있다. 촬영 장치는 제1 구역(A1)에서 베이스 층(201)의 아래 부분에 놓일 수 있다.
제3 구역(A3)에는 베이스 층(201) 상에 박막트랜지스터(202, 204, 208), 유기발광 소자(212, 214, 216) 및 각종 기능 층(layer)들이 위치한다.
베이스 층(201)은 유기발광 표시장치의 다양한 구성요소들을 지지한다. 베이스 층(201)은 투명한 절연 물질, 예를 들어 유리, 플라스틱 등과 같은 절연 물질로 형성될 수 있다. 기판(어레이 기판)은, 상기 베이스 층(201) 위에 형성된 소자 및 기능 층, 예를 들어 스위칭 TFT, 구동 TFT, 유기발광소자, 보호막 등을 포함하는 개념으로 지칭되기도 한다.
버퍼층(203)이 베이스 층(201) 상에 위치할 수 있다. 버퍼층(buffer layer)은 베이스 층(201) 또는 하부의 층들에서 유출되는 알칼리 이온 등과 같은 불순물로부터 박막트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 보호하기 위한 기능 층이다. 버퍼층(203)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다층으로 이루어질 수 있다. 버퍼 층(203)은 멀티 버퍼(multi buffer) 및/또는 액티브 버퍼(active buffer)를 포함할 수 있다.
베이스 층(201) 또는 버퍼 층(203) 위에 박막트랜지스터가 놓인다. 박막트랜지스터는 도 7처럼 반도체 층(active layer, 202), 게이트 절연층(gate insulator, 205), 게이트 전극(204), 층간 절연층((interlayer dielectric layer, 207), 소스(source) 및 드레인(drain) 전극(208)이 순차적으로 적층된 형태일 수 있다. 이와는 달리, 상기 박막트랜지스터는 게이트 전극, 게이트 절연 층, 반도체 층, 소스 및 드레인 전극이 순차적으로 배치된 형태일 수 있다.
반도체 층(202)은 폴리 실리콘(p-Si)으로 만들어질 수 있으며, 이 경우 소정의 영역이 불순물로 도핑될 수도 있다. 또한, 반도체 층(202)은 아몰포스 실리콘(a-Si)으로 만들어질 수도 있고, 펜타센 등과 같은 다양한 유기 반도체 물질로 만들어질 수도 있다. 나아가 반도체 층(202)은 산화물(oxide)로 만들어질 수도 있다.
게이트 전극(204)은 다양한 도전성 물질, 예컨대, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 금(Au) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다.
게이트 절연층(205), 층간 절연층(107)은 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx) 등과 같은 절연성 물질로 형성될 수 있으며, 이외에도 절연성 유기물 등으로 형성될 수도 있다. 게이트 절연층(205)과 층간 절연층(107)의 선택적 제거로 소스 및 드레인 영역이 노출되는 컨택 홀(contact hole)이 형성될 수 있다.
소스 및 드레인 전극(208)은 게이트 절연층(205) 또는 층간 절연층(207) 상에 전극용 물질로 단일층 또는 다층의 형상으로 형성된다. 필요에 따라 무기 절연 물질로 구성된 패시베이션층이 상기 소스 및 드레인 전극(208)을 덮을 수도 있다.
게이트 전극(204)과 소스 및 드레인 전극(208) 사이에는 보조 전극(미도시)이 배치될 수 있다. 보조 전극은 게이트 전극(204)과 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 소스 및 드레인 전극(208)과는 제2 층간 절연층(미도시)으로 절연될 수 있다. 보조 전극은 소스 및 드레인 전극과 게이트 전극 사이에서 스토리지 캐패시터의 역할을 할 수 있다.
평탄화층(209)이 박막트랜지스터 상에 위치할 수 있다. 평탄화층(209)은 박막트랜지스터를 보호하고 그 상부를 평탄화한다. 평탄화층(109)은 다양한 형태로 구성될 수 있는데, BCB(Benzocyclobutene) 또는 아크릴(Acryl) 등과 같은 유기 절연막, 또는 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산화막(SiOx)와 같은 무기 절연막으로 형성될 수도 있고, 단층으로 형성되거나 이중 혹은 다중 층으로 구성될 수도 있는 등 다양한 변형이 가능하다.
