JP2003193271A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板を搬送しながら処理液で処理する際に、
基板表面の処理むらや傷の発生が防止できるとともに処
理時間を短縮することのできる基板処理装置を提供す
る。 【解決手段】 搬送路２に沿って搬送される基板Ｐの表
裏の面と隙間を隔てて、処理液を通過可能な微細な孔が
多数形成された多孔板３、４が対向配置されている。そ
れぞれの多孔板表面３、４には、供給路３７を通して供
給される処理液が噴き出す複数の部分と、回収路３８を
通して回収される処理液が吸い込まれる複数の部分とが
分散配置されており、基板Ｐの搬送中に、対向する多孔
板３、４間に満たされる処理液によって、基板Ｐの表面
に処理が行われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を搬送しなが
ら処理液によって基板表面に処理を行う装置に関し、特
に、微細な配線パターンをエッチングする工程に特に好
適に用いることのできる基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

【０００３】従来、例えば基板上の配線パターンをエッ
チングする場合のように、基板表面に化学薬品等の薬液
を作用させて化学処理を行う工程や、基板表面を洗浄液
で洗浄する工程においては、基板を搬送しながらこれら
の薬液や洗浄液のような処理液で基板表面を処理する装
置が用いられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来のこの種の基板処
理装置においては、基板の表裏面に処理液を噴霧してそ
の中を基板を通過させながら処理液で基板表面を処理し
ているが、基板表面と処理液が化学反応すると、化学反
応した処理液はその処理能力が低下するため、基板表面
に同じ処理液が長く滞留していると、基板表面に処理む
らを生じる問題があった。

【０００５】そこで本発明は、前述したような従来技術
における問題を解消し、基板を搬送しながら処理液で処
理する際に、基板表面の処理むらや傷の発生が防止でき
るとともに処理時間を短縮することのできる基板処理装
置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の基板処理装置は、基板を搬送する搬送路
と、搬送路に沿って搬送される基板面と隙間を隔てて対
向するように配置され、処理液を通過可能な微細な孔が
多数形成された多孔板と、多孔板の表面側へ裏面側から
多孔板を通して処理液を送り込む供給路と、多孔板の表
面側の処理液を裏面側から多孔板を通して回収する回収
路と、基板の縁部を保持し、多孔板表面から噴き出す処
理液によって多孔板と基板との間を非接触に維持した状
態で、基板を搬送路に沿って搬送する搬送手段とを備え
ており、多孔板表面には、処理液の噴き出す複数の部分
と処理液が吸い込まれる複数の部分とが分散配置され、
基板搬送中に多孔板と基板間に満たされた処理液で基板
面の処理を行うようにしたものである。

【０００７】本発明の基板処理装置においては、多孔板
表面の処理液が噴き出す部分と処理液が吸い込まれる部
分の間に処理液を多孔板外へ排出する溝を形成すること
が望ましい。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の基板処理装置の
１実施形態を示す斜視図、図２は、その平面図、図３
は、その縦断面図であって、これらの図に示すように基
板処理装置１は、基板Ｐが搬送される搬送路２を有して
おり、前記搬送路２の長手方向中間部分に位置する処理
部Ａ内には、上下方向から搬送路２を挟むように、後述
する一対の多孔板３、４が設けられている。

【０００９】前記処理部Ａに至る搬送路２の上流側には
前記基板Ｐを載せて、これらの多孔板３、４間に搬入す
るための搬入コンベヤ５が配置され、また、処理部Ａの
下流側には、搬出コンベヤ６が設けられている。

【００１０】これらの搬入コンベヤ５と搬出コンベヤ６
は、それぞれ搬送方向に配列された複数のローラ軸７を
有し、これらのローラ軸７には、それぞれの軸方向に間
隔をあけて、多数のディスク状の搬送ローラ８が固定さ
れている。

【００１１】これらのローラ軸７は、基板処理機１の機
枠１Ａの両側部分にそれぞれ対向して形成されている上
方が開口したＵ字状の軸受溝９に、上方から差し込まれ
た軸受ブッシュ１０を貫通して回転自在に支持されてい
る。

