KR20210028882A - 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치 - Google Patents

현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 박막 기판의 표면에 회로 패턴을 형성하는 기판 현상 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 표면으로부터 일정 두께 이상의 현상액을 외부로 배출시킴으로써 현상액의 퍼들링(puddling) 현상을 방지하여 기판 표면에 현상액이 고르게 도포될 수 있도록 하기 위한 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 기판을 경사지게 배치한 상태로 이송하면서 현상액을 분사 도포함으로써 기판의 처짐을 방지함과 아울러 기판의 중앙 또는 가장자리 부근에 현상액이 두껍게 쌓이는 현상을 방지하고, 기판의 표면으로부터 일정 두께 이상을 초과하는 현상액을 유도하여 외부로 배출시킴으로써 퍼들링 현상을 최소화할 수 있다.

Description

현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치{SUBSTRATE DEVELOPING APPARATUS HAVING FUNCTION OF DISCHARGING DEVELOPING SOLUTION}
본 발명은 박막 기판의 표면에 회로 패턴을 형성하는 기판 현상 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 표면으로부터 일정 두께 이상의 현상액을 외부로 배출시킴으로써 현상액의 퍼들링(puddling) 현상을 방지하여 기판 표면에 현상액이 고르게 도포될 수 있도록 하기 위한 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치에 관한 것이다.
일반적으로 회로기판은 동박면 등으로 이루어지는 도체층에 포토레지스트를 도포하여 배선 회로 패턴을 감광(노광)시키고, 그 후 현상 및 에칭하는 단계를 거쳐 회로패턴을 형성한다. 이와 같이 포토레지스트를 이용하여 회로패턴을 형성하는 소위 서브트랙티브(subtractive) 공법에 의하면 포토마스크를 이용하여 회로패턴을 인쇄하고, 현상액을 이용하여 포토레지스트를 현상한다. 그 후 에칭액을 이용하여 노출된 도체층을 에칭 처리하면 그 도체층만 소정 깊이로 파이게 되고, 최종적으로는 포토레지스트에 덮여 있던 도체층만 남게 된다. 그 외 다른 부분의 도체층은 제거되어 절연층이 노출된다. 그런데 상기한 서브트랙티브 방법에 의해 회로패턴을 형성하게 되면, 회로패턴의 상부 폭과 바닥부의 폭에 차이가 나게 되고, 절연층과 회로패턴의 경계 부분에서 정밀하게 에칭처리가 되지 않게 된다. 따라서, 서브트랙티브(subtractive) 공법에 의한 회로패턴 형성 방법을 적용하면 미세 회로의 형성이 어려우며, 회로 패턴의 두께 편차가 클 뿐만 아니라 그 형태가 불균일한 단점이 있다. 이러한 문제점으로 인하여 최근에는 소위 애디티브(additive) 공법에 의하여 박막 필름형 기판 상에 미세회로를 형성하는 방법이 사용되고 있으며, 특히 반도체 리드간 피치가 훨씬 미세하고 얇도록 가요성 칩온 필름(COF)이 널리 사용되고 있다.
이와 같은 포토레지스트의 현상을 위한 현상액 도포 작업시 가장 큰 문제는 퍼들링(puddling) 현상이다. 퍼들링이란 기판에 분사된 현상액이 기판 표면 중앙부에서 두꺼운 수막층을 형성하여 기판 표면의 균일도(uniformity) 떨어뜨리는 현상을 말하는 것으로, 현상액이 기판 표면 전체에 걸쳐 불균일하게 도포됨에 따라 회로 패턴의 정밀도와 전기적 특성을 저하시키게 된다.
대한민국 등록특허 제10-1403055호 대한민국 등록특허 제10-1603504호 대한민국 등록특허 제10-2000988호
본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로, 박막 기판의 이송 및 현상 공정에서 퍼들링 현상을 최소화할 수 있도록 기판 표면으로부터 일정 두께 이상의 현상액을 외부로 배출시킬 수 있는 기판 현상 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 현상 장치는, 경사진 상태로 배치되어 이송되는 기판의 하부 표면에 현상액을 도포하기 위한 하부노즐어레이와; 상기 기판의 상부 표면에 현상액을 도포하기 위한 상부노즐어레이와; 상기 기판의 상부 표면 일측에 상하 방향으로 일정 간격 이격되게 배치되어 기판의 상부 표면에 도포된 현상액 일부를 외부로 배출시키기 위한 다수의 배출가이드가 구비된 현상액 배출부재를 포함한다.
