KR20210057064A - 물체를 검출하기 위한 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 운반 장치에 의해 검출 장치의 측정 영역을 통해 운반되는 물체를 검출하기 위한 장치에 관한 것으로서, 상기 검출 장치는 상기 물체의 외부 윤곽 상에 기가헤르츠 또는 테라헤르츠 범위의 주파수를 갖는 측정 방사선을 방출하기 위한 송신 장치 및 상기 물체(26)에 의해 반사되는 상기 측정 방사선을 수신하기 위한 수신 장치를 포함하고, 일측의 상기 송신 장치 및/또는 수신 장치와 타측의 상기 측정 영역 사이에 상기 측정 방사선에 대해 투명하고 가스에 대해 투과성인 보호 메시가 배치된다. 본 발명은 또한 대응하는 방법에 관한 것이다.

Description

물체를 검출하기 위한 장치 및 방법
본 발명은 운반 장치에 의해 검출 장치의 측정 영역을 통해 운반되고 있는 물체를 검출하기 위한 장치에 관한 것으로서, 물체의 외부 윤곽 상에 기가헤르츠 또는 테라헤르츠 범위의 주파수를 가진 측정 방사선을 방출하기 위한 송신 장치 및 물체로부터 반사되는 측정 방사선을 수신하기 위한 수신 장치를 포함한다. 본 발명은 또한 대응하는 방법에 관한 것이다.
이러한 장치를 사용하여, 예를 들면, 튜브의 직경을 결정할 수 있다. 기가헤르츠 또는 테라헤르츠 범위의 측정 방사선을 방출하는 송신 장치가 알려져 있다. 이러한 측정 방사선은 수증기 등의 결과로서 발생하는 혼란의 영향을 거의 받지 않는다. 송신 장치에 의해 방출된 측정 방사선은 튜브에 의해 반사되어 수신 장치로 되돌아간다. 평가 장치가, 예를 들면, 전파 지연 측정에 의해, 송신 및 수신 장치로부터 튜브까지의 거리를 측정할 수 있다. 이러한 측정이, 예를 들면, 튜브의 상이한 측면 상에서 실행되는 경우, 이러한 방식으로 직경을 결정할 수 있다. 예를 들면, 튜브의 주위에 분포된 다수의 측정점을 측정함으로써 타원형 등과 같은 외부 윤곽도 검출할 수 있다.
튜브를 제조할 때, 튜브가 형성되고 있는 동안에 또는 튜브의 최종 형성 후에 가능한 빨리 외부 윤곽을 측정하여 필요에 따라 조기의 단계에 제조 파라미터의 개입을 실행하고 불합격을 방지하는 것이 일반적으로 바람직하다. 예를 들면, 압연에 의해 금속 튜브를 제조할 때, 압연기는 물로 냉각되므로 대량의 수증기를 발생시킨다. 이러한 환경에서는 금속분, 재 등과 같은 오염물 입자도 자주 발견된다. 특히 플라스틱 튜브를 제조할 때, 금속제 교정 슬리브로 알려져 있는 것을 사용할 수 있으며, 이것에 접촉하여 플라스틱 튜브는 여전히 연질인 시점에서, 예를 들면, 진공을 적용하여 흡인됨으로써 최종 형상을 얻는다. 여기서도 물을 사용하는 냉각이 실행되며, 이것 역시 상당한 수증기를 발생시킨다. 광학적 측정 장치는 이러한 측정 환경에서 상당한 어려움을 수반한다.
이러한 측정 환경에서 물체를 측정할 때 오염물 입자로 인한 측정 결과의 장해는 테라헤르츠 또는 기가헤르츠 방사선을 사용하는 경우에도 문제로 된다. 또한, 설명된 거친 측정 환경에서 송신 장치와 수신 장치는 고온에 노출되므로 대응하는 혼란 또는 손상을 초래할 수 있다. 다른 한편, 이 문제를 피하기 위해 측정 환경이 그리 중요하지 않은 이후의 시점에서 외부 윤곽이 검출되는 경우, 제조 파라미터의 임의의 원하지 않는 편차가 발생한 경우에는 상당한 양의 불합격이 생긴다.