【００１２】また、これらのローラ軸７は、片方の端部
が機枠１Ａの外側に突出して、突出部分にそれぞれねじ
歯車１１が固定されている。これらのねじ歯車１１の下
方には、機枠１Ａに回転自在に軸受支持された連動軸１
２が機枠１Ａの長手方向に沿って配置されている。

【００１３】これらの連動軸１２には、それぞれのねじ
歯車１１と噛み合うように複数のねじ歯車１３が固定さ
れていて、連動軸１２を回転させるとねじ歯車１１、１
３を介してその回転がそれぞれのローラ軸７に伝達さ
れ、これらのローラ軸７に固定された搬送ローラ８が一
斉に同方向に連動回転するようになっている。

【００１４】連動軸１２の基板Ｐ搬入側の端部には、歯
付プーリ１４が取り付けられ、前記歯付プーリ１４と、
機枠１Ａに取り付けられたモータ１５の回転軸に固定さ
れている歯付プーリ１６との間には、歯付ベルト１７が
掛け渡されている。なお、この実施形態においては、モ
ータ１５には減速機が内蔵されたギヤードモータが用い
られている。

【００１５】従って、モータ１５を駆動して歯付プーリ
１６を回転させると、この回転は歯付ベルト１７を介し
て連動軸１２に伝達されて、それぞれの搬送ローラ８が
一斉に同方向に回転駆動される。

【００１６】また、搬送路２の処理部Ａの前後におい
て、それぞれ基板Ｐを挟んで搬送する上下一対のニップ
ローラ１８、１９が設けられている。図４に示すよう
に、下方のニップローラ１９は、その両側に突出してい
るニップローラ軸２０が、機枠１Ａの左右対向位置に形
成されている、上方が開放されたＵ字状の軸受溝２１を
それぞれ貫通し、機枠１Ａの外側に固定された軸受ホル
ダ２２の軸受２３で回転自在に支持されている。

【００１７】また、軸受ホルダ２２内には、軸受溝２１
の内側から軸受２３側に処理液が侵入することを防止す
るためのＯリング２４が組み込まれている。ニップロー
ラ１９から連動軸１２側に突出しているニップローラ軸
２０は、軸受ホルダ２２を貫通し、その外側には平歯車
２５が固定されている。

【００１８】ニップローラ軸２０の平歯車２５よりさら
に外側には、連動軸１２に固定されているねじ歯車１３
に噛み合うねじ歯車１１が固定されており、連動軸１２
の回転がねじ歯車１３とねじ歯車１１を介してニップロ
ーラ軸２０に伝達されるようになっている。

【００１９】一方、ニップローラ１９の上方に位置して
いるニップローラ１８は、その両側に突出しているニッ
プローラ軸２６が、軸受溝２１に上下方向にスライド自
在に装着されている軸受ブッシュ２７によって回転自在
に支持されている。

【００２０】軸受ブッシュ２７から連動軸１２側に突出
しているニップローラ軸２６の端部近傍には、前記平歯
車２５に噛み合う平歯車２８が固定されており、これら
の平歯車２５、２８の噛み合いによって、下方のニップ
ローラ１９の回転に連動してこれに対向する上方のニッ
プローラ１８が回転するようになっている。

【００２１】そして、通常は、上方のニップローラ１８
がその重量により下方のニップローラ１９と当接してお
り、これらの間に基板Ｐが挟まれて搬送されるようにな
っている。

【００２２】なお、基板Ｐが上下のニップローラ１８、
１９間を通過するときには、上方のニップローラ１８は
基板Ｐの厚み分、両側の軸受溝２１をこれらに装着され
ている受ブッシュ２７がスライドして上方へ変位する
が、平歯車２５、２８間の噛み合いが外れることはな
い。

【００２３】次に、本発明の基板処理装置１の処理部Ａ
について説明する。図３に示すように、処理部Ａには、
箱状の処理槽２９が設けられており、この処理槽２９の
前後の隔壁２９Ａ、２９Ｂには、それぞれ搬送路２の高
さに、基板Ｐが通過可能な上下方向に扁平な開口部Ｓが
形成されている。