여기서, 상기 현상액 배출부재의 배출가이드는 현상액이 중력에 의해 외부로 배출될 수 있도록 하향 경사지게 배치된다.
그리고, 상기 현상액 배출부재는 상기 기판의 상부 표면에 미리 정해진 두께를 초과하여 쌓인 현상액을 외부로 배출시키도록 각 배출가이드의 단부가 상기 기판의 상부 표면으로부터 미리 정해진 일정한 간극 만큼 이격 배치된다.
여기서, 상기 배출가이드는 서로 다른 경사각을 갖는 제1경사부와 제2경사부를 구비하는 것이 바람직하며, 상기 제1경사부는 일측 단부가 상기 기판의 상부 표면과 일정한 간극을 두고 이격 배치된 상태에서 하향 경사지게 연장되며, 상기 제2경사부는 상기 제1경사부의 단부로부터 상기 제1경사부 보다 더 큰 각도로 하향 경사지게 연장된다.
그리고, 상기 현상액 배출부재의 배출가이드의 좌우 양측에는 상기 배출가이드를 고정 지지하는 측판이 각각 결합된다.
한편, 상기 하부노즐어레이 및 상부노즐어레이는 각각 상기 기판의 하부 표면과 상부 표면에 평행하도록 경사지게 배치된 하부노즐헤드 및 상부노즐헤드에 길이 방향을 따라 다수개의 하부노즐과 상부노즐이 각각 구비되고, 기판의 이송 방향을 따라 다수개가 일정 간격으로 이격된 위치에 서로 평행하게 배치된다.
그리고, 상기 현상액 배출부재는 기판의 이송 방향을 따라 서로 인접하는 두 상부노즐어레이 사이에 배치되고, 상기 상부노즐어레이에 구비된 개별적인 상부노즐들은 상기 현상액 배출부재가 위치된 중앙측을 향하도록 비스듬하게 배치되는 것이 바람직하다.
상기한 바와 같은 본 발명에 따르면, 기판을 경사지게 배치한 상태로 이송하면서 현상액을 분사 도포함으로써 기판의 처짐을 방지함과 아울러 기판의 중앙 또는 가장자리 부근에 현상액이 두껍게 쌓이는 현상을 방지하고, 기판의 표면으로부터 일정 두께 이상을 초과하는 현상액을 유도하여 외부로 배출시킴으로써 퍼들링 현상을 최소화할 수 있는 탁월한 장점을 갖는다.
도 1 은 기판 이송 방법에 따른 현상액의 퍼들링 현상을 설명하기 위한 모식도,
도 2 는 상기 본 발명에 따른 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치의 작동 원리를 설명하기 위한 모식도,
도 3 은 본 발명에 따른 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치의 바람직한 실시예의 정면도,
도 4 는 본 발명에 따른 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치의 바람직한 실시예의 평면도,
도 5 는 본 발명에 따른 현상액 배출부재의 현상액 배출부재의 사시도(a) 및 일부 절개도(b),
도 6 은 본 발명에 따른 현상액 배출부재에 의해 현상액이 배출되는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치 및 이를 위한 현상액 배출부재(40)의 구성 및 작용을 상세히 설명한다.