또한, 예를 들면, 무거운 플레이트, 핫 스트립 플레이트 또는 콜드 스트립 플레이트의 제조 또는 가공 시에 두께, 폭, 평면성 및/또는 표면 상태를 측정 및 평가하는 것이 종종 바람직하다. 또한, 이 경우에 측정될 제품 아래에 송신 장치와 수신 장치를 배치하는 것이 종종 필요하다. 그러므로 이 송신 장치와 수신 장치는 상당한 오염의 위험에 노출된다.
전술한 종래 기술로부터 출발하여 본 발명의 목적은, 설명한 바와 같이, 거친 측정 환경에서도 신뢰할 수 있는 측정 결과를 제공하고, 따라서 검출될 물체를 제조할 때 불합격의 양을 최소화하는 서두에서 언급한 유형의 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 독립 청구항 1 및 12를 통해 목적을 달성한다. 유리한 실시형태가 종속 청구항, 상세한 설명 및 도면에 개시되어 있다.
서두에서 언급한 유형의 장치의 경우, 본 발명은 측정 방사선에 대해 투명하고 가스에 대해 투과성인 보호 메시(protective mesh)를 일측의 송신 장치 및/또는 수신 장치와 타측의 측정 영역 사이에 배치함으로써 목적을 달성한다.
검출될 물체는 측정 중에 본 발명에 따른 장치의 측정 영역을 통해 운반된다. 이 목적을 위해, 이 장치는 대응하는 운반 장치를 포함한다. 물체는, 예를 들면, 튜브와 같은 스트랜드(strand) 형상의 물체, 특히 강과 금속, 또는 플라스틱 또는 유리로 제작된 튜브와 같은 스트랜드 형상의 물체일 수 있다. 검출될 물체는 또한 기본적으로 평면, 예를 들면, 플레이트, 특히 무거운 플레이트, 핫 스트립 플레이트 또는 콜드 스트립 플레이트에 놓여 있는 물체일 수 있다. 본 발명은 또한 본 발명에 따른 장치 및 검출될 물체를 포함하는 시스템에 관한 것이다. 이 경우, 이 장치의 적어도 하나의 송신 장치 및/또는 적어도 하나의 수신 장치는 검출될 물체의 아래에 배치될 수 있다. 재료에 따라, 검출될 물체는 측정 중에 여전히 매우 높은 온도를 가지고 있을 수 있고, 예를 들면, 강 튜브는 1000℃를 초과하는 온도를 가질 수 있고, 또는 유리 튜브는 2000℃를 초과하는 온도를 가질 수 있다.
물체를 검출하기 위해, 송신 장치는 기가헤르츠 또는 테라헤르츠 범위의 주파수를 가진 전자기 측정 방사선을 방출한다. 송신 장치는, 예를 들면, 0.001 테라헤르츠 내지 6 테라헤르츠의 주파수 범위, 바람직하게는 0.02 내지 3 테라헤르츠의 주파수 범위의 측정 방사선을 방출할 수 있다. 특히, 측정 방사선은 전파를 방출할 수 있다. 이러한 측정 방사선은 수증기 등에 의한 측정 경로의 오염에 의한 방해에 별로 영향을 받지 않으므로 가혹한 환경에서의 측정에 특히 적합하다. 측정 방사선은 물체의 외부 윤곽에 충돌하고, 이것에 의해 반사되고, 이것을 측정 결과로서 검출하는 수신 장치에 도달한다. 이것에 기초하여, 송신 장치 및 수신 장치로부터 물체까지의 거리가, 예를 들면, 전파 지연 측정에 기초하여 그 자체로 공지된 방식으로 결정될 수 있다. 이것에 의해, 예를 들면, 특히 물체의 주위에 분포된 다수의 측정 위치를 측정하는 경우, 물체의 직경 및/또는 벽 두께 및/또는 외부 윤곽을 결정할 수 있다. 평면 물체의 경우, 예를 들면, 이것의 폭, 평면성 및/또는 표면 상태 또는, 상이한 면 상에 복수의 송신 장치와 수신 장치를 제공함으로써, 이것의 두께를 측정할 수 있다. 이와 같이 하여, 예를 들면, 주어진 형상, 예를 들면, 원형 단면의 형상, 특히 타원형으로부터의 외부 윤곽의 편차 또는 주어진 두께 또는 평면성으로부터의 편차를 검출할 수 있다. 이것에 기초하여, 물체의 제조의 제조 파라미터의 개입을 제어할 수 있다.