【００２４】また、本実施形態においては、搬入コンベ
ヤ５の搬送方向最下流側の搬送ローラ８と、その前方の
ニップローラ１８、１９との間には、隔壁２９Ａと同様
な隔壁２９Ｃが設けられ、隔壁２９Ｃには、隔壁２９Ａ
の扁平な開口部と対向する位置に基板Ｐを通過可能な扁
平な開口部Ｓ’が設けられており、隔壁２９Ａと隔壁２
９Ｃとの間で画定される空間で、処理液回収槽２９’が
形成されている。

【００２５】また、搬出コンベヤ６側においても同様
に、隔壁２９Ｂと隔壁２９Ｄと間で画定される空間で、
処理液回収槽２９’が形成されており、隔壁２９Ｄにも
隔壁２９Ｂに形成されている扁平な開口部と対向する位
置に基板Ｐが通過可能な扁平な開口部’が設けられてい
る。

【００２６】図示していないが、処理槽２９の前後に隣
接して設けられているこれらの処理液回収槽２９’の底
部には、処理槽２９内から隔壁２９Ａ、２９Ｂの扁平な
開口部Ｓを通して流出する処理液を回収するためのドレ
インが設けられている。なお、これらの回収部２９’
は、説明の便宜上、図１及び図２では、図示を省略して
いる。

【００２７】処理槽２９内部には、上部処理液チャンバ
３０と下部処理液チャンバ３１が設けられていて、上部
処理液チャンバ３０の下面に多孔板３が、また、下部処
理液チャンバ３１の上面に多孔板４が取り付けられてい
る。

【００２８】また、処理槽２９内には、搬送路２に沿っ
て基板Ｐを搬送するためのシャトルコンベヤ３２が搬送
手段として設けられている。このシャトルコンベヤ３２
は、図２及び図３に示すように、一対の歯付プーリ３
３、３４間に掛け渡された歯付ベルト３５と、この歯付
ベルト３５に取り付けられた、キャリア３６と、このキ
ャリア３６に設けられて、基板Ｐの片側の側縁部を上下
から把持するフィンガ３６Ａを有しており、歯付プーリ
３３、３４の一方が機枠１Ａの上方に取り付けられた図
示しないモータにより、正逆方向に回転駆動されて、キ
ャリア３６が搬送路２の方向に往復駆動されるようにな
っている。

【００２９】また、フィンガ３６Ａは、搬入コンベヤ５
側でニップローラ１８、１９を介して、処理槽２９の一
方の隔壁２９Ａの扁平な開口部Ｓから処理槽２９内へ送
り込まれた基板Ｐを受け取って把持し、キャリッジ３６
が歯付ベルト３５とともに、搬出コンベヤ６側へ移動し
た時点で、基板Ｐを開放して搬出コンベヤ６側のニップ
ローラ１８、１９へ受け渡すように、キャリッジ３６に
搭載された図示しない開閉機構で開閉駆動されるように
なっている。

【００３０】図５に示すように、上部処理液チャンバ３
０と下部処理液チャンバ３１の内部には、処理液が通過
する供給路３７と回収路３８が上下方向に複数形成され
ていて、これらの供給路３７と回収路３８はそれぞれ、
上部処理液チャンバ３０の底面に取り付けられた多孔板
３と、下部処理液チャンバ３１の上面に取り付けられた
多孔板４にそれぞれ臨接するように配置されている。

【００３１】また、この実施形態においては、それぞれ
の供給路３７内の多孔板３、４の近傍に、供給路３７内
での処理液の流速分布を均一化するための多数の孔３９
Ａが形成された、整流板３９が複数枚重ねて組み込まれ
ている。なお、これらの整流板３９は、処理液の流速を
均一化する効果を高めるため、互いに孔３９Ａの位置が
ずれているものを３〜５枚重ねて用いている。