유기발광소자는 제1 전극(212), 유기발광 층(214), 제2 전극(216)이 순차적으로 배치된 형태일 수 있다. 즉, 유기발광소자는 평탄화 층(209) 상에 형성된 제1 전극(212), 제1 전극(212) 상에 위치한 유기발광 층(214) 및 유기발광 층(214) 상에 위치한 제2 전극(216)으로 구성될 수 있다.
제1 전극(212)은 컨택 홀을 통해 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극(208)과 전기적으로 연결된다. 유기발광 표시장치가 상부 발광(top emission) 방식인 경우, 이러한 제1 전극(212)은 반사율이 높은 불투명한 도전 물질로 만들어질 수 있다. 예를 들면, 제1 전극(212)은 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 크롬(Cr) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다. 상기 제1 전극(212)은 유기발광 다이오드의 애노드(anode)일 수 있다.
뱅크(210)는 발광 영역을 제외한 나머지 영역에 형성된다. 이에 따라, 뱅크(210)는 발광 영역과 대응되는 제1 전극(212)을 노출시키는 뱅크 홀을 가진다. 뱅크(210)는 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산화막(SiOx)와 같은 무기 절연 물질 또는 BCB, 아크릴계 수지 또는 이미드계 수지와 같은 유기 절연물질로 만들어질 수 있다.
유기발광 층(214)이 제1 전극(212) 상에 위치한다. 유기발광 층(214)은 발광층, 전자주입층, 전자수송층, 정공수송층, 정공주입층 등을 포함할 수 있다. 상기 층들은, 필요에 따라 혹은 공정에 따라, 발광부(제3 구역) 전체에 걸쳐 형성될 수도 있고, 발광부(제3 구역) 중 일 부분에만 형성될 수도 있다. 상기 유기발광 층은, 하나의 빛을 발광하는 단일 발광층 구조로 구성될 수도 있고, 복수 개의 발광층으로 구성되어 백색 광을 발광하는 구조로 구성될 수도 있다.
제2 전극(216)이 유기발광 층(214) 상에 위치한다. 유기발광 표시장치가 상부 발광(top emission) 방식인 경우, 제2 전극(216)은 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Induim Zinc Oxide; IZO) 등과 같은 투명한 도전 물질로 형성됨으로써 유기발광 층(214)에서 생성된 광을 제2 전극(216) 상부로 방출시킨다. 제2 전극(216)은 유기발광 다이오드의 캐소드(cathode)일 수 있다.
봉지층(220)이 제2 전극(216) 상에 위치한다. 봉지층(220)은, 발광 재료와 전극 재료의 산화를 방지하기 위하여, 외부로부터의 산소 및 수분 침투를 막는다. 유기발광소자가 수분이나 산소에 노출되면, 발광 영역이 축소되는 화소 수축(pixel shrinkage) 현상이 나타나거나, 발광 영역 내 흑점(dark spot)이 생길 수 있다. 봉지층(encapsulation layer)은 유리, 금속, 산화 알루미늄(AlOx) 또는 실리콘(Si) 계열 물질로 이루어진 무기막으로 구성되거나, 또는 유기막(222)과 무기막(221, 123)이 교대로 적층된 구조일 수도 있다. 이때, 무기막(221, 223)은 수분이나 산소의 침투를 차단하는 역할을 하고, 유기막(222)은 무기막(221, 223)의 표면을 평탄화하는 역할을 한다. 봉지 층을 여러 겹의 박막 층으로 형성하면, 단일 층일 경우에 비해 수분이나 산소의 이동 경로가 길고 복잡하게 되어 유기발광소자까지 수분/산소가 침투하는 것이 어려워진다.
배리어 필름이 봉지층(220) 상에 위치하여 베이스 층(201) 전체를 봉지할 수도 있다. 배리어 필름은 위상차 필름 또는 광등방성 필름일 수 있다. 이때 접착 층이 배리어 필름과 봉지 층(220) 사이에 위치할 수 있다. 접착층은 봉지층(220)과 배리어 필름을 접착시킨다. 접착층은 열 경화형 또는 자연 경화형의 접착제일 수 있다. 예를 들어, 접착층은 B-PSA(Barrier pressure sensitive adhesive)와 같은 물질로 구성될 수 있다.
제2 구역(A2)은 발광 소자를 포함하지 않고, 대신 우회 배선(미도시), 차단 구조물(290), 단절 구조물(295) 등을 포함하여 제1 구역(A1)과 상기 제3 구역(A3) 사이의 상호 영향을 차단한다.