본 발명에 따르면, 일측의 송신 장치 및/또는 수신 장치와 타측의 측정 중에 검출될 물체가 위치하는 측정 영역 사이에 보호 메시가 배치된다. 이 보호 메시는 측정 방사선에 대해 적어도 거의 투명하다. 보호 메시의 격자 상수는 측정 방사선의 파장보다 상당히 작을 수 있다. 보호 메시는 측정 방사선의 일부를 흡수할 수도 있다. 그러나, 특히 측정 방사선의 대부분은 보호 메시를 통과하므로 가능한 최고 높이의 진폭을 본 발명에 따른 측정에 이용할 수 있다. 물론, 보호 메시는 측정 방사선에 대해 완전히 투명한 것일 수도 있다. 또한, 보호 메시는 가스에 대해, 특히 공기에 대해 투과성이 있다. 송신 장치 및 수신 장치는 기본적으로 동일한 장소에 또는 서로 직접 인접하여 배치될 수 있다. 그러면 공통의 보호 메시가 송신 장치와 수신 장치 둘 모두를 보호할 수 있다. 그러나, 송신 장치와 수신 장치가 상이한 장소에 배치되는 것도 고려할 수 있다. 복수의, 예를 들면, 2 개의 보호 메시를 제공할 수도 있으며, 이중 하나는 송신 장치를 보호하고, 하나는 수신 장치를 보호한다.
본 발명에 따라 제공된 보호 메시는 송신 장치와 수신 장치를 오염물 입자, 냉각 액체(예를 들면, 물), 또는 유해 가스로부터 보호한다. 특히, 보호 메시는 이러한 방해 성분들이 측정 센서, 즉 송신 장치 및 수신 장치의 영역 내로 진입하는 것을 방지한다. 또한, 보호 메시는 열 방사선을 측정 센서로부터 분산시킨다. 이로 인해 측정 센서는 고온으로부터 보호된다. 보호 메시의 격자로 인해 보호 메시에는 가스, 특히 공기가 통과할 수 있는 개구부가 형성될 수 있다. 가스 또는 공기의 투과성으로 인해 보호 메시는 통상의 공기 교환에 의해서도 오염물 입자가 제거된다. 이 공기 교환은 또한 유리하게도 송신 장치 및 수신 장치의 냉각을 이미 유발한다. 또한, 보호 메시의 가스 투과성 설계에 의해 이하에서 상세히 설명되는 바와 같이 특히 플러싱(flushing)에 의해 보호 메시를 특히 확실하게 오염물질이 없는 상태로 유지할 수 있다. 이는 서두에서 설명한 가혹한 환경 조건에서 특히 중요하다. 이로 인해 본 발명에 따른 장치는 거친 측정 환경에서도 신뢰할 수 있는 방법으로 확실한 측정 결과를 제공할 수 있고, 그 결과 불합격을 최소화할 수 있다.
특히 실용적인 실시형태에 따르면, 송신 장치 및 수신 장치는 송수신기에 의해 형성될 수 있다. 이러한 송수신기는 송신 장치와 수신 장치를 조합한 것이며, 이들은 실제로 동일한 장소에 배치된다.
다른 실시형태에 따르면, 보호 메시는 유리 섬유 직물로 형성될 수 있다. 유리 섬유 직물은 본 발명에 따른 목적에 특히 적합하다. 한편으로, 이것은 가스가 잘 투과할 수 있고, 특히 전파에 대해 투명할 수 있다. 다른 한편으로, 이것은 오염물질 및 열에 대해 내성이 높다. 그러나, 원리적으로, 예를 들면, 세라믹 필터 재료 등의 다른 재료도 고려할 수 있다.