【００３２】多孔板３、４は、内部に連通した細孔が多
数形成されているセラミックス等の処理液を通過可能な
多孔質材料で形成されていて、供給路３７から多孔板
３、４の表面側となる搬送路２内に処理液を噴き出さ
せ、また、多孔板３、４を通して搬送路２内から処理液
を回収路３８側へ回収できるようになっている。

【００３３】本実施形態においては、多孔板３、４の表
面側に、搬送路２の長手方向に沿って、処理液が噴き出
す部分と処理液が吸い込まれる部分の間に、処理液の一
部を多孔板３、４外へ排出するための溝４０が形成され
ている。

【００３４】溝４０は上下の多孔板３、４でそれぞれ対
向する位置に設けられて、これらの多孔板３、４の両側
縁まで達している。また、上部処理液チャンバ３０と下
部処理液チャンバ３１内の供給路３７と回収路３８はそ
れぞれ、上下で対応する位置に配置されている。

【００３５】また、本実施形態においては、これらの多
孔板３、４は、溝４０の位置で、上部処理液チャンバ３
０と下部処理液チャンバ３１の下面或いは上面にボルト
４１によって分解可能に固定されている。

【００３６】次に図６は、基板処理装置１における処理
液の循環路を示す図であって、基板処理装置１は、処理
液を貯留するタンク４２を有している。前記タンク４２
には処理部Ａへ処理液を供給する供給管路４３と、処理
部Ａから回収された処理液をタンク４２内に戻すための
回収管路４４が接続されている。

【００３７】タンク４２の供給管路４３の入口には、処
理液中に浮遊する異物を除去するためのストレーナ４５
が取り付けられている。また、供給管路４３の途中には
吐出ポンプ４６が設けられており、その吐出側に隣接し
てフィルタ４７が介装されている。

【００３８】一方、供給管路４３のフィルタ４７の下流
側には、リリーフ弁４８とその前後の供給管路４３内の
液圧を検出する圧力計４９、５０と、供給管路４３内の
処理液の流量を検出する流量計５１が設けられている。

【００３９】供給管路４３からは、流量計５１の下流側
で切替弁５２を介してバイパス管路５３が分岐し、さら
に、前記切替弁５２の下流でバイパス管路５４が分岐し
ており、このバイパス管路５４の末端は、切替弁５５を
介して回収管路４４に連通している。また、回収管路４
４には、切替弁５５とタンク４２の間に吸引ポンプ５６
が設けられている。

【００４０】次に、前述した基板処理装置１による基板
Ｐの処理工程について説明する。図１乃至図３におい
て、処理を行う基板Ｐは、図示しないコンベヤやロボッ
ト等を用いた基板搬入装置、または作業員の手によって
搬入コンベヤ５の搬入ローラ上に搬入される。

【００４１】搬入コンベヤ５上に搬入された基板Ｐは、
モータ１５によって一斉に駆動される搬送ローラ８によ
って、処理部Ａ側へ送られ、さらに隔壁２９Ｃの扁平な
開口部Ｓ’を通って一対のニップローラ１８、１９に受
け渡される。これらのニップローラ１８、１９は、基板
Ｐを上下から挟んでさらに隔壁２９Ａの扁平な開口部Ｓ
を通して処理槽２９内に送り込む。

【００４２】この時、処理槽２９内では、シャトルコン
ベヤ３２のキャリッジ３６が、図２に示す隔壁２９Ａ側
の位置まで移動し、フィンガ３６Ａを開いて待機してお
り、基板Ｐが処理槽２９内に送り込まれると、これらの
フィンガ３６は閉じて基板Ｐの側縁部を把持し、基板Ｐ
を挟んでいるニップローラ１８、１９の搬送速度に同期
して歯付ベルト３５が駆動され、これらのニップローラ
１８、１９からシャトルコンベヤ３２へ基板Ｐが引き渡
される。なお、シャトルコンベヤ３２の動作タイミング
は、基板Ｐの位置を検出する図示していない光学センサ
等を用いて制御することができる。

【００４３】一方、図６に示すように、タンク４２内の
処理液は、吐出ポンプ４６を駆動することによって、供
給管路４３から、上部処理液チャンバ３０及び下部処理
液チャンバ３１内の供給路３７へ向けて送り込まれる。