도 1 에는 통상적인 박막 기판의 이송 방법과 이에 따른 현상액의 퍼들링 현상이 모식적으로 도시된다. 도시된 바와 같이, 박막 기판(1)을 수평으로 배향한 상태로 이송하면서 상측 및 하측에서 상부노즐(32)과 하부노즐(22)을 통하여 현상액(DS)을 분사하는 경우(a)에는 중력에 의한 기판 처짐 현상이 발생하며, 기판(1)의 하부 표면에서는 현상액(DS)이 소정 두께의 막을 형성한 후 나머지는 중력에 의해 낙하되는 반면, 기판(1)의 상부 표면에는 기판 처짐으로 인해 중앙부에 현상액(DS)이 상대적으로 두껍게 층을 이루게 된다. 그리고, 박막 기판(1)을 수직으로 배향한 상태로 이송하면서 좌우 양측에서 현상액(DS)을 분사하는 경우(b)에는 기판(1)의 처짐 현상은 발생하지 않지만 상측에서 분사된 현상액(DS)이 중력에 의해 기판(1) 표면을 따라 하방으로 이동되어 기판(1) 하단측의 현상액 두께가 상측 보다 상대적으로 두껍게 형성된다. 한편, 기판(1)의 처짐을 최소화 하면서도 기판(1)의 상단 및 하단부 현상액의 두께 편차를 줄이기 위해, 도 1 의 (c)에 도시된 바와 같이, 박막 기판(1)을 경사지게 배향한 상태로 이송하면서 현상액을 분사하는 방법(c)이 제안된다. 이 방법에 따르면, 기판(1)의 수평 이송 방법 보다는 처짐 현상이 완화되고 기판(1) 상부 표면의 현상액이 경사면을 따라 하향 이동하므로 중앙부에 현상액이 몰려 두꺼운 층을 이루는 현상이 해소된다. 다만, 상대적으로 하측에 위치된 기판(1)의 단부측(도면에서는 우측)으로 갈수록 현상액의 층 두께가 증가하는 모습을 볼 수 있다. 한편, 기판(1)의 하부 표면에서는 현상액이 경사면을 따라 이동하다가 중간 중간 응집된 현상액들이 낙하하여 기판(1)이 수직으로 배향 이송되는 경우(b) 보다 대체로 균일한 층두께를 형성하게 된다. 이와 같이, 박막 기판(1)을 완전 수평도 아니고 완전 수직도 아닌 경사진 상태로 이송하면서 현상액을 현상하는 경우 퍼들링 현상을 최소화할 수 있다는 점에서 바람직하다.
도 2 에는 이와 같이 기판(1)을 경사진 상태로 이송하면서 현상하는 경우 기판(1) 상부 표면의 현상액 두께를 보다 균일하게 만들기 위한 본 발명의 원리를 설명하는 개념도가 모식적으로 도시된다. 도 2 의 (a) 도시되고 위에서 이미 설명한 바와 같이, 기판(1)을 경사진 상태로 이송하면서 현상하는 경우에는 기판(1) 하부 표면의 현상액은 경사면을 따라 하향 이동하면서 퍼지다가 중간 중간 응집되면서 중력에 의해 낙하되면서 대체로 기판(1)의 전 표면에 걸쳐 균일하게 층을 이루면서 도포된다. 이에 반하여, 기판(1)의 상부 표면에서는 현상액이 경사면을 따라 하향 이동하면서 퍼지는데 하부 표면에서와 같이 현상액이 낙하 배출되지 못하기 때문에 하측에 배치된 기판(1)의 단부측으로 갈수록 현상액이 층 두께가 증가하게 된다.
이에, 본 발명에서는 도 2 의 (b)에 도시된 바와 같이, 기판(1) 상부 표면의 일측에 상하 방향으로 일정 간격 이격되게 다수의 배출가이드(42)를 배치하여 현상액 일부를 외부로 배출시킴으로써 기판(1) 상부 표면의 현상액 두께를 대체적으로 균일하게 유지시키도록 하는 현상액 배출부재(40)를 제안한다. 보다 구체적으로, 도 2 의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 현상액 배출부재(40)는 상하 방향으로 서로 이격된 각 배출가이드(42)의 단부를 기판(1)의 상부 표면으로부터 일정한 간극(G) 만큼 이격되도록 배치함으로써 기판(1) 상부 표면에 미리 정해진 두께를 초과하여 쌓인 현상액을 외부로 배출시킨다. 또한, 상기 배출가이드(42)는 하향 경사지게 배치되어 현상액이 중력에 의해 경사면을 따라 외부로 원활하게 배출될 수 있도록 구성된다. 이와 같이 기판(1) 상부 표면의 현상액이 일정한 간격을 두고 외부로 배출되기 때문에 기판(1) 하부 표면의 현상액이 중간 중간에서 응집되어 낙하되는 효과와 유사한 작용을 하게 되어 기판(1) 상부 표면 및 하부 표면 간의 현상액 두께차이도 줄어들게 된다. 따라서, 상기 각 배출가이드(42)의 단부 위치는 대체로 기판(1)의 하부 표면에서 현상액이 낙하되는 위치와 상응하는 상부 표면 상측에 배치되는 것이 바람직하다.