다른 실시형태에 따르면, 송신 장치 및 수신 장치는 하우징 내에 배치될 수 있고, 보호 메시는 측정 영역에 대면하는 하우징 개구부를 폐쇄한다. 이러한 하우징은 환경으로부터 파괴적인 영향으로부터 특히 확실한 보호를 실현한다. 하우징은 특히 보호 메시 및 플러싱 가스용으로 제공될 수 있는 입구를 제외하고 폐쇄될 수 있다.
본 발명에 따른 장치는 플러싱 가스로 보호 메시를 플러싱하기 위한 플러싱 장치를 포함할 수도 있다. 특히 간단하게는 플러싱 공기를 플러싱 가스로 볼 수 있다. 하우징 내에는 플러싱 장치에 의해 약간의 과압이 유지되고, 이는 오염물 진입의 위험을 더 줄여준다. 이 플러싱 장치에 의해 플러싱 가스가 하우징 내로 도입된다. 다음에 이 플러싱 가스는 가스 투과성 보호 메시를 통과하여, 예를 들면, 환경 내로 방출된다. 그 결과, 보호 메시의 영역에 수집된 오염물 입자 등이 제거되고 보호 메시는 측정을 위해 세정된다. 또한, 플러싱은 송신 장치 및 수신 장치를 냉각시킨다.
다른 실시형태에 따르면, 플러싱 장치는 측정 전, 측정 중 및/또는 측정 후에 플러싱 가스로 보호 메시를 연속적으로 플러싱하도록 설계될 수 있다. 이것에 의해 보호 메시는 항상 오염물질이 확실히 없는 상태로 유지된다.
추가적으로 또는 대안적으로, 플러싱 장치는 측정 전, 측정 중 및/또는 측정 후에 플러싱 가스로 보호 메시를 단속적으로 플러싱하도록 설계될 수도 있다. 연속적 플러싱에 비해 상당히 더 높은 가스 압력을 사용한 단속적 플러싱은 보다 단단하거나 큰 메시 오염물질을 확실하게 방출시킬 수 있다. 단속적 플러싱은, 예를 들면, 정해진 시간 간격으로 또는 장치의 측정 결과와는 무관하게 실행될 수 있다.
본 발명에 따른 장치는 수신 장치로부터의 측정값이 적용되고 이 측정값에 기초하여 물체의 직경 및/또는 벽 두께 및/또는 외부 윤곽을 결정하도록 설계된 평가 장치를 더 포함할 수 있다. 이는 전파 지연 측정을 사용하는 그 자체로 공지된 방식으로 평가 장치에 의해 실행될 수 있다. 이러한 평가는 원리적으로 당업자에게 알려져 있으므로 더 상세하게 설명하지 않을 것이다.
본 발명에 따른 장치는 제어 및/또는 조절 장치를 포함할 수도 있고, 이 장치에는 수신 장치로부터의 측정값 및/또는 평가 장치로부터의 평가 데이터가 적용되고, 이 장치는 수신 장치로부터의 측정값 및/또는 평가 장치로부터의 평가 데이터에 기초하여 물체를 제조하기 위한 프로세스를 제어 및/또는 조절하도록 설계된다.
다른 관련된 실시형태에 따르면, 평가 장치는, 수신 장치에 의해 측정된 방사선 강도가 변화할 때, 플러싱 장치를 작동시켜 플러싱 가스로 보호 메시를 단속적으로 및/또는 연속적으로 플러싱하도록 설계될 수 있다. 보호 메시가 오염되는 경우, 이는 투과성의 저하 및/또는 측정 방사선의 흡수의 증가를 초래할 수 있다. 이는 또한 보호 메시로부터의 측정 방사선의 반사의 증가로 이어지고, 따라서, 예를 들면, 금속 먼지 또는 물에 의한 방사선 에코(radiation echo)의 강도의 증가로 이어질 수 있다. 이러한 효과는 수신 장치에 의해 수신되는 방사선 강도의 변화, 특히 측정값의 전체에 걸친 방사선 강도의 변화 또는 측정 영역에 물체가 없는 경우의 방사선 강도의 변화에 기초하여 검출될 수 있다. 이는 특히 측정 영역에 측정될 물체가 없는 경우의 측정값의 변화가 평가 장치에 의해 관찰될 수 있으므로 물체에 의한 지장이 없다는 것을 의미한다. 그러므로 측정된 방사선 강도의 변화는 원인에 따라 방사선 강도의 증가 또는 감소일 수 있다. 예를 들면, 평가에 대한 허용가능한 강도 범위의 커리도(corridor)가 정의될 수 있다. 이것이 벗어난 경우, 평가 장치는 플러싱 장치를 작동시켜 보호 메시를 플러싱 가스로 단속적으로 및/또는 연속적으로 플러싱한다. 따라서 이 실시형태는 측정 센서 자체가 보호 메시의 오염을 검출할 수 있다는 사실을 유리한 방식으로 이용하므로 특히 보호 메시는 필요에 따라 플러싱에 의해 세정될 수 있다.