【００４４】供給路３７へ供給される処理液の圧力は、
供給管路４３の途中に設けられているリリーフ弁４８に
よって所定圧力に維持される。また、供給される処理液
の状態は、圧力計４９、５０及び流量計５１によって監
視することができる。

【００４５】供給管路４３側の切替弁５２は、通常図６
に示すａの状態にあり、バイパス管路５３への処理液の
流入は遮断されている。また、回収管路４４側の切替弁
５５も同図に示すａの状態にあり、バイパス管路５４か
ら回収管路４４への処理液の流入は遮断されている。

【００４６】上部処理液チャンバ３０及び下部処理液チ
ャンバ３１内の供給路３７へ送り込まれた処理液は、図
５に示す整流板３９を通過した後、多孔板３、４を通じ
て搬送路２内へ流入し、処理槽２９内の搬送路２は処理
液で満たされた状態となっている。

【００４７】処理槽２９内に送り込まれた基板Ｐは、処
理液で満たされた搬送路２の中をシャトルコンベヤ３２
によって搬送されていき、その過程で基板Ｐの表裏両面
が処理液と接触してエッチング処理等が行われる。

【００４８】多孔板３，４から噴出する処理液は、その
圧力を基板Ｐの表面に作用させるため、基板Ｐは、上下
の多孔板３、４の表面には非接触の浮動状態で搬送路２
中を移動する。

【００４９】一方、図６に示す吸引ポンプ５１は、吐出
ポンプ４６と同時に駆動されており、この吐出ポンプ４
６の吸引作用によって、搬送路２内の処理液は、多孔板
３、４を通して回収路３８から回収管路４４を経てタン
ク４２に回収される。

【００５０】この際、図５に示すように、供給路３７に
対向している多孔板３、４表面側の処理液が噴き出す部
分と、回収路３８に対向している処理液が吸い込まれる
部分との間に溝４０が形成されているため、多孔板３、
４の表面側から噴き出して基板Ｐの表面と反応した処理
液の一部は、直ちに溝４０を通って多孔板３、４外に排
出されるとともに、残部は多孔板３、４へ再び吸い込ま
れる。

【００５１】その結果、基板Ｐ表面を処理した後の古い
処理液が搬送路２中に滞留することが防止され、基板Ｐ
表面には、常に新しい処理液が接触するため、処理むら
を抑えることができるとともに、処理時間を短縮するこ
とができる。

【００５２】こうして、処理液中を処理槽２９の隔壁２
９Ｂ側へシャトルコンベヤ３２で搬送されてきた基板Ｐ
の前端は、図３に示す隔壁２９Ｂの扁平な開口部Ｓを通
して一対のニップローラ１８、１９へ挟み込まれ、一
方、キャリッジ３６が隔壁２９Ｂの移動限まで到達した
時点で、基板Ｐを把持していたフィンガ３６Ａが開放さ
れる。

【００５３】基板Ｐをシャトルコンベヤ３２から受け取
ったニップローラ１８、１９は、この基板Ｐをさらに前
方の隔壁２９Ｄの扁平な開口部Ｓ’から搬出コンベヤ６
の搬送ローラ８上へ送り出す。

【００５４】こうして搬出コンベヤ６上へ送り出された
処理済みの基板Ｐは、図示しないコンベヤやロボット等
を用いた基板搬出装置、または作業員の手によって、搬
出コンベヤ６上から次工程へ移される。

【００５５】なお、この実施形態においては、２つの切
替弁５２、５５をそれぞれ図６に示すｂの状態に切り替
えることにより、多孔板３、４を通過する処理液の流れ
の向きが反転し、基板処理工程中に多孔板３、４に付着
した反応生成物等の異物を洗い流すことができる。

【００５６】すなわち、これらの切替弁５２、５５をそ
れぞれ同図のｂの状態に切り替えると、吐出ポンプ４６
から吐出された処理液は、バイパス管路５３を通って回
収路３８へ流入し、ここから多孔板３、４を通過して搬
送路２内へ流出する。