도 3 및 도 4 에는 상기한 바와 같은 본 발명에 따른 현상액 배출 기능을 갖는 기판 현상 장치의 정면도 및 평면도가 도시되고, 도 5 에는 상기 현상액 배출부재(40)의 바람직한 실시예의 구성이 도시된다.
도 3 및 도 4 에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 현상 장치는 기판(1), 하부노즐어레이(20), 상부노즐어레이(30), 현상액 배출부재(40) 및 기판이송부(50)를 포함한다.
지그(10)는 박막 기판(1)을 편평하게 편 상태로 고정 지지하는 것으로, 중앙이 개구된 사각 프레임 형태의 지그프레임(14)과, 상기 지그프레임(14)에 형성되어 박막 기판(1)의 가장자리를 파지하는 다수의 클램프(12)를 포함한다. 기판(1)은 가장자리가 지그프레임(14) 상에 구비된 클램프(12)에 의해 파지된 상태에서 지그프레임(14)의 중앙 개구를 커버하도록 배치되며, 이와 같이 지그프레임(14)의 중앙이 개구되어 기판(1)의 상부와 하부에서 각각 현상액을 분사 도포할 수 있다. 이러한 지그(10)는 예시적으로 대한민국 등록특허 제10-2000988호에 상세히 기재되어 있으므로 더 이상의 상세한 설명은 생략한다. 한편, 도 3 에 도시된 바와 같이, 상기 기판(1)는 일측(도면에서는 좌측)이 타측(도면에서는 우측) 보다 더 높은 위치에 고정되어 전체적으로 일정한 각도로 경사지게 배치된다.
상기 지그(10)에 의해 고정 지지된 기판(1)의 하측과 상측에는 각각 현상액 분사 도포를 위한 하부노즐어레이(20)와 상부노즐어레이(30)가 배치된다. 도 3 에 도시된 바와 같이, 상기 하부노즐어레이(20)와 상부노즐어레이(30)는 각각 기판(1)의 하부 표면 및 상부 표면으로부터 일정 간격 이격 배치되되, 상기 기판(1)과 평행하도록 경사지게 배치된 하부노즐헤드(24) 및 상부노즐헤드(34)에 길이 방향을 따라 다수개의 하부노즐(22)과 상부노즐(32)이 각각 구비된다. 이에 따라, 상기 하부노즐어레이(20)와 상부노즐어레이(30)가 각각 기판(1)의 하부 표면과 상부 표면에 현상액을 고르게 분사 도포할 수 있다.
또한, 도 4 에 도시된 바와 같이, 상기 상부노즐어레이(30) 및 하부노즐어레이(20)는 기판(1)의 이송 방향을 따라 다수개가 소정의 간격을 두고 이격된 위치에 서로 평행하게 배치되어 이송되는 기판(1) 표면에 현상액이 순차적으로 도포될 수 있도록 구성된다.
상기 상부노즐어레이(30) 및 하부노즐어레이(20)는 각각 상부노즐브라켓(36)과 하부노즐브라켓(26)에 고정 결합되고, 상기 상부노즐브라켓(36)과 하부노즐브라켓(26)이 벽면에 설치된 지지구(S)에 의해 경사지게 배치된 상태로 지지된다.
한편, 도 3 에 도시된 바와 같이, 상기 기판(1)의 상측에는 현상액 배출부재(40)가 배치된다. 상기 현상액 배출부재(40)는 기판(1)을 상하 방향으로 가로지르도록 길게 연장 형성되며, 도 4 에 도시된 바와 같이, 기판(1)이 이송 방향을 따라 서로 인접하는 두 상부노즐어레이(30) 사이에 각각 배치되는 것이 바람직하다.