다른 실시형태에 따르면, 일측의 송신 장치 및/또는 수신 장치와 타측의 측정 영역 사이에 측정 방사선을 편향시키는 반사기가 배치될 수 있다. 이러한 반사기는 검출될 물체가 있는 측정 영역에 대한 송신 장치 및 수신 장치의 배치에 관하여 보다 큰 유연성을 가능하게 한다. 그리고 이로 인해 송신 장치 및 수신 장치의 보호를 개선할 수 있다. 그러면 송신 장치 및 수신 장치를 물체 아래에 배치할 필요없이 물체를 아래로부터 측정할 수 있다. 예를 들면, 측정 방사선은 반사기에 의해 약 90°만큼 편향될 수 있다.
다른 관련된 실시형태에 따르면, 반사기는 보호 메시와 측정 영역 사이에 배치될 수 있다. 그러면 물체를 아래로부터 측정할 수 있고, 보호 메시도 물체 아래에 배치할 필요가 없다. 이 경우, 반사기가 측정 영역 아래에 배치되고 이에 따라 측정이 아래로부터 실행되는 경우에도 보호 메시는 검출될 물체로부터 유래하는 오염물질이 보호 메시로부터 이격되어 낙하하도록 배치될 수 있다. 물체의 주위에 배치되는 추가의 반사기 및 보호 메시뿐만 아니라 송신 장치 및 수신 장치를 제공하는 것도 고려할 수 있고, 여기서, 예를 들면, 측정 영역 위에 배치되는 보호 메시는 검출될 물체로부터 발생하는 강하게 가열된 상승 공기가 보호 메시를 통과하도록 배치될 수 있다. 특히, 보호 메시(들)은, 이 경우, 측정면에 수직으로, 또는 오염물질의 낙하면에 평행하게 및/또는 고온 공기의 상승면에 평행하게 배치될 수 있다. 전술한 실시형태에서, 반사기는 오염의 증가에 노출될 될 수 있다. 그러나, 본 명세서에서 설명하는 측정 방사선용 반사기는 이 점에서 비교적 둔감하다. 물론, 대안적으로는 반사기를 오염으로부터 보호하기 위해 반사기와 측정될 물체의 측정 영역 사이에 보호 메시를 배치할 수도 있다.
이미 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 검출될 물체는, 예를 들면, 스트랜드 형상의 물체, 특히 금속 튜브, 특히 강 튜브, 또는 플라스틱 튜브, 또는 유리 튜브와 같은 튜브 형상의 물체, 또는 평면, 예를 들면, 플레이트, 특히 무거운 플레이트, 핫 스트립 플레이트 또는 콜드 스트립 플레이트일 수 있다. 이 경우, 장치는 물체가 여전히 형성되고 있는 동안에 또는 물체의 최종 형상을 결정하는 생산 라인 직후에, 특히 이러한 생산 라인의 하류의 냉각 라인에서 검출될 물체를 검출하도록 설계될 수 있다. 이 목적을 위해, 장치는 이에 대응하여 물체를 생산하기 위한 설비의 생산 라인 및/또는 냉각 라인 상에 배치될 수 있다. 이 점에서, 본 발명은 또한 물체를 생산하기 위한 설비의 생산 라인 및/또는 냉각 라인을 포함하는 시스템 및 본 발명에 따른 장치에 관련된다. 설명한 바와 같이, 특히 매우 거친 측정 환경의 이러한 측정의 경우, 오염물질의 위험이 높고 매우 고온인 것이 추정될 수 있다. 이러한 냉각 영역의 영역에서, 냉각 액체로서 사용되는 물의 비산으로 인한 문제가 또한 예상될 수 있다. 본 발명에 따른 장치는 이러한 용도에 특히 적합하다.