【００５７】一方、搬送路２内の処理液は、多孔板３、
４を通して供給路３７へ入り、さらに、供給管路４３の
一部を通ってバイパス路５４を通り、吸引ポンプ５５へ
吸引されてタンク４２へ戻される。このような切替弁５
２、５５の切替動作は、基板処理の作業工程の間に定期
的に行うことで、多孔板３、４の目詰まりを解消するこ
とができる。

【００５８】次に、図７は、本発明の基板処理装置の別
の実施形態を示す斜視図であって、この基板処理装置１
０１は、処理槽１０２内に一対の処理液チャンバ１０
３、１０４を配置し、その対向面側にそれぞれ多孔板１
０５、１０６を設けている。

【００５９】図示はしていないが、処理液チャンバ１０
３、１０４内には、前述した実施形態のものと同様な処
理液の供給路と回収路が形成されていて、多孔板１０
５、１０６を通して、基板Ｐの搬送路１０７を形成する
これらの多孔板１０５、１０６間の隙間に供給路から処
理液を供給し、また、回収路に前記隙間から処理液を回
収するようになっている。

【００６０】これらの多孔板１０５、１０６には、対向
する表面側に処理液の噴き出す複数の部分と処理液が吸
い込まれる複数の部分とが上下方向に交互に配置され、
これらの部分の間には、溝１０８が形成されている。

【００６１】本実施形態においては、基板Ｐの搬送路１
０７は上下方向に設けられているため、基板Ｐは、処理
槽１０２の上方から、搬送手段としてのリフタ１０９を
用いて、多孔板１０５、１０６間に対して縦向きにして
搬入・搬出するように構成されている。

【００６２】前記リフタ１０９は、それぞれ基板Ｐの縁
部を把持するフィンガ１１０Ａを昇降自在に案内支持す
る一対のマスト１１０を有しており、一対のフィンガ１
１０Ａをマスト１１０の上端付近へ上昇させた位置でこ
れらのフィンガ１１０Ａを開閉して図示しない他の搬送
手段と基板Ｐの受け渡しをする構造になっている。

【００６３】図８は、本発明の基板処理装置のさらに別
の実施形態を示す斜視図であって、本実施形態の基板処
理装置２０１では、処理槽２０２内に、一対の処理液チ
ャンバ２０３、２０４と多孔板２０５、２０６が縦向き
にして配置されており、これらの多孔板２０５、２０６
間で処理槽２０２長手方向の搬送路２０７が形成されて
いる。

【００６４】また、これらの多孔板２０５、２０６に
は、対向する表面側に処理液の噴き出す複数の部分と処
理液が吸い込まれる複数の部分とが処理槽２０２の長手
方向に交互に配置され、これらの部分の間には、溝２０
８が形成されている。

【００６５】この基板処理装置２０１においては、搬送
手段として、基板Ｐの昇降移動と横行移動が可能なハン
ドリング装置２０９を備えている。前記ハンドリング装
置２０９は、基板Ｐを把持するフィンガ２１０Ａをそれ
ぞれ昇降自在に案内支持する一対のマスト２１０と、こ
れらのマスト２１０を搬送路２０７に沿って横行移動さ
せる水平ガイド機構２１１から構成されている。

【００６６】基板Ｐは処理槽２０２の上方でフィンガ２
１０Ａの開閉により、図示していない他の搬送手段との
間で受け渡しが行われ、基板Ｐを把持したフィンガ２１
０Ａがマスト２１０に沿って下降して、多孔板２０５、
２０６間に基板Ｐを侵入させ、さらに一対のマスト２１
０を水平ガイド機構２１１により搬送路２０７に沿って
処理槽２０２内を移動することによって、基板Ｐが搬送
路２０７内に満たされた処理液で処理されるようになっ
ている。

【００６７】また、図９は、本発明の基板処理装置のさ
らに別の実施形態を示す斜視図であって、この実施形態
の基板処理装置３０１は、処理槽３０２内に、一対の処
理液チャンバ３０３、３０４と多孔板３０５、３０６が
斜めに傾倒させて配置されており、これらの多孔板３０
５、３０６間に処理槽３０２の長手方向に搬送路３０７
が形成されている。