도 5 에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 현상액 배출부재(40)의 구성이 사시도(a)와 일부 절개도(b)로 도시된다. 도 5 의 (a)에 도시된 바와 같이, 상기 현상액 배출부재(40)는 다수의 배출가이드(42)와 이를 좌우 양측에서 각각 지지하는 측판(44)을 포함한다.
위에서 이미 언급한 바와 같이, 상기 배출가이드(42)는 상부 기판(1) 표면의 현상액을 일부 배출시키기 위한 것으로, 다수개가 서로 상하로 이격 배치되는 판부재로 구성된다. 그리고, 현상액의 원활한 배출을 위하여 상기 각 배출가이드(42)는 서로 다른 경사각을 갖는 제1경사부(42a)와 제2경사부(42b)를 구비한다.
상기 제1경사부(42a)는 일측 단부가 상기 기판(1)의 상부 표면과 소정의 간극(G)을 두고 이격 배치된 상태에서 소정 각도로 하향 경사지게 연장됨으로써, 기판(1)의 상부 표면에 일정 높이(G) 이상 쌓인 현상액이 상기 제1경사부(42a)를 따라 이동될 수 있도록 한다. 그리고, 상기 제2경사부(42b)는 상기 제1경사부(42a)의 단부로부터 하향 절곡되되, 상기 제1경사부(42a) 보다 더 큰 각도록 하향 경사지게 연장된다.
이러한 다수의 배출가이드(42)는 좌우 양측에서 측판(44)에 용접 등에 의해 고정 결합되어 지지된다. 상기 측판(44)은 배출가이드(42)의 좌우 양측에 서로 평행하게 배치되며, 경사지게 배치된 기판(1)과 평행하도록 경사지게 배치된다.
도 6 에는 상기 현상액 배출부재(40)의 배치 구조와 이를 통해 현상액이 배출되는 방법이 모식적으로 도시된다. 도시된 바와 같이, 상기 현상액 배출부재(40)는 기판(1)에 클램프(12)로 고정 지지된 상태로 경사지게 배치된 기판(1)의 상부 표면과 평행하게 배치된다. 이때, 상기 배출가이드(42)의 내측 단부, 구체적으로 상기 제1경사부(42a)의 내측 단부는 상기 기판(1)의 상부 표면과 소정의 간극(G)을 두고 이격된 상태로 배치된다. 이 상태에서 상부노즐어레이(30)를 통해 현상액이 기판(1)의 상부 표면에 분사되면, 현상액은 분사된 위치로부터 기판(1) 표면 경사면을 따라 하방으로 퍼지면서 이동되고, 이에 따라 일부 구간에 현상액이 응집되어 일정 두께 이상의 층을 이루게 된다. 현상액의 두께가 현상액 배출부재(40)의 배출가이드(42)와 기판(1) 사이의 간극(G) 미만이면 현상액은 기판(1)을 따라 계속 퍼지면서 이동하는데, 현상액의 두께가 간극(G)을 초과하는 경우 초과된 양만큼의 현상액은 배출가이드(42)의 제1경사부(42a)와 제2경사부(42b)를 따라 이송된 후, 제2경사부(42b)의 단부에서 하측으로 낙하된다. 낙하된 현상액은 하측에 구비된 다른 배출가이드(42)들을 따라 연속적으로 이동되어 현상액 배출부재(40)의 최하단에서 하방으로 낙하되어 외부로 최종 배출된다. 이에 따라, 기판(1)의 상부 표면에 분사된 현상액의 두께가 간극(G) 만큼 균일하게 유지될 수 있다.
위에서 이미 언급한 바와 같이, 상기 현상액 배출부재(40)는 서로 인접하는 두개의 상부노즐어레이(30) 사이에 배치되는데, 통상적인 기판(1) 현상 장치에서는 현상액이 기판(1)이 표면에 수직하게 분사되는 것이 일반적인데, 본 발명에서는 도 4 에 도시된 바와 같이 상부노즐어레이(30)에 구비된 개별적인 상부노즐(32)들이 현상액 배출부재(40)가 위치된 중앙측으로 소정 각도로 비스듬하게 배치되어 현상액이 현상액 배출부재(40) 부근에 모이도록 유도하여 현상액의 층 두께를 더 크게 형성함으로써 현상액이 현상액 배출부재(40)를 통해 보다 원활하게 배출될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
다시 도 3 을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 현상 장치는 기판(1)을 경사진 상태로 이송하기 위한 기판이송부(50)를 더 포함한다. 도시된 바와 같이, 상기 기판이송부(50)는 이송롤러(52), 롤러축(54) 및 기어(56)를 포함한다.