대응하여, 본 발명은 또한 본 발명에 따른 장치를 사용하여 물체를 검출하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 방법에서, 물체의 직경 및/또는 벽 두께 및/또는 외부 윤곽은 수신 장치로부터의 측정값에 기초하여 대응하여 결정될 수 있다. 또한, 물체를 생산하기 위한 프로세스는 수신 장치로부터의 측정값에 기초하여 및/또는 물체의 직경 및/또는 벽 두께 및/또는 외부 윤곽에 대해 결정된 값에 기초하여 제어 및/또는 조절될 수 있다. 이 방법에서, 물체는 여전히 성형 중인 동안에 또는 최종 성형 후 가능한 신속하게 물체의 생산 라인의 영역에서 검출될 수 있다. 그 결과 생산 라인은 물체에 최종적인 형상을 부여한다. 이러한 측정 중에, 예를 들면, 금속 튜브는 아직도 1000℃를 초과하는 온도를 가질 수 있으므로 발갛게 빛나고 있을 수 있다. 예를 들면, 유리 튜브는 아직도 2000℃를 초과하는 온도를 가질 수 있다. 이 영역에서는 금속 먼지 및 재가 발생할 수도 있다. 특히 플라스틱 튜브를 제조할 때, 금속제 교정 슬리브가 제공될 수 있고, 이것에 접촉하여 플라스틱 튜브는 여전히 성형가능한 시점에서, 예를 들면, 진공을 적용하여 흡인됨으로써 최종 형상을 형성한다. 이러한 교정 슬리브는 물체를 냉각시키기 위한 냉각 탱크의 영역에 배치될 수 있다. 이와 같은 냉각 탱크 내에 냉각수와 같은 냉각 액체를 주입하여 물체를 냉각시킬 수 있다. 본 발명에 따른 측정은 이러한 교정 슬리브 또는 이러한 냉각 탱크의 영역에서 실행할 수도 있다. 이 목적을 위해, 교정 슬리브 및/또는 냉각 탱크는 관련된 측정 개구부를 포함할 수 있다.
이미 설명한 바와 같이, 적어도 하나의 송신 장치 및/또는 적어도 하나의 수신 장치는 또한 본 발명에 따르면 측정 중에 물체의 아래에 배치될 수 있다.
본 발명의 예시적 실시형태를 도면을 참조하여 더 상세히 설명한다.
도 1은 제 1 예시적 실시형태에 따른 본 발명에 따른 장치의 단면도를 도시하고,
도 2는 도 1의 장치의 정면도를 도시하고,
도 3은 제 2 예시적 실시형태에 따른 본 발명에 따른 장치의 단면도를 도시한다.
동일한 참조 번호는 특히 명기되어 있지 않는 한 도면에서 동일한 물체를 지칭한다.
도 1에 도시된 본 발명에 따른 장치는 화살표(14)를 따라 플러싱 가스의 공급부(12)를 갖는 단면도로 도시된 하우징(10)을 갖는다. 예를 들면, 플러싱 공기가 플러싱 가스로서 사용될 수 있다. 하우징(10)은 수용부(11) 내에 유지된다. 이 장치는 또한 하우징(10)에 결합된 송수신기(16)를 포함하며, 이 송수신기는 측정 방사선을 방출하기 위한 송신 장치 및 측정 방사선을 수신하기 위한 수신 장치를 형성한다. 도시된 실시례에서, 송수신기(16)는 쌍곡면으로서 설계된 안테나(18)를 가지며, 이것은, 예를 들면, 테플론(Teflon)으로 형성될 수 있다. 이 장치는 또한 평가 장치(20)를 포함하며, 이 평가 장치에 수신 장치로부터의 측정 결과가 적용된다.