【００６８】本実施形態の基板処理装置３０１において
は、基板Ｐの搬送手段として、一対の処理液チャンバ３
０３、３０４の傾斜下方側の側端面に沿って配置された
ローラコンベヤ３０８が用いられている。

【００６９】前記ローラコンベヤ３０８は、図示しない
駆動源で一斉に同期駆動される多数の搬送ローラ３０８
Ａを備えており、基板Ｐは、その傾斜下方側の側端面が
これらの搬送ローラ３０８Ａ上に支持され、且つ、多孔
板３０５、３０６とは、処理液によって非接触状態を維
持された状態で、搬送路３０７に沿って搬送ローラ３０
８Ａの回転により搬送されつつ、処理液による処理が行
われる。

【００７０】なお、図示していないが、搬送路３０７の
前後方向に対向する処理槽３０２の両方の隔壁には、基
板Ｐを通過可能な扁平な開口部がそれぞれ形成されてお
り、これらの隔壁を通して、ローラコンベヤ３０８と別
のコンベヤ等との間で基板Ｐの受け渡しが可能となって
いる。

【００７１】なお、前述した各実施形態においては、多
孔板表面の処理液の噴き出す部分と処理液が吸い込まれ
る部分とを基板の搬送路に沿って交互に配列している
が、これらの部分は、必ずしもこのように配列しなくて
もよく、例えば、これらの部分を一松模様状に配列する
など、多孔板の表面全面に亘って、処理液の噴き出す複
数の部分と処理液が吸い込まれる複数の部分と分散配置
されていればよい。

【００７２】また、前述した各実施形態においては、多
孔板を基板搬送路の両側に対向して一対用いているが、
複数対の多孔板を用いてもよく、例えば、基板搬送方向
に複数対の多孔板を配列し、それぞれの多孔板の対毎
に、異なる種類の処理液で基板表面の処理や洗浄を行う
ようにすることも可能である。また、多孔板は、搬送路
の片側にのみ配置して、基板の片面のみを処理するよう
にしてもよい。

【００７３】

【発明の効果】前述したように、請求項１に記載した発
明によれば、多孔板表面に、処理液の噴き出す複数の部
分と処理液が吸い込まれる複数の部分とが分散配置され
ているため、基板表面と反応した古い処理液は再び多孔
板に吸い込まれ、常に新しい処理液を基板表面全体に均
一に供給することができ、また、多孔板表面から噴き出
す処理液によって多孔板と基板との間を非接触に維持し
た状態で搬送することができる。

【００７４】その結果、基板を搬送しながら処理液で処
理する際に、基板表面の処理むらや傷の発生を防止でき
るので、処理された基板の品質を向上することができる
とともに、基板表面の処理に要する時間を短縮すること
ができる。

【００７５】また、請求項２に記載した発明によれば、
多孔板表面の処理液が噴き出す部分と処理液が吸い込ま
れる部分の間に処理液を多孔板外へ排出する溝を形成し
ているため、多孔板表面に噴き出して基板の表面と反応
した処理液の一部は、直ちに溝を通って多孔板外に排出
されて、基板表面を処理した後の古い処理液は、速やか
に新たな処理液と入れ替わるので、処理された基板の品
質をより一層高めることができるとともに、基板処理に
要する時間をさらに短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の基板処理装置の１実施形態を示す斜
視図である。