우회 배선은, 가로 또는 세로 방향으로 제1 구역(A1)을 지나던 각종 배선들이 제1 구역(A1)을 피해 연장되도록 구성된다. 우회 배선은 원래의 배선과 동일 층 또는 다른 층에 구성될 수 있다.
차단 구조물(290)은 봉지층(220)의 유기막(222)이 제1 구역(A1)으로 흘러 넘치는 것을 방지하도록 구비된다. 도 2에서는 유기막(222)이 둘 중 더 내측에 있는 차단 구조물에 의해 흐름이 차단된 것으로 도시되었지만, 유기막(222)이 내측 차단 구조물은 넘어가고 외측 차단 구조물에 의해 차단될 수도 있다.
단절 구조물(295)은 유기발광 층(214)의 연결을 끊도록 구비된다. 상기 유기발광 층(214)이 외부에 노출되면, 수분의 침투 경로가 될 수 있기 때문이다. 제1 구역(A1)에서 유기발광 층(214)이 밖으로 노출될 수 있어서 단절 구조물(295)이 필요하다.
제3 구역(A3)의 기능층들 중 일부는 제2 구역(A2)에도 남는다. 또한, 차단 구조물(290), 단절 구조물(295) 등을 형성할 때는 기능층들 중 일부가 사용될 수 있다. 예를 들어 차단 구조물(290)에는 평탄화층(209) 및/또는 뱅크 층(210)에 사용된 물질이, 단절 구조물(295)에는 평탄화층(209)에 사용된 물질이 사용될 수 있다.
봉지층의(220)의 상부에는 상부 보호막(230)이 배치될 수 있다. 상부 보호막(230)은 제2 구역(A2)의 상부에 형성되며 BCB(Benzocyclobutene) 또는 포토아크릴과 같은 유기물로 이루어 질 수 있다. 상술한 바와 같이 유기물로 이루어진 상부 보호막(230) 이후 진행되는 터치 센서층 형성 공정 시 카메라 배치 구역에서의 막들뜸을 방지할 수 있다.
한편, 비표시 영역(IA)에는 베이스 층(101) 상에 각종 구동 회로(예: GIP), 전극, 배선, 기능성 구조물 등이 위치할 수 있다. 비표시 영역(IA)에는 화소 회로 및 발광 소자가 배치되지 않지만 베이스 층(201)과 유기/무기 기능 층들(203, 205, 207, 209 등)은 존재할 수 있다. 또한 비표시 영역(IA)에는 표시 영역(AA)의 구성에 사용된 물질들이 다른 용도로 배치될 수 있다. 예를 들어, 표시 영역(AA) TFT의 게이트 전극과 동일한 금속, 또는 소스/드레인 전극과 동일한 금속이 배선 또는 전극용으로 비표시 영역(IA)에 배치될 수 있다. 더 나아가, 유기발광 다이오드의 일 전극(예: 애노드)과 동일한 금속이 배선, 전극용으로 비표시 영역(IA)에 배치될 수도 있다.
도 8은 본 명세서의 일 실시예에 따른 표시장치의 패널 식별 구역(PIA)을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 8을 참조하면, 베이스 층(201)은 유기발광 표시장치의 다양한 구성요소들을 지지한다. 베이스 층(201)은 투명한 절연 물질, 예를 들어 유리, 플라스틱 등과 같은 절연 물질로 형성될 수 있다. 기판(어레이 기판)은, 상기 베이스 층(201) 위에 형성된 소자 및 기능 층, 예를 들어 스위칭 TFT, 구동 TFT, 유기발광소자, 보호막 등을 포함하는 개념으로 지칭되기도 한다.
베이스 층(201)의 상부에는 버퍼층(203)이 위치할 수 있다. 버퍼층(buffer layer)은 베이스 층(201) 또는 하부의 층들에서 유출되는 알칼리 이온 등과 같은 불순물로부터 박막트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 보호하기 위한 기능층이다. 버퍼층은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다층으로 이루어질 수 있다. 버퍼층(203)은 멀티 버퍼(multi buffer) 및/또는 액티브 버퍼(active buffer)를 포함할 수 있다.
버퍼층(203)의 상부에는 게이트 절연층(205)이 배치될 수 있다. 게이트 절연층(205)은 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx) 등과 같은 절연성 물질로 형성될 수 있으며, 이외에도 절연성 유기물 등으로 형성될 수도 있다.