상기 이송롤러(52)는 지그(10)의 지그프레임(14) 하측에 배치되어 회전됨에 따라 상기 지그(1)를 이송한다. 상기 이송롤러(52)는, 도 3 에 도시된 바와 같이, 지그(10)의 상측 및 하측 양 단부에 각각 배치되되, 기판(1)의 이송 방향을 따라 다수개가 일렬로 배치된다. 그리고, 상하 양단에 구비된 이송롤러(52)는 서로 회전축에 의해 연결되며, 상기 회전축의 단부에는 기어(56)가 결합되며, 상기 기어(56)에는 모터(미도시)와 밸트에 의해 연결되어 모터 구동에 따라 회전축이 회전되어 이송롤러(52)가 회전 구동될 수 있도록 구성된다. 이러한 이송롤러(52)의 회전에 따라 이송롤러(52)와 접촉된 지그프레임(14)이 이동되어 지그(10)에 지지된 기판(1)이 이송된다. 이때, 상기 지그(10)는 단부측에 각각 구비된 가이드롤러(58)에 의해 안정적으로 안내된다. 이러한 이송롤러(52)에 의한 지그(10) 및 기판 이송 장치의 구조는 대한민국 등록특허 제10-2000988호에 예시적으로 도시되므로 이를 참조할 수 있다. 한편, 상기 현상액 배출부재(40)의 상하 양단부는 상기 기판이송부(50)의 회전축을 경사지게 지지하기 위한 지지구조물(도면부호 미부여)에 고정 설치되는 것이 바람직하다.
이와 같은 방식으로 기판이송부(50)에 의해 상기 기판(1)이 경사진 상태로 이송되면서 이송 방향을 따라 배치된 다수의 상부노즐어레이(30)와 하부노즐어레이(20)를 통해 현상액이 기판(1) 표면 전체에 걸쳐 분사되며, 상기 다수의 현상액 배출부재(40)에 의해 일정 두께 이상을 초과하는 현상액이 외부로 배출되어 현상액의 퍼들링 현상이 해소된다.
이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다. 따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
1 : 기판 10 : 지그
12 : 클램프 14 : 지그프레임
20 : 하부노즐어레이 22 : 하부노즐
24 : 하부노즐헤드 26 : 하부노즐브라켓
30 : 상부노즐어레이 32 : 상부노즐
34 : 상부노즐헤드 36 : 상부노즐브라켓
40 : 현상액 배출부재 42 : 배출가이드
42a : 제1경사부 42b : 제2경사부
44 : 측판 50 : 기판이송부
52 : 이송롤러 54 : 롤러축
56 : 기어 58 : 가이드롤러

Claims (9)

  1. 경사진 상태로 배치되어 이송되는 기판의 하부 표면에 현상액을 도포하기 위한 하부노즐어레이와;
    상기 기판의 상부 표면에 현상액을 도포하기 위한 상부노즐어레이와;
    상기 기판의 상부 표면 일측에 상하 방향으로 일정 간격 이격되게 배치되어 기판의 상부 표면에 도포된 현상액 일부를 외부로 배출시키기 위한 다수의 배출가이드가 구비된 현상액 배출부재를 포함하는 기판 현상 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 현상액 배출부재의 배출가이드는 현상액이 중력에 의해 외부로 배출될 수 있도록 하향 경사지게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 현상액 배출부재는 상기 기판의 상부 표면에 미리 정해진 두께를 초과하여 쌓인 현상액을 외부로 배출시키도록 각 배출가이드의 단부가 상기 기판의 상부 표면으로부터 미리 정해진 일정한 간극 만큼 이격 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 배출가이드는 서로 다른 경사각을 갖는 제1경사부와 제2경사부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제1경사부는 일측 단부가 상기 기판의 상부 표면과 일정한 간극을 두고 이격 배치된 상태에서 하향 경사지게 연장되며, 상기 제2경사부는 상기 제1경사부의 단부로부터 상기 제1경사부 보다 더 큰 각도로 하향 경사지게 연장된 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 현상액 배출부재의 배출가이드의 좌우 양측에는 상기 배출가이드를 고정 지지하는 측판이 각각 결합된 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 하부노즐어레이 및 상부노즐어레이는 각각 상기 기판의 하부 표면과 상부 표면에 평행하도록 경사지게 배치된 하부노즐헤드 및 상부노즐헤드에 길이 방향을 따라 다수개의 하부노즐과 상부노즐이 각각 구비되고, 기판의 이송 방향을 따라 다수개가 일정 간격으로 이격된 위치에 서로 평행하게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 현상액 배출부재는 기판의 이송 방향을 따라 서로 인접하는 두 상부노즐어레이 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 상부노즐어레이에 구비된 개별적인 상부노즐들은 상기 현상액 배출부재가 위치된 중앙측을 향하도록 비스듬하게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 현상 장치.
