JP6450697B2 - 基板検査装置 - Google Patents
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Description
前記基板の表面側の所定の検査範囲に対し所定の光を照射可能な少なくとも1つの表面側照射手段と、
所定の光が照射された前記基板の表面側の所定の検査範囲を撮像可能な表面側撮像手段と、
前記基板の裏面側の所定の検査範囲に対し所定の光を照射可能な少なくとも1つの裏面側照射手段と、
所定の光が照射された前記基板の裏面側の所定の検査範囲を撮像可能な裏面側撮像手段と、
前記表面側照射手段及び前記表面側撮像手段によって行われる前記基板の表面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理により取得された複数の画像データを基に当該検査範囲に係る検査を実行可能、かつ、前記裏面側照射手段及び前記裏面側撮像手段によって行われる前記基板の裏面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理により取得された複数の画像データを基に当該検査範囲に係る検査を実行可能な検査手段とを備え、
前記表面側照射手段から光を照射しかつ前記裏面側照射手段からの光の照射を停止して、前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行した後、前記表面側照射手段からの光の照射を停止しかつ前記裏面側照射手段から光を照射して、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行し、
かつ、
前記裏面側照射手段から光を照射しかつ前記表面側照射手段からの光の照射を停止して、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行した後、前記裏面側照射手段からの光の照射を停止しかつ前記表面側照射手段から光を照射して、前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行することにより、
前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理と、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理とを交互に行う特定処理を実行可能としたことを特徴とする基板検査装置。
前記表面側撮像手段による撮像処理を実行できない期間(例えば表面側撮像手段におけるデータ転送期間など機能的に撮像不能な期間)又は実行しない期間(例えば表面側照射手段における格子の移送又は切替期間など他の要因に応じて相対的に定まる期間)に、前記裏面側撮像手段による撮像処理を実行し、
かつ、
前記裏面側撮像手段による撮像処理を実行できない期間(例えば裏面側撮像手段におけるデータ転送期間など機能的に撮像不能な期間)又は実行しない期間(例えば裏面側照射手段における格子の移送又は切替期間など他の要因に応じて相対的に定まる期間)に、前記表面側撮像手段による撮像処理を実行することを特徴とする手段1に記載の基板検査装置。
前記基板の表面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理と、前記基板の裏面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理とを独立して実行可能な構成において、
前記基板の表面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理(画像取得処理の実行期間)と、前記基板の裏面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理(画像取得処理の実行期間)が少なくとも一部で重なる場合に、
前記特定処理を実行することを特徴とする手段1又は2に記載の基板検査装置。
前記検査手段は、
位相の異なる前記パターン光の下で撮像された複数の画像データを基に位相シフト法による三次元計測を実行可能に構成されていることを特徴とする手段1乃至3のいずれかに記載の基板検査装置。
Claims (4)
- 基板の表裏両面を検査する基板検査装置であって、
前記基板の表面側の所定の検査範囲に対し所定の光を照射可能な少なくとも1つの表面側照射手段と、
所定の光が照射された前記基板の表面側の所定の検査範囲を撮像可能な表面側撮像手段と、
前記基板の裏面側の所定の検査範囲に対し所定の光を照射可能な少なくとも1つの裏面側照射手段と、
所定の光が照射された前記基板の裏面側の所定の検査範囲を撮像可能な裏面側撮像手段と、
前記表面側照射手段及び前記表面側撮像手段によって行われる前記基板の表面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理により取得された複数の画像データを基に当該検査範囲に係る検査を実行可能、かつ、前記裏面側照射手段及び前記裏面側撮像手段によって行われる前記基板の裏面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理により取得された複数の画像データを基に当該検査範囲に係る検査を実行可能な検査手段とを備え、
前記表面側照射手段から光を照射しかつ前記裏面側照射手段からの光の照射を停止して、前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行した後、前記表面側照射手段からの光の照射を停止しかつ前記裏面側照射手段から光を照射して、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行し、
かつ、
前記裏面側照射手段から光を照射しかつ前記表面側照射手段からの光の照射を停止して、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行した後、前記裏面側照射手段からの光の照射を停止しかつ前記表面側照射手段から光を照射して、前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行することにより、
前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理と、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理とを交互に行う特定処理を実行可能とし、
前記表面側照射手段及び前記裏面側照射手段の少なくとも1つは、前記所定の光として縞状の光強度分布を有するパターン光を照射可能に構成され、
前記検査手段は、
位相の異なる前記パターン光の下で撮像された複数の画像データを基に位相シフト法による三次元計測を実行可能に構成されていることを特徴とする基板検査装置。 - 基板の表裏両面を検査する基板検査装置であって、
前記基板の表面側の所定の検査範囲に対し所定の光を照射可能な少なくとも1つの表面側照射手段と、
所定の光が照射された前記基板の表面側の所定の検査範囲を撮像可能な表面側撮像手段と、
前記基板の裏面側の所定の検査範囲に対し所定の光を照射可能な少なくとも1つの裏面側照射手段と、
所定の光が照射された前記基板の裏面側の所定の検査範囲を撮像可能な裏面側撮像手段と、
前記表面側照射手段及び前記表面側撮像手段によって行われる前記基板の表面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理により取得された複数の画像データを基に当該検査範囲に係る検査を実行可能、かつ、前記裏面側照射手段及び前記裏面側撮像手段によって行われる前記基板の裏面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理により取得された複数の画像データを基に当該検査範囲に係る検査を実行可能な検査手段とを備え、
前記表面側照射手段から光を照射しかつ前記裏面側照射手段からの光の照射を停止して、前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行した後、前記表面側照射手段からの光の照射を停止しかつ前記裏面側照射手段から光を照射して、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行し、
かつ、
前記裏面側照射手段から光を照射しかつ前記表面側照射手段からの光の照射を停止して、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行した後、前記裏面側照射手段からの光の照射を停止しかつ前記表面側照射手段から光を照射して、前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理を実行することにより、
前記表面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理と、前記裏面側撮像手段による所定の検査範囲に係る複数の撮像処理のうちの1回の撮像処理とを交互に行う特定処理を実行可能とし、
前記基板は、クリーム半田が印刷されたプリント基板であること、又は、半田バンプが形成されたウエハ基板であることを特徴とする基板検査装置。 - 前記特定処理においては、
前記表面側撮像手段による撮像処理を実行できない期間又は実行しない期間に、前記裏面側撮像手段による撮像処理を実行し、
かつ、
前記裏面側撮像手段による撮像処理を実行できない期間又は実行しない期間に、前記表面側撮像手段による撮像処理を実行することを特徴とする請求項1又は2に記載の基板検査装置。 - 前記表面側照射手段及び前記表面側撮像手段と、前記裏面側照射手段及び前記裏面側撮像手段とが独立して駆動制御され、
前記基板の表面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理と、前記基板の裏面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理とを独立して実行可能な構成において、
前記基板の表面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理と、前記基板の裏面側の所定の検査範囲に係る画像取得処理が少なくとも一部で重なる場合に、
前記特定処理を実行することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板検査装置。
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