게이트 절연층(205)의 상부에는 패널 식별층(PIL, 204')이 마련될 수 있다. 패널 식별층(PIL, 204')은 표시 영역(AA)의 게이트 전극(204)과 동일한 층에 배치되며, 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 예컨대, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 금(Au) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다.
패널 식별층(204')의 상부에는 하부 보호막(207')이 배치될 수 있다. 하부 보호막(207')은 표시 영역(AA)의 층간 절연층(207)과 동일한 층에 배치되며, 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 예컨대, 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx) 등과 같은 절연성 물질로 형성될 수 있으며, 이외에도 절연성 유기물 등으로 형성될 수도 있다.
하부 보호막(207')의 상부에는 상부 보호막(230)이 배치될 수 있다. 상부 보호막은 패널 식별 구역(PIA)을 덮으며, 패널 식별층(204') 및 하부 보호막(207')과 접촉할 수 있다. 상부 보호막(230)은 BCB(Benzocyclobutene) 또는 포토아크릴과 같은 유기물로 이루어 질 수 있다.
표시 영역(AA)의 게이트 전극(204) 상에 보조 전극(미도시)이 형성될 경우, 하부 보호막(207')과 상부 보호막(230)의 사이에는 제2 층간 절연층이 배치될 수 있다.
이와 같이 본 명세서의 일 예에 따른 유기발광 표시장치는 기판(201)의 비표시 영역(IA)에 배치된 패널 식별 구역의 상부에는 표시 영역(AA)의 카메라 배치 구역의 상부에서 막들뜸을 방지하는 유기물질로 이루어진 상부 보호막과 동일한 보호막이 배치되어 제 2구역(A3) 상부의 보호막을 제거할 때 사용되는 약액에 의해 패널 식별층이 애칭되어 유실되는 현상을 방지할 수 있으므로 패널 ID 손상에 의해 발생하는 공정 지연 및 표시 패널의 공정 이력 추적 불가와 같은 문제가 발생하지 않아 생산성을 보다 향상시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 표시장치는 다음과 같이 설명될 수 있다.
기판은 화상을 표시하도록 구획된 표시 영역 및 표시 영역 주위의 비표시 영역(IA)을 구비할 수 있다. 표시 영역의 내부에는 카메라 배치구역이 마련될 수 있다. 비표시 영역에는 패널 식별 구역이 배치될 수 있다. 카메라 배치구역과 패널 식별 구역의 상부에는 상부 보호막이 덮여있다.
카메라 배치구역은 기판을 관통하는 개구부 및 개구부의 외곽과 접하며 배치된 경계 영역을 포함할 수 있다. 상부 보호막은 경계 영역의 상부와 개구부의 측면 일부를 덮을 수 있다. 상부 보호막은 카메라 배치구역의 막들뜸을 방지하는 기능을 하며 BCB(Benzocyclobutene) 또는 포토아크릴 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
카메라 배치구역을 제외한 표시 영역에는 박막트랜지스터를 포함하고, 박막트랜지스터는 반도체층, 게이트 전극, 소스 및 드레인 전극을 포함하며 반도체층과 게이트 전극 사이에 배치되는 게이트 절연막 및 게이트 전극과 상기 소스 및 드레인 전극을 절연시키는 층간 절연막을 포함할 수 있다.
패널 식별 구역은 패널 식별층, 하부 보호막 및 상부 보호막을 포함한다. 패널 식별층은 게이트 전극과 동일한 층에 배치되며, 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 패널 식별 구역에는 패널 식별층과 하부 보호막을 음각하여 표현한 패널 ID가 위치할 수 있다. 패널 ID는 숫자, 문자 또는 형상 중 적어도 하나로 이루어질 수 있다.
상부 보호막은 패널 식별 구역을 덮으며, 패널 식별층 및 하부 보호막과 접촉한다. 상부 보호막은 개구부와 경계 영역을 제외한 표시 영역의 상부에는 제거될 수 있다. 또는 경계 영역과 인접한 표시 영역의 상부에는 일부 덮여있을 수 있다.
상부 보호막은 표시 영역의 유기발광소자 상의 상부 보호막을 제거할 때 약액에 의해 패널 ID가 유실되는 것을 방지한다.
하부 보호막과 상부 보호막 사이에 제2 층간 절연층이 배치될 수 있다.