하우징 (10)은 하우징 개구부(22)를 가지며, 이 하우징 개구부는 도시된 실시례에서 원형이며 보호 메시(24)를 구비한다. 보호 메시 (24)는, 예를 들면, 유리 섬유 보호 메시일 수 있다. 본 실시례에서 금속 튜브, 특히 강 튜브, 또는 플라스틱 튜브와 같은 튜브 형상의 물체(26)로 도시된 이 장치에 의해 검출될 물체(26)가 측정 영역에 배치된다. 튜브 형상의 물체(26)는 그 길이방향 축선을 따라 도 1의 장치의 측정 영역을 통해 장치의 운반 장치에 의해 도면의 평면에 수직으로 운반될 수 있다. 송수신기(16)의 송신 장치는 보호 메시(24)를 통해 튜브 형상의 물체(26)의 외부 윤곽으로 전자기 측정 방사선을 방출하고, 전자기 방사선은 이 외부 윤곽으로부터 송수신기(16)로 이에 따라 도 1에서 화살표(28)로 예시된 바와 같이 수신 장치로 되반사된다. 이것에 기초하여, 평가 장치(20)는 전파 지연 측정으로부터 송수신기(16)와 튜브 형상의 물체(26)의 외부 윤곽 사이의 거리를 확인하고, 이에 따라 그 자체로 알려져 있는 다른 측정 변수를 추론한다. 이에 따라, 특히, 거리가 물체(26)의 주위에 걸쳐 분포된 다수의 위치에서 측정되어 튜브 형상의 물체(26)의 직경 및/또는 벽 두께 및/또는 외부 윤곽을 결정할 수 있다.
플러싱 장치 (30)는 화살표(14)에 대응하는 공급부(12)를 통해 측정 중에 하우징(10)에 플러싱 가스를 공급하기 위해 제공된다. 도 1에서 화살표(32)로 예시된 바와 같이, 공급된 플러싱 가스는 보호 메시(24)를 통과하여 다시 외부로 환경 내로 배출된다. 이것에 의해 보호 메시(24)는 오염물질이 없는 상태로 유지된다. 플러싱 가스는 측정 전, 측정 중 및/또는 측정 후에 연속적으로 또는 단속적으로 플러싱 장치(30)에 의해 도입될 수 있다. 예를 들면, 송수신기(16)의 수신 장치에 의해 수신된 방사선 강도는 측정 영역에 물체(26)가 배치되거나 배치되지 않은 상태에서 규칙적인 간격으로 평가 장치(20)에 의해 확인될 수 있다. 이 방사선 강도가 방사선 강도의 증가 또는 감소에 의해 이전에 확립된 허용가능한 커리도 외로 이동하는 경우, 평가 장치(20)는, 예를 들면, 단속적 플러싱을 수행하도록 플러싱 장치(30)를 작동시킬 수 있다.
본 발명의 제 2 예시적 실시형태는 도 1 및 도 2에 따른 예시적 실시형태에 대부분 대응하는 도 3에 도시되어 있다. 또한 검출될 특히 튜브 형상의 물체(26)는 도 1의 도면에 대해 90° 회전되어 도시되어 있다. 또한 물체(26)는 그 길이방향 축선을 따라 측정 영역을 통해 운반될 수 있다. 도 1 및 도 2에 따른 예시적 실시형태와 대조적으로, 도 3에 따른 예시적 실시형태에서, 반사기(34)는 송수신기(16)와 검출될 물체(26)를 구비한 측정 영역 사이에 배치되며, 이 반사기는 도 3에서 화살표(28)로 예시된 바와 같이 기본적으로 수직으로 도시된 측정 방사선을 편향시킨다. 도 3에 도시된 실시례에서, 반사기 (34)는 보호 메시(24)와 검출될 물체(26)를 구비한 측정 영역 사이에 배치된다. 이와 같이 하여, 보호 메시 (24)는 오염물질로부터 특히 확실하게 보호될 수 있다. 물론, 대안적으로는, 도 3에 도시된 예시적 실시형태에서, 예를 들면, 반사기(34)를 보호하기 위해 반사기(34)와 검출될 물체(26)가 있는 측정 영역 사이에 보호 메시(24)를 배치하는 것도 고려할 수 있다. 추가의 송수신기(16)가 또한 물체(26)의 주위에 분산 배치될 수 있고, 각각의 경우에 보호 메시와 반사기가 제공될 수 있다. 보호 메시는 이 경우에 각각 오염물질 및/또는 고온 공기가 낙하 또는 통과하도록 배치될 수 있다.