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Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01160443U (ko) * 1988-04-25 1989-11-07
JPH1070057A (ja) * 1996-06-21 1998-03-10 Tokyo Electron Ltd 処理装置及び処理方法
JP3102831B2 (ja) * 1994-06-20 2000-10-23 大日本スクリーン製造株式会社 回転処理装置
JP2003193271A (ja) * 2001-12-27 2003-07-09 Shiizu:Kk 基板処理装置
JP3511442B2 (ja) * 1996-12-18 2004-03-29 忠弘 大見 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置
KR100502244B1 (ko) * 2003-07-16 2005-07-20 주식회사 디엠에스 기판반송장치
KR100502247B1 (ko) * 2003-07-16 2005-07-20 주식회사 디엠에스 기판반송장치
JP2006032802A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Pioneer Electronic Corp ウェット装置、ディスプレイパネルの製造装置およびウェット処理方法
JP2006110541A (ja) * 2004-09-14 2006-04-27 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置及び処理方法
KR101403055B1 (ko) 2013-01-04 2014-06-03 주식회사 태성 인쇄회로기판의 에칭방법 및 에칭장치
KR101603504B1 (ko) 2015-09-10 2016-03-15 주식회사 태성 인쇄회로기판의 습식 에칭 공정에서 기판 위의 퍼들링 제거를 위한 롤러바 장치
KR102000988B1 (ko) 2018-02-01 2019-07-17 주식회사 태성 박막필름 이송장치

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01160443U (ko) * 1988-04-25 1989-11-07
JP3102831B2 (ja) * 1994-06-20 2000-10-23 大日本スクリーン製造株式会社 回転処理装置
JPH1070057A (ja) * 1996-06-21 1998-03-10 Tokyo Electron Ltd 処理装置及び処理方法
JP3511442B2 (ja) * 1996-12-18 2004-03-29 忠弘 大見 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置
JP2003193271A (ja) * 2001-12-27 2003-07-09 Shiizu:Kk 基板処理装置
KR100502244B1 (ko) * 2003-07-16 2005-07-20 주식회사 디엠에스 기판반송장치
KR100502247B1 (ko) * 2003-07-16 2005-07-20 주식회사 디엠에스 기판반송장치
JP2006032802A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Pioneer Electronic Corp ウェット装置、ディスプレイパネルの製造装置およびウェット処理方法
JP2006110541A (ja) * 2004-09-14 2006-04-27 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置及び処理方法
KR101403055B1 (ko) 2013-01-04 2014-06-03 주식회사 태성 인쇄회로기판의 에칭방법 및 에칭장치
KR101603504B1 (ko) 2015-09-10 2016-03-15 주식회사 태성 인쇄회로기판의 습식 에칭 공정에서 기판 위의 퍼들링 제거를 위한 롤러바 장치
KR102000988B1 (ko) 2018-02-01 2019-07-17 주식회사 태성 박막필름 이송장치

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