박막트랜지스터의 상부에 위치하며 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 유기발광소자를 더 포함할 수 있다. 유기발광소자를 수분 및 산소로부터 보호하기 위해 유기발광소자를 덮는 봉지층을 포함할 수 있다. 봉지층 상에는 터치전극을 갖는 터치센서층이 형성될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서의 실시예들을 상세하게 설명하였으나, 본 명세서는 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 그 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 당업자에 의해 기술적으로 다양하게 연동 및 구동될 수 있으며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시되거나 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100: 표시 패널
PIA: 패널 식별 구역
PIL: 패널 식별층
PID: 패널 ID
201: 기판(베이스층)
203: 버퍼층
205: 게이트 절연층
209: 평탄화층
212: 제1 전극
214: 유기발광층
216: 제2 전극
220: 봉지층
230: 상부 보호막

Claims (19)

  1. 화상을 표시하도록 구획된 표시 영역 및 상기 표시 영역 주위의 비표시 영역을 구비한 기판;
    상기 표시 영역 내부에 마련된 카메라 배치구역;
    상기 비표시 영역에 마련된 패널 식별 구역; 및
    상기 카메라 배치구역과 상기 패널 식별 구역을 덮는 상부 보호막을 포함하는 유기발광 표시장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 카메라 배치구역은 상기 기판을 관통하는 개구부 및 상기 개구부의 외곽과 접하며 배치된 경계 영역을 포함하는 유기발광 표시장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 상부 보호막은 상기 경계 영역의 상부 및 상기 개구부의 측면 일부를 덮는 유기발광 표시장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 상부 보호막은 상기 개구부의 막들뜸을 방지하는 유기발광 표시장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 상부 보호막은 BCB(Benzocyclobutene) 또는 포토아크릴 중 적어도 하나를 포함하는 유기발광 표시장치.
  6. 제2 항에 있어서,
    상기 카메라 배치구역을 제외한 상기 표시 영역에 마련되는 박막트랜지스터를 더 포함하고,
    상기 박막트랜지스터는 반도체층, 게이트 전극, 소스 및 드레인 전극을 포함하며,
    상기 반도체층과 상기 게이트 전극 사이에 배치되는 게이트 절연막 및 상기 게이트 전극과 상기 소스 및 드레인 전극을 절연시키는 층간 절연막을 포함하는 유기발광 표시장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 패널 식별 구역에 배치되는 패널 식별층 및 하부 보호막을 더 포함하는 유기발광 표시장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 패널 식별층은 상기 게이트 전극과 동일한 층에 배치되며, 동일한 물질로 이루어지는 유기발광 표시장치.
  9. 제7 항에 있어서,
    상기 패널 식별 구역에는 상기 패널 식별층과 상기 하부 보호막을 음각하여 표현한 패널 ID가 위치한 유기발광 표시장치.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 패널 ID는 숫자, 문자 또는 형상 중 적어도 하나로 이루어지는 유기발광 표시장치.
  11. 제7 항에 있어서,
    상기 하부 보호막은 상기 층간 절연층과 동일한 층에 배치되며, 동일한 물질로 이루어지는 유기발광 표시장치.
  12. 제7 항에 있어서,
    상기 상부 보호막은 상기 패널 식별 구역을 덮으며, 상기 패널 식별층 및 상기 하부 보호막과 접촉하는 유기발광 표시장치.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 상부 보호막은 상기 개구부와 상기 경계 영역을 제외한 표시 영역 상부에는 제거된 유기발광 표시장치.
  14. 제12 항에 있어서,
    상기 상부 보호막은 상기 경계 영역과 인접한 표시 영역 상부를 덮는 유기발광 표시장치.
  15. 제13 항에 있어서,
    상기 상부 보호막은 상기 표시 영역의 유기발광소자 상의 상부 보호막 제거 시 약액에 의해 패널 ID가 유실되는 것을 방지하는 유기발광 표시장치.
  16. 제11 항에 있어서,
    상기 하부 보호막과 상기 상부 보호막 사이에 위치하는 제2 층간 절연층을 더 포함하는 유기발광 표시장치.
  17. 제6 항에 있어서,
    상기 박막트랜지스터의 상부에 있으며 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 유기발광소자를 더 포함하는 유기발광 표시장치.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 유기발광소자를 덮는 봉지층을 더 포함하는 유기발광 표시장치.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 봉지층 상에 배치된 터치전극을 갖는 터치 센서층을 더 포함하는 유기발광 표시장치.
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