본 발명은 튜브 형상의 물체(26)의 측정의 실시례에 기초한 도면으로 설명하였으나, 물체는 기본적으로 평면, 예를 들면, 플레이트, 특히 무거운 플레이트, 핫 스트립 플레이트 또는 콜드 스트립 플레이트에 놓인 물체일 수도 있다. 적어도 하나의 송신 장치 및/또는 적어도 하나의 수신 장치가 측정 중에 물체의 아래에 배치될 수도 있다.
10 하우징
12 공급부
14 화살표
16 송수신기
18 안테나
20 평가 장치
22 하우징 개구부
24 보호 메시
26 물체
28 화살표
30 플러싱 장치
32 화살표
34 반사기

Claims (14)

  1. 운반 장치에 의해 검출 장치의 측정 영역을 통해 운반되는 물체(26)를 검출하기 위한 검출 장치로서,
    상기 검출 장치는 상기 물체(26)의 외부 윤곽 상에 기가헤르츠 또는 테라헤르츠 범위의 주파수를 갖는 측정 방사선을 방출하기 위한 송신 장치 및 상기 물체(26)에 의해 반사되는 상기 측정 방사선을 수신하기 위한 수신 장치를 포함하고, 일측의 상기 송신 장치 및/또는 수신 장치와 타측의 상기 측정 영역 사이에 상기 측정 방사선에 대해 투명하고 가스에 대해 투과성인 보호 메시(protective mesh; 24)가 배치된, 물체 검출 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 송신 장치 및 상기 수신 장치는 송수신기(16)에 의해 형성된, 물체 검출 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 보호 메시(24)는 유리 섬유 직물에 의해 형성된, 물체 검출 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 송신 장치 및 상기 수신 장치는 하우징(10) 내에 배치되고, 상기 보호 메시(24)는 상기 측정 영역에 대면하는 하우징 개구부(22)를 폐쇄하는, 물체 검출 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    플러싱 가스(flushing gas)로 상기 보호 메시(24)를 플러싱하기 위해 플러싱 장치(30)가 또한 제공되는, 물체 검출 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 플러싱 장치(30)는 측정 전, 측정 중 및/또는 측정 후에 상기 플러싱 가스로 상기 보호 메시(24)를 연속적으로 플러싱하도록 설계된, 물체 검출 장치.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 플러싱 장치(30)는 측정 전, 측정 중 및/또는 측정 후에 상기 플러싱 가스로 상기 보호 메시(24)를 단속적으로 플러싱하도록 설계된, 물체 검출 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 수신 장치로부터의 측정값이 적용되고 상기 측정값에 기초하여 상기 물체(26)의 직경 및/또는 벽 두께 및/또는 외부 윤곽을 결정하도록 설계된 평가 장치(20)가 또한 제공된, 물체 검출 장치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 평가 장치(20)는, 상기 수신 장치에 의해 측정된 방사선 강도가 변화할 때, 상기 플러싱 장치(30)를 작동시켜 상기 플러싱 가스로 상기 보호 메시(24)를 단속적으로 및/또는 연속적으로 플러싱하도록 설계된, 물체 검출 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    일측의 상기 송신 장치 및/또는 상기 수신 장치와 타측의 상기 측정 영역 사이에 상기 측정 방사선을 편향시키는 반사기(34)가 배치된, 물체 검출 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 반사기(34)는 상기 보호 메시(24)와 상기 측정 영역 사이에 배치된, 물체 검출 장치.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 장치를 사용하여 물체(26)를 검출하는, 물체 검출 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 물체(26)는 상기 물체(26)의 생산 라인의 하류의 냉각 라인의 영역에서 검출되는, 물체 검출 방법.
  14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
    적어도 하나의 송신 장치 및/또는 적어도 하나의 수신 장치는, 측정 중에, 상기 물체의 아래에 배치되는, 물체 검출 방법.
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