【図２】 本発明の基板処理装置の１実施形態を示す平
面図である。

【図３】 本発明の基板処理装置の１実施形態を示す縦
断面図である。

【図４】 図３のＸ−Ｘ線位置における矢印方向に見た
横断面図である。

【図５】 本発明の基板処理装置の１実施形態における
処理部拡大断面図である。

【図６】 本発明の基板処理装置の１実施形態における
処理液の循環路を示す図である。

【図７】 本発明の基板処理装置の別の実施形態を示す
斜視図である。

【図８】 本発明の基板処理装置のさらに別の実施形態
を示す斜視図である。

【図９】 本発明の基板処理装置のさらに別の実施形態
を示す斜視図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置、 １Ａ 機枠、 ２ 搬送
路、 ３、４ 多孔板、５ 搬入コンベヤ、 ６
搬出コンベヤ、 ７ 搬送ローラ軸、８ 搬送ロ
ーラ、 ９ 軸受溝、 １０ 軸受ブッシュ、１
１、１３ ねじ歯車、 １２ 連動軸、 １４、１
６ 歯付プーリ、１５ モータ、 １７ 歯付ベ
ルト、 １８、１９ ニップローラ、２０ ニップ
ローラ軸、 ２１ 軸受溝、 ２２ 軸受ホルダ、
２３ 軸受、 ２４ Ｏリング、 ２５、２８
平歯車、２６ ニップローラ軸、 ２７ 軸受ブッ
シュ、 ２９ 処理槽、２９Ａ、２９Ｂ、２９Ｃ、２
９Ｄ 隔壁、 ２９’ 処理液回収槽、３０ 上部
処理液チャンバ、 ３１ 下部処理液チャンバ、３２
シャトルコンベヤ（搬送手段）、 ３３、３４
歯付プーリ、３５ 歯付ベルト、 ３６ キャリッ
ジ、 ３６Ａ フィンガ、３７ 供給路、 ３８
回収路、 ３９ 整流板、 ３９Ａ 孔、４０
溝、 ４１ ボルト、 ４２ タンク、 ４３
供給管路、 ４４ 回収管路、 ４５ ストレー
ナ、 ４６ 吐出ポンプ、４７ フィルタ、 ４
８ リリーフ弁、 ４９、５０ 圧力計、５１
流量計、 ５２、５５ 切替弁、 ５３、５４
バイパス管路、５６ 吸引ポンプ、 １０１ 基板
処理装置、 １０２ 処理槽、１０３、１０４ 処
理液チャンバ、 １０５、１０６ 多孔板、１０７
搬送路、 １０８ 溝、 １０９ リフタ（搬送
手段）、１１０ マスト、 １１０Ａ フィンガ、
２０１ 基板処理装置、２０２ 処理槽、 ２０
３、２０４ 処理液チャンバ、２０５、２０６ 多
孔板、 ２０７ 搬送路、 ２０８ 溝、２０９
ハンドリング装置、 ２１０ マスト、 ２１０Ａ
フィンガ、２１１ 水平ガイド機構、 ３０１
基板処理装置、 ３０２ 処理槽、３０３、３０４
処理液チャンバ、 ３０５、３０６ 多孔板、３
０７ 搬送路、 ３０８ ローラコンベヤ、 ３０
８Ａ 駆動ローラ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ (72)発明者 鈴木 正敏 東京都品川区北品川６丁目７−35 ソニー 株式会社ＣＮＣ基板ビジネスセンター内 Ｆターム(参考） 3B201 AA01 AB13 AB48 BB24 BB33 BB71 4K057 WA03 WM04 WM06 WM09 WM18 WN01 5E339 AB01 BE13 EE04 EE10 5F043 EE07 EE24 EE28 EE36

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を搬送する搬送路と、 搬送路に沿って搬送される基板面と隙間を隔てて対向す
   るように配置され、処理液を通過可能な微細な孔が多数
   形成された多孔板と、 多孔板の表面側へ裏面側から多孔板を通して処理液を送
   り込む供給路と、 多孔板の表面側の処理液を裏面側から多孔板を通して回
   収する回収路と、 基板の縁部を保持し、多孔板表面から噴き出す処理液に
   よって多孔板と基板との間を非接触に維持した状態で、
   基板を搬送路に沿って搬送する搬送手段とを備え、 多孔板表面には、処理液の噴き出す複数の部分と処理液
   が吸い込まれる複数の部分とが分散配置され、 基板搬送中に多孔板と基板間に満たされた処理液で基板
   面の処理を行うことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 多孔板表面の処理液が噴き出す部分と処
   理液が吸い込まれる部分の間に処理液を多孔板外へ排出
   する溝を形成したことを特徴とする請求項１記載の基板
   処